JPS60208981A - 新規カルバペナム及びカルバペネム誘導体 - Google Patents
新規カルバペナム及びカルバペネム誘導体Info
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- JPS60208981A JPS60208981A JP59048052A JP4805284A JPS60208981A JP S60208981 A JPS60208981 A JP S60208981A JP 59048052 A JP59048052 A JP 59048052A JP 4805284 A JP4805284 A JP 4805284A JP S60208981 A JPS60208981 A JP S60208981A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なカルバ゛ペナム又はカルバペネム銹導体
に関し、さらに詳しくは下記式 式中、 R1及びR1は各々水素原子又は低級アルキル基を表わ
し; R,は水素原子を表わし且つR4は基 −COOR,を表わすか、或いはR3とR4とは一緒に
なって単結合を形成し; R,は低級アルキル基を表わす、 で示される化合物に関する。
に関し、さらに詳しくは下記式 式中、 R1及びR1は各々水素原子又は低級アルキル基を表わ
し; R,は水素原子を表わし且つR4は基 −COOR,を表わすか、或いはR3とR4とは一緒に
なって単結合を形成し; R,は低級アルキル基を表わす、 で示される化合物に関する。
本明細書において使用する「低級」なる語は、この語が
付された化合物又は基の炭素原子数が6個以下、好まし
くIfi4個以下であることを意味する。
付された化合物又は基の炭素原子数が6個以下、好まし
くIfi4個以下であることを意味する。
しかして、上記式(1)における各置換基の定義におい
て用いる「低級アルキル基」としては例えば、メチル、
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イ
ソブチル、5ec−ブチル、tart−ブチル等の直鎖
状又は分岐鎖状のアルキル基2>で挙げられる。
て用いる「低級アルキル基」としては例えば、メチル、
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イ
ソブチル、5ec−ブチル、tart−ブチル等の直鎖
状又は分岐鎖状のアルキル基2>で挙げられる。
本発明によシ提供される前記式(1)の化合物は、後述
するとおシ、優れた抗菌活性を有するカルバペネム系抗
生物質の合成中間体として有用であシ、代表的なものを
例示すれば以下のとおシで上記式(1)の化合物は、本
発明に従えば、下記反応式Aに示すルートを経て合成す
ることができる。
するとおシ、優れた抗菌活性を有するカルバペネム系抗
生物質の合成中間体として有用であシ、代表的なものを
例示すれば以下のとおシで上記式(1)の化合物は、本
発明に従えば、下記反応式Aに示すルートを経て合成す
ることができる。
上記式中、
Zは水素添加分解によシ離脱しうるアミノ保dL fi
tえばペンツルオキシカルボニル、トリチル、ベンズヒ
ドリル、p−ニトロペンツルオキシカル?ニル基等を表
わし;Yはtttrt−ブチル基又はシリル基(例えば
トリメチルシリル、tert−ブチルジメチルシリル基
等)を表わし; phはフェニル基を表わし; R7Iは低級アルキル基を表わし; Qはセレン又はイオウを表わし; R7、R7及びR5は前記の意味を有する。
tえばペンツルオキシカルボニル、トリチル、ベンズヒ
ドリル、p−ニトロペンツルオキシカル?ニル基等を表
わし;Yはtttrt−ブチル基又はシリル基(例えば
トリメチルシリル、tert−ブチルジメチルシリル基
等)を表わし; phはフェニル基を表わし; R7Iは低級アルキル基を表わし; Qはセレン又はイオウを表わし; R7、R7及びR5は前記の意味を有する。
式(n)(r)N−保瞳アミノマロン酸エステルとアク
ロレインとの反応は、適当な不活性溶媒中、例えばベン
ゼン、ソエチルエーテル、テトラヒドロフラン、・ジオ
キサン、等の溶媒中で、一般には約θ〜約100℃の温
度、通常はほぼ室温で行なうことができ、これによシ式
([1)のビロリソン誘導体が得られる。式(II)の
N−保護アミノマロン酸エステルに対するアクロレイン
の使用itハ鳳密に制限されるものではないが、一般に
は、式(It)の化合物1モルあたシアクロレインは1
〜5モル、好ましくは1〜1.5モルの割合で使用する
のが適当である。また、上記反応は通常塩基□の存在下
で行なわれ、使用しつる塩基としては、例えば水素化ナ
トリウム、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトキ
サイド、tart−ブトキシカリウム等が挙げられる。
ロレインとの反応は、適当な不活性溶媒中、例えばベン
ゼン、ソエチルエーテル、テトラヒドロフラン、・ジオ
キサン、等の溶媒中で、一般には約θ〜約100℃の温
度、通常はほぼ室温で行なうことができ、これによシ式
([1)のビロリソン誘導体が得られる。式(II)の
N−保護アミノマロン酸エステルに対するアクロレイン
の使用itハ鳳密に制限されるものではないが、一般に
は、式(It)の化合物1モルあたシアクロレインは1
〜5モル、好ましくは1〜1.5モルの割合で使用する
のが適当である。また、上記反応は通常塩基□の存在下
で行なわれ、使用しつる塩基としては、例えば水素化ナ
トリウム、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトキ
サイド、tart−ブトキシカリウム等が挙げられる。
これら塩基の使用量も特に制限されるものではなく、用
いる塩基の¥Ii類等に応じて変えることができるが、
一般には式(It)の化合物1モルあたシ0.01−1
当量ン好ましくは0.05〜0.1当量の割合で使用す
ることができる。
いる塩基の¥Ii類等に応じて変えることができるが、
一般には式(It)の化合物1モルあたシ0.01−1
当量ン好ましくは0.05〜0.1当量の割合で使用す
ることができる。
得られる式(10)のピロリジン誌導体は次いで式(I
V)の化合物と反応させることによ9式(V)の化合物
に変えられる。この反応は通常のIP’ittig反応
条件に実施することができる。例えば、該反応ハベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の不活性溶媒中で約50℃乃
至反応混合物の還流温度、好ましくは還流温度で行なう
ことができる。この際、式(IV)の化合物は式(1)
のピロリジン誘導体1モルあたシに1〜3モル、好まし
くは1〜1.2モル使用するのが適当である。本反応で
得られる式(V)の化合物にはシス体とトランス体の2
mの幾何異性体が存在しておシ(ただし、トランス体が
主体)、次の反応に先立ち、シス体とトランス体に分離
してもよいが、勿論そのまま反応を継続することもでき
る。
V)の化合物と反応させることによ9式(V)の化合物
に変えられる。この反応は通常のIP’ittig反応
条件に実施することができる。例えば、該反応ハベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の不活性溶媒中で約50℃乃
至反応混合物の還流温度、好ましくは還流温度で行なう
ことができる。この際、式(IV)の化合物は式(1)
のピロリジン誘導体1モルあたシに1〜3モル、好まし
くは1〜1.2モル使用するのが適当である。本反応で
得られる式(V)の化合物にはシス体とトランス体の2
mの幾何異性体が存在しておシ(ただし、トランス体が
主体)、次の反応に先立ち、シス体とトランス体に分離
してもよいが、勿論そのまま反応を継続することもでき
る。
生成する式(V)の化合物は有機過酸、飼えば常−クロ
ル安息香酸、過酢酸等で酸化することにより式(lの化
合物に変えることができる。この酸化反応は一般にほぼ
室温乃至反応混合物の還流温度、好ましくは約40℃乃
至反応混合物の還流温度において、例えば塩化メチレン
、クロロホルム、四塩化炭素等の不活性溶媒中で有利に
行なうことができる。R8が低級アルキル基である場合
、上記酸化反応は比較的低温でも円滑に進行するが、R
1が水素原子である場合には、比較的高目の反応温度を
使用することが望ましい。上記有機過酸の使用量は一般
には式(V)の化合物1モルあた91〜5モル、好まし
くは1〜3モルとすることができる。
ル安息香酸、過酢酸等で酸化することにより式(lの化
合物に変えることができる。この酸化反応は一般にほぼ
室温乃至反応混合物の還流温度、好ましくは約40℃乃
至反応混合物の還流温度において、例えば塩化メチレン
、クロロホルム、四塩化炭素等の不活性溶媒中で有利に
行なうことができる。R8が低級アルキル基である場合
、上記酸化反応は比較的低温でも円滑に進行するが、R
1が水素原子である場合には、比較的高目の反応温度を
使用することが望ましい。上記有機過酸の使用量は一般
には式(V)の化合物1モルあた91〜5モル、好まし
くは1〜3モルとすることができる。
このようにして得られる式(Vl)の化合物は次いで接
触還元して式(■)の化合物に導くことができる。この
接触還元は常法に従い、例えば、10%パラジウム−炭
素、5チパラジウムー炭素、酸化白金、パラジウムブラ
ックラネーニッケル等の水素添加触媒の存在下に、約0
〜約50℃、通常室温においてほぼ常圧乃至約5気圧、
好ましくは常圧の水素を用いて行なうことができる。ま
た、この接触還元時に用いつる溶媒としては、例えばノ
オキサン、メタノール、エタノール、酢酸エチル等が挙
げられる。
触還元して式(■)の化合物に導くことができる。この
接触還元は常法に従い、例えば、10%パラジウム−炭
素、5チパラジウムー炭素、酸化白金、パラジウムブラ
ックラネーニッケル等の水素添加触媒の存在下に、約0
〜約50℃、通常室温においてほぼ常圧乃至約5気圧、
好ましくは常圧の水素を用いて行なうことができる。ま
た、この接触還元時に用いつる溶媒としては、例えばノ
オキサン、メタノール、エタノール、酢酸エチル等が挙
げられる。
かくして式(■)の化合物が得られ、この化合物は酸で
処理することによシカルー−キシル保護基(lを離脱せ
しめる。用いる酸としては、水を含まない酸又は酸溶液
が使用され、例えば塩化水素のヅオキサン溶液、トリフ
ルオロ酢酸、トリフ4酸の塩化メチレン溶液等が好適に
使用される。
処理することによシカルー−キシル保護基(lを離脱せ
しめる。用いる酸としては、水を含まない酸又は酸溶液
が使用され、例えば塩化水素のヅオキサン溶液、トリフ
ルオロ酢酸、トリフ4酸の塩化メチレン溶液等が好適に
使用される。
該酸による処理は一般にはθ℃〜室温の温度で行なうこ
とができる。
とができる。
生成する式(vI)の化合物は次いで脱水縮合剤で処理
することによシ閉環せしめ、これによシ本発明の化合物
である前記式(1−1)の化合物を得ることができる。
することによシ閉環せしめ、これによシ本発明の化合物
である前記式(1−1)の化合物を得ることができる。
使用しつる脱水縮合剤とじては、例工ばジシクロへキシ
ルカルがノイミド(DCC)、2.2’−ソピリジルゾ
スルフイドートリフェニルホスフィン、亜すン酸ソフェ
ニル、2−フロロ−1−メチルピリヅニウムアイオダイ
ド等が挙げられ、処理温度としては一般に0〜150℃
好ましくは室温〜100℃が適当である。上記縮合剤の
使用量には制限はなく広範囲にわたシ変えることができ
るが、一般には式(■)の化合物1モルあたfi1〜2
モル、好ましくは1〜1.2モルの割合で使用するのが
好適である。また、上記縮合反応における溶媒としては
、例えば、アセトニトリル、ナト2ヒドロフラン、ツメ
チルホルムアミド、ソオキサン、酢酸エチル、塩化メチ
レン等が有利罠使用される。
ルカルがノイミド(DCC)、2.2’−ソピリジルゾ
スルフイドートリフェニルホスフィン、亜すン酸ソフェ
ニル、2−フロロ−1−メチルピリヅニウムアイオダイ
ド等が挙げられ、処理温度としては一般に0〜150℃
好ましくは室温〜100℃が適当である。上記縮合剤の
使用量には制限はなく広範囲にわたシ変えることができ
るが、一般には式(■)の化合物1モルあたfi1〜2
モル、好ましくは1〜1.2モルの割合で使用するのが
好適である。また、上記縮合反応における溶媒としては
、例えば、アセトニトリル、ナト2ヒドロフラン、ツメ
チルホルムアミド、ソオキサン、酢酸エチル、塩化メチ
レン等が有利罠使用される。
このようにして得られる式(1−1)の化合物における
6−位の水酸基は必要によυアルキル化してアルコキシ
