JPS60210449A - Manufacture of laminated board for plating additive - Google Patents

Manufacture of laminated board for plating additive

Info

Publication number
JPS60210449A
JPS60210449A JP59066676A JP6667684A JPS60210449A JP S60210449 A JPS60210449 A JP S60210449A JP 59066676 A JP59066676 A JP 59066676A JP 6667684 A JP6667684 A JP 6667684A JP S60210449 A JPS60210449 A JP S60210449A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
adhesive
plating
laminate
additive
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP59066676A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0361588B2 (en
Inventor
安喰 満範
茂 鈴木
日笠 章軍
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP59066676A priority Critical patent/JPS60210449A/en
Publication of JPS60210449A publication Critical patent/JPS60210449A/en
Publication of JPH0361588B2 publication Critical patent/JPH0361588B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、化学銅めっきによる銅の密着性の 1− 良好なアディティブめっき用積層板(=関するものであ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a laminate for additive plating that has 1- good adhesion to copper by chemical copper plating.

〔従来技術〕[Prior art]

一般的にアディティブめっき用積層板は、いわゆるアデ
ィティブプロセスC二より、印刷回路板を製造するため
の基板素材である。
In general, additive plating laminates are substrate materials for manufacturing printed circuit boards using the so-called additive process C2.

この場合、基板表部の絶縁性接着剤としては、アクリロ
ニトリル・ブタジェンゴム(以下、NBRという)とフ
ェノール樹脂とからなる組成のものが主として使用され
ているが、アディティブプロセス中の各種の溶卵1処理
(二よって、膨潤又はフクレが発生する等の欠点がある
。さら(二、銅めっき皮膜と接着剤層との密着性も弱く
、特C二印刷回路板として半田付時に必要な半田耐熱性
も不充分である。
In this case, as the insulating adhesive on the surface of the substrate, a composition consisting of acrylonitrile butadiene rubber (hereinafter referred to as NBR) and phenol resin is mainly used. (2) The adhesion between the copper plating film and the adhesive layer is also weak, and the soldering heat resistance required for soldering as a special C2 printed circuit board is poor. It is insufficient.

このような欠点を改良するため1m、NHR、フェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂を含む接着剤もあるが、耐溶剤性
は改良されているものの銅めっき皮膜と接着剤層との密
着性が不充分である。
In order to improve these defects, there are adhesives containing 1m, NHR, phenolic resin, and epoxy resin, but although the solvent resistance is improved, the adhesion between the copper plating film and the adhesive layer is insufficient. .

また、NBR,フェノール樹脂及び無機化合物を 2 
− 含む接着剤もあるが、アディティブめっき用積層板の製
造工程において、剥離性ソートC二該接着剤を塗布・乾
燥して得られたシートを、接着側面を内側にして所定枚
数の熱硬化性樹脂含浸紙布な重ね合せ加熱加圧して一体
化して両面C二接着剤付基板をつくる(−際し、剥離性
シートを除去することが極めて困難である。特(二剥離
性シートとして金属箔を用いる場合C二は、前記接着剤
と金属箔とが密着してしまうため剥離、除去することが
極めて困齢である。
In addition, NBR, phenolic resin and inorganic compounds 2
- Some adhesives contain adhesives, but in the process of manufacturing laminates for additive plating, the sheets obtained by applying and drying the releasable sort C2 adhesive are placed in a predetermined number of thermosetting sheets with the adhesive side facing inside. Resin-impregnated paper cloth is layered and heated and pressed to integrate to create a double-sided C2 adhesive-attached substrate (in this case, it is extremely difficult to remove the releasable sheet. When C2 is used, it is extremely difficult to peel and remove the adhesive because the adhesive and the metal foil are in close contact with each other.

