JPS60203489A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

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JPS60203489A
JPS60203489A JP59060233A JP6023384A JPS60203489A JP S60203489 A JPS60203489 A JP S60203489A JP 59060233 A JP59060233 A JP 59060233A JP 6023384 A JP6023384 A JP 6023384A JP S60203489 A JPS60203489 A JP S60203489A
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憲良 南波
Shigeru Asami
浅見 茂
Toshiki Aoi
利樹 青井
Kazuo Takahashi
一夫 高橋
Akihiko Kuroiwa
黒岩 顕彦
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Abstract

PURPOSE:To raise the signal to noise ratio of reading by preventing the decrease of the reflection factor of recording layer, by providing the substrate layer composed of the paint film of the colloidal particle dispersion liquid of silicon condensation product between the resin substrate and the recording layer composed of coloring matter (composition). CONSTITUTION:The colloidal particle dispersion liquid of silicon series condensation product of 30-100Angstrom in particle diameter is prepared by a method wherein silicon tetrachloride is hydrolyzed and condensated in ethyl alcohol and ethyl acetate or the line. Then, this colloidal particle dispersion liquid is coated on the acrylic resin or polycarbonate resin substrate transparent to write light and read light, dried and the substrate layer of 50-500Angstrom in thickness is formed. Then, the recording layer containing coloring matter (for example: cyanine coloring matter and phthalocyanine coloring matter) and if necessary, resin (for example: nitrocellulose) is formed by a thickness of 0.04-0.12mum level to be the aimed optical recording medium.

Description

【発明の詳細な説明】 ■ 発明の背景 技術分野 本発明は、光記録媒体、特にヒートモードの光記録媒体
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (1) Background of the Invention Technical Field The present invention relates to an optical recording medium, particularly a heat mode optical recording medium.

先行技術 光記録媒体は、媒体と書き込みないし読み出しヘッドが
非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化しないという特
徴をもち、このため、種々の光記録媒体の開発研究が行
われている。
Prior art optical recording media have the characteristic that the recording medium does not deteriorate due to wear and tear because the medium and the writing or reading head are not in contact with each other, and for this reason, research and development of various optical recording media are being carried out.

このような光記録媒体のうち、暗室による現像処理が不
要である等の点で、ヒートモード光記録媒体の開発が活
発になっている。
Among such optical recording media, heat mode optical recording media are being actively developed because they do not require development in a dark room.

このヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱として利
用する光記録媒体であり、その1例として、レーザー等
の記録光で媒体の一部を融解、除去等して、ピットと称
される小穴を°形成して書き込みを行い、このピットに
より情報を記録し、このピットを読み出し光で検出して
読み出しを行うピット形成タイプのものがある。
This heat mode optical recording medium is an optical recording medium that uses recording light as heat. One example is a heat mode optical recording medium that uses recording light such as a laser to melt or remove a part of the medium to form a pit. There is a pit-forming type in which small holes are formed to perform writing, information is recorded using the pits, and the pits are detected with readout light and read out.

このようなピット形成タイプの媒体、特にそのうち、装
置を小型化できる半導体レーザーを光源とするものにお
いては、これまで、Teを主体とする材料を記録層とす
るものが大半をしめている。
Until now, most of these pit-forming type media, especially those using a semiconductor laser as a light source that can make the device smaller, have a recording layer made of a material mainly composed of Te.

しかし、近年、Te系材料が有害であること、そしてよ
り高感度化する必要があること、より製造コストを安価
にする必要があることから、Te系にかえ、色素を主と
した有機材料系の記録層を用いる媒体についての提案や
報告が増加している。
However, in recent years, because Te-based materials are harmful, and there is a need to increase sensitivity and reduce manufacturing costs, organic materials, mainly dyes, are being used instead of Te-based materials. There are an increasing number of proposals and reports on media using recording layers.

例えば、He−Neレーザー用としては、スクワリリウ
ム色素〔特開昭58−48221号 V。
For example, for He-Ne lasers, squarylium dye [JP-A-58-48221-V] is used.

B、 Jipsan and C,R,Jones、J
、Vac、Sci。
B. Jipsan and C.R. Jones, J.
, Vac, Sci.

Techn’o1.、1B (1) 105 (198
1) )や、金属フタロシアニン色素(特開昭57−8
2094号、同57−82085号)などを用いるもの
がある。
Techn'o1. , 1B (1) 105 (198
1) ) and metal phthalocyanine dyes (JP-A-57-8
No. 2094, No. 57-82085), etc.

また、金属フタロシアニン色素を半導体レーザー用とし
て使用した例(特開昭58−88795号)もある。
There is also an example of using metal phthalocyanine dyes for semiconductor lasers (Japanese Patent Laid-Open No. 88795/1983).

これらは、いずれも色素を蒸着により記録層FJ BQ
としたものであり、媒体製造上、Te系と大差はない。
In both of these, the recording layer FJ BQ is formed by vapor deposition of dye.
There is no major difference from Te-based media in terms of media production.

しかし、色素蒸着膜のレーザーに対する反射率は一般に
小さく、反射光量のピットによる変化(減少)によって
読み出し信号をうる、現在性われている通常の方式では
、大きなS/N比をうろことができない。
However, the reflectance of a dye-deposited film to a laser is generally small, and the current conventional method of obtaining a readout signal by changing (reducing) the amount of reflected light due to pits cannot achieve a large S/N ratio.

