JPS60209420A - オッシレータ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、電気磁性モータによる容器の回転振動により
、容器内若しくは傾斜軌道上を介して加工片を動作させ
ることが可能な装置に関する。

通常振動機と呼ばれる装置は、例えば加工片の供給機械
工具として一般に産業界で使用され、全てではないが小
寸法であることが望ましい。容器底部にある加工片は、
容器の振動の補助により通常螺旋状である傾斜軌道を登
り、機械の作業ステーションに到達する。

以下で「オツシレータ」として言及される本発明機構の
第１応用例（それは唯一ではないが）は、特に表面処理
装置に関する。オツシレータは容器とモータとを含み、
容器内に入れられた加工片を撹拌する機能を有する。上
記加工片が傾斜軌道を登ると、加工片は容器の底部に落
ち戻り、数瞬後に同じサイクルが再開される。故にこの
機構は、通常の電気メツキ装置の公知の特徴である撹拌
樽の代用品として有利であり、なぜならこれはより規則
的な活発さを確実にするからである。

基本的に表面処理装置は、必要な溶液を有する１個以上
のタンク、処理の為に加工片が入れられる容器、タンク
内の溶液を更新する手段及び最後にもし必要ならば容器
を１つのタンクから他のタンクへ移送する為の手段を含
む。

この種装置に使用される公知のオツシレータは、容器が
モータの上方に位置するように構成されている。これは
例えばスイス国特許第５９４０７２号に記載されている
単一タンク電気メツキ装置のような場合である。この構
造では、オツシレータはタンクに固定され且つタンク内
の中央に位置する容器が外側に配置されたモータの上方
に来るように配置されている。モータから容器への動作
の伝達はタンクの壁部を貫通する軸により達成される。

この構造は、軸がタンク壁部を貫通する部分で防水性の
問題（これは腐蝕性液体を使用する際解決が難しい）を
有することは明らかである。更に、オツシレータとタン
クとの固定的結合は装置の使用の可能性を制限する。

多数タンク装置の場合、この型式の構造では、各タンク
に専用の個別オツシレータを設けなければならない。こ
の事は当然高価で実際１難しい問題となり、加工片の各
移送の為にモータから容器を外す必要が生じる。

多数タンク装置の為、処理サイクルの工程中１つのタン
クから他のタンクへ適当な手段により移動可能な独立ユ
ニットとしてオツシレータを考慮することにより、実際
上興味ある解決が得られる。

然しそれらにも拘わらず、この解決方法は実際には適用
されておらず、なぜなら通常のオツシレータにおけるモ
ータ上方の容器の位置が、この目的の為には実現が雌し
いからであった。事実、この型式のオツシレータはタン
ク内で大きな空間を取り、また容器と同時に侵されるモ
ータを液体から効果的に保護する必要がある。

本発明の目的は、上記通常の機構の欠点を解消したオツ
シレータを提供することを目的とする。

この為本発明のオツシレータは、加工片を処理する傾斜
軌道、振動用電気磁性モータ、容器をモータに接続する
軸、オツシレータを保持する手段、オツシレータを装着
する手段、及びモータへの電流供給の為の電気制御端子
を含み、特に容器がモータの下方に配置されているとい
う事実により注目すべきである。

本発明オツシレータの第１の利点は、単純な構造で防水
性の問題を伴わないということである。

本発明オツシレータの第２の利点は、特に多数タンク表
面処理装置での使用に最適であるということである。

本発明のその他の特徴及び利点は、添付の図面に従い、
特に本発明オツシレータの使用に適当な表面処理装置だ
けでなく、何等の制限を伴わないオツシレータの望まし
い形状に関し説明する以下の記載により明白となろう。