また、NBR、フェノール樹脂、無機化合物の材料選定
(二当って、NBR中のアクリロニトリルの含有置、フ
ェノール樹脂の種類、無機化合物の種類及び接着剤層の
膜厚が不適当であるため、銅めっき皮膜と接着剤1層の
優れた密着力を得ることができず、また、電気特性上も
良好なものが得られなかった。
In addition, due to inappropriate selection of materials for NBR, phenolic resin, and inorganic compounds, copper plating It was not possible to obtain excellent adhesion between the film and the adhesive layer, and good electrical properties were also not obtained.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は、従来技術の接着剤層の耐溶剤性不良及び銅め
っき皮膜と接着剤層との密着性不良を改良すること、及
びアディティブめっき用積層板製造に際し剥離シートの
簡便な剥離を可能(ニすることを目的と17て検討し完
成されたものであり。
The present invention improves the poor solvent resistance of the adhesive layer and the poor adhesion between the copper plating film and the adhesive layer in the prior art, and enables easy peeling of the release sheet when manufacturing a laminate for additive plating ( It was completed after 17 years of study with the purpose of

接着剤層の耐溶剤性及び銅めっき皮膜と接着剤層との密
着性が良好で、1つ剥離シートを簡単(=剥離できるア
ディティブめっき用M胸板を提供するものである。
The present invention provides an M chest plate for additive plating that has good solvent resistance of the adhesive layer and good adhesion between the copper plating film and the adhesive layer, and can easily (= peel off) one release sheet.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明は、 NmL、レゾール型フェノ−Iし樹脂。 The present invention is NmL, resol type pheno-I resin.

y)( ・・・・・・・(二本溶性で分解温1!j’ 300℃
以−ヒの電気絶縁性の無機化合物及びリン脂質体とから
なる接11剤を剥離性のシートC:塗41シ、このシー
トと扛意の枚数の熱硬化性樹脂含浸紙布とを前記シート
の接鷺剤塗41而を内側1にして1!ね合わせ、加熱加
圧一体化することを特徴とするアディティブめっき用積
144#vの製造方法である。
y)( ・・・・・・・・・(Double soluble decomposition temperature 1!j' 300℃
Sheet C: Coating 41, which has a releasable adhesive consisting of an electrically insulating inorganic compound and a phospholipid body, and this sheet and a desired number of thermosetting resin-impregnated paper cloth are combined with the above-mentioned sheet. Apply the heron agent 41 to the inside 1 and make it 1! This is a method for manufacturing additive plating volume 144#v, which is characterized by kneading, heating and pressurizing and integrating.

M迅としては、ニトリル含有率35%以上の高アクリル
ニトリル−ブタジェンゴムを使用する。その理由はアデ
ィティブめっきプロセス(=おける各種の有機溶削及び
強酸、強アルカリE耐えるため(=は、耐薬品性(=優
れている高アクリルニトリル−ブタジェンゴムがよい。
As M rubber, a high acrylonitrile-butadiene rubber with a nitrile content of 35% or more is used. The reason for this is that high acrylonitrile-butadiene rubber is good because it can withstand various types of organic abrasions and strong acids and strong alkalis during additive plating processes.

特(ニニトリル含有率35〜50%のものが好ましい。In particular, those with a nitrile content of 35 to 50% are preferred.

レゾール型フェノール樹脂としてはストレート系のもの
でもよいが油変性フェノール樹脂、アルキル変性フェノ
ール樹脂が好ましい。この理由はNBRとの相溶性及び
反応性が良く、いわゆる樹脂加硫ができるからである。
The resol type phenolic resin may be a straight type, but oil-modified phenolic resins and alkyl-modified phenolic resins are preferred. The reason for this is that it has good compatibility and reactivity with NBR, and so-called resin vulcanization is possible.

従って、アディティブめっきプロセス(=おける耐薬品
性を付与することができる。従って、このようなフェノ
ール樹脂としては1分子11N:94〜500で、変性
率(二ついては、油蛭性フェノールの場合は10〜50
%、アルキルStO,が好ましい。
Therefore, it is possible to impart chemical resistance in the additive plating process. Therefore, for such a phenol resin, one molecule of 11N: 94 to 500, and the modification rate (for two, in the case of oily phenol, 10 ~50
%, alkyl StO, is preferred.

該能様化合物の粒径は平均粒径1frLItfrL〜2
0μmのものがよい。アディティブめっきプロセス後の
 5− 銅めっき皮膜と接着剤層との密着力を強くするため(二
は、−次粒子として5 m )tm〜5μmのものが好
ましい。
The particle size of the ability-like compound is an average particle size of 1frLItfrL~2
0 μm is preferable. In order to strengthen the adhesion between the 5-copper plating film and the adhesive layer after the additive plating process (5 m as primary particles), those having a particle diameter of tm to 5 μm are preferable.