基(OR□)に変えることができる。このアルキル化I
I′i例えば、酸化銀CAr1tO)触媒の存在下に、
式(1−1)の化合物を低級アルキにアイオダイド(R
,、I)と反応させることによシ行なうことができる。
6−位の水酸基は必要によυアルキル化してアルコキシ
基(OR□)に変えることができる。このアルキル化I
I′i例えば、酸化銀CAr1tO)触媒の存在下に、
式(1−1)の化合物を低級アルキにアイオダイド(R
,、I)と反応させることによシ行なうことができる。
このアルキル化反応は通常適当な不活性溶媒中、例えば
ツメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホリックトリ
アミドツメチルアセタミド等の溶媒中で、一般に室温〜
80℃、好ましくは室温〜50℃の温度で行なうことが
できる。式(1−1)の化合物に対する低級アルキルア
イオダイドの使用量は臨界的ではないが、−級には式(
1−1)の化合物1モルあたり低級アルキルアイオダイ
ドは1〜100モル、好ましくは1〜20モルの割合で
使用するのが望ましい。また上記酸化銀は式(1−1)
の化合物1モルあたり1〜10モル、好ましくは1〜5
モルの割合で使用するのが好都合である。上記アルキル
化反応によシ、本発明の化合物である式(■−2)の化
合物が得られる。
ツメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホリックトリ
アミドツメチルアセタミド等の溶媒中で、一般に室温〜
80℃、好ましくは室温〜50℃の温度で行なうことが
できる。式(1−1)の化合物に対する低級アルキルア
イオダイドの使用量は臨界的ではないが、−級には式(
1−1)の化合物1モルあたり低級アルキルアイオダイ
ドは1〜100モル、好ましくは1〜20モルの割合で
使用するのが望ましい。また上記酸化銀は式(1−1)
の化合物1モルあたり1〜10モル、好ましくは1〜5
モルの割合で使用するのが好都合である。上記アルキル
化反応によシ、本発明の化合物である式(■−2)の化
合物が得られる。
以上に述べた如くして製造される式(1−1)又1j:
(1−2)の化合物は次いでソフェニルソセレナイド
又II′iソフェニルノスルフイド71LUKI又はN
alと反応させることによシ、式(DOの化合物に変え
ることができる。この反応は一般には、ヘキサメチルホ
スホリックトリアミド(HMpA)、ツメチルホルムア
ミド、ツメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド等
の極性溶媒中で、50〜150℃好ましくは・、50〜
120℃の温度で有利に行なうことができる。上記ジフ
ェニルジセレナイド及びノフェニルノスルフィド及びN
aI又はKlの使用量は一般には、式(1−1)又#1
(1−2)の化合物1モルあたシノフェニルノセレナイ
ド及びジフェニルソスルフー1ドは1〜5モル、好まし
くは1〜2モル、そしてNal又はKlは1〜5モル、
好ましくは1〜3モルの割合で用いるのが好都合である
。
(1−2)の化合物は次いでソフェニルソセレナイド
又II′iソフェニルノスルフイド71LUKI又はN
alと反応させることによシ、式(DOの化合物に変え
ることができる。この反応は一般には、ヘキサメチルホ
スホリックトリアミド(HMpA)、ツメチルホルムア
ミド、ツメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド等
の極性溶媒中で、50〜150℃好ましくは・、50〜
120℃の温度で有利に行なうことができる。上記ジフ
ェニルジセレナイド及びノフェニルノスルフィド及びN
aI又はKlの使用量は一般には、式(1−1)又#1
(1−2)の化合物1モルあたシノフェニルノセレナイ
ド及びジフェニルソスルフー1ドは1〜5モル、好まし
くは1〜2モル、そしてNal又はKlは1〜5モル、
好ましくは1〜3モルの割合で用いるのが好都合である
。
かくして得られる式(IX)の化合物をま酸化し、次い
で塩基で処理することによシ、本発明の化合物である前
記式(1−3)の化合物を得ることができる。上記酸化
反応と塩基による処理は別々のパッチで2段階に行なっ
てもよく、或いtitバッチで連続的に行なうこともで
きる。
で塩基で処理することによシ、本発明の化合物である前
記式(1−3)の化合物を得ることができる。上記酸化
反応と塩基による処理は別々のパッチで2段階に行なっ
てもよく、或いtitバッチで連続的に行なうこともで
きる。
式(K)の化合物の酸化は、例えば塩化メチレン、クロ
ロホルム、酢酸エチル等の溶媒中で、前述した如き有機
過酸を用いて行なうことができる。
ロホルム、酢酸エチル等の溶媒中で、前述した如き有機
過酸を用いて行なうことができる。
反応温度は一般に一30℃〜50℃、好ましくは一30
8C〜室温とすることができる。また、該有機過酸は通
常式(IX)の化合物1モルあた91〜2モル、好まし
くは1〜1.5モルの割合で使用するのが適当である。
8C〜室温とすることができる。また、該有機過酸は通
常式(IX)の化合物1モルあた91〜2モル、好まし
くは1〜1.5モルの割合で使用するのが適当である。
酸化反応生成物は次いで塩基で処理する。使用しつる塩
基としては、例えばトリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ソイソプロビルエチルアミン等が挙げられ、これら
は式(IK)の化合物1モルあたり一般には1〜5当量
、好ましくは1〜3当量の割合で使用することができる
。さらに1該塩し 基による処理の際の温度は一般には−s O′−40℃
、好ましくは一り0℃〜室温とすることができる。
基としては、例えばトリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ソイソプロビルエチルアミン等が挙げられ、これら
は式(IK)の化合物1モルあたり一般には1〜5当量
、好ましくは1〜3当量の割合で使用することができる
。さらに1該塩し 基による処理の際の温度は一般には−s O′−40℃
、好ましくは一り0℃〜室温とすることができる。
かくして製造される本発明の化合物〔前記式(夏−1)
、(1−2)及び(1−3)の化合物〕は、それ自体公
知の方法、例えば、再結晶、抽出、クロマトグラフィー
等の方法によυ、反応混合物から分離し精製することが
できる。
、(1−2)及び(1−3)の化合物〕は、それ自体公
知の方法、例えば、再結晶、抽出、クロマトグラフィー
等の方法によυ、反応混合物から分離し精製することが
できる。
以上に述べた方法によって製造される本発明の化合物は
、式(V)の化合物がトランス体であるかシス体である
か罠よって、下記式 了解すべきである。
、式(V)の化合物がトランス体であるかシス体である
か罠よって、下記式 了解すべきである。
本発明により提供される式(1)の化合物は優れた抗菌
活性を有するカルノ々ペネム系抗生物質の合成中間体と
して有用であシ、例えば、後記実施例16によって製造
される、R,=C,B5、R2=OCtl、 、R3+
R4=単結合及びR,=CH3である式(1)の化合物
、すなわち下記式 の化合物は、ジャナルオプケミカルソサエティーケミカ
ルコミュニケーション1084 (1980)に記載の
方法に従い抗菌活性を有する安定な下記虻 に導くことができる〔反応の詳細は後記参考的参照〕。
活性を有するカルノ々ペネム系抗生物質の合成中間体と
して有用であシ、例えば、後記実施例16によって製造
される、R,=C,B5、R2=OCtl、 、R3+
R4=単結合及びR,=CH3である式(1)の化合物
、すなわち下記式 の化合物は、ジャナルオプケミカルソサエティーケミカ
ルコミュニケーション1084 (1980)に記載の
方法に従い抗菌活性を有する安定な下記虻 に導くことができる〔反応の詳細は後記参考的参照〕。
上記式(A)の化合物の抗菌活性及び安定性は以下に示
す試験法によシ示すことができる。
す試験法によシ示すことができる。
1) MIC試験
抗菌活性の測定は、日本化学療法学会標準法にもとづい
た寒天培地希釈法で行なった。各薬剤の2倍希釈の列を
M150リン酸緩術液(1)tg +7aO)て調製し
、この薬剤溶液1−と、ミューラーヒントン寒天培地1
Difco社製)9−とを9cm径のシャーレ内で混和
し平板とする。検定菌は、ミューラーヒントンブロス培
地(Difco )で35本℃で1夜静置培養し、生理
食塩水で約10@tells/ mlとなるように希釈
する。この接種菌液をミクロプランタ−(佐久間製作所
)を用いて寒天平板上に接種する。平板は35℃で18
時間培養し、菌の生育が完全に阻止された最低の薬剤濃
度をMICとする。
た寒天培地希釈法で行なった。各薬剤の2倍希釈の列を
M150リン酸緩術液(1)tg +7aO)て調製し
、この薬剤溶液1−と、ミューラーヒントン寒天培地1
Difco社製)9−とを9cm径のシャーレ内で混和
し平板とする。検定菌は、ミューラーヒントンブロス培
地(Difco )で35本℃で1夜静置培養し、生理
食塩水で約10@tells/ mlとなるように希釈
する。この接種菌液をミクロプランタ−(佐久間製作所
)を用いて寒天平板上に接種する。平板は35℃で18
時間培養し、菌の生育が完全に阻止された最低の薬剤濃
度をMICとする。
2) 腎デヒドロペプチダーゼに対する安定性試験(ホ
モジネート試験) 放血化動物よシ腎臓を摘出し、湿重量の5倍量のM15
0リン酸緩衝液(pH7,o)、あるいはM/lOトリ
ス・塩酸緩衝液(pH7,0)を加え、ホモジネートを
調製する、0℃、10.000Xfで遠心分離を行ない
、その上清区分を薬剤との反応に使用する。ホモジネー
トの調製に使用したものと同一緩衝液で100μt/m
lの薬剤溶液を調製する。薬剤溶液とホモジネート各0
.1−を混和し、ゆるやかに振とうしつつ37℃で反応
を行なう。−i時間経過後に100℃で15秒間加熱す
ることによシ反応を停止させ、残存する薬剤量をCom
amonas terrigena H−996株を検
定菌としたdisc−αgar法によって測定する。
モジネート試験) 放血化動物よシ腎臓を摘出し、湿重量の5倍量のM15
0リン酸緩衝液(pH7,o)、あるいはM/lOトリ
ス・塩酸緩衝液(pH7,0)を加え、ホモジネートを
調製する、0℃、10.000Xfで遠心分離を行ない
、その上清区分を薬剤との反応に使用する。ホモジネー
トの調製に使用したものと同一緩衝液で100μt/m
lの薬剤溶液を調製する。薬剤溶液とホモジネート各0
.1−を混和し、ゆるやかに振とうしつつ37℃で反応
を行なう。−i時間経過後に100℃で15秒間加熱す
ることによシ反応を停止させ、残存する薬剤量をCom
amonas terrigena H−996株を検
定菌としたdisc−αgar法によって測定する。
3) 腎デヒドロペプチダーゼに対する安定性試験(キ
ュベツトアッセイ) ブタ腎臓のミクロゾーム画分よ如アセトンパウダーを調
製する。このアセトンパウダー250〜に25fnlの
20チプタノ一ルーM/20リン酸緩衝液(pB7.0
)を加え、5℃で2時間攪拌1、デヒドロペグチダーゼ
の可溶化を行なう。水5tに対し、透析を3回くり返し
た後、酵素標品として使用する。市販の各種動物腎アセ
トンパウダー(シグマ社製、カタログjKK 1625
:イヌ、K775G:マウス、f7250:ブタ)も
同様操作によりデヒドロペプチダーゼ活性を可溶化する
。
ュベツトアッセイ) ブタ腎臓のミクロゾーム画分よ如アセトンパウダーを調
製する。このアセトンパウダー250〜に25fnlの
20チプタノ一ルーM/20リン酸緩衝液(pB7.0
)を加え、5℃で2時間攪拌1、デヒドロペグチダーゼ
の可溶化を行なう。水5tに対し、透析を3回くり返し
た後、酵素標品として使用する。市販の各種動物腎アセ
トンパウダー(シグマ社製、カタログjKK 1625
:イヌ、K775G:マウス、f7250:ブタ)も
同様操作によりデヒドロペプチダーゼ活性を可溶化する
。
M/10)リス・塩酸緩衝液(pR7,0)によって1
my/−濃度に調製した被験薬剤溶液0.2dと上記酵
素標品0.2−を混和し、37℃に保温した光路長1.
0 mlの石英キュベツト中で、300?l?F!にお
けるUVの減少を日立ダブルビーム分光光度計200−
10型によシ追跡する。反応開始時のODを1oosと
し、各反応時間のODパーセン・トによシ、薬剤の安定
性を比較する。さらに反応開始時と5分後のODの差を
カルバペネム誘導体およびPS−5についてそれぞれも
とめ誘導体でられた数値によって誘導体の安定性を比較
する。
my/−濃度に調製した被験薬剤溶液0.2dと上記酵
素標品0.2−を混和し、37℃に保温した光路長1.