また、記録層を担持した透明基体を、記録層が対向する
ようにして一体化した、いわゆるエアーサンドインチ構
造の媒体とし、基体をとおして書き込みおよび読み出し
を行うと、書き込み感度を下げずに記録層の保護ができ
、かつ記録密度も大きくなる点で有利であるが、このよ
うな記録再生方式も、色素蒸着膜では不可能である。
In addition, if a transparent substrate carrying a recording layer is integrated with the recording layer facing each other, which is a so-called air sand inch structure, and writing and reading are performed through the substrate, the recording can be recorded without reducing the writing sensitivity. Although it is advantageous in that the layer can be protected and the recording density can be increased, such a recording/reproducing method is also not possible with a dye-deposited film.

これは、通常の透明樹脂製基体では、屈折率がある程度
の値をもち(ポリメチルメタクリレートで1 、5) 
、また、表面反射率がある程度大きく(同 4%)、記
録層の基体をとおしての反射率が、例えばポリメチルメ
タクリレートでは60%程度以下になるため、低い反射
率しか示さない記録層では検出できないからである。
This is because a normal transparent resin substrate has a refractive index of a certain value (1.5 for polymethyl methacrylate).
In addition, the surface reflectance is relatively high (4%), and the reflectance through the substrate of the recording layer is about 60% or less for polymethyl methacrylate, for example, so it is difficult to detect a recording layer that exhibits only a low reflectance. Because you can't.

色素蒸着膜からなる記録層の、読み出しのS/N比を向
上させるためには1通常、基体と記録層との間に、An
等の蒸着反射膜を介在させている。
In order to improve the readout S/N ratio of a recording layer made of a dye-deposited film, 1. Usually, an anode is added between the substrate and the recording layer.
A vapor-deposited reflective film such as the following is interposed.

この場合、蒸着反射膜は、反射率を上げてS/N比を向
上させるためのものであり、ピット形成により反射膜が
露出して反射率が増大したり、あるいは場合によっては
、反射膜を除去して反射率を減少させるものであるが、
当然のことながら、基体をとおしての記録再生はできな
い。
In this case, the vapor-deposited reflective film is intended to increase the reflectance and improve the S/N ratio, and the reflective film may be exposed due to pit formation and the reflectance may increase, or in some cases, the reflective film may be removed. It removes the reflectance and reduces the reflectance.
Naturally, recording and reproduction cannot be performed through the substrate.

同様に、特開昭55−teteso4 ニハ、IR−1
32色素(コダック社製)とポリ酢酸ビニルとからなる
記録層、また、特開昭57−74845号には、■、1
′−ジエチルー2.2”−トリ力ルポシアニンイオダイ
ドとニトロセルロースとからなる記録層、さらにはに、
Y、Law、 et al、、Appl、 Phys。
Similarly, JP-A-55-teteso4 Niha, IR-1
32 dye (manufactured by Kodak) and polyvinyl acetate.
'-diethyl-2.2''-trivalent luposyanine iodide and nitrocellulose;
Y., Law, et al., Appl., Phys.

Lett、 39 (9) 718 (1981)には
、3.3′−ジエチル−12−7セチルチアテトラカル
ポシアニンとポリ酢酸ビニルとからなる記録層など、色
素と樹脂とからなる記録層を塗布法によって設層した媒
体が開示されている。
Lett, 39 (9) 718 (1981) describes a coating method for forming a recording layer consisting of a dye and a resin, such as a recording layer consisting of 3,3'-diethyl-12-7cetylthiatetracarpocyanine and polyvinyl acetate. A layered medium is disclosed.

しかし、これらの場合にも、基体と記録層との間に反射
膜を必要としており、基体裏面側からの記録再生ができ
ない点で、色素蒸着膜の場合と同様の欠点をもつ。
However, these cases also have the same drawback as the dye-deposited film in that a reflective film is required between the substrate and the recording layer, and recording and reproduction cannot be performed from the back side of the substrate.

このように、基体をとおしての記録再生が可能であり、
Te系材料からなる記録層をもつ媒体との互換性を有す
る、有機材料系の記録層をもつ媒体を実現するには、有
機材料自身が大きな反射率を示す必要がある。
In this way, recording and reproduction through the substrate is possible,
In order to realize a medium having a recording layer made of an organic material that is compatible with a medium having a recording layer made of a Te-based material, the organic material itself needs to exhibit a high reflectance.

しかし、従来、反射層を積層せずに、有機材料の単層に
て高い反射率を示す例はきわめて少ない。
However, conventionally, there are very few examples of a single layer of organic material exhibiting high reflectance without laminating a reflective layer.

わずかに、バナジルフタロシアニンの蒸着膜が高反射率
を示す旨が報告(P、Kivitj、etal、、Ap
pl、 Phys、 Pa1t A 28 (2) 1
01 (1981)。
It has been reported that a vapor-deposited film of vanadyl phthalocyanine exhibits a slightly high reflectance (P, Kivitj, etal, Ap
pl, Phys, Palt A 28 (2) 1
01 (1981).

特開昭55−97033号)されているが、おそらく昇
華温度が高いためであろうと思われるが、書き込み感度
が低い。
However, the writing sensitivity is low, probably due to the high sublimation temperature.