リン脂質体は、加熱加圧(−よりアディティブめっき用
積層板を製造した禅、剥離;y−トを接着側表面より剥
離除去しやすくするためのもので、hす、しνテンが好
ましい。添加Mとしては、接着剤固形分に対し0.1〜
5%の範囲内で剥1i11+ (flの程度(一応じて
選定することができる。
The phospholipid body is used to make it easier to peel off and remove the laminate for additive plating from the adhesion side surface by heating and pressurizing. The addition M is 0.1 to 0.1 to the solid content of the adhesive.
The degree of peeling 1i11+ (fl) can be selected depending on the range of 5%.

各成分の配合割合は、 N1(TL 40〜60%、レ
ゾール型フェノール樹脂60〜40%、無機化合物0.
5〜5.0%、リン脂質体0.1〜5.0%が9Lい。
The blending ratio of each component is N1 (TL 40-60%, resol type phenolic resin 60-40%, inorganic compound 0.
5-5.0%, phospholipid body 0.1-5.0% is 9L.

このような配合物は必要(二より、あらかじめ適切な溶
剤で溶解しておくことがで〜る。このような接着剤溶液
を剥離シート(=塗布する。
Such a formulation may need to be dissolved in a suitable solvent beforehand. Such an adhesive solution is applied to a release sheet.

剥離シートは、金属箔、プラスチックフィルム、紙等が
使用可能であるが、接着剤塗布後の乾燥工程(=おける
耐熱性の点から金属箔がよい。特に。
Metal foil, plastic film, paper, etc. can be used as the release sheet, but metal foil is particularly preferred from the viewpoint of heat resistance during the drying process after applying the adhesive.

コストの点からアルミ箔が好ましい。Aluminum foil is preferred from the viewpoint of cost.

乾燥工程は、熱風(二より接着剤中の溶剤を乾燥 6− 除去すると共(:、接着剤成分のNBRとフェノール樹
脂の熱反応をある一定程度まで進めるためのものである
The drying step is to remove the solvent in the adhesive by drying with hot air (6-) and to advance the thermal reaction between the adhesive component NBR and the phenol resin to a certain extent.

接着剤の塗布は、ロールコータ−、パーコーター、カー
テンフローコート、スワイズロール(=よる転写等(二
より実施でき、これ(1続いて熱風式乾燥胴(二より連
続的(:乾燥することができる。接着剤膜厚は、乾燥後
20〜200μmがよい。特(二、30〜120μmn
がめつき密着性及び塗布作業上好ましい。
Adhesive application can be carried out using a roll coater, percoater, curtain flow coat, swivel roll, etc. (2) followed by a hot air drying cylinder (2) continuous (drying is possible). The adhesive film thickness is preferably 20 to 200 μm after drying.
Favorable in terms of adhesion and coating work.

このようにして得られた接着剤塗布剥離性シートを、接
着剤m1を内側(ニして所定枚数の熱硬化性樹脂含浸紙
布と重ね合わせ、加熱加圧により一体化し、接着剤付ア
ディティブめっき用積層板をつくることができる。
The thus obtained adhesive-coated releasable sheet is overlaid with a predetermined number of thermosetting resin-impregnated paper cloth with the adhesive m1 on the inside (2), and is integrated by heating and pressing, followed by additive plating with adhesive. It is possible to make laminates for

以下、アディティブプロセスについて簡単に説明する。The additive process will be briefly explained below.

上記アディティブめっき用積層板より剥離性シートを剥
離除去する。必要(1応じて穴あけ及び乾燥処理をした
後に、クロム酸/硫酸により接着剤層を酸化・粗面化し
、バラジュウム等(=よる銅めっきのための活性化処理
をし、必要に応じてめっきレジストを施1y 、化学的
銅めっき(二より導体回路を形成することができる。史
(−1必要1:応じて電気銅めっきを使うこともできる
。その後、めっきレジストは必″U+:応じて除去して
もよい。
The releasable sheet is peeled off and removed from the laminate for additive plating. After drilling and drying as required (1), oxidize and roughen the adhesive layer with chromic acid/sulfuric acid, perform activation treatment for copper plating with baladium, etc., and apply plating resist as necessary. 1y, chemical copper plating (2) can form a conductor circuit. History (-1 required 1: If required, electrolytic copper plating can also be used. After that, the plating resist must be removed according to "U+: You may.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明で得られたアディティブめっき用積層板は次のよ
うな特長を有している。
The laminate for additive plating obtained by the present invention has the following features.