0 mlの石英キュベツト中で、300?l?F!にお
けるUVの減少を日立ダブルビーム分光光度計200−
10型によシ追跡する。反応開始時のODを1oosと
し、各反応時間のODパーセン・トによシ、薬剤の安定
性を比較する。さらに反応開始時と5分後のODの差を
カルバペネム誘導体およびPS−5についてそれぞれも
とめ誘導体でられた数値によって誘導体の安定性を比較
する。
結果は添付第1図に示す。
以下実施例及び参考例を挙げて本発明を更に詳細に説明
する。
する。
実施例 l
の製造
[1)
(式中、Meは−CM、基を、Zけ
N−カルボペンヅルオキシアミンマロン酸ジメチル2
B、1 f (0,1mole)をペンゼア25Gml
K溶解し、ナトリウムメトキサイド50089及びアク
ロレイン10ml C0,2mole )を加え、1時
間室温で反応させた。p過後減圧濃縮し、シリカグル4
00tのカラムに付し、ベンゼン/アセトン(10/l
)、(5/1)にて溶出させた。ベンゼン/アセトン
(4/l)展開のシリカケ゛ル薄層クロマトグラフ(以
下、TLCという)にてRf値0.50にヨード発色す
る区分を減圧乾固すると油状の表題化合物(1)が2g
、9r(ss%)得られた。
B、1 f (0,1mole)をペンゼア25Gml
K溶解し、ナトリウムメトキサイド50089及びアク
ロレイン10ml C0,2mole )を加え、1時
間室温で反応させた。p過後減圧濃縮し、シリカグル4
00tのカラムに付し、ベンゼン/アセトン(10/l
)、(5/1)にて溶出させた。ベンゼン/アセトン
(4/l)展開のシリカケ゛ル薄層クロマトグラフ(以
下、TLCという)にてRf値0.50にヨード発色す
る区分を減圧乾固すると油状の表題化合物(1)が2g
、9r(ss%)得られた。
R
170G(ウレタン)
purtR(cDcl、) (内部標準は特にことわら
ない限F)、TMS:テトラメチルシランを用いた)δ
: 1.? s〜z25 (2H、m 、 C−411
21)、225〜2.85(1/、毒、(1’−3Ht
)、3.53(a 、411 、OMg) 、 N75
(#、2//J OMg) 、4.02(8,IM、0
11)、5.10(Jl、÷R9C11,−,(r)、
5.17 (8、+B、 C1l、−Ar)、5.67
(br、lII 、C−5M)、7.30(8゜5/
/ 、 Ar −II ) 1−M5 m/z 319(M−H,0) 実施例 2 の製造 (式中、 t13bは、 c(cn、)*を表わす。以下同じ) l−ベンジルオキシカルボニル−2,2−’/メトキシ
カルボニルー5−ヒドロキシピロリヅン(i )i、
lt (326mmolag )、トリフェニルホスフ
ィン−tart−ブトキシカルボニルプロピレン1.7
3 f (4,26mmo1gs )を−’t 7 セ
ン50mに溶解し16時間加熱還流させた。減圧濃縮後
シリカケ゛ル50fのカラムに吸着させ、ベンゼン/酢
酸エチル(20/l)、(10/1)にて溶出させ、ベ
ンゼン/酢酸エチル(s/l)M開ノシリカ!r’kT
LcにてRfO,631に−UV吸収を有する区分を濃
縮すると表題化合物〔2〕が1.2f(80チ)得られ
た。この化合物はベンゼン−n−へキサンから杏結晶す
ると無色針状結晶を与えた。融点93〜94℃ R 1700(ウレタン) NMR(CDCl2) δ: 0.94 (311、t 、 J=7.0JIz
、 C1l!−C1l、)1、47 (9II 、
s 、 C(C−”5)s)、1.85〜2.55(6
// 、 掌、 CB* M3 )、3.73 (6B
、 B 。
ない限F)、TMS:テトラメチルシランを用いた)δ
: 1.? s〜z25 (2H、m 、 C−411
21)、225〜2.85(1/、毒、(1’−3Ht
)、3.53(a 、411 、OMg) 、 N75
(#、2//J OMg) 、4.02(8,IM、0
11)、5.10(Jl、÷R9C11,−,(r)、
5.17 (8、+B、 C1l、−Ar)、5.67
(br、lII 、C−5M)、7.30(8゜5/
/ 、 Ar −II ) 1−M5 m/z 319(M−H,0) 実施例 2 の製造 (式中、 t13bは、 c(cn、)*を表わす。以下同じ) l−ベンジルオキシカルボニル−2,2−’/メトキシ
カルボニルー5−ヒドロキシピロリヅン(i )i、
lt (326mmolag )、トリフェニルホスフ
ィン−tart−ブトキシカルボニルプロピレン1.7
3 f (4,26mmo1gs )を−’t 7 セ
ン50mに溶解し16時間加熱還流させた。減圧濃縮後
シリカケ゛ル50fのカラムに吸着させ、ベンゼン/酢
酸エチル(20/l)、(10/1)にて溶出させ、ベ
ンゼン/酢酸エチル(s/l)M開ノシリカ!r’kT
LcにてRfO,631に−UV吸収を有する区分を濃
縮すると表題化合物〔2〕が1.2f(80チ)得られ
た。この化合物はベンゼン−n−へキサンから杏結晶す
ると無色針状結晶を与えた。融点93〜94℃ R 1700(ウレタン) NMR(CDCl2) δ: 0.94 (311、t 、 J=7.0JIz
、 C1l!−C1l、)1、47 (9II 、
s 、 C(C−”5)s)、1.85〜2.55(6
// 、 掌、 CB* M3 )、3.73 (6B
、 B 。
C)#gx2)、5.08 (2H、s 、 C1l、
−,4r)、6、 1 5 (I B 、8 、N ツ
ノ ) 、6.44(1)J、t。
−,4r)、6、 1 5 (I B 、8 、N ツ
ノ ) 、6.44(1)J、t。
J=7.511z 、C−5M)、7.30(5//、
a。
a。
Ar−1)、
元素分析 C□ns、No、 <ht、r、4 e s
)計算値 C62−19,H’1.1B、N3.02
実測値 C62−45,H’1.2B、M3.01CI
−MS (m/z):464 (M+1 )実施例 3 〔2〕 tBw 〔3〕 2−ベンジルオキシカル?ニルーrミノ−e−tart
−プトキシカルゴニルー2−メトキクカル?ニル−5−
オクテノイツクアシドメチルエステル[2)&83Ji
l <8.2Tmmolea)を塩化メチレン50−に
溶解dt、n−りaa蜘安息香酸28g (16,2m
mole71)を加え、40℃、4時間反応させる。ト
リエチルアミン1.15 m (& Ornmoleg
)を含む塩化メチレフ300trd中にその反応液を注
ぎ氷冷した飽和炭酸水素す) IJウム水溶液にて3回
洗浄恢、無水硫酸す) IJウムで乾燥した。溶媒を留
去後ベンゼンに溶解し、シリカゲル100.9のカラム
に吸着させた。ベンゼン/酢酸エチル(2G/IJ、(
1G/1)の順で醪出すると標題化合物〔3〕が&56
i9(90%)塩出された。尚〔3〕のベンゼン/酢坂
エチル(4/i展開のシリカゲルTLCにおけるRf値
は0.55にヨード呈色した。〔3〕はベンゼン−n−
ヘキサンから結晶化すると無色針状結晶を与えた。融点
61−62℃ R CHClm −s 、1740.1725 (−1−2
7−シ 倶α2 α ル、ウレタン) NMR(C’DCI、) δ: 1.01 (3H,t、 /=7.]# g。
)計算値 C62−19,H’1.1B、N3.02
実測値 C62−45,H’1.2B、M3.01CI
−MS (m/z):464 (M+1 )実施例 3 〔2〕 tBw 〔3〕 2−ベンジルオキシカル?ニルーrミノ−e−tart
−プトキシカルゴニルー2−メトキクカル?ニル−5−
オクテノイツクアシドメチルエステル[2)&83Ji
l <8.2Tmmolea)を塩化メチレン50−に
溶解dt、n−りaa蜘安息香酸28g (16,2m
mole71)を加え、40℃、4時間反応させる。ト
リエチルアミン1.15 m (& Ornmoleg
)を含む塩化メチレフ300trd中にその反応液を注
ぎ氷冷した飽和炭酸水素す) IJウム水溶液にて3回
洗浄恢、無水硫酸す) IJウムで乾燥した。溶媒を留
去後ベンゼンに溶解し、シリカゲル100.9のカラム
に吸着させた。ベンゼン/酢酸エチル(2G/IJ、(
1G/1)の順で醪出すると標題化合物〔3〕が&56
i9(90%)塩出された。尚〔3〕のベンゼン/酢坂
エチル(4/i展開のシリカゲルTLCにおけるRf値
は0.55にヨード呈色した。〔3〕はベンゼン−n−
ヘキサンから結晶化すると無色針状結晶を与えた。融点
61−62℃ R CHClm −s 、1740.1725 (−1−2
7−シ 倶α2 α ル、ウレタン) NMR(C’DCI、) δ: 1.01 (3H,t、 /=7.]# g。
CH,−CMs)
1.47 (SB/、s、C(CHm) all、20
−2.05(4B%常、CM、X 2 )2に35−4
60 (2#、慣、C−3#、)3LO4(lH,t、
J=6.0Hz。
−2.05(4B%常、CM、X 2 )2に35−4
60 (2#、慣、C−3#、)3LO4(lH,t、
J=6.0Hz。
C−5E )
&?3 (67/、#、OAfgx2)5.08 (2
B、II、CM、−Ar5a14 (lf% #、NH
) 7.34 (5M1 B、Ar−H) El −MS (m/g ) : 479 (M)元素
分析 C*+HssN Ot、(M 、 F、 479
)計算1直 C6G、 1 1、R6,94、N2L
92、実測値 C60,077/a94、N294゜実
施例 4 tBu 〔3〕 H 2−ベンジルオキシカルがニルアミノ−e−1art−
ブトキシカルがニル−5,6−エボキシー2−メトキシ
カルボニルオクテン酸メチルエステル(3) 9.24
f (0,0193mojg)をジオキサン200ゴ
に溶解し、10%Pd−02−Ofを加え室温、1気圧
、5時間接触還元後F液を減圧濃縮した。残渣をメタノ
ール200−に溶解し、室温で18時間反応させた。反
応液は減圧乾固後ベンゼンにてシリカゲル600fのカ
ラムに吸着させ、ベンゼン/酢酸エチル(10/l)、
(5/1)にて溶出させるとベンゼン/酢酸エチル(5
/1)展開のシリカゲルTLCにてRftLO131に
ヨード呈色する物質(46:1132即(2憾)及びR
f値0.26を示す物質〔4α〕5.9f(89憾)得
られた。Rf値0.26物質はベンゼン/n−ヘキサン
よシ結晶化すると無色針状結晶を与えた。
B、II、CM、−Ar5a14 (lf% #、NH
) 7.34 (5M1 B、Ar−H) El −MS (m/g ) : 479 (M)元素
分析 C*+HssN Ot、(M 、 F、 479
)計算1直 C6G、 1 1、R6,94、N2L
92、実測値 C60,077/a94、N294゜実
施例 4 tBu 〔3〕 H 2−ベンジルオキシカルがニルアミノ−e−1art−
ブトキシカルがニル−5,6−エボキシー2−メトキシ
カルボニルオクテン酸メチルエステル(3) 9.24
f (0,0193mojg)をジオキサン200ゴ
に溶解し、10%Pd−02−Ofを加え室温、1気圧
、5時間接触還元後F液を減圧濃縮した。残渣をメタノ
ール200−に溶解し、室温で18時間反応させた。反
応液は減圧乾固後ベンゼンにてシリカゲル600fのカ
ラムに吸着させ、ベンゼン/酢酸エチル(10/l)、
(5/1)にて溶出させるとベンゼン/酢酸エチル(5
/1)展開のシリカゲルTLCにてRftLO131に
ヨード呈色する物質(46:1132即(2憾)及びR
f値0.26を示す物質〔4α〕5.9f(89憾)得
られた。Rf値0.26物質はベンゼン/n−ヘキサン
よシ結晶化すると無色針状結晶を与えた。
〔4α〕物質(融点 105〜105.5℃)R
’H−NF’lR(CDC13)
0.87 <3H,t、J=’1.011Z。
C”B、−CD5)
1.46 (9#、s、C(CM5)s)1.59 −
165 C6H,m、(、’B、X31&08 (IE
、d、J=5.0Hz。
165 C6H,m、(、’B、X31&08 (IE
、d、J=5.0Hz。
Nu)
λ41 (1//1 s、011)
3.53 (In、m、C−5H)
3.73 (3B、s、OMg)
3.78 (3H,a、OMg)
凰”C−NMR(CDCl 、 )
6&2 (カ 4−C11
519(q) 10−CM。
52−7 (7) 1l−CH3
27,9(q) 14.15.16−CM。
7−T Cq) 5−cm。
Bigh−MS
CO−1ctL′mαsg 3465 1864 ((
1;’sa#tsN□y)Found mass 34
6+ 1865 (&+1)EA(C86H,7NO,
M、V/ 345)〔4b〕 ’H−NMR(CDCl3) 0.87 (3H,t 、J= 7.0Hzl CMt
CM、)1.51 (9H、s 、C(CM@)s 1
1.63− g62 (6H,m% CM、×3 )λ
Bo(IH,bγ、N11) 3.39(IM、8、OH) N62(iHl m、C−aH) 3.73 (Bli、s、OMg ) N76 (3H,s、OMg) High −MS (m/z ) Calcd mass 34 6. 1864(CI6
H!IIN()? ) Found mass 346. 1890 (#+1
)”C−NMR R CHl 6 64.6(ψ s−CM 28.1 (q) 14,15.16−C11125,
2(t) 7−CB。
1;’sa#tsN□y)Found mass 34
6+ 1865 (&+1)EA(C86H,7NO,
M、V/ 345)〔4b〕 ’H−NMR(CDCl3) 0.87 (3H,t 、J= 7.0Hzl CMt
CM、)1.51 (9H、s 、C(CM@)s 1
1.63− g62 (6H,m% CM、×3 )λ
Bo(IH,bγ、N11) 3.39(IM、8、OH) N62(iHl m、C−aH) 3.73 (Bli、s、OMg ) N76 (3H,s、OMg) High −MS (m/z ) Calcd mass 34 6. 1864(CI6
H!IIN()? ) Found mass 346. 1890 (#+1