また、チアゾール系やキノリン系等のシアニン色素やメ
ロシアニン色素が報告[山本他、第27回 応用物理学
会予稿集 1p−P−8(1980)]されており、こ
れにもとづく提案が特開昭58〜112790号になさ
れているが、これら色素は、特に塗膜として設層したと
きに、溶剤に対する溶解度が小さく、また結晶化しやす
く、さらには読み出し光に対してきわめて不安定でただ
ちに脱色してしまい、実用に供しえない。
In addition, cyanine dyes and merocyanine dyes such as thiazole and quinoline dyes have been reported [Yamamoto et al., Proceedings of the 27th Japan Society of Applied Physics, 1p-P-8 (1980)], and a proposal based on this was made in JP-A-58. -112790, these dyes have low solubility in solvents, are easily crystallized, and are extremely unstable against readout light, causing them to immediately decolorize, especially when applied as a coating film. , cannot be put to practical use.

このような実状に鑑み、本発明者らは、先に、溶剤に対
する溶解度が高く、結晶化も少なく、かつ熱的に安定で
あって、塗膜の反射率が高いインドレニン系のシアニン
色素を単層1模として用いる旨を提案している(特願昭
57−134397号、同 57−134170号)。
In view of these circumstances, the present inventors first developed an indolenine-based cyanine dye that has high solubility in solvents, little crystallization, is thermally stable, and has high paint film reflectance. It has been proposed to use it as a single layer model (Japanese Patent Application Nos. 57-134397 and 57-134170).

また、インドレニン系、あるいはチアゾール系、キノリ
ン系、セレナゾール系等の他のシアニン色素においても
、長鎖アルキル基を分子中に導入して、溶解性の改善と
結晶化の防止がはかられることを提案している(特願昭
57−182589号、同 57−177778号等)
Furthermore, in other cyanine dyes such as indolenine, thiazole, quinoline, and selenazole, long-chain alkyl groups can be introduced into the molecule to improve solubility and prevent crystallization. (Patent Application No. 57-182589, Patent Application No. 57-177778, etc.)
.

さらに、光安定性をまし、特に読み出し光による脱色(
再生劣化)を防止するために、シアニン色素に遷移金属
化合物クエンチャ−を添加する旨の提案を行っている(
特願昭57−IH832号、同57−188048号等
)。
Furthermore, it has improved photostability, especially decolorization by readout light (
We have proposed adding a transition metal compound quencher to cyanine dyes to prevent regeneration and deterioration.
(Japanese Patent Application No. 57-IH832, No. 57-188048, etc.)

さらには、色素とクエンチャ−とのイオン結合体を形成
し、これにより再生劣化をより減少し、かつ安定性を高
める旨の提案も行っている(特願昭59−14848号
、同59−18878号、同59−19?15号)。
Furthermore, they have proposed forming an ionic bond between a dye and a quencher, thereby further reducing regeneration deterioration and increasing stability (Japanese Patent Application Nos. 59-14848 and 59-18878). No. 59-19?15).

ところで、このような色素または色素組成物を塗膜とし
て、特に書き込み光および読み出し光に対し透明な樹脂
製の基体上に、記録層として設層して、特に基体裏面側
から書き込みおよび読み出しを行うようなときには、塗
布設層の際の塗布溶媒により樹脂基体表面がおかされ、
記録層の反射率が低下し、読み出しのS/N比が十分高
くとれないという欠点がある。
Incidentally, such a dye or dye composition is applied as a coating film as a recording layer on a resin substrate that is transparent to writing light and reading light, and writing and reading are performed particularly from the back side of the substrate. In such cases, the surface of the resin substrate may be damaged by the coating solvent during coating.
This has the disadvantage that the reflectance of the recording layer decreases and the S/N ratio for reading cannot be sufficiently high.

また、長期保存に際し、色素その他の添加物が基板樹脂
中へ溶解拡散してしまい、反射率が低下してしまうよう
なおそれがある。
Furthermore, during long-term storage, there is a risk that dyes and other additives may dissolve and diffuse into the substrate resin, resulting in a decrease in reflectance.

さらには、書き込みにより、基体が熱によってへこんで
しまなど損傷をうけ、これによってもS/N比が低下す
る。 また、消去後のノイズが増加する。
Furthermore, writing causes damage to the substrate such as dents and stripes due to heat, which also lowers the S/N ratio. Moreover, the noise after erasing increases.

これに対し、本発明者らは、下地層として、Ti、Zn
、A5L等のキレ−I・化合物の加水分解塗膜を用いる
旨を提案している(特願昭57−232198号、同5
7−23219θ号等)。
On the other hand, the present inventors used Ti, Zn as the base layer.
, proposes the use of a hydrolyzed coating film of KIRE-I compound such as A5L (Japanese Patent Application No. 57-232198, No. 5).
7-23219θ etc.).

これにより、上記不都合は改善されるものである。Thereby, the above-mentioned disadvantages are improved.

しかし、下地層塗布液の調製条件、塗布条件が厳しく、
また塗布液は保存安定性に欠け、一定の下地層を得るこ
とは容易でない、 また、屈折率をもつため、反射率が
低下する等の欠点がる。
However, the preparation conditions and coating conditions for the base layer coating solution are strict,
Furthermore, the coating solution lacks storage stability, making it difficult to obtain a consistent base layer, and since it has a refractive index, it has disadvantages such as a decrease in reflectance.