1、 接着剤中に、無機化合物の微細な粒子を含有して
いるため、クロム酸/硫酸く:よる酸化・粗面化の際1
:微細な粗面を形成できる。
1. Because the adhesive contains fine particles of inorganic compounds, oxidation and surface roughening caused by chromic acid/sulfuric acid
: Can form a fine rough surface.

2 従って、化学的銅めっき(二より密着性及び析出ス
ピードが極めて良好であり、回路形成後の半田付時に回
路のハガレ、フクレ等が皆無である。
2. Therefore, chemical copper plating (2) has extremely good adhesion and deposition speed, and there is no peeling or blistering of the circuit during soldering after circuit formation.

五 適度の割合のNBRとレゾール型フェノール樹脂1
:より、三次元網目構造が形成されており。
5 Appropriate proportion of NBR and resol type phenolic resin 1
: A three-dimensional network structure is formed.

さら(=無機化合物の補強効果により、めっきレジスト
形成工程C:おける各種の有機溶剤処理(二対して接着
剤層が膨潤、溶解、剥離、変質等を起こさない。
Furthermore, due to the reinforcing effect of the inorganic compound, the adhesive layer does not swell, dissolve, peel, deteriorate, etc. in contrast to various organic solvent treatments in the plating resist forming step C:.

4、 前記のような特長を損うことなく、剥離性シート
の除去が容易である。
4. The removable sheet can be easily removed without impairing the above-mentioned features.

〔実 施 例〕〔Example〕

本発明(二よるアディティブめっき用積層板の製造法を
以下(=実施例により説明する。
The method for producing a laminate for additive plating according to the present invention will be described below (= Examples).

実施例I NIJR(アクリロニトリル37%含有) 10001
00O,(平均粒径15mμm) 20しνテン 2 メチルエテルケトン 5000 上記の樹脂混合物を、80℃で3時間攪拌混合して接着
剤溶液を得た。
Example I NIJR (containing 37% acrylonitrile) 10001
00O, (average particle size 15 mμm) 20 ν ten 2 methyl ether ketone 5000 The above resin mixture was stirred and mixed at 80° C. for 3 hours to obtain an adhesive solution.

この接着剤溶液を50μm厚のアルミ箔(二ロールコー
ト方式で塗布し、50〜160℃の連続乾燥胴を通して
乾燥した。接着剤膜厚は100μmであった。
This adhesive solution was applied to a 50 μm thick aluminum foil (using a two-roll coating method and dried through a continuous drying cylinder at 50 to 160° C.). The adhesive film thickness was 100 μm.

この接着剤塗布アルミ箔を接着剤面を内側(ニジて8枚
のエポキシ樹脂含浸ガラスクロスの両面に19一 枚ずつ重ね合わせ、160℃、100Kv′cIIで1
20分間加熱加圧して一体イ1′シ、両面(二接着剤付
の厚み1,6闘のアディティブめっき用積層板を得た。
Lay this adhesive-coated aluminum foil on each side of 8 pieces of epoxy resin-impregnated glass cloth with the adhesive side on the inside.
The product was heated and pressed for 20 minutes to obtain a laminate for additive plating with a thickness of 1.6 mm and an adhesive on both sides.

実施例2 NBR(アク90ニトリル含有率35%) 1000.
9レゾール型フエノール樹脂 1200 Tie、 (平均粒径0.3μm) 15レンテン 3 トルエン 2000 メチルエテルケトン 3000 上記の樹脂混合物を80℃で3時間攪袢小1合して・O
・・・・・・嗜接着剤溶液を得た。
Example 2 NBR (Ac90 nitrile content 35%) 1000.
9 Resol type phenolic resin 1200 Tie, (average particle size 0.3 μm) 15 Lenthene 3 Toluene 2000 Methyl ether ketone 3000 The above resin mixture was stirred at 80°C for 3 hours and combined with O.
...A glue solution was obtained.