)”C−NMR R CHl 6 64.6(ψ s−CM 28.1 (q) 14,15.16−C11125,
2(t) 7−CB。
&0 (+7) 5−cH3
実施例6
5−(1−カルがキシ−1−ヒドロキシ)ゾロビル−2
,2−ゾメトキシカルがニルピロリシン・5−(1−t
art−グトキシカルポ=/L/−1−ヒドロキシ)プ
ロピル−2,2−ジメトキシカルzニルヒo 9 クン
439wy (1,2’Immolea )〔4a〕を
4N塩酸−ジオキサン溶液10−に溶解し室温にて16
時間反応させた。減圧乾固後クロロホルムを加えて減圧
乾固を2回行なった。この残渣をメタノールに溶解し、
LE−20(ファルマシャ製: ICIIX 130C
IL)のカラムに付し、メタノールにて展開した。この
溶出部で酢酸エチル/メタノール(3/1)展開のシリ
カグルTLCにRf値0.38にヨード呈色する区分を
集めて減圧乾固すると表題化合物〔5α〕が白色粉末と
して336■(81%)得られた。
,2−ゾメトキシカルがニルピロリシン・5−(1−t
art−グトキシカルポ=/L/−1−ヒドロキシ)プ
ロピル−2,2−ジメトキシカルzニルヒo 9 クン
439wy (1,2’Immolea )〔4a〕を
4N塩酸−ジオキサン溶液10−に溶解し室温にて16
時間反応させた。減圧乾固後クロロホルムを加えて減圧
乾固を2回行なった。この残渣をメタノールに溶解し、
LE−20(ファルマシャ製: ICIIX 130C
IL)のカラムに付し、メタノールにて展開した。この
溶出部で酢酸エチル/メタノール(3/1)展開のシリ
カグルTLCにRf値0.38にヨード呈色する区分を
集めて減圧乾固すると表題化合物〔5α〕が白色粉末と
して336■(81%)得られた。
Er
IR)l (ML−” : 280’0−2300(力
ηtax ルがン酸) 175G (エステル) NMR(D、。)(内部標準DSS”、2.2−ツメチ
ル−12−シラペンクン−5−スル ホネート) δ: 0.92 (3H,t 、 J=7,5Hz 、
CI!2−CB、) 1.67〜a、oo(6#、情、 CH2X 3 )3
.90 (6E 、 s 、 031gX2ン4.25
(IH,dd 、J=8.0Hz 、I=実施例7 (1)2+2−ジメトキシカルボニル−6−エチル−6
−ヒドロキシ−7−オキソー1−アザピシク、5) (
’ ] 5−(1−カルがキシ−1−ヒドロキシ)プロビル−2
,2−ジメトキシカルボニルピロリジン塩酸塩〔5α)
59”F(0,18mmo1g)をアセトニトリル5w
K溶解し、ジシクロへキシルカルがジイミド4211%
’ (0,2mtnoLe )を加え、さらにトリエチ
ルアミン37μl (0,27mmoLg )を加え、
室温で10分間反応させた後6t)cICて4時間反応
させた。反応液をp過後減圧濃縮した。
ηtax ルがン酸) 175G (エステル) NMR(D、。)(内部標準DSS”、2.2−ツメチ
ル−12−シラペンクン−5−スル ホネート) δ: 0.92 (3H,t 、 J=7,5Hz 、
CI!2−CB、) 1.67〜a、oo(6#、情、 CH2X 3 )3
.90 (6E 、 s 、 031gX2ン4.25
(IH,dd 、J=8.0Hz 、I=実施例7 (1)2+2−ジメトキシカルボニル−6−エチル−6
−ヒドロキシ−7−オキソー1−アザピシク、5) (
’ ] 5−(1−カルがキシ−1−ヒドロキシ)プロビル−2
,2−ジメトキシカルボニルピロリジン塩酸塩〔5α)
59”F(0,18mmo1g)をアセトニトリル5w
K溶解し、ジシクロへキシルカルがジイミド4211%
’ (0,2mtnoLe )を加え、さらにトリエチ
ルアミン37μl (0,27mmoLg )を加え、
室温で10分間反応させた後6t)cICて4時間反応
させた。反応液をp過後減圧濃縮した。
残渣は塩化メチレンに溶解1−7リカグル7tのカラム
に吸着させ、ベンゼン/酢酸エチル(10,:l)、(
4,、′l)、(3/’1)、(2/1)、(1/1)
の順で溶出し、同混合溶媒(2/1)で溶出する区分で
ベンゼン/酢酸エチル(1/1)展開のシリカグルTL
CにてRf値0.48にヨード発色する区分を濃縮乾固
すると白色粉末として表題化合物〔6α〕が43〜・(
88%)で得られた。融点109〜iio、s℃ IRνCH”a −1i1770(β−ラクタム)、m
α2+ 儂 174G (エステル) NMI? (CI)C1,) δL 02 (3H−t 、 J=’I−5Ht s
CRt−C!!J)1.68〜2.18(6B、兜、C
MtX3 )2.62 (2H,dd 、 J=4.5
Hz 、 J =9、 OII z 、 C−3Hz
)3.64(1#、#、0#) &80 (6B 、8 、OMeX2)3.83 (L
H,m、C−5B) MSg2C−5B)、244(1%(−CO)(212
,2−ジメトキシカルボニル−6−エチル−6−ヒドロ
キシ7− ozo−1−アザビシクロ(3、2、(l
]へブタン〔6b〕の製造s−(1−tgτtグチルオ
キシカ/I/がニル−1−ヒドロキシ)プロビル−2,
2−ソメトキシカルがニルピロリノン〔4b〕を実施例
6と同様に処理後+llと同様の反応条件及び精製する
と〔6α〕のジアステレオマー〔6b〕が収率70%で
得られた。〔6α〕のベンゼン/酢酸エチ#(2/l)
展開のシリカl”kTLCにてRf値0.3にヨード呈
色した。
に吸着させ、ベンゼン/酢酸エチル(10,:l)、(
4,、′l)、(3/’1)、(2/1)、(1/1)
の順で溶出し、同混合溶媒(2/1)で溶出する区分で
ベンゼン/酢酸エチル(1/1)展開のシリカグルTL
CにてRf値0.48にヨード発色する区分を濃縮乾固
すると白色粉末として表題化合物〔6α〕が43〜・(
88%)で得られた。融点109〜iio、s℃ IRνCH”a −1i1770(β−ラクタム)、m
α2+ 儂 174G (エステル) NMI? (CI)C1,) δL 02 (3H−t 、 J=’I−5Ht s
CRt−C!!J)1.68〜2.18(6B、兜、C
MtX3 )2.62 (2H,dd 、 J=4.5
Hz 、 J =9、 OII z 、 C−3Hz
)3.64(1#、#、0#) &80 (6B 、8 、OMeX2)3.83 (L
H,m、C−5B) MSg2C−5B)、244(1%(−CO)(212
,2−ジメトキシカルボニル−6−エチル−6−ヒドロ
キシ7− ozo−1−アザビシクロ(3、2、(l
]へブタン〔6b〕の製造s−(1−tgτtグチルオ
キシカ/I/がニル−1−ヒドロキシ)プロビル−2,
2−ソメトキシカルがニルピロリノン〔4b〕を実施例
6と同様に処理後+llと同様の反応条件及び精製する
と〔6α〕のジアステレオマー〔6b〕が収率70%で
得られた。〔6α〕のベンゼン/酢酸エチ#(2/l)
展開のシリカl”kTLCにてRf値0.3にヨード呈
色した。
CHC輸 −’:1770(β−ラクタム]。
ν惧αzcIIL
1740 (エステル)
NMR(CDCI、)δ: tos(an、t、、J=
7、011 g 、 CM、CH,)、18G−190
(6H,m、CM、×3 )、ozo(iH,a、OB
)、 3.78 (3B、8 、OMg )、a80(3M、
s、OMg)、 a70−&90 (1B、m、C’−5E)実施例8 2−ペンツルオキシカルボニルアミノ−6−tert−
ブトキシカルがニル−2−メトキシカルボニル−5−ヘ
キセノイックアシドメチルエステルの製造 (M、W、43B) トキシカルポニルー5−ヒドロキシピロリジン1.4
Of (415mmolea )、 トリフ$二#yj
tスフィン−tart−ブトキシカルボニルメチレン2
.03 t (5,40mmo1ga )、をベンセン
60−に溶解し、16時間加熱還流させた。減圧濃縮後
シリカグル50fのカラムに吸着させ、ベンゼン/酢酸
エチル(20/1)、(10/l)にて溶出させ、ベン
ゼン/酢酸エチル(10/1)展開+7)シリカl’k
TLcにてRf値0,37及びRf値0.33にUr吸
収を有する区分をそれぞれ集めて減圧濃縮すると表題化
合物がRf値0.33物質(シス体)50りとRf値0
.33物質(トランス体)1.04F(58%)得られ
た。
7、011 g 、 CM、CH,)、18G−190
(6H,m、CM、×3 )、ozo(iH,a、OB
)、 3.78 (3B、8 、OMg )、a80(3M、
s、OMg)、 a70−&90 (1B、m、C’−5E)実施例8 2−ペンツルオキシカルボニルアミノ−6−tert−
ブトキシカルがニル−2−メトキシカルボニル−5−ヘ
キセノイックアシドメチルエステルの製造 (M、W、43B) トキシカルポニルー5−ヒドロキシピロリジン1.4
Of (415mmolea )、 トリフ$二#yj
tスフィン−tart−ブトキシカルボニルメチレン2
.03 t (5,40mmo1ga )、をベンセン
60−に溶解し、16時間加熱還流させた。減圧濃縮後
シリカグル50fのカラムに吸着させ、ベンゼン/酢酸
エチル(20/1)、(10/l)にて溶出させ、ベン
ゼン/酢酸エチル(10/1)展開+7)シリカl’k
TLcにてRf値0,37及びRf値0.33にUr吸
収を有する区分をそれぞれ集めて減圧濃縮すると表題化
合物がRf値0.33物質(シス体)50りとRf値0
.33物質(トランス体)1.04F(58%)得られ
た。
Rf値0.33物質(トランス体)
IRWCH”” −’ S 1735,1710愼α、
Cf1 (エステル、ウレタン) NMR(CDC1,) δ: 1.45 (9H,s 、 C(C1i、)、
)190−2.23(1/、情、C−4B、)235−
Z55 (2B、m、C−3H,)3、’l0(6H,
it、0CH5X2)5.09 (2j7 、 s 、
CB、−Ar )5.71 (1#、d、/=15H
g、(、’−6B) 6.18(IH,a、AI’#) 6.15(IH,dt、J=15Hz。
Cf1 (エステル、ウレタン) NMR(CDC1,) δ: 1.45 (9H,s 、 C(C1i、)、
)190−2.23(1/、情、C−4B、)235−
Z55 (2B、m、C−3H,)3、’l0(6H,
it、0CH5X2)5.09 (2j7 、 s 、
CB、−Ar )5.71 (1#、d、/=15H
g、(、’−6B) 6.18(IH,a、AI’#) 6.15(IH,dt、J=15Hz。
J=’1.OE z 、C−5H)
7.33(5H,s、jr)
Rf値0,37物質(シス体)
IRv”Hc′”ex−” S 1745 、1718
(工9ルcLx ステル、ウレタン) z;45(二重結合) NMR(CDC1,) δ: L4 ? (9H+ a t (’(CHsL
)250 (4B、m、CM!×2 ) &76 (6M、a 、OCR,X2)s、10 (2
# 、 a 、 C1l、−Ar)3.62(IB、d
、/=11.077g。
(工9ルcLx ステル、ウレタン) z;45(二重結合) NMR(CDC1,) δ: L4 ? (9H+ a t (’(CHsL
)250 (4B、m、CM!×2 ) &76 (6M、a 、OCR,X2)s、10 (2
# 、 a 、 C1l、−Ar)3.62(IB、d
、/=11.077g。
C−6B)
[02(in 、m、C−5B)
&25(17/、a、NB)
7.33 (sH,a 、Ar−E)
実施例9
2−ベンジルオキシカルがニルアミノ−6−tart−
ブトキシカルがニル−5,6−エーキシー2−メトキシ
カルボニルヘキサノイックアシドメチル(5,6−トラ
ンス)−2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−6−t
ert−ブトキシカルボニル−2−メトキシカルボニル
−5−ヘキセノイックアシドメチルエステル2.5 O
f (5,4mmolas)を四塩化炭素70−に懸濁
させ、m−クロロ迦安息香酸2. ROf (16,2
mmolga )を加え、90℃で3.5時間還流させ
た。反応液をクロロホルムで希釈しトリエチルアミン1
.5 me (10,8rrrmoles)を加えた後
氷冷した炭酸水素ナトリウム水浴液で3回洗浄した。有
機層は無水硫酸す) IJウムで乾燥後減圧濃縮した。
ブトキシカルがニル−5,6−エーキシー2−メトキシ
カルボニルヘキサノイックアシドメチル(5,6−トラ
ンス)−2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−6−t
ert−ブトキシカルボニル−2−メトキシカルボニル
−5−ヘキセノイックアシドメチルエステル2.5 O
f (5,4mmolas)を四塩化炭素70−に懸濁
させ、m−クロロ迦安息香酸2. ROf (16,2
mmolga )を加え、90℃で3.5時間還流させ
た。反応液をクロロホルムで希釈しトリエチルアミン1
.5 me (10,8rrrmoles)を加えた後
氷冷した炭酸水素ナトリウム水浴液で3回洗浄した。有
機層は無水硫酸す) IJウムで乾燥後減圧濃縮した。
残留物をシリカグル60Fのカラムに付し、ベンゼン/
酢酸エチル(20/1)K−r’m出伐セベンゼン/酢
〜エチル(10/1)のTLCにおいてRf値0.44
にヨウ素発色する区分を集めて減圧濃縮すると表題化合
物2.14f(収率82%)得られた。
酢酸エチル(20/1)K−r’m出伐セベンゼン/酢
〜エチル(10/1)のTLCにおいてRf値0.44
にヨウ素発色する区分を集めて減圧濃縮すると表題化合
物2.14f(収率82%)得られた。
IRシcnct、傭−IH天740sl’r25(ニス
切48m チル、ウレタン) NMR(CDCI、) J:1.40−170 (11H,trL、(1’(C
j78)s。
切48m チル、ウレタン) NMR(CDCI、) J:1.40−170 (11H,trL、(1’(C
j78)s。
C−48,)
250 (2H,t 、J=8.0BZ 、C−3M、
)λ06(211,a、C−511,C−6H)&7.