また、シラン溶液の加水分解物塗膜や酸化ケイ素蒸着膜
等が知られているが、これらでは基体への耐溶剤性付与
および耐熱性付与の点で不十分である。
Furthermore, although silane solution hydrolyzate coatings and silicon oxide vapor deposited coatings are known, these are insufficient in terms of imparting solvent resistance and heat resistance to the substrate.

II 発明の目的 本発明の目的は、樹脂製の基体上に、色素または色素組
成物からなる記録層を有する光記録媒体において、基体
−記録層間に介在させる下地層を改良して、それ自体の
屈折率を低下させ、S/N比を向上せんとするものであ
る。
II. OBJECTS OF THE INVENTION An object of the present invention is to improve the underlayer interposed between the substrate and the recording layer in an optical recording medium having a recording layer made of a dye or a dye composition on a resin substrate. The purpose is to lower the refractive index and improve the S/N ratio.

このような目的は下記の本発明によって達成される。These objects are achieved by the invention described below.

すなわち本発明は、 樹脂製の基体上に、ケイ素系縮合物のコロイド粒子分散
液の塗膜からなる下地層を有し、この下地層上に、色素
または色素組成物からなる記録層を有することを特徴と
する光記録媒体である。
That is, the present invention has a base layer made of a coating film of a colloidal particle dispersion of a silicon-based condensate on a resin substrate, and a recording layer made of a pigment or a pigment composition on this base layer. This is an optical recording medium characterized by:

■ 発明の具体的構成 以下1本発明の具体的構成について詳細に説明する。■Specific structure of the invention Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be explained in detail.

本発明の光記録媒体の記録層中には色素が含有される。A dye is contained in the recording layer of the optical recording medium of the present invention.

用いる色素には特に制限はなく、シアニン系、フタロシ
アニン系、ナフタロシアニン系。
There are no particular restrictions on the dyes to be used, including cyanine, phthalocyanine, and naphthalocyanine.

テトラデヒドロコリンないしテトラデヒドロコロール系
、アントラキノン系、アゾ系、トリフェニルメタン系、
ビリリウムないしチアピリリウム塩素系等の色素はいず
れも使用可能である。
Tetradehydrocholine or tetradehydrocholor type, anthraquinone type, azo type, triphenylmethane type,
Any pigment such as biryllium or thiapyrylium chlorine can be used.

このような中で、本発明による効果が大きいのは、第1
にシアニン色素である。
Under these circumstances, the main effect of the present invention is the first one.
It is a cyanine dye.

シアニン色素の中では下記式(I)で示されるものが好
ましい。
Among the cyanine dyes, those represented by the following formula (I) are preferred.

式(I) Φ−L=’i’ (X−) m 上記式(1)において、!およびΦは、芳香族環、例え
ばベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環等が縮
合してもよいインドール環、チアゾール環、オキサゾー
ル環、セレナゾール環、イミダゾール環、ピリジン環等
をあられす。
Formula (I) Φ-L='i' (X-) m In the above formula (1),! and Φ represents an indole ring, a thiazole ring, an oxazole ring, a selenazole ring, an imidazole ring, a pyridine ring, etc. to which an aromatic ring such as a benzene ring, naphthalene ring, or phenanthrene ring may be fused.

これらΦおよび!は、同一でも異なっていてもよいが、
通常は同一のものであり、これらの環には、種々の置換
基が結合していてもよい。
These Φ and! may be the same or different, but
They are usually the same, and various substituents may be bonded to these rings.

なお、Φは、環中の窒素原子が十電荷をもち、!は、環
中の窒素原子が中性のものである。
In addition, Φ means that the nitrogen atom in the ring has ten charges, and! is one in which the nitrogen atom in the ring is neutral.

これらのΦおよび!の骨格環としては、下記式〔ΦI〕
〜〔Φ店〕で示されるものであることが好ましい。
These Φ and! As the skeletal ring, the following formula [ΦI]
~ [Φ store] is preferable.

なお、下記においては、構造はΦの形で示される。In addition, in the following, the structure is shown in the form of Φ.

(R4)Q 〔Φ■〕 〔+”〕(R4)Q 〔Φ■) (R4) q (ΦX〕 (Ra ) q 罷1 〔Φ照〕 このような各種卵において、環中の窒素原子(イミダゾ
ール環では2個の窒素原子)に結合する基R* (R1
、R1′)は、置換または非置換のアルキル基またはア
リール基である。
(R4)Q [Φ■] [+”] (R4)Q [Φ■) (R4) q (ΦX] (Ra) q 罷1 [Φ光] In these various eggs, the nitrogen atom in the ring ( In the imidazole ring, the group R* (R1
, R1') is a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group.

このような環中の、窒素原子に結合する基R,,R1′
の炭素原子数には、特に制限はない、 また、この基が
さらに置換基を有するものである場合、置換基としては
、スルホン酸基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキ
ルアミド基、アルキルスルホンアミド基、アルコキシカ
ルボニル基、アルキルアミン基、アルキルカルバモイル
基、アルキルスルファモイル基、水酸基、カルボキシ基
、ハロゲン原子等いずれであってもよい。
In such a ring, the group R,,R1' bonded to the nitrogen atom
There is no particular restriction on the number of carbon atoms in the group. When this group further has a substituent, examples of the substituent include a sulfonic acid group, an alkylcarbonyloxy group, an alkylamido group, an alkylsulfonamide group, It may be any of an alkoxycarbonyl group, an alkylamine group, an alkylcarbamoyl group, an alkylsulfamoyl group, a hydroxyl group, a carboxy group, a halogen atom, and the like.

