JPS60212921A - 真空しや断器電極 - Google Patents

真空しや断器電極

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JPS60212921A
JPS60212921A JP6903784A JP6903784A JPS60212921A JP S60212921 A JPS60212921 A JP S60212921A JP 6903784 A JP6903784 A JP 6903784A JP 6903784 A JP6903784 A JP 6903784A JP S60212921 A JPS60212921 A JP S60212921A
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JP
Japan
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layer
vacuum breaker
electrode
sintered body
infiltrated
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Pending
Application number
JP6903784A
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English (en)
Inventor
隆二 渡辺
清水 誠喜
寿 安藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は真空しゃ断器用真空バルブに係り、特に溶浸合
金接点音用いるのに好適な接合構造’klした電極に関
する。
〔発明の背景〕
真空しゃ断器用接点のうち、例えば、低サージ用として
あげられるCo−Ag−Te、8e系の溶浸合金(本発
明者らが開示した特願昭55−81425号)からなる
接点は優れた低サージ性(さい断電流値が低く、チョッ
ピングカレントが小さいため負荷側機器に対するサージ
電圧が低いという性質)?有し、しかも耐電圧特性及び
大電流しゃ断能力とも高い。この合金は、一般KC。
粉末ケあらかじめ非酸化性の雰囲気下で軽度に焼結して
おき、この気孔部にAg−Te、 Ag−8e系合金等
の真空溶浸することによって製造される。
真空しゃ断器用真空バルブの電極として用いる場合、そ
れらはホルダ、あるいは補助電極板等に接合17なけれ
ばならない。一般的にはろう付によって接合される。し
かして発明者らが種々のろう付性を検討したところ、T
e、Se等の含有量が少ない溶浸合金においては一般的
なAgろう付(JIS規格、13層g−8)にて接合可
能である。
しかし、Te、Se量が10重量%倉越えると、はとん
どろう付がきかないということが認められた。これは溶
浸合金中のTe、Beが接合層に入り込み、層全体を脆
くするためであると考えられる。又、Te、 Seが上
記以下の少ない含有量であっても通常のろう付接合強度
以下となる傾向がある。さらに溶浸合金接点内部にろう
材が拡散、浸透する傾向があり、この結果、初期の組成
が維持できず接点性能も変動するという問題もみられた
。このような現象はCO以外の多孔質焼結体(例えばF
6.Ni、Orなど)中にAg−Pb。
Ag−B1.Ag−Cd合金のいずれかを溶浸した接点
ケAgろう付した場合にも生ずる傾向にあった。このよ
うに高融点金稿焼結体にAg合全金倉溶浸た接点材料は
、低サージ用真空しゃ断器電極として優れた特性ケ発揮
するにもがかわらず、ろう付性に問題があり、実用化の
障壁となっていた。そこで、発明者らは、接点の接合性
r良くするため、種々の電極構造及び接合方法を検討し
た。
特願昭57−150753号は上記した問題点を改善す
るため積層型の電極倉開示した一例であり、例えばCo
 −A g −S e系接点であれば、接点の上層部(
電接面側)のみ?本来のA g −S e gl浸層と
し、下層部(接合面側)は緻密な純Co層としている。
すなわち、上記接点?ホルダもしくは補助電極板上にろ
う付する場合、ろう材と接点の溶浸層との拡散、反応金
防ぐ方法として上記緻密なCo @2バリヤとしたもの
であり、接合はこのCO層倉介して行なわれる。さらに
、この00層と溶浸層は相互の焼結力によって接着され
ているというものである。このような電極接合構造によ
れば、溶浸層の組成が変動することもなく、接点性能も
安定し、ろる程度の接合力も得られていた。
発明者らは、この接合法により組立てた真空バルブ?用
いて、種々の電気的性能試験を実施してみた。その結果
、通常の定格電流しゃ断においては、接点の剥離や脱落
などの問題はみられず、性能も良好であった。しかし、
短時間電流通電試験(大きな短!@電流?2〜3秒間通
電し、接点の溶着特性ケ調べる試験)全実施したところ
、電極自体の溶着の問題はなかったが、上記した積層型
電極の積層部において、若干の剥離現象が与られた。
すなわち、一般のしゃ断操作に比べ、上記大電流通電試
験においては、接点部に非常に苛酷な熱衝撃力と、大き
な引きはがし力が加わる。このために、積層部において
割れが入ったものとみられる。
接点が脱落するという大きな問題には至らなかったが、
真空しゃ断器の信頼性、安全性からみると、なおも改善
?はかるべき必要性がある。このためには、下部のバリ
ヤ層であるCo緻密層と上部の溶浸層とケさらに強力に
接合する方法及び構造?見い出す必要があった。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、上記した溶浸合金接点の接合力を改善
した低サージ型真空しゃ断器接点及びその接合方法を提
供することにある。
〔発明の概要〕
本発明者らは、上記接点が脱落しないような新しい接点
接合法として以下のこと倉考えた。すなわち、従来は溶
浸合金の焼結マトリックスの接合部分ヶ焼結法により緻
密な層を形成させるか、あるいは緻密な板?接着し、そ
れ?介してAgろう付する方法がとりあげられていた。
これに対し、本発8AF′i上記焼結マトリ、ツクスl
cAg、Ag合金等?溶没する前に焼結体自身の底に溶
融層?形成させることと考えた。すなわち、Agろうの
しみ込みや、溶浸物質のろう付部分へのしみ出しを、こ
の溶融+ivバリヤとすることで防止することである。
この溶融層の形成法としては、焼結体の表層のみをうす
く溶かす方法でなければならない。
種々の溶融方法を試みたところ、レーザビーム及び電子
ビーム加熱が効果的であることが分かった。
本発明の工うに溶融層を形成させると、従来の焼結によ
る接着力に比べ、粉末焼結粒子と溶融層との結合力が非
常に大きい。なぜならば、上記の粉末焼結粒子の界面も
ミクロ的VCWI融結合するからである。この溶融脣會
有する焼結体1cAg、Ag合金kl浸すると、溶融層
内部は溶浸されずに、焼結層のみに溶浸される。電極と
して接合する場合には、この溶融層を介して銅製のホル
ダや補助電極板とにAgろう付すれば、接合界面に溶浸
物がしみ込んだり、あるいはAgろうが焼結層内に浸透
することもなくなり、良好な接合性が得られる。
〔発明の実施例〕
具体的な製作方法ヶ説明する。−例として、特願昭55
−81425号でとりあけたCo−Ag−Te、 Se
 系電極の場合、オす、第1図の(A)に示す工うに、
Co粉粉末用所定圧力でプレス成形しておき、これtい
ったん水素中もしくは真空中にて仮焼結しておく。次に
(B図に示すように、この焼結体20の片側の面ケレー
ザビーム等で溶かす。
溶融深さはレーザビームの直径や出力音コントロールす
ることで任意に形成できる。単一のビーム(]−あてる
ことの他に、品物全回転させたり、往復運動させてやる
と更に均一に溶融できる。通常、上記ろう付バリアとし
ての溶融深さVio、 5−以上めれば十分である。
次に、この溶融層荀設けた上記焼結体20に対し、特願
昭55−81425号で述べたよりな溶浸方法に工っで
IIVg−Te、Be系合金を真g!溶浸した。溶浸の
結果、 (C)図に示す工うに、溶融層22’に除いた
上部焼結部の気孔にはAg−Te。
Se系合金が充分に浸透され、均一な溶浸lI23が形
成されることが分かった。なお、溶融層と焼結層との界
rIHまで十分に浸透するが、溶融層内部への浸透は完
全におさえられることが判明した。
以上のようにして製作したCO溶融層付きのCo−Ag
−Te、Se系溶浸材を電極形状に機械加工後、1図に
示すように、co溶融層@24がAgろう行間となるよ
うにして銅製の補助電極板26上にろう付した。図中の
Agろう25は100μm厚さの箔状のAg−Cu共晶
ろう材で、真空雰囲気で実施した。この結果、CO溶融
層24とCu製補助電極板は強固にろう付され、しかも
AgろうがCo−Ag−Te、Se糸!+!!lie側
へ浸透することがなくなり、良好な接合特性が得られた
上記のような接合法を用いて、第2図に示すような接合
構造にて実機真空しゃ断器用真空パルプで連続しゃ断試
験を試みたところ、10000回の開閉に工っでも電極
の剥離、脱落などの問題は生じなかった。更に、短絡電
流?3秒間通電するという大電流通電試験?実施した結
果においても、剥離等の問題は与られなかった。
〔発明の効果〕
本発明によれば、良好な電極接合特性が得られ、真空し
やt4fr器用真空バルブ電極として連続開閉?行なっ
ても、剥離・脱落等の問題ケ防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明になる電極接合の概略工程図、第2図は
上記電極の接合構造モデル倉示す図である。 20・・・焼結体、22・・・溶融層、23・・・溶浸
層、24・・・Co@融層側、25・・・Agろう、2
6・・・補第1囚 (A)口===コ\2゜ 番 (C) C二■邸ト23 Z4゜ ↓ 第2圀