7 (6H、a 、 OCR,x 2 )5、12 (
2H、a 、 CM、 −Ar )6.1? (1#、
a 、NH) 7.35 (5H,a 、Ar) 実施例10 s−(#grt−ブトキシカルがニル−ヒドロキシ)メ
チル−2,2−ジメトキシカルポニルビロリジンの製造 2−ペンヅルオキカル?ニルアミノ−(1−1art−
ブトキシカルボニル−5,6−エポキシ−2−メトキシ
カルがニルヘキサノイックアシドメチルエステル1.2
2 f (2,55mtnoles )をジオキサン2
5−に溶解し1096パラジウムー炭素267ηを加え
、常圧で5時間接触還元した。反応液をf遇後減圧濃縮
した。残留物をシリカゲル25fのカラムに付し、ベン
ゼン/酢酸エチル(3/1)にて浴出させ、同混合溶媒
展開のシリカゲルTLCにてRf値0.34にUV及び
ヨウ素呈色する区分を濃圧濃縮すると表題化合物が0.
83t(収率JR’mA’;” ”−” E 1732
(エステ、y)NMR(CI)C1,) δ; ts O(9E 、 a 、 C(CE、)、
)1.7O−5L67 (4E、m、CM、X2 )a
l 5 (2R,br、 Nil、 OR)153−3
.73 (IE、m、C−511)&73 (3H,#
、0CR1) 176 (3H,tt 、OCR,) 4.08 (IH、m 、 C−6B )実施例11 5−(カルボキシ−ヒドロキシ)メチル−2,2s−(
tert−ブトキシカルボニル−ヒドロキシ)メチル−
2,2−ソメトキシカルボニルビロリジン737町を4
N−塩酸ソオキサン溶液10m1に溶解させ、室温で1
5時間反応させた。反応液を減圧乾固後残渣にクロロホ
ルム、ベンゼンを加え再び減圧乾固した。この操作を3
〜4回行なった後残渣をメタノールに溶解させ減圧濃縮
した。
)λ06(211,a、C−511,C−6H)&7.
7 (6H、a 、 OCR,x 2 )5、12 (
2H、a 、 CM、 −Ar )6.1? (1#、
a 、NH) 7.35 (5H,a 、Ar) 実施例10 s−(#grt−ブトキシカルがニル−ヒドロキシ)メ
チル−2,2−ジメトキシカルポニルビロリジンの製造 2−ペンヅルオキカル?ニルアミノ−(1−1art−
ブトキシカルボニル−5,6−エポキシ−2−メトキシ
カルがニルヘキサノイックアシドメチルエステル1.2
2 f (2,55mtnoles )をジオキサン2
5−に溶解し1096パラジウムー炭素267ηを加え
、常圧で5時間接触還元した。反応液をf遇後減圧濃縮
した。残留物をシリカゲル25fのカラムに付し、ベン
ゼン/酢酸エチル(3/1)にて浴出させ、同混合溶媒
展開のシリカゲルTLCにてRf値0.34にUV及び
ヨウ素呈色する区分を濃圧濃縮すると表題化合物が0.
83t(収率JR’mA’;” ”−” E 1732
(エステ、y)NMR(CI)C1,) δ; ts O(9E 、 a 、 C(CE、)、
)1.7O−5L67 (4E、m、CM、X2 )a
l 5 (2R,br、 Nil、 OR)153−3
.73 (IE、m、C−511)&73 (3H,#
、0CR1) 176 (3H,tt 、OCR,) 4.08 (IH、m 、 C−6B )実施例11 5−(カルボキシ−ヒドロキシ)メチル−2,2s−(
tert−ブトキシカルボニル−ヒドロキシ)メチル−
2,2−ソメトキシカルボニルビロリジン737町を4
N−塩酸ソオキサン溶液10m1に溶解させ、室温で1
5時間反応させた。反応液を減圧乾固後残渣にクロロホ
ルム、ベンゼンを加え再び減圧乾固した。この操作を3
〜4回行なった後残渣をメタノールに溶解させ減圧濃縮
した。
その誕縮液にジエチルエーテルを加え冷蔵庫に3時間放
置すると白色の沈殿物が析出する。この沈殿物をF取す
ると574■の表題化合物が得られた(83%)。
置すると白色の沈殿物が析出する。この沈殿物をF取す
ると574■の表題化合物が得られた(83%)。
JR、KBr −。
frLazcrn ;2950〜2400 (カルボン
酸、イミニュウム) 1745(エステルン NMR(1)、0.DSS ) δH1,90−2,40(2H,rn、C−4E、)2
.45−Z90(2B、m、(’、−3B、)3.90
(6E 、a 、OCR,X2ン4.25−4.67
(2H,m、C−5E。
酸、イミニュウム) 1745(エステルン NMR(1)、0.DSS ) δH1,90−2,40(2H,rn、C−4E、)2
.45−Z90(2B、m、(’、−3B、)3.90
(6E 、a 、OCR,X2ン4.25−4.67
(2H,m、C−5E。
C−6M)
実施例12
2.2−&メトキシカルボニル−6−ヒドロキシ−7−
オキソ−1−アザビシクロ(3,2,0)5−(カルブ
キシ−ヒドロキシ)メチル−2゜2−ソメトキシカルボ
ニルビロリジン塩酸塩250岬(α84 mmole
)を無水アセトニトリル25−に懸濁後70℃に加温し
溶解させ、ジシクロへキシルカルボソイミド19 (l
y (0,924trano1g)を加えた後トリエチ
ルアミン117μ/(0,84mmole)を加え同温
度にて4時間反応させた後室温で15時間反応させた。
オキソ−1−アザビシクロ(3,2,0)5−(カルブ
キシ−ヒドロキシ)メチル−2゜2−ソメトキシカルボ
ニルビロリジン塩酸塩250岬(α84 mmole
)を無水アセトニトリル25−に懸濁後70℃に加温し
溶解させ、ジシクロへキシルカルボソイミド19 (l
y (0,924trano1g)を加えた後トリエチ
ルアミン117μ/(0,84mmole)を加え同温
度にて4時間反応させた後室温で15時間反応させた。
反応液を濾過後F液を減圧乾固させた。残液を塩化メチ
レンに浴解し、シリカケ9ル25tのカラムに吸着させ
、ベンゼン/酢酸エチル(5/1)、(3/1)、(2
/1)にて溶出させた。溶出区分でベンゼン/酢酸エチ
ル(1/1)展開のシリカグルTLCにてRf値0o2
7にヨウ素呈色する区分を集めて減圧濃縮すると表題化
合物が9sy(収率40%)得られた。
レンに浴解し、シリカケ9ル25tのカラムに吸着させ
、ベンゼン/酢酸エチル(5/1)、(3/1)、(2
/1)にて溶出させた。溶出区分でベンゼン/酢酸エチ
ル(1/1)展開のシリカグルTLCにてRf値0o2
7にヨウ素呈色する区分を集めて減圧濃縮すると表題化
合物が9sy(収率40%)得られた。
Bct
I Rν 1の−111760(β−ラクタム)。
ax
1740 (エステル)
NMR(CDCI、)
δB1.7O−Z40 (2B、tn、C−411,)
Z65 (2H、dd 、J=4.5Ez 、J=9.
0Hz 、 C=3E、 ) 3.70 (611、s 、 OCR,×2 )3.9
3 (111,m、C−5H) 4.65 (2# 、br、OH,C−6M )実施例
13 2.2−ジメトキシ力)Vがニル−6−エチル−6−メ
トキシーフーオキソl−アザビシクロ〔3゜[6) (
7) 2.2−ジメトキシカルボニル−6−エチル−6−ヒド
ロキシ−7−オキソl−アザビシクロ(3,2,0)へ
ブタン〔6α〕50■(0,185rnmo l g
) 、酸化銀215 mg (0,925mmole)
、ヨウ化メチル230μl (175mmoles )
をツメチルホルムアミド5 mlに懸濁させ、4.5時
間反応させた。反応液に酢酸エチルを加えた後p過した
。P液を減圧乾固後再び酢酸エチルを加えν過した。F
液を減圧乾固後再渣を束髪の塩化メチレンに溶解後シリ
カダル620カラムに吸着させ、ベンゼン/酢酸エチル
(10/1)、(5/1)にて溶出させた。溶出部でベ
ンゼン/酢酸エチル(1/1)展開ノンリカタル1°L
CtlCテI(f値0.67にヨード発色する区分を集
めて減圧乾固すると表題化合物〔7α〕が油状物質とし
て47.5■(9〇九)得られた。
Z65 (2H、dd 、J=4.5Ez 、J=9.
0Hz 、 C=3E、 ) 3.70 (611、s 、 OCR,×2 )3.9
3 (111,m、C−5H) 4.65 (2# 、br、OH,C−6M )実施例
13 2.2−ジメトキシ力)Vがニル−6−エチル−6−メ
トキシーフーオキソl−アザビシクロ〔3゜[6) (
7) 2.2−ジメトキシカルボニル−6−エチル−6−ヒド
ロキシ−7−オキソl−アザビシクロ(3,2,0)へ
ブタン〔6α〕50■(0,185rnmo l g
) 、酸化銀215 mg (0,925mmole)
、ヨウ化メチル230μl (175mmoles )
をツメチルホルムアミド5 mlに懸濁させ、4.5時
間反応させた。反応液に酢酸エチルを加えた後p過した
。P液を減圧乾固後再び酢酸エチルを加えν過した。F
液を減圧乾固後再渣を束髪の塩化メチレンに溶解後シリ
カダル620カラムに吸着させ、ベンゼン/酢酸エチル
(10/1)、(5/1)にて溶出させた。溶出部でベ
ンゼン/酢酸エチル(1/1)展開ノンリカタル1°L
CtlCテI(f値0.67にヨード発色する区分を集
めて減圧乾固すると表題化合物〔7α〕が油状物質とし
て47.5■(9〇九)得られた。
IR,CHC’l、−+
rrL、2.cm 11765(β−ラクタム)。
1740(エステル)
NMR(CI)C1,)
δ0.95 C3H、t 、 J=T、OHz 、 C
D、−C!!L)1.50−215 (411,m、C
112×2)Z60 (2H,dd 、J=7.011
2 、J=9.0ffz、C−3)’2 ) 3.4’!、(311,s 、OCR,)a80 (6
# 、 s 、 COOCH3×2 )3.91 (1
11,dd、J=8.51Jz、J=7.5Hz 、C
−5B) 1−M5 tn/Z 285 (M) + 270 (Jf CH
s )実施例14 6−エチル−6−メトキシ−2−フェニルセレノ−7−
オキソ−1−アザビシクロ(3,2,0)0Ohh (Rfα30) 十 (Rf O,42) 2.2−ソメトキシカルがニル−6−エチル−6−メト
キシーフーオキソー1−アザビシクロ(3,2,0)へ
ブタン[ニア〕242η(0,849rnmoLe)、
ヨウ化ナトリウム2 s 3111F (1,698m
tn、oles)、ジフェニルジセレナイド2651v
(0,849常moist)をヘキサメチルホスホリッ
クトリアミド2−の混合物を80℃にて2時間加熱した
後反応液を氷水に注いだ。酢酸エチルを加え、3回抽出
後、その酢酸エチル層を水汐後無水硫酸ナトリウムで載
録した。溶媒を留去後シリカrル30meOカラムに対
シ、ベンゼン、ベンゼン/酢酸エチル(20/1)、(
10/l)の順で溶出させると同混合溶媒(5/1)展
開のシリカyルTLCVCCRf値0.42及ヒ0.3
0ニUV吸収を有する表題化合物がそれぞれ95■、5
5■得られ(全収率50%)、さらにRf値0.23の
原料が75■回収された。
D、−C!!L)1.50−215 (411,m、C
112×2)Z60 (2H,dd 、J=7.011
2 、J=9.0ffz、C−3)’2 ) 3.4’!、(311,s 、OCR,)a80 (6
# 、 s 、 COOCH3×2 )3.91 (1
11,dd、J=8.51Jz、J=7.5Hz 、C
−5B) 1−M5 tn/Z 285 (M) + 270 (Jf CH
s )実施例14 6−エチル−6−メトキシ−2−フェニルセレノ−7−
オキソ−1−アザビシクロ(3,2,0)0Ohh (Rfα30) 十 (Rf O,42) 2.2−ソメトキシカルがニル−6−エチル−6−メト
キシーフーオキソー1−アザビシクロ(3,2,0)へ
ブタン[ニア〕242η(0,849rnmoLe)、
ヨウ化ナトリウム2 s 3111F (1,698m
tn、oles)、ジフェニルジセレナイド2651v
(0,849常moist)をヘキサメチルホスホリッ
クトリアミド2−の混合物を80℃にて2時間加熱した
後反応液を氷水に注いだ。酢酸エチルを加え、3回抽出
後、その酢酸エチル層を水汐後無水硫酸ナトリウムで載
録した。溶媒を留去後シリカrル30meOカラムに対
シ、ベンゼン、ベンゼン/酢酸エチル(20/1)、(
10/l)の順で溶出させると同混合溶媒(5/1)展
開のシリカyルTLCVCCRf値0.42及ヒ0.3
0ニUV吸収を有する表題化合物がそれぞれ95■、5
5■得られ(全収率50%)、さらにRf値0.23の
原料が75■回収された。
R/a42物質
y’:j:’;”tx−” 11760 (/−ラ//
ム)1735(エステル) NMR(CDCI、ン δ: 0.92 (3B、 t 、 J=’1.5B
g 。
ム)1735(エステル) NMR(CDCI、ン δ: 0.92 (3B、 t 、 J=’1.5B
g 。
CM、−CM、 )
1.65−197 (4E、m、CM、−CM、。
C−4B、)
127−L?3(2#、常、C−38,)133(9H
,a、0CR8) :A、42(LH,t、J=7.5Hz、C−5E) &82 (aH,a 、COOMg )7.29−7.