なお、後述のmが0である場合、Φ中の窒素原子に結合
する基R1は、置換アルキルまたはアリール基であり、
かつ−電荷をもつ。
In addition, when m described below is 0, the group R1 bonded to the nitrogen atom in Φ is a substituted alkyl or aryl group,
and - has an electric charge.

さらに、Φおよび!の環が、縮合ないし非縮合のインド
ール環(式〔Φ工〕〜〔ΦIT))である場合、その3
位には、2つの置換基R2。
Furthermore, Φ and! When the ring is a fused or non-fused indole ring (formula [Φwork] to [ΦIT)], the third
At the position, two substituents R2.

R3が結合することがkfましい。 この場合、3位に
結合する2つの置換基R2,R3としては、アルキル基
またはアリール基であることが好ましい。 そして、こ
れらのうちでは、炭素原子数1または2、特にlの非置
換アルキル基であることが好ましい。
It is preferable that R3 binds. In this case, the two substituents R2 and R3 bonded to the 3-position are preferably an alkyl group or an aryl group. Among these, unsubstituted alkyl groups having 1 or 2 carbon atoms, particularly 1, are preferred.

一方、Φおよび!で表わされる環中の所定の位置には、
さらに他の置換基R4が結合していてもよい。 このよ
うな置換基としては、アルキル基、アリール基、複素環
残基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリーロキシ基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルカルボニル
基、アリールカルボニル基、アルキルオキシカルボニル
基、アリーロキシカルボニル基、アルキルカルボニルオ
キシ基、アリールカルボニルオキシ基、アルキルアミド
基、アリールアミド基、アルキルカルバモイル基、アリ
ールカルバモイル基、アルキルアミン基、アリールアミ
ノ基、カルボン酸基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、アルキルスルホンアミド基、アリールス
ルホンアミド基、アルキルスルファモイル基、アリール
スルファモイル基、シアノ基、ニトロ基等、種々の置換
基であってよい。
On the other hand, Φ and! At a given position in the ring represented by
Furthermore, another substituent R4 may be bonded. Such substituents include alkyl groups, aryl groups, heterocyclic residues, halogen atoms, alkoxy groups, aryloxy groups,
Alkylthio group, arylthio group, alkylcarbonyl group, arylcarbonyl group, alkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylcarbonyloxy group, arylcarbonyloxy group, alkylamide group, arylamido group, alkylcarbamoyl group, arylcarbamoyl group, Alkylamine groups, arylamino groups, carboxylic acid groups, alkylsulfonyl groups, arylsulfonyl groups, alkylsulfonamide groups, arylsulfonamide groups, alkylsulfamoyl groups, arylsulfamoyl groups, cyano groups, nitro groups, etc. may be a substituent.

そして、これらの置換基の数(P、q+r+s 、 t
)は、通常、0または1〜4程度とされる。 なお、p
 + q + r + s + tが2以上であるとき
、複数のR4は互いに異なるものであってよい。
And the number of these substituents (P, q+r+s, t
) is usually 0 or about 1 to 4. In addition, p
When + q + r + s + t is 2 or more, the plurality of R4s may be different from each other.

なお、これらのうちでは、式〔Φ工〕〜〔Φ■〕の縮合
ないし非縮合のインドール環を有するものが好ましい。
Among these, those having a fused or non-fused indole ring of the formulas [Φ] to [Φ■] are preferred.

これらは溶剤に対する溶解度、塗膜性、安定性にすぐれ
、きわめて高い反射率を示し、読み出しのS/N非がき
わめて高くなるのである。
These have excellent solubility in solvents, coating properties, and stability, exhibit extremely high reflectance, and have extremely high readout S/N ratios.

他方、Lは、メチン鎖、すなわちモノ、ジ、トリまたは
テトラカルボシフ゛ニン色素を形成するための連結基を
表わすが、特に式(LI)〜〔L■〕のいずれかである
ことが好ましい。
On the other hand, L represents a methine chain, ie, a linking group for forming a mono-, di-, tri- or tetracarbosifinine dye, and is particularly preferably one of formulas (LI) to [L].

式(LI) CH=CH−CH=CH−C=CH−CH=CH−CH
式〔Lm) CH−C=CH−CH ↓ ここに、Yは、水素原子または1価の基を表わす、 こ
の場合、1価の基としては、メチル基等の低級アルキル
基、メトキシノル等の低級アルコキシ基、ジメチルアミ
ノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基、
モルホリノ基、イミダゾリジン基、エトキシカルボニル
ピペラジン基なとのジ置換アミ7基、アセトキシ基等の
フルキルカルボニルオキシ基、メチルチオ基等のフルキ
ルチオA(、シアノ基、ニトロ基、Br、C1等のハロ
ゲン原子などであることが好ましい。
Formula (LI) CH=CH-CH=CH-C=CH-CH=CH-CH
Formula [Lm] CH-C=CH-CH ↓ Here, Y represents a hydrogen atom or a monovalent group. In this case, the monovalent group includes a lower alkyl group such as a methyl group, a lower alkyl group such as methoxynol, etc. alkoxy group, dimethylamino group, diphenylamino group, methylphenylamino group,
Di-substituted ami7 groups such as morpholino group, imidazolidine group, ethoxycarbonylpiperazine group, fulkylcarbonyloxy group such as acetoxy group, furkylthio A (such as methylthio group), cyano group, nitro group, halogen such as Br, C1, etc. Preferably, it is an atom.