図中同一部分には同一符号を付しである。

第１図及び第２図は、夫々本発明に係るオツシレータの
一実施例を示す正面図及び平面図である。

これは磁性材料から作られたがっちりした矩形基板１を
含む。オツシレータの作動中、この基板は水平位置にあ
る。据（＝Ｊけレール２が弾性サポート３により基板１
に接続され、これがオツシレータの振動を減衰すること
を可能とする。据付はレール２若しくはフックのような
他の類似の部材は、オツシレータをタンクの上方で、而
もその為に提供され且つ装置に固定されるフレーム上に
置くことを可能とする。基板１上には、これに対して直
立するように上記据付はレール２の反対側に、コイル・
サポート５を介して６個のコイルが固定される。各コイ
ルは図示しない磁性コアの周りに巻着され、それ等の長
さは等しくなっている。コイルの数は６個である必要は
なく、然し３個未満であってはならない。コイルは配電
箱６から電流を供給され、該配電箱は基板１上に固定さ
れ且つ接点端子に接続される。

上記コイル４は、アルミニウムのような軽量な材料から
なる円形上板７に装着される。この板は、６個の同じス
プリング・ブレード８を介して基板１に固定される。各
スプリン・ブレードはブラケット９を介して各板１及び
７に対して斜めに固定される。故に上板７は基板１に対
して平行となる。

コイル４に対向して上板７上に固定された磁性アーマチ
ュア１０は、コイル４のコア及び基板１により形成され
る磁性回路が閉成するのを許可する。

スプリング・ブレード８の長さは、エア・ギャップと呼
ばれる狭いスペースがコイル４と磁性アーマチュア１０
との間に残存し、板７がスプリング・ブレード８により
課せられるリンクに適合する回転及び並進動作を行える
ように選択される。また、磁性アーマチュア１０とは反
対側の上板７上にはフック１１が設けられ、これは図示
しない外部アームにより把持して本オツシレータを運ぶ
のを可能とする。

上述の部材１乃至１１はそれ等の設備と共にオツシレー
タのモータを形成する。このモータの下方には、上板７
の中心に固定された軸１６を介して容器１５が固定され
る。容器は図示しない傾斜軌道を有し、望ましくはポリ
ビニルのような透明な樹脂材料から作られ、内部の加工
片が見えるようになっている。

オツシレータの作動は以下の通りである。コイル４に同
じ電流が流れると、コイルのコアと磁性アーマチュア１
０との間に引力が発生ずる。スプリング・ブレード８の
補助により、この力は、動かないように支持された基板
１に関連して、上板７の並進及び軸１６周りの回転の垂
直動作を引起こす。

この動作は当然容器１５に伝達される。もしコイルを流
れる電流が変化し、周期的であれば、容器には同様の周
期的な振動が付与される。もし強痕で周期的な電流が適
当に選択されれば、容器１５は、加工片が傾斜軌道を登
り且つ撹拌工程を受けるように作動を開始する。

試験後、加工片の撹拌は、もし容器に上述よりもより複
雑な動作が付与されれば、非常に改善されることが判明
し、この時軸１Ｇは常にそれ自身に平行な状態を保持す
る。これは、コイルを成る幾つかのグループとし、コイ
ルの各グループに異なる可変電流を存在させるように運
転することにより得られる。極端な例では、１つのグル
ープは単一のコイル′のみからなる。１つのグループを
２つの隣接コイルから形成することで興味ある解答が得
られ、ここに記載のオツシレータの場合は３つの別個の
グループからなる。上記グループが、ある瞬間電流が１
つのグループのみに流れるようにされると、軸１６は既
に述べた動作に加えて、上板７の略中心に位置する点を
中心とした回転運動をも有するようになる。故に容器は
同様な動きを被り、これが加工片の撹拌及び軌道上方へ
の動作を改良する。

本発明の思想から離れることなく、例示のオツシレータ
以外の構造のオツシレータも当然使用することが可能で
ある。

表面処理装置における本発明のオツシレータの使用例は
、特に、モータ下方の容器の位置から得られる利点を示
ザ為のものである。

上記装置は成る数のモジュールＭを含み、その−の形を
第３図乃至第５図に示す。各モジュールＭはタンク２１
．２個のリザーバ２２．２２′（この数はもつと多くと
もよい）、各リザーバの下部とタンク２１の上部とを継
ぐ２本の充１眞管２３．２３′、タンク２１の下部を各
リザーバ２２．２２−の端部に位置するエンプテイング
管２５．２５＝のいずれか或いは排出管２６．２６′の
いずれかに継ぐ可動管２４、及びタンク２１の内部を充
填管２３．２３′の上方に導く２本の供給管２７．２７
′（この数はもつと多くともよい）を含む。