46 (BE、m、Ar−H)7.64−7.79 (
2H、dd 、 J=8.OEx 、J=LOHz 、
At−互) El−MS(情/g) 384.382(M+1)、383゜ 381(Jf) R/ 0.30物質 νεだ一13備−’71755(β−ラクタム)173
0(エステル) NMR(CDCI、) δ:LOG(3H,t、J=7.5Hz。
,a、0CR8) :A、42(LH,t、J=7.5Hz、C−5E) &82 (aH,a 、COOMg )7.29−7.
46 (BE、m、Ar−H)7.64−7.79 (
2H、dd 、 J=8.OEx 、J=LOHz 、
At−互) El−MS(情/g) 384.382(M+1)、383゜ 381(Jf) R/ 0.30物質 νεだ一13備−’71755(β−ラクタム)173
0(エステル) NMR(CDCI、) δ:LOG(3H,t、J=7.5Hz。
CM、 −CH,)
1.67−107 (4H,m、C−4M、。
CEL−CM、 )
243−183 (2E、m、C−3H,)a49 (
3B、s 、OM# ) 3.57 (3# 、 a 、 COOMg )&90
(IH,dd、/=lO,OHg。
3B、s 、OM# ) 3.57 (3# 、 a 、 COOMg )&90
(IH,dd、/=lO,OHg。
J=6.5Hz 、C−5B )
7.31−7.44 (8H,m、Ar−互)7゜63
−7.81 (2E、m、AT−H)El−MS(倶/
g) 384.382 (Jf + 1 ) + 383 t
381 (M) 実施例15 6−エチル−6−ヒドロキシ−2−フェニルセレノ−7
−オキソ−1−7ザビシクロ(3,2,0)212−
s’メトキクカル?ニル−6−エチル−6−ヒドロキシ
ーフーオキソー1−アザビシクロ(3、2、0)へブタ
ン20 (1+y (0,738mmo−Lg)、ジフ
ェニルジセレナイド230w9(0,738mmole
)、ヨウ化ナトリウム220tq (1,476mm
ole )を80℃、2時間反応させた後前記と同様に
処理後シリカグル30−のカラムに付し、ベンゼン、ベ
ンゼン/酢!エチル(10/l)、(5/1)、(3/
1)、(2/1)で溶出させた。ベンゼン/酢酸エチル
(2/1)展開のシリカr/1/TLCにてRf値0.
48及び0.34にUV吸収を有する区分をそれぞれ減
圧濃縮し表題化合物15.4■及び14、g pryを
得た。
−7.81 (2E、m、AT−H)El−MS(倶/
g) 384.382 (Jf + 1 ) + 383 t
381 (M) 実施例15 6−エチル−6−ヒドロキシ−2−フェニルセレノ−7
−オキソ−1−7ザビシクロ(3,2,0)212−
s’メトキクカル?ニル−6−エチル−6−ヒドロキシ
ーフーオキソー1−アザビシクロ(3、2、0)へブタ
ン20 (1+y (0,738mmo−Lg)、ジフ
ェニルジセレナイド230w9(0,738mmole
)、ヨウ化ナトリウム220tq (1,476mm
ole )を80℃、2時間反応させた後前記と同様に
処理後シリカグル30−のカラムに付し、ベンゼン、ベ
ンゼン/酢!エチル(10/l)、(5/1)、(3/
1)、(2/1)で溶出させた。ベンゼン/酢酸エチル
(2/1)展開のシリカr/1/TLCにてRf値0.
48及び0.34にUV吸収を有する区分をそれぞれ減
圧濃縮し表題化合物15.4■及び14、g pryを
得た。
さらIICRf値0.27の原料1099が回収された
。
。
Rfo、48物質
νm”:’z” ”−’ ; 1760 (β−ラクタ
ム)1735(エステル) NMR(CDC1,) δ:0.98 (311,t 、J=7.511z。
ム)1735(エステル) NMR(CDC1,) δ:0.98 (311,t 、J=7.511z。
−CH,C1l、 )
1.63−1.92 (all、m、−CH,C1l、
。
。
C−48,)
2.23−2.74(211,m、C−311,)&1
2(1#、g、0#) 3.33(111,d、d、J=7.0#g。
2(1#、g、0#) 3.33(111,d、d、J=7.0#g。
J−ts、5Hz 、C−5H)
37B (3B、a 、C00Mm )7.26−7.
42 (3B、m、Ar−互)7.63−7.78 (
2H、m、 Ar−H)RfO,34物質 ν;昔”m−”;1752(β−ラクタム)1730(
エステルン NMR(CDCt、) δ: 1.0? (3#、 t 、/=7.5Bπ。
42 (3B、m、Ar−互)7.63−7.78 (
2H、m、 Ar−H)RfO,34物質 ν;昔”m−”;1752(β−ラクタム)1730(
エステルン NMR(CDCt、) δ: 1.0? (3#、 t 、/=7.5Bπ。
CB、CEL)
1.55−110 (4H,m、CM、CM、。
C−48,)
Z40−SL80 (2E、m、C−3B、)3、.5
T(3E、s、OMg) a80 (2B、m、C−5H,0R)7.32 (3
E 、m 、Ar−B )7.70 (2E 、rn、
Ar−11)実施例16 ローエチル−6−メトキシ−7−オキソ−1−アザビシ
クロ(3,2,0)ヘプト−2−エン−26−ニチルー
6−メトキシー2−フェニルセレノ−7−オキソ−1−
アザビシクロ(3,2,O)ヘプタン−2−カルピン酸
メチルエステル45■(0,1178mmole )を
塩化メチレン8−に溶解させ、−30℃に冷却後常−ク
ロロ過安息香酸20、311F (0,118tnmo
1g )を含む塩化メチレン溶液1 mlを加え、同温
度で15分反応させた。
T(3E、s、OMg) a80 (2B、m、C−5H,0R)7.32 (3
E 、m 、Ar−B )7.70 (2E 、rn、
Ar−11)実施例16 ローエチル−6−メトキシ−7−オキソ−1−アザビシ
クロ(3,2,0)ヘプト−2−エン−26−ニチルー
6−メトキシー2−フェニルセレノ−7−オキソ−1−
アザビシクロ(3,2,O)ヘプタン−2−カルピン酸
メチルエステル45■(0,1178mmole )を
塩化メチレン8−に溶解させ、−30℃に冷却後常−ク
ロロ過安息香酸20、311F (0,118tnmo
1g )を含む塩化メチレン溶液1 mlを加え、同温
度で15分反応させた。
反応液にトリエチルアミン17pl (0,164tr
rrrLo−1m)を加えた後塩化メチレンを50―加
えた。
rrrLo−1m)を加えた後塩化メチレンを50―加
えた。
その塩化メチレン層は飽和炭酸水素ナトリウムにて2回
洗浄後無水硫酸ナトリクAICて乾燥した。
洗浄後無水硫酸ナトリクAICて乾燥した。
溶媒を濃縮後シリカ?A/TLCに付し、ベンゼン/酢
酸エチル(5/1)にて展開し、Rf値0.36にUV
吸収を有する区分を集め、ベンゼン/酢酸エチル(1/
1)にて抽出後減圧濃縮すると表題化合物が20q(7
m%)得られた。
酸エチル(5/1)にて展開し、Rf値0.36にUV
吸収を有する区分を集め、ベンゼン/酢酸エチル(1/
1)にて抽出後減圧濃縮すると表題化合物が20q(7
m%)得られた。
JCH!”!nm(g)1282(500G)りLGZ
ν;を砦m−’H17?5(β−ラクタム)172B
(エステル) NMR(CDCt、) δ: 1.02 (3M 、 t 、 /=7.(B/
Z 、 CM、−cn3ン 1.65−Zn2(21Ij毒、 C1l、CM、ン’
;L81 (2H、dd 、J=9.8Hz 、J=&
OHg 、 C−4B、 ) 3.53 (3H、s 、 OMe )183 (3H
,s 、COOMg )4.45 (tH,t 、 J
=9.811 t 、 C−5B)6.31(111,
t、J=3.0Hz、C−3M)実施例17 ローエチル−6−ヒドロキシ−7−オキソ−1−アザビ
シクロ(3,2,0)ヘプト−2−エン−Jf、F、2
11 6−エチル−6−ヒドロキシ−2−フェニルセレノ−7
−オキソ−1−アザビシクロ[3,2゜0〕へブタン−
2−カルがン酸メチルエステル36、8 mgr (0
,100mrnole )を塩化メチレン4dに溶解さ
せ、−30℃に冷却後、m−クロロ過安息香酸25.3
mgr (0,11mmole )を含む塩化メチレ
ン溶液1ゴを加え、同温度で15分反応させた。反応液
にトリエチルアミン30.4μl(0,22mn=oL
g )を加えた後、塩化メチレンで希釈し、飽和炭酸水
素ナトリウムにて2回洗浄後、塩化メチレン層を無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。
(エステル) NMR(CDCt、) δ: 1.02 (3M 、 t 、 /=7.(B/
Z 、 CM、−cn3ン 1.65−Zn2(21Ij毒、 C1l、CM、ン’
;L81 (2H、dd 、J=9.8Hz 、J=&
OHg 、 C−4B、 ) 3.53 (3H、s 、 OMe )183 (3H
,s 、COOMg )4.45 (tH,t 、 J
=9.811 t 、 C−5B)6.31(111,
t、J=3.0Hz、C−3M)実施例17 ローエチル−6−ヒドロキシ−7−オキソ−1−アザビ
シクロ(3,2,0)ヘプト−2−エン−Jf、F、2
11 6−エチル−6−ヒドロキシ−2−フェニルセレノ−7
−オキソ−1−アザビシクロ[3,2゜0〕へブタン−
2−カルがン酸メチルエステル36、8 mgr (0
,100mrnole )を塩化メチレン4dに溶解さ
せ、−30℃に冷却後、m−クロロ過安息香酸25.3
mgr (0,11mmole )を含む塩化メチレ
ン溶液1ゴを加え、同温度で15分反応させた。反応液
にトリエチルアミン30.4μl(0,22mn=oL
g )を加えた後、塩化メチレンで希釈し、飽和炭酸水
素ナトリウムにて2回洗浄後、塩化メチレン層を無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。
残渣をシリカゲルTLCに付し、ベンゼン/酢酸エチル
(2/1)にて展開′し、Rf値0.26KUV吸収を
有する区分を集め、ベンゼン/アセトン(1/1)にて
抽出後、減圧濃縮すると、表題化合物が&6mgr(2
7%)得られた。
(2/1)にて展開′し、Rf値0.26KUV吸収を
有する区分を集め、ベンゼン/アセトン(1/1)にて
抽出後、減圧濃縮すると、表題化合物が&6mgr(2
7%)得られた。
A CR1C’ ysm(g ) 1280aw
hCt
νmaw ”’−’ i 1772←β−ラクタム)1
73G (エステル〕 NMR(CI)C1,) δ11.09(3B、t、J−=7.0Bg。
73G (エステル〕 NMR(CI)C1,) δ11.09(3B、t、J−=7.0Bg。
CM、 −〇M、 )
1.44−ZO6(3H,m、011゜−C1i、−C
M5) 282 (2H,dd、J=3.011z、J=9.5
# g 、 C−4B、ン 3.84 (3H、a 、 COOMe )4.30
(IR,t 、 /=9.5H2、C−5B) 6.36(IH,t、J=3LOBz、C−3B) 参考例 1 Mg 〔7〕 M a 2、z−ジメトキシカルがニル−6−ニチルー6をアセ
トンlO−に溶解後0℃に冷却し0. I N水酸化t
トリウム溶液4.6−を加えて1時間同温度で反応させ
た。o、xN塩酸0.5−加えた後減圧濃縮した。酢酸
エチルを加え0. I N塩酸42−を加えpHLOと
した。飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄後有機層は無
水硫酸ナトリウムにて乾燥し、濾過後減圧乾固した。モ
ノカル?ン酸体〔8〕123キ1得られた。このものは
精製することなく次の反応を行った。すなわちピリジン
lロー中m解後100℃、7時間反応させた。減圧乾固
後その残渣を少皿の塩化メチレンに溶解させ、シリカグ
ル8gのカラムに吸着させた後ベンゼン/酢酸エチル(
20/l)、(1G/1 )、(7/Ill、(5/1
)、(1/1)及びメタノールの順で溶出させた。溶
出部でベンゼン/酢酸エチル(2/1)展開ノシリカy
yTLCK1Rf直α519X)及びRf1@o、+
5 (e)’)ヲ示す表題化合合物をそれぞれ4−〇1
F9と9.0q得た(全収率52%)。さらにモノカル