なお、これら式(LI)〜〔L■〕の中では、トリカル
ボシアニン連結基、特に式〔LII )、(Lm)が好
ましい。
Among these formulas (LI) to [L■], tricarbocyanine linking groups, particularly formulas [LII] and (Lm), are preferred.

さらに、X−は陰イオンであり、その好ましい例として
は、 I −、B r −、CI O4−、B F 4−+C
H30SO3−、、C1−C> SO3−等を挙げるこ
とができる。
Furthermore, X- is an anion, and preferable examples thereof include I-, Br-, CIO4-, BF4-+C
Examples include H30SO3-, C1-C>SO3-, and the like.

なお、mは0またはlであるが、mが0であるときには
、通常、ΦのR1が一電荷をもち、分子内塩となる。
Note that m is 0 or l, but when m is 0, R1 of Φ usually has one charge and becomes an inner salt.

次に1本発明のシアニン色素の具体例を挙げるが、本発
明はこれらのみに限定されるものではない。
Next, specific examples of cyanine dyes of the present invention will be listed, but the present invention is not limited to these.

匹人掬 免−浬 LL−LL′ シエ」ユDI (ΦI
) CH3CH3 D2 (ΦI) CH3CH3 D3 CΦI) C2H40HCH3 D4 (Φ I) (CH2) 3 503 二 CH
3’ (CH2)3 S03 Na” D5 (ΦII) CH3CH3 D6 (Φm) (CH2) 3 303 二 CH3
’ (CH2)3 SO3Na” D7 (Φm) CH2CH20HCH3D8 (Φm
) (CH2)20COCH3CH3[+9 (Om]
 (CH2)20COCH3CH3D10’(Φm) 
CH3CH3 Dll (Φm) CH3CH,3 D12 (ΦI ) ’ C1s H37CH3013
(ΦI) C4H9CH3 D14 〔ΦI ) CHOCOCHs CH38!B D15 〔ΦI) C7H14CH20HCH3TLL
”−−ヱー 又 −X− −(Lll) HI −(Lll) H0文04 − (Lm) HI Br −〔LII) H− −(L II ) HCI O4 −(Lll) H− −(Lll) H0文04 −(Lll) HBr −(LII[) −N(C6H5)2 1 0文04−
’(Lll) H0文04 − (LII+) −N (C8H5)2 1 0文0
4− (Lll) HI −CLII) ″ Hc交04 − (Lm) −N (C8H5)2 1 0文04−
 〔LII) Hエ uさ し」 シエ」上 紅−hシ D16 〔ΦII) C8H17co3 −DI? (
Φtn) C8H17CH3−D18 〔ΦIII) 
CHC,OO−CH3(714 −C7H14COOH D19 〔ΦI[I) C7H,4COOC2H5CH
3−D20 〔ΦrII) C4H9CH3−D21 
(Om) ClBH37CH3−D22 〔Φm ) 
Ca Hs C)(3−D23 〔ΦI) C17H3
4COOCH3CH3−D24 〔ΦI ) CHOC
OCH3CH3’8 1B D25 〔ΦI) C8H17C2H5−D2B 〔Φ
工) C7H15C2H5−D27 〔ΦII ) C
HCOOCH3CH3−734 D28 〔ΦI■〕 C3H16CH20COCH3C
H3L −¥−又 −盈− (L II ) HC又04 (L II ) H− (Lll) HBF4 (Lm) −N(C6H5)2 1 0文04(Lll
) H,C又04 (L II ) )I C又04 (L II ) HI (Lm) −N (C8H5)2 1 1(L II 
) )I I (LII)’、I(I (L II ) HC文O4 fiJIt O’P R上ユに′−F!j−ユjLI 
R4−D30 〔ΦII) C7H14COOCH3C
21(6−D31 〔Φm、) C7H14CH201
(CH3−D32 〔Φm) C,Hl、CH20CO
C2H5CH3、−D33 〔Φr11) 、C,7H
34COOC2H5CH3−D34 〔Φm) C17
H35CH3−D35 〔Φm) C7I(,5、C2
H5−D36 〔ΦIV ) CH3CH3−D37 
〔ΦIV) CH3CH3− D38 〔ΦIV) C4H9CH3−D38 〔Φ■
) (CH2)2 0COCH3CH3−D40 (O
V) C2H5−4−CI(3D41 (OV) CH
3−4−CH5D42 〔ΦVL) ’ C2R5−−
D43 〔ΦVl) C2H5−5−C交D44 〔Φ
Vl) C2R5−5−OCRD45 〔ΦVl) C
2R5−5,−0CR土 工 土工 (L It ) H0文04 (L II ) H0文04 (L II ) H1 (Lm) −N (C8R5)2 1 I(LIV) 
HI I (L II ) HI (Lll) H、I (L II ) H0文04 〔LI■〕 H0文04 (L II ) HI 〔LII) H■ (L II ) H1 、(Lll) HBr (Lm) −N(C6H5)2 1 ’ Br3 (L
 II ) HCH3C:6H4So33 (Lll)
 HBr 」j 乞」 紅よ肛′ 先L」ユTLL LD46〔Φ
Vl)、C2H5−−(Lrll)D47〔ΦVl) 
C2H5,−−(Lll)D48〔ΦVl) C2H5
−−(L’I)D49〔Φm) C2H5−−’(Ll
l)p50〔Φ■〕C2H3−−〔LV〕 p51〔φVl) C2H5−−(LV)D52〔ΦV
l) C2H5−−(LVI)D53〔Φ■〕 (CH
2)30COCH3−〔L■〕D54〔ΦVl) CH
2CH20H−5−Cl (Lll)D55〔Φ劃 C