この接着剤溶液を100μm厚のポリプロピレンシート
(ニスクイズロール方式で転写塗布し、50〜130℃
の連続乾燥胴を通して乾燥した。接着剤膜厚は50μm
でありだ。
This adhesive solution was applied to a 100 μm thick polypropylene sheet (transfer coated using a Nyquiz roll method and heated to 50 to 130°C.
It was dried through a continuous drying cylinder. Adhesive film thickness is 50μm
It's true.

以下、実施例1と同様(二して加熱加圧し、アディティ
ブめっき用積層板を得た。
Thereafter, heating and pressing were carried out in the same manner as in Example 1 to obtain a laminate for additive plating.

比較例I NBR(アクリロニトリル含有率35%) 100ON
 lO− ノボラック型アルキル変性フェノール樹脂 1000#
レシチン 2 メチルエチルケトン 5000 E記の樹脂混合物を80℃で3時間攪拌混合し、接着剤
溶液を得た。この接着剤溶液を厚さ50μmのアルミ箔
(=塗布し乾燥した。接着剤膜厚は50μmであった。
Comparative example I NBR (acrylonitrile content 35%) 100ON
lO- Novolak type alkyl modified phenol resin 1000#
Lecithin 2 Methyl ethyl ketone 5000 The resin mixture described in E was stirred and mixed at 80° C. for 3 hours to obtain an adhesive solution. This adhesive solution was applied to a 50 μm thick aluminum foil and dried. The adhesive film thickness was 50 μm.

以下、実施例1と同様(ニジてアディティブめっき用積
層板を得た。
Hereinafter, a laminate for additive plating was obtained in the same manner as in Example 1.

比較例2 NBR,(アクリロニトリル含有率20%) 1ooo
11ノボラツク型カンニー変性フエノール樹脂 100
0StO,(平均粒径40mμm) 5 メチルエチルケトン 5000 上記材脂混合物を80℃で3時間攪拌混合して接着剤溶
液を得た。該接着剤溶液を厚さ50μmのアルミ箔に塗
布し乾燥した。接着剤膜厚は100μmであった。
Comparative example 2 NBR, (acrylonitrile content 20%) 1ooo
11 Novolak-type Kannie-modified phenolic resin 100
0 StO, (average particle size 40 mμm) 5 Methyl ethyl ketone 5000 The above resin mixture was stirred and mixed at 80° C. for 3 hours to obtain an adhesive solution. The adhesive solution was applied to a 50 μm thick aluminum foil and dried. The adhesive film thickness was 100 μm.

以下′、実施例1と同様C二してアディティブめっき用
積層板を得た。
Thereafter, C2 was carried out in the same manner as in Example 1 to obtain a laminate for additive plating.

実施例1、実施例2、比較例1、比較例2で得られたア
ディティブめっき用M r@ Myを次のTal〜(g
)の工程で、処理し、化学的銅めっきを施した。
Mr@My for additive plating obtained in Example 1, Example 2, Comparative Example 1, and Comparative Example 2 was subjected to the following Tal~(g
) was processed and chemically plated with copper.

特性を評価した結果は第1表の通りであった。The results of evaluating the characteristics are shown in Table 1.

〈化学銅めっき工程〉 (a)剥離性シートの除去 (b)クロム酸/硫酸混液処理 (C)活性化処理 (d)めっきレジスト形成 (e)化学的銅めっき (めっき1%I 39 μm 
)(f)めっきレジストの除去 (g)乾 燥 第 1 表 縮めつき皮膜引きはがし強さ及び半田耐熱性のテスト方
法は、JIS C6481による。
<Chemical copper plating process> (a) Removal of peelable sheet (b) Chromic acid/sulfuric acid mixture treatment (C) Activation treatment (d) Plating resist formation (e) Chemical copper plating (Plating 1% I 39 μm
) (f) Removal of plating resist (g) Drying 1st The test method for peeling strength and soldering heat resistance with surface shrinkage is in accordance with JIS C6481.