がン酸40119が回収嘔れた。
M5) 282 (2H,dd、J=3.011z、J=9.5
# g 、 C−4B、ン 3.84 (3H、a 、 COOMe )4.30
(IR,t 、 /=9.5H2、C−5B) 6.36(IH,t、J=3LOBz、C−3B) 参考例 1 Mg 〔7〕 M a 2、z−ジメトキシカルがニル−6−ニチルー6をアセ
トンlO−に溶解後0℃に冷却し0. I N水酸化t
トリウム溶液4.6−を加えて1時間同温度で反応させ
た。o、xN塩酸0.5−加えた後減圧濃縮した。酢酸
エチルを加え0. I N塩酸42−を加えpHLOと
した。飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄後有機層は無
水硫酸ナトリウムにて乾燥し、濾過後減圧乾固した。モ
ノカル?ン酸体〔8〕123キ1得られた。このものは
精製することなく次の反応を行った。すなわちピリジン
lロー中m解後100℃、7時間反応させた。減圧乾固
後その残渣を少皿の塩化メチレンに溶解させ、シリカグ
ル8gのカラムに吸着させた後ベンゼン/酢酸エチル(
20/l)、(1G/1 )、(7/Ill、(5/1
)、(1/1)及びメタノールの順で溶出させた。溶
出部でベンゼン/酢酸エチル(2/1)展開ノシリカy
yTLCK1Rf直α519X)及びRf1@o、+
5 (e)’)ヲ示す表題化合合物をそれぞれ4−〇1
F9と9.0q得た(全収率52%)。さらにモノカル
がン酸40119が回収嘔れた。
〔9X〕
’ CH””(’−” ; l 750 (ニスfル、
β−ラm、αX クタム) NMR(CDC1s)a ; 0.98 <3H,t%
/=7.0Hz、CH,CH,)、1.40−λ35
(6H。
β−ラm、αX クタム) NMR(CDC1s)a ; 0.98 <3H,t%
/=7.0Hz、CH,CH,)、1.40−λ35
(6H。
m、CM、X 3 )、3L49(3#、8、OMg)
、&’13<3H,s、COOMg)、3.97(IH
。
、&’13<3H,s、COOMg)、3.97(IH
。
t% J=6.5Hz% C−5E )、444(IB
。
。
t、J=6.0M z% C−2H)、〔9Y〕
C’ll Cl g
シー、gccm−” ; 1755 (β−ラクタム八
へ735(エステル) NMR(CDCI、) δ :0.9g (a、//、
t、J== 7.0 // z、CH,C3Hl、 1
.6O−2LO3(4H,m、CM、×2)、!、15
−448(2H1m、CE、l、 3.46(LM、s
、OMg )、&74(3R,s、COOMg)、&7
4−400(2H1m、C−2H,C−C−5 H)FD−(m/z l : 227 CM)、312
(M−CH3) 参考例 2 6−エチル−6−メトキシ−2−フェニルセレノ−7−
オキソ−1−アザビシクロlI3.2.0]へブタン−
2−カル謔りン酸メチルエステルの製造Mg 無水テトラヒドロプラン30−をチッソ雰囲気を下、−
70℃に冷却し、ジイソプロピルエチルアミン0.94
#I7!(a63mmo1g lとn−ブチルリチウム
(15%ヘキサン溶液)L83m(6,63mmo l
g )を加え、しばらく、同温度で攪拌した後、6−
エチル−6−メトキシ−2−メトキシカルがニル−7−
オキソ−1−アザビシクロ〔3゜2.0〕ヘプタン28
5W (1,33tnrnol )の無水テトラヒドロ
フラン3−溶液をゆっくり滴下した。さらにフェニルセ
レニールクロライド1,2711 (1,33mmoj
s )の無水テトラヒドロフラン溶液3−tゆっくり滴
下した。原料が消失したのをTLC(ベンゼン/酢酸エ
チル(5/1)で確認した後、同温度で塩化アンモニウ
ム粉末を加え、室温に戻した。
へ735(エステル) NMR(CDCI、) δ :0.9g (a、//、
t、J== 7.0 // z、CH,C3Hl、 1
.6O−2LO3(4H,m、CM、×2)、!、15
−448(2H1m、CE、l、 3.46(LM、s
、OMg )、&74(3R,s、COOMg)、&7
4−400(2H1m、C−2H,C−C−5 H)FD−(m/z l : 227 CM)、312
(M−CH3) 参考例 2 6−エチル−6−メトキシ−2−フェニルセレノ−7−
オキソ−1−アザビシクロlI3.2.0]へブタン−
2−カル謔りン酸メチルエステルの製造Mg 無水テトラヒドロプラン30−をチッソ雰囲気を下、−
70℃に冷却し、ジイソプロピルエチルアミン0.94
#I7!(a63mmo1g lとn−ブチルリチウム
(15%ヘキサン溶液)L83m(6,63mmo l
g )を加え、しばらく、同温度で攪拌した後、6−
エチル−6−メトキシ−2−メトキシカルがニル−7−
オキソ−1−アザビシクロ〔3゜2.0〕ヘプタン28
5W (1,33tnrnol )の無水テトラヒドロ
フラン3−溶液をゆっくり滴下した。さらにフェニルセ
レニールクロライド1,2711 (1,33mmoj
s )の無水テトラヒドロフラン溶液3−tゆっくり滴
下した。原料が消失したのをTLC(ベンゼン/酢酸エ
チル(5/1)で確認した後、同温度で塩化アンモニウ
ム粉末を加え、室温に戻した。
反応液をl!lf、酸エチル300d中に注ぎ、水洗(
150dx2)1.た後、有機ノl4t−無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、減圧濃縮した。
150dx2)1.た後、有機ノl4t−無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、減圧濃縮した。
残渣を15.9のシリカグルカラムにて、溶媒系(ベン
ゼン/酢酸エチルJの(so、/ll、(2G/1)次
いで(10/11で浴出し、R1値の大きい物質70■
とR1値の小さい物質24岬とその混合物zoetnf
(合計300■収率61%]を得た。このものは実施例
1Gで得られたものそれぞれ9X、’JYと一致した。
ゼン/酢酸エチルJの(so、/ll、(2G/1)次
いで(10/11で浴出し、R1値の大きい物質70■
とR1値の小さい物質24岬とその混合物zoetnf
(合計300■収率61%]を得た。このものは実施例
1Gで得られたものそれぞれ9X、’JYと一致した。
参考例 3
6−エチル−6−メトキシーフーオキソー1−アヂビシ
クロC3,2,01ヘプト−2−エン−2−カルメン酸
メチルエステル1301y(0,610mmole)を
無水ジメチルホルムアミド12−に溶解し、−30℃に
冷却し、トリエテルアミンン94.lv (0,793
mmoLe )を含む無水ジメチルホルムアミド溶液1
−を加え、−30℃で1時間反応させ、さらに室温に戻
して、1時間反応し7キー。
クロC3,2,01ヘプト−2−エン−2−カルメン酸
メチルエステル1301y(0,610mmole)を
無水ジメチルホルムアミド12−に溶解し、−30℃に
冷却し、トリエテルアミンン94.lv (0,793
mmoLe )を含む無水ジメチルホルムアミド溶液1
−を加え、−30℃で1時間反応させ、さらに室温に戻
して、1時間反応し7キー。
反応液を酢酸エチル250mで希釈し、飽和食塩水(7
0dX3)で洗浄後、無水懺酸ナトリウムで有機層を乾
燥した後、減圧濃縮した、残liをベンゼンで充填した
バイオピーズ5−x3寮バイオラッド社d(200−4
00mggA)のカラムでアセチルシステアミンを除去
した後、7リカrルカラムクロマトグラフイーに付し、
精製し、TLC(展開系:ベンゼン/アセトン(l/l
)でRf O,52,0,49,0,45にUV吸収を
示す表題化合物(2α、3α]体3&7■、(211!
、3β)体9 a71%I、(2βI3β)体58ηを
それぞれ得た(合1−19&4■、収率95%)。
0dX3)で洗浄後、無水懺酸ナトリウムで有機層を乾
燥した後、減圧濃縮した、残liをベンゼンで充填した
バイオピーズ5−x3寮バイオラッド社d(200−4
00mggA)のカラムでアセチルシステアミンを除去
した後、7リカrルカラムクロマトグラフイーに付し、
精製し、TLC(展開系:ベンゼン/アセトン(l/l
)でRf O,52,0,49,0,45にUV吸収を
示す表題化合物(2α、3α]体3&7■、(211!
、3β)体9 a71%I、(2βI3β)体58ηを
それぞれ得た(合1−19&4■、収率95%)。
(2α、3α)体
o # Jf R(CD C1s )
δ: LO6(BH% t%J=’1.OHg )1.
3−5L6 (4M、ml zoo (3#、al 2.77 (2H%倶) &1−&6 (3H,ml 150 (3H%倶) 179 (3#、a) 4.18 (LH,dd、/=&OHg。
3−5L6 (4M、ml zoo (3#、al 2.77 (2H%倶) &1−&6 (3H,ml 150 (3H%倶) 179 (3#、a) 4.18 (LH,dd、/=&OHg。
108g1
472 (IH%d、1/=&07/g l6、0−6
.4(IH,br) oIR νcHctl −・: 1760.1670max= amass(IB) Ml;l:344<M) (2α、3β)体 Mg o A’ M R(CI) Cl s )δ: 0.9
8 (3H,t、 J=7.0112 )1.4−3.
2 (6H,脩) ZOI (311,81 &2−3.6 (2H% 惧ン 3.50 (3#、a) 16−4.1 (2H,毒) 3.81 (3B、81 4.33 (tH,d、J=6.0Hz )(10−5
,5(IHS br l IR 、CHCl、−t :176o、167゜maz amass(IB) MlZ”、344<M) (2β、3β)体 o /V jM R(に’ D C1m )δ : 0
.97 (3H,t、J=’1.OHz Jl、5−4
4 14H,兜) zoo (3H,5) 2−5−C0(211% m) &2−&5 (2#S ml C47(3H,s) &6−4.0 (2H,rn) 180 (3H,a) 4.19 (111,d、J=B、OHz )5.9−
C4(IR,br ) I R CHCL* − maz ” ’ ” ’” 60.1740、l 67
0 amass(IEI Mll:344(Ml 参考例 4 Mg 5−(N−アセチル)システアミニルー6−エチル−6
−メトギシーフーオキソー1−アザビシクロ[3,2,
0)へブタン−2−カルメン酸メチルエステA/15.
8T19 (0,0476mmole Jをアセトン3
−に溶解し、水冷下で0.IN水酸化ナトリウム水溶液
476μJをゆっくり加え、1.5時間、同温度で反応
した後、氷冷したままで、0、IN塩酸水溶液480μ
!加え、低源で減圧濃縮し、ベンゼンで水を充分に共沸
し、ポ/デで乾燥した。
.4(IH,br) oIR νcHctl −・: 1760.1670max= amass(IB) Ml;l:344<M) (2α、3β)体 Mg o A’ M R(CI) Cl s )δ: 0.9
8 (3H,t、 J=7.0112 )1.4−3.
2 (6H,脩) ZOI (311,81 &2−3.6 (2H% 惧ン 3.50 (3#、a) 16−4.1 (2H,毒) 3.81 (3B、81 4.33 (tH,d、J=6.0Hz )(10−5
,5(IHS br l IR 、CHCl、−t :176o、167゜maz amass(IB) MlZ”、344<M) (2β、3β)体 o /V jM R(に’ D C1m )δ : 0
.97 (3H,t、J=’1.OHz Jl、5−4
4 14H,兜) zoo (3H,5) 2−5−C0(211% m) &2−&5 (2#S ml C47(3H,s) &6−4.0 (2H,rn) 180 (3H,a) 4.19 (111,d、J=B、OHz )5.9−
C4(IR,br ) I R CHCL* − maz ” ’ ” ’” 60.1740、l 67
0 amass(IEI Mll:344(Ml 参考例 4 Mg 5−(N−アセチル)システアミニルー6−エチル−6
−メトギシーフーオキソー1−アザビシクロ[3,2,
0)へブタン−2−カルメン酸メチルエステA/15.