その開放位置において、エンプテイング・ゲート３０は
タンク２１の底部を可動管２４に継ぐことを可能にし、
また該管にはタンク２１の内側に固定された溢れ管３１
が継がれる。充填管２３．２３＝はポンプ３５’、　３
５′を含み、またエンプテイング管２５．２５−のいず
れか或いは排出管２６．２６−のいずれかに対してこれ
を運ぶ可動管２４の一端部の動作は、図示しない制御部
材により得られる。

全ての部材は図示しない枠体により一緒に支持され、タ
ンク２１がリザーバ２２．２２＝　、エンプテイング管
２５．２５′、及び排出管２６．２６−の上方に位置す
るようになっている。最後にモジュール内の全ての部材
は、枠体に固定された保護シー１〜によ　。

り被覆される。

このモジュールの構成では、リザーバ２２からタンク２
１への処理溶液の移送は、エンプテイング・ゲート３０
が閉鎖している状態で、ポンプ３５の作動を介して液体
を強制的に循環させることにより達成される。その一部
分では、すすぎ溶液が水管のような圧力管２１を介して
タンク２１内に運ばれ、その流れは図示しないゲートに
より調整される。この構成では、タンク２１からリザー
バ２２への処理溶液の戻しは、エンプティング・ゲート
３０が開いている状態で、可動管２４の端部を■ンプテ
ィング管２５に対して位置させた後、重力により達成さ
れる。

同様にすすぎ溶液は適当な位置にある可動管２４を介し
て重力により排出管２６内に移送され、タンク２１とリ
ザーバ２２−、エンプティング管２５′、排出管２６−
若しくは入口管２７′との間の溶液の循環は上述と同様
に行なわれる。

工程の活動段階中、加工片がタンク内にある時、連続的
な循環溶液を形成することが有利であり、溶液は溢れ管
３１を介してタンク２１を離れ、エンブティング管２５
及び排出管２６に入る。

上述と比較して各部材を互いに異なる配置にづることも
、本発明の思想から離れることなく可能である。例えば
、タンク２１はリザーバ２２．２２′と同じ高さ若しく
はこれより低く配置することが出来る。同様に、ポンプ
は液体の流れが増大するように全ての管に使用すること
が出来る。可動管２４は、夫々がゲートを具備し且つタ
ンクの底部をエンプティング管２５．２５′及び排出管
２６．２６−に継ぐ複数の管に置換することも出来る。

第６図は本発明に係る完全な装置を示ず。この例では、
上記のモジュールＭが６個が設けられ、これ等は、リザ
ーバ２２．２２−の数に関する点を除いて同一となって
いる。モジュールＭを包囲し且つこれ等を一緒に支持す
る枠体４０は、装置の後部上に２本の水平案内レール４
１．４２を支持し、ここにモジュールのエンプティング
管２５及び排出管２６が配置される。これ等のレール上
には、モジュールＭのタンク２１の上方に、移動部材４
３が配置され、これは可動アーム４４を該移動部材上で
垂直に摺動可能に支持する。その下側位置において、ア
ーム４４は上記フック１１を介してサポート４５を把持
出来、該サポートに対して上述の如くオツシレータが固
定され、容器１５だけが見えるようになっている。

当然、サポート４５はオツシレータの作動に必要な全て
の電流導線を含む。サポート４５がアーム４４と係合し
ない時、これは案内レール４２．４２′のように装置の
全体に沿って延びる水平フック・レール４１上に支持さ
れる。

加工片は、容器１５がモジュールから離れて、フレーム
４０上設けられた積載位置内に解放された時容器内に入
れられる。一旦加工片が入れられると、アーム４４は容
器１５を持上げ、移動部材の高位置に致らすことが出来
る。この移動部材の案内レール４１、４２に沿った移送
は、容器１５を第２のモジュールＭ上に運ぶことを可能
とする。サポート４５に関連した容器１５の位置は、ア
ーム２４の下側位置への戻りが、容器１５をモジュール
Ｍのタンク２１内の必要位置へ運ぶようになっている。