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、実質的に耐火性金属粉末の多孔質焼結体、及び前記
    焼結体の空隙部に導電性材料を溶浸した複合接点會導電
    性部材に接着したものエリなる真空しゃ断器電極におい
    て、前記耐火性金属粉末の多孔質焼結体の下+1’に溶
    I!1lrf!Iとし、前記導電性部材への接着はこの
    溶融層ケ介して行なうこと?特徴とする真空しゃ断器電
    極。 2、特許請求の範囲第1項において、前記多孔質焼結体
    の溶融層は、レーザービームもしくはt子ビーム加熱に
    より、溶融せしめることを特徴とする真空しゃ断器電極
    。 3、%許請求の範囲第1項において、前記耐火性金属粉
    末はPe、 Ni、 co、 Cr、 Mo、 w、 
    Ta。 MoC,WC,TaCのうちのいずれか1種以上よりな
    り、更に前記導電性材料はCut Ag+又はそれぞれ
    の合金の1種以上よりなること?特徴とする真空しゃ断
    器電極。 4、特許請求の範囲第3項において、前記導電性材料け
    Ag!Te、Ag!Se のいずれか一種以上を主成分
    とするAgカルコゲナイドよりなること1特徴とする真
    空しゃ断器電極。
JP6903784A 1984-04-09 1984-04-09 真空しや断器電極 Pending JPS60212921A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009170372A (ja) * 2008-01-21 2009-07-30 Hitachi Ltd 真空バルブ用電気接点

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009170372A (ja) * 2008-01-21 2009-07-30 Hitachi Ltd 真空バルブ用電気接点

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