8T19 (0,0476mmole Jをアセトン3
−に溶解し、水冷下で0.IN水酸化ナトリウム水溶液
476μJをゆっくり加え、1.5時間、同温度で反応
した後、氷冷したままで、0、IN塩酸水溶液480μ
!加え、低源で減圧濃縮し、ベンゼンで水を充分に共沸
し、ポ/デで乾燥した。
残渣全無水ジメチルホルムアミド1.5−に溶解し、水
冷下で、トリ巴チルアミン16.6μl及びp−ニトロ
ベンジルブロマイド15.4■を含む無水ジメチルホル
ムアミド溶液をゆっくり〃口え、室温に戻し、12時間
撹拌した。
冷下で、トリ巴チルアミン16.6μl及びp−ニトロ
ベンジルブロマイド15.4■を含む無水ジメチルホル
ムアミド溶液をゆっくり〃口え、室温に戻し、12時間
撹拌した。
反応液を酢酸エチル50−で希釈し、飽和食塩水<20
m1X2)で洗浄後1,1機層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、減圧a41i1シた。
m1X2)で洗浄後1,1機層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、減圧a41i1シた。
残渣を分取用薄層シリカダルクロマトグラフィーにて、
分離イ9製し、(展開系:ベンゼンjセトy (1/
1 )、Rf (ii O,56KU Vbe収に示ス
H題化合物ts、amf(メチルエステルより収率72
%]を得た。
分離イ9製し、(展開系:ベンゼンjセトy (1/
1 )、Rf (ii O,56KU Vbe収に示ス
H題化合物ts、amf(メチルエステルより収率72
%]を得た。
(2α、3β、pNBea’re−r )o # Jf
7? (CD CL m )δ : 0.9 5 (
3M % t、 J=7.5112 )1.4−&1
(6H,m) ZOO(3M、8) &jli −3,6(2H,m) &50. (3H,8) 3.6−41 (2ff、m) 438 (1/、dl J=6.0Hz )&30 (
2H,s) 5.8−a2 (iH,br)、 7.55 (2H,d、J=9.OHffi )8.2
7 (2H,d% J=9.0Hz )IR 、CHCL、 − ma z crfL 凰 : 1760 、 1670
oEIMasa 466(M+11 CI Mαss 466(Jf+11 参考例 5 Mg 3−アセタミドエチルチオ−6−エチル−6−メトキシ
−1−゛rザビ/り’C3,2,0)ヘプト−2−エン
−2−〃ルー?ン酸p−ニトロベンジルエステル異性体
混合物264.47Iv(0,5686mmole)を
塩化メチレン30m1に浴)クイ後0℃に冷却し、ピリ
ジン276μ1(3L412mrnoL g )を加え
た。さらにヨードベンゼンジクロリド469W (1,
7058mrnole )を含む塩化メfV710−を
加え、同温度で1時間反応させた。トリエチルアミン6
33μl (198mmotg )を加え室温で30分
反応させた。反応液を塩化メチレン10〇−中一へぎp
H6,86の0.1 Mリン酸緩衝液70−にて2回洗
浄した。有機If3は無水硫酸ナトリウムにて乾燥後減
圧濃縮しシリカグル3〇−のカラムに吸着させた後ベン
ゼン/ア七トン(3/11、(1/ 1. l、(1/
3)、(1151にて溶出させた。ペンゼ//アセトy
(1/3)にて溶出した区分で同混合溶媒(1/1)展
開のシリカc#TLCKてRf値0.23及び0.20
KUV吸収を有する区分を減圧濃縮すると目的の表題化
合物が96M9(35%)得られた。
7? (CD CL m )δ : 0.9 5 (
3M % t、 J=7.5112 )1.4−&1
(6H,m) ZOO(3M、8) &jli −3,6(2H,m) &50. (3H,8) 3.6−41 (2ff、m) 438 (1/、dl J=6.0Hz )&30 (
2H,s) 5.8−a2 (iH,br)、 7.55 (2H,d、J=9.OHffi )8.2
7 (2H,d% J=9.0Hz )IR 、CHCL、 − ma z crfL 凰 : 1760 、 1670
oEIMasa 466(M+11 CI Mαss 466(Jf+11 参考例 5 Mg 3−アセタミドエチルチオ−6−エチル−6−メトキシ
−1−゛rザビ/り’C3,2,0)ヘプト−2−エン
−2−〃ルー?ン酸p−ニトロベンジルエステル異性体
混合物264.47Iv(0,5686mmole)を
塩化メチレン30m1に浴)クイ後0℃に冷却し、ピリ
ジン276μ1(3L412mrnoL g )を加え
た。さらにヨードベンゼンジクロリド469W (1,
7058mrnole )を含む塩化メfV710−を
加え、同温度で1時間反応させた。トリエチルアミン6
33μl (198mmotg )を加え室温で30分
反応させた。反応液を塩化メチレン10〇−中一へぎp
H6,86の0.1 Mリン酸緩衝液70−にて2回洗
浄した。有機If3は無水硫酸ナトリウムにて乾燥後減
圧濃縮しシリカグル3〇−のカラムに吸着させた後ベン
ゼン/ア七トン(3/11、(1/ 1. l、(1/
3)、(1151にて溶出させた。ペンゼ//アセトy
(1/3)にて溶出した区分で同混合溶媒(1/1)展
開のシリカc#TLCKてRf値0.23及び0.20
KUV吸収を有する区分を減圧濃縮すると目的の表題化
合物が96M9(35%)得られた。
CHCIm −1、1780(β−ラクタム)、ν毒α
xcIrL 1712(エステル)、 1668(アミド1 NMR(CDCt、) δi1.05 (3H,tX2、/ = 7.5hlz
、CHt C’L m ) 1.60− ZOO(2B、m、C1i、CHB )3
.00−3.85 (6B%tn、C−4Hz。
xcIrL 1712(エステル)、 1668(アミド1 NMR(CDCt、) δi1.05 (3H,tX2、/ = 7.5hlz
、CHt C’L m ) 1.60− ZOO(2B、m、C1i、CHB )3
.00−3.85 (6B%tn、C−4Hz。
↑
5−CM、−CM、−NH)
3.50 (3M、8、OCR,1
4,20−4,711(IH,m、C−511)5.1
8−5.65 (2B1m、CM、−Ar)6.32
(1#、br、N11) 7.65 (2#、dX2、J = 9.0 Hz 。
8−5.65 (2B1m、CM、−Ar)6.32
(1#、br、N11) 7.65 (2#、dX2、J = 9.0 Hz 。
Arm)
8.25 (2H,d、J=9.(17g。
Ar11)
参考例 6
トキシー1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプトMg
3−アセタミドエチルスルフィニル−6−エチル−6−
メトキシ−1−アザビシクロ[a、2.UO]ヘプト−
2−エン−2−カルアにン藪p−二トロペンジルエステ
ル961119 (0,2tntnole lを塩化メ
チレン ′ 20m1.に溶解綬トリブチルホスフィン59.2μl
(o、 24 mmol e )を加え、室温で30分
111反応させた。、減圧濃縮後シリカダル:rLC(
o、s關X20cmX6枚]に吸着させた後ベンゼン/
アセトン(1/l)にて展開し、R7値0,53にUV
吸収を示す区分を削り取り、同溶媒にて抽出後濾過し、
減圧乾固すると表題化合吻が78 q(84%)得られ
た。
メトキシ−1−アザビシクロ[a、2.UO]ヘプト−
2−エン−2−カルアにン藪p−二トロペンジルエステ
ル961119 (0,2tntnole lを塩化メ
チレン ′ 20m1.に溶解綬トリブチルホスフィン59.2μl
(o、 24 mmol e )を加え、室温で30分
111反応させた。、減圧濃縮後シリカダル:rLC(
o、s關X20cmX6枚]に吸着させた後ベンゼン/
アセトン(1/l)にて展開し、R7値0,53にUV
吸収を示す区分を削り取り、同溶媒にて抽出後濾過し、
減圧乾固すると表題化合吻が78 q(84%)得られ
た。
λCH” ” n 、、n(g) ; 324 (11
400)、m(L Z 271 (10200) CIiCl、− ν 、rILa、+=n ” ; 1772 (β−ラ
クタム)、1700(エステル)、 1675(アミド) NMR(CDCI、) δ; 1.03 (aB%t、 J=7.511 z。
400)、m(L Z 271 (10200) CIiCl、− ν 、rILa、+=n ” ; 1772 (β−ラ
クタム)、1700(エステル)、 1675(アミド) NMR(CDCI、) δ; 1.03 (aB%t、 J=7.511 z。
CM、CM、) E
l、98 (3B% S、COC#I3 )180−&
55 (6H,常、C−4HgS−CE、−C互、−N
HI &50 (3M、8、OCH3) 4.40 (IE、t、/=10.0H2゜C−5H) 5.22 (IH,d、J=14.OH2゜C互H−A
r1 5.51 (IH,d、J=1 4.0# g。
55 (6H,常、C−4HgS−CE、−C互、−N
HI &50 (3M、8、OCH3) 4.40 (IE、t、/=10.0H2゜C−5H) 5.22 (IH,d、J=14.OH2゜C互H−A
r1 5.51 (IH,d、J=1 4.0# g。
CHH−Ar1
6.1 7 (IH,br%N11 )7.67 (2
HS d、J=9.011 z。
HS d、J=9.011 z。
Ar −蕉)
8.20 (2H,d % /=9.0 ツノ z 1
r−Ml 1−MS 4a 3 (M) 参考例 7 0Mg 3−アセタミドエチルチオ−6−エチル−6−メトキシ
−1−アザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−
2−カルボン鹸p−二トロペンジルエステル94.61
v(0,204mole )をTIIF12td、0,
1M燐酸緩衝液(pR7,636−に浴解し、酸化白金
100岬を加え、4気圧で3時間)I−ルの装置で接触
還元した。反応液を濾過し、α01M燐酸緩衝液(pf
f7.4)にて洗浄後F液は予めo、oIJ(#酸緩衝
i(p#7.4)にて平衡化したセファデックスQAE
、4−25G+フアルマンア製)に吸着させ、0〜6
%塩化ナトリウムを含む0.01M燐酸緩衝液(10(
1m7!、100−)の直線a匿勾配傾斜法にて溶出さ
せた。浴出部で305smK極大吸収を有する区分を集
め最終塩一度を5%なるように塩化ナトリウムを加え、
にて溶出させ、溶出部で305nmに極大吸収を示す区
分ヲ集め凍結乾燥すると白色粉末が49.8.9 (6
9,6%]得られた。
r−Ml 1−MS 4a 3 (M) 参考例 7 0Mg 3−アセタミドエチルチオ−6−エチル−6−メトキシ
−1−アザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−
2−カルボン鹸p−二トロペンジルエステル94.61
v(0,204mole )をTIIF12td、0,
1M燐酸緩衝液(pR7,636−に浴解し、酸化白金
100岬を加え、4気圧で3時間)I−ルの装置で接触
還元した。反応液を濾過し、α01M燐酸緩衝液(pf
f7.4)にて洗浄後F液は予めo、oIJ(#酸緩衝
i(p#7.4)にて平衡化したセファデックスQAE
、4−25G+フアルマンア製)に吸着させ、0〜6
%塩化ナトリウムを含む0.01M燐酸緩衝液(10(
1m7!、100−)の直線a匿勾配傾斜法にて溶出さ
せた。浴出部で305smK極大吸収を有する区分を集
め最終塩一度を5%なるように塩化ナトリウムを加え、
にて溶出させ、溶出部で305nmに極大吸収を示す区
分ヲ集め凍結乾燥すると白色粉末が49.8.9 (6
9,6%]得られた。
λH″’ 8m(1);305.5(8000)省ta
x KBr −’ H17s2(β−ラ/りA)、νm(L
ECIIL 1665(アミド)、 1608 (カルボキシレート] NMR(D、0.DSS I S:0.96 <3H,t、J=7.5Ez。
x KBr −’ H17s2(β−ラ/りA)、νm(L
ECIIL 1665(アミド)、 1608 (カルボキシレート] NMR(D、0.DSS I S:0.96 <3H,t、J=7.5Ez。
CH,−Cfl、)
1.87 (2m%q、 J=7.514 z。
C1l、C1l、J
1.97 (3//、8、CUCB、JZ 711−3
.50 (6m%?ll、 C−411,,5−C11
,−C1l、−N ツノ )3.50 43B、s、u
rn3 ) 4.43 (3ツノ、t、/=10.0/) 2 、C
−511)
.50 (6m%?ll、 C−411,,5−C11
,−C1l、−N ツノ )3.50 43B、s、u
rn3 ) 4.43 (3ツノ、t、/=10.0/) 2 、C
−511)
第1図は、式<AIで示される化合物の腎デヒドロペプ
チダーゼに対する女定性試験の結果を示す。 竿1図 % 反爪椅間 (今)
チダーゼに対する女定性試験の結果を示す。 竿1図 % 反爪椅間 (今)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 式 式中、 7(、及びR2は各々水素原子又は低級アルキル基を表
わし; R8は水素原子を表わし且つR1は基 −COOI?、を表わすか、或いはR3とR2とは一緒
罠なって単結合を形成し; R3は低級アルキル基を表わす、 で示される化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59048052A JPS60208981A (ja) | 1984-03-15 | 1984-03-15 | 新規カルバペナム及びカルバペネム誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59048052A JPS60208981A (ja) | 1984-03-15 | 1984-03-15 | 新規カルバペナム及びカルバペネム誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60208981A true JPS60208981A (ja) | 1985-10-21 |
JPH043399B2 JPH043399B2 (ja) | 1992-01-23 |
Family
ID=12792563
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59048052A Granted JPS60208981A (ja) | 1984-03-15 | 1984-03-15 | 新規カルバペナム及びカルバペネム誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60208981A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992009605A1 (en) * | 1990-11-27 | 1992-06-11 | Ajinomoto Co., Inc. | Intermediate for synthesis of carbapenem and production of said intermediate |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5387390A (en) * | 1976-11-19 | 1978-08-01 | Merck & Co Inc | 11carbaa22penemm33carboxylate |
JPS53119886A (en) * | 1977-03-19 | 1978-10-19 | Beecham Group Ltd | Betaalactum system antibiotics |
-
1984
- 1984-03-15 JP JP59048052A patent/JPS60208981A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5387390A (en) * | 1976-11-19 | 1978-08-01 | Merck & Co Inc | 11carbaa22penemm33carboxylate |
JPS53119886A (en) * | 1977-03-19 | 1978-10-19 | Beecham Group Ltd | Betaalactum system antibiotics |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992009605A1 (en) * | 1990-11-27 | 1992-06-11 | Ajinomoto Co., Inc. | Intermediate for synthesis of carbapenem and production of said intermediate |
US5342963A (en) * | 1990-11-27 | 1994-08-30 | Ajinomoto Co., Inc. | Optically active pyrrolidine derivative |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH043399B2 (ja) | 1992-01-23 |
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