サポート４５はこの位置において、フック・レール４７
上に支持され、オツシレータのモータをタンク２１内の
溶液の外側に保持する。次にアーム４４は、その間に積
載される他のサポート４５に固定された他のオツシレー
タを把持し若しくはオツシレータを１つのタンクから他
のタンクへ移送する為、サポー［・４５を離れて初期位
置に戻ることが出来る。

モジュールＭ内での溶液の循環及び移動部材４３及びア
ーム４４の作動は、図示しない公知の部材によって達成
される。これ等の部材は、手動或いは鎖孔若しくは磁気
テープのような記憶部材を介して制御キャビネット４８
により操作される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係るオツシレータを示す正面図、第２
図は同オツシレータの平面図、第３図は表面処理装置構
造として使用されるモジュールとして形成された２個の
リザーバ付のタンクを示す平面図、第４図は第３図図示
のモジュールの正面図、第５図は同モジュールの側面図
、第６図は複数のモジュールからなり且つ本発明のオツ
シレータを使用するように形成された表面処理装置を示
す斜視図である。 １・・・基板　４・・・コイル　７・・・上板　８・・
・スプリング・ブレード　１０・・・アーマチュア　１
５・・・容器１６・・・軸　２１・・・タンク　２２．
２２−・・・リザーバー−ｊと □□］＝儒■ 第１ ■ １１ ）７

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）縦型構造をなし、加工片を搬送若しくは撹拌可能
   なオツシレータであって、 上記加工片を収納する容器と、 電気磁性振動モータと、 上記モータに電流を供給する為の接点端子と、を含み、
   上記容器が上記モータの下方に配置されていることを特
   徴とするオツシレータ。 （２〉　前記容器が傾斜軌道を有することを特徴とする
   特許請求の範囲第（１〉項に記載のオツシレータ。 （３）前記モータが、 上面及び下面を有する磁性材料からなる基板と、前記オ
   ツシレータを上記基板の下面上に固定する部材と、 上記基板の上面上に固定された磁性コアと、上記磁性コ
   アの夫々に装着されたコイルと、上面と上記磁性コアに
   対向する下面とを有する上板と、 上記上板の下面上に固定された磁性アーマチュアと、 一端部が上記基板に、他端部が上記上板に対して斜めに
   固定される２つの端部を有し、上記磁性コアと上記磁性
   アーマチュアとの間にエア・ギャップを形成するスプリ
   ング・ブレードと、を含むことを特徴とする特許請求の
   範囲第（１）項または第（２〉項に記載のオツシレータ
   。 （４）前記コイルが複数のグループにおいて支持され、
   各グループは互いに電気的に独立していることを特徴と
   する特許請求の範囲第（３）項に記載のオツシレータ。 （５）　前記コイルの各グループに異なった電流が付与
   されることを特徴とする特許請求の範囲第（４）項に記
   載のオツシレータの作動方法。 ０　表面処理装置における特許請求の範囲第（１）項ま
   たは第（２）項に記載のオツシレータの使用。 （７）　前記表面処理装置が、 第１タンク及び少なくとも１個の第２タンクと、前記オ
   ツシレータを１つのタンクから他のタンりへ移送する部
   材と、 処理溶液を収納するリザーバと、 上記リザーバを上記タンクに継ぐ充填管と、上記充填管
   内で上記処理溶液を循環させる部材と、 上記タンクを上記リザーバに継ぐエンプテイング管と、 上記エンプティング管内で上記処理溶液を循環させる部
   材と、 上記タンクにすすぎ溶液を充填する管と、上記タンクか
   らすすぎ溶液を全て排出する管と、上記充填及びエンプ
   テイング管内で上記すすぎ溶液を循環させる部材と、 を含むことを特徴とする特許請求の範囲第（６）項に記
   載のオツシレータの使用。