2H5−′−〔Ll!〕−(LII3 D5B 〔Φ■〕 C2H5− D57〔ΦIX) C2H5−(Lm)D58〔Φ■〕
C2H3−−〔L■〕 −(Lll) D、59〔ΦX) C2H5− = (LII3 080 [4)XI) CI(、C)1.OHY 文 
X −I Br HBr HBr cl(3Br HI Br HI Br −1Br −N(C6H5)2 1 C)I3C6H4So3HC
)13C6H4S03 HBr HBr OCH31,I HI HBr 匹友漫 1エj lL工1上 シュ」ユ し。
LL-LL'
) CH3CH3 D2 (ΦI) CH3CH3 D3 CΦI) C2H40HCH3 D4 (Φ I) (CH2) 3 503 2 CH
3' (CH2)3 S03 Na" D5 (ΦII) CH3CH3 D6 (Φm) (CH2) 3 303 2 CH3
' (CH2)3 SO3Na'' D7 (Φm) CH2CH20HCH3D8 (Φm
) (CH2)20COCH3CH3[+9 (Om]
(CH2)20COCH3CH3D10'(Φm)
CH3CH3 Dll (Φm) CH3CH,3 D12 (ΦI) ' C1s H37CH3013
(ΦI) C4H9CH3 D14 [ΦI) CHOCOCHs CH38! B D15 [ΦI] C7H14CH20HCH3TLL
”--Eee again -X- -(Lll) HI -(Lll) H0 sentence 04 - (Lm) HI Br -[LII) H- -(L II) HCI O4 -(Lll) H- -(Lll) H0 sentence 04 -(Lll) HBr -(LII[) -N(C6H5)2 1 0 sentence 04-
'(Lll) H0 sentence 04 - (LII+) -N (C8H5)2 1 0 sentence 0
4- (Lll) HI -CLII) ″ Hc intersection 04 - (Lm) -N (C8H5)2 1 0 sentence 04-
[LII) H Eu Sashi"Sie" Upper Beni-H D16 [ΦII) C8H17co3 -DI? (
Φtn) C8H17CH3-D18 [ΦIII)
CHC,OO-CH3(714 -C7H14COOH D19 [ΦI[I) C7H,4COOC2H5CH
3-D20 [ΦrII] C4H9CH3-D21
(Om) ClBH37CH3-D22 [Φm]
Ca Hs C) (3-D23 [ΦI) C17H3
4COOCH3CH3-D24 [ΦI) CHOC
OCH3CH3'8 1B D25 [ΦI] C8H17C2H5-D2B [Φ
Engineering) C7H15C2H5-D27 [ΦII) C
HCOOCH3CH3-734 D28 [ΦI■] C3H16CH20COCH3C
H3L -¥-Mata -Ei- (L II) HCMata04 (L II) H- (Lll) HBF4 (Lm) -N(C6H5)2 1 0 Sentence 04 (Lll
) H, C or 04 (L II) ) I C or 04 (L II) HI (Lm) -N (C8H5)2 1 1 (L II
)) I I (LII)', I (I (L II) HC sentence O4 fiJIt O'P R upper Yu ni'-F!j-Yu jLI
R4-D30 [ΦII] C7H14COOCH3C
21 (6-D31 [Φm,) C7H14CH201
(CH3-D32 [Φm) C, Hl, CH20CO
C2H5CH3, -D33 [Φr11), C,7H
34COOC2H5CH3-D34 [Φm] C17
H35CH3-D35 [Φm] C7I(,5, C2
H5-D36 [ΦIV) CH3CH3-D37
[ΦIV) CH3CH3-D38 [ΦIV) C4H9CH3-D38 [Φ■
) (CH2)2 0COCH3CH3-D40 (O
V) C2H5-4-CI (3D41 (OV) CH
3-4-CH5D42 [ΦVL)' C2R5--
D43 [ΦVl] C2H5-5-C intersection D44 [Φ
Vl) C2R5-5-OCRD45 [ΦVl) C
2R5-5, -0CR Earthwork Earthwork (L It ) H0 sentence 04 (L II ) H0 sentence 04 (L II ) H1 (Lm) -N (C8R5) 2 1 I (LIV)
HI I (L II ) HI (Lll) H, I (L II ) H0 sentence 04 [LI■] H0 sentence 04 (L II ) HI [LII) H■ (L II ) H1 , (Lll) HBr (Lm) -N(C6H5)2 1' Br3 (L
II) HCH3C:6H4So33 (Lll)
HBr ``j beg'' Beniyo anus' first L'' Yu TLL LD46 [Φ
Vl), C2H5--(Lrll)D47[ΦVl)
C2H5, --(Lll)D48[ΦVl) C2H5
--(L'I)D49[Φm) C2H5--'(Ll
l) p50 [Φ■] C2H3--[LV] p51 [φVl) C2H5--(LV) D52 [ΦV
l) C2H5--(LVI)D53 [Φ■] (CH
2) 30COCH3-[L■]D54[ΦVl] CH
2CH20H-5-Cl (Lll)D55 [Φ劃C
2H5-'-[Ll! ]-(LII3 D5B [Φ■] C2H5- D57 [ΦIX) C2H5-(Lm) D58 [Φ■]
C2H3--[L■]-(Lll) D, 59[ΦX) C2H5- = (LII3 080 [4)XI) CI(,C)1. OHY sentence
X -I Br HBr HBr cl(3Br HI Br HI Br -1Br -N(C6H5)2 1 C) I3C6H4So3HC
) 13C6H4S03 HBr HBr OCH31,I HI HBr Friendly Man 1EjlL工1上 Shu'yu Shi.