特許出願人 住友ベークライト株式会社 13−Patent applicant: Sumitomo Bakelite Co., Ltd. 13-

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、 アクリロニトリル含有相35%以上のアクリルニ
トリル・ブタジェンゴム、レゾール型フェアに ノール樹脂、――−・O・・(=不溶性で分解温度30
0℃以上の電気絶縁性の無機化合物及びリン脂質体から
なる接着斉1を剥離性のシート上(:塗布・乾燥し、こ
のシートと任意の枚数の熱硬化性樹脂含浸紙布とを、前
記シートの接着剤塗布面を内側C二して、重ね合せ、加
熱加圧一体化することを特徴とするアディティブめっき
用積層板の製造方法。 2、乾燥後の接着剤膜厚が20μffl〜200μmで
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のアデ
ィティブめっき用積層板の製造方法。
[Scope of Claims] 1. Acrylonitrile-butadiene rubber containing 35% or more of acrylonitrile-containing phase, resol type fair resin, --- O... (= insoluble and decomposition temperature 30
Adhesive material 1 consisting of an electrically insulating inorganic compound and a phospholipid substance at a temperature of 0°C or higher is coated on a releasable sheet and dried, and this sheet and an arbitrary number of thermosetting resin-impregnated paper cloth are bonded together as described above. A method for producing a laminate for additive plating, characterized in that the adhesive-coated surfaces of the sheets are placed on the inside C2, and the sheets are stacked and integrated under heat and pressure. 2. The adhesive film thickness after drying is 20 μffl to 200 μm. A method for manufacturing a laminate for additive plating according to claim 1, characterized in that:
JP59066676A 1984-04-05 1984-04-05 Manufacture of laminated board for plating additive Granted JPS60210449A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59066676A JPS60210449A (en) 1984-04-05 1984-04-05 Manufacture of laminated board for plating additive

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59066676A JPS60210449A (en) 1984-04-05 1984-04-05 Manufacture of laminated board for plating additive

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60210449A true JPS60210449A (en) 1985-10-22
JPH0361588B2 JPH0361588B2 (en) 1991-09-20

Family

ID=13322759

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59066676A Granted JPS60210449A (en) 1984-04-05 1984-04-05 Manufacture of laminated board for plating additive

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60210449A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6151990A (en) * 1984-08-22 1986-03-14 株式会社日立製作所 Surface metallized insulating substrate and method of producing same
JPH01154590A (en) * 1987-12-11 1989-06-16 Sumitomo Bakelite Co Ltd Forming method for circuit

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6151990A (en) * 1984-08-22 1986-03-14 株式会社日立製作所 Surface metallized insulating substrate and method of producing same
JPH046116B2 (en) * 1984-08-22 1992-02-04 Hitachi Ltd
JPH01154590A (en) * 1987-12-11 1989-06-16 Sumitomo Bakelite Co Ltd Forming method for circuit

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0361588B2 (en) 1991-09-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI290816B (en) Wiring board and method for producing the same
US3925138A (en) Process for preparing an insulating substrate for use in printed circuits
US4001466A (en) Process for preparing printed circuits
US4254186A (en) Process for preparing epoxy laminates for additive plating
JPS60210449A (en) Manufacture of laminated board for plating additive
JPS61261307A (en) Acrylic copolymer composition
JPH1022639A (en) Manufacture of plastic flow sheet for multilayer printed wiring board and manufacture of multilayer wiring board using the sheet
JPS5810877B2 (en) Kairoban no Seizouhouhou
JP4759896B2 (en) Manufacturing method of printed wiring board manufacturing material
JPH0247543B2 (en)
JPH09187882A (en) Flexible one side copper-plated laminated plate with adhesive and its manufacture
JPH0126332B2 (en)
JPS58190094A (en) Laminated blank with polymer surface
JPS60118781A (en) Adhesive composition for flexible printed circuit board
JPS6079080A (en) Adhesive composition
JPS605465B2 (en) Film or sheet for chemical plating
WO1999028126A1 (en) Prepreg for multilayer printed wiring boards and process for producing the same
JPS5810878B2 (en) Kairoban no Seizouhouhou
JPS6021593A (en) Method of producing laminated board
JPS6053707B2 (en) Manufacturing method of laminate for chemical plating
JPH07283528A (en) Adhesive agent component, adhesive agent sheet, laminated board with adhesive agent, and manufacture of laminated board with adhesive agent and printed wiring board
JPH06252549A (en) Manufacture of laminated board covered with bonding agent
JPS5946118B2 (en) Manufacturing method of metal face plate
JPS6061254A (en) Manufacture of polyether imide-metal laminate
JPS6330797B2 (en)