D131(Φ■) C2H5−− D62 〔Φ■〕 (CH2)30COCH3−−D6
3 〔Φ虐〕 C2H5− D64 〔Φに〕 CH2CH2CH2503H−D6
5 〔Φ店〕 C2H3 D86 〔ΦXll+) 、C2H5−−D6? 〔Φ
双) C2)15 − −− 4−Cl5 D8B 〔Φ■) C3H1□ D69 〔Φ■) Cl8H37− D70 〔ΦVl) C3H1□ −−−5−〇交 D71 (Φ■〕 C3H17 D72 〔Φ■〕 Cl8H37−5−C文−0CH3 D73 ((’vI) 0B HI3 ’6−0CH3
D74 〔Φ■3 C8H,? −5−0CH3D75
 〔Φ■) C8H17−5−C文L−−ヱ一 −l−
x− (L II ) HI (Lrl) H1 (Lm) −N (Cs Is ) 2 1 Cl04
(LIII) −N (Ca Hs ) 2 1 I(
Ill) HBr (Lll) HBr (Lll) HI (Lm) −N(C8H5)2 1 Br(Lll) 
HCl04 (Lm) −N (CB H5’)2 1 C交04(
LII) HI (L II ) HI (LIV) −1I CLm) N (C8H5)2 1 Br■ 乞」 も
−1工′ シニ」ユ 紅 D76 〔ΦVl) C,8H37−5−C見D77 
〔ΦVl) C8H,7−− D78 〔ΦVl) C8H,7−− D73 〔ΦVT) C,8H375−Cl1)8Q 
(ΦVl) Cl8H37−5−CgLD81 (Φ■
) C8H17−− D82 〔ΦVl) C3H1□ −−D83 (ΦV
I) C3H17 D84 〔Φ■) C3H1? −− D85 〔Φ■) Cl8H37−− D86 〔Φ■) Cl5H27−− D87 (Φ■) C13H2? −−D88 〔Φ■
) C8H17−− D88 〔Φ■) C8H17−− D80 〔Φ■) Cl8H37−− L 土 土工 (Lm) −N (C8H5) 2 1 B r(LI
I (Lll) HI (L II ) HCH3G6H45O31(L II
 ) HC;交C61(,5O3(LV) HI I (LVI) HI Br 〔L■〕−■ (Llll)’ −N (C6H5)2 l Br(L
 II ) HCH3C3H4S03(Lll) HB
r (LIE) HBr (Lm (、Llll) 0CR31工 (L II ) H,CJI3C8H,So3血案遇 
免−漕 1L−1上′ LL−fli 1土D91 〔
Φ■) C8H17−− D82 〔Φ■〕 Cl8H3゜ −−D93 〔Φ尺
) C8H17−− D94 〔Φ刈) C8H,□ −− D85 〔Φ刈) C8H,。 −− D86 〔Φ刈) C,3H27−5−GKLD87 
〔Φ刈〕 C3H1□ −− D98 〔Φ■) Cl8H3□ D89 〔Φ店〕 C8H17−− Dloo (Φ双) C8H,□ −−Dlol (O
V) C8H,7,−−D102 (Φ■〕 C3H1
□ −−0103(Φ店) C3H1? −− D104 (ΦI) CHCHOCOCH3CH3−2 0105(Φ■〕 CH2CH20HCH3−DlOB
〔Φm) CH3CH3− 1−−■−文 X (L II ) HC)1308)14SO3(Lm)
 −NCC6H5)2 1 C)13C6H4SO3(
Llり HBr (Lll) ’HI (Lll) HI (Lm) N(C8H5)、2 1 Br(Lm) −
N(C8H5)2 1 Br(Lll)l(Br (L II ) HB r (Lll) HBr (Lll) HBr (Lll) HBr (L II ) H0文04 (Lll) HBr (LVI) B r I ClO4 血孟漫 1エ%P lLLl工′ lLLlエ −且土
DAO7(ΦI) CH3CH3− p108〔Φm) CH3CH3− 0109(ΦVl) C2H5−6−C!10110 
(ΦVl) C11HI7 − 6−C文DIll (
Φ)ffll) C2HEl −−DI+2 、(ΦV
l) CH3CH3−01+3 (ΦVl) CH3C
H3−L Y 文 X 〔L■) H−0文04 〔L■) HC見04 (Lm) N(C6H5)2 I 0文04(Lll)
 H−0文04 〔L■)HC交04 (Lm) N(C6)15)2 0 C104(Lll
) H−、C文04 さらに、本発明による効果が大きいのは、第2にフタロ
シアこン色素である。
D131 (Φ■) C2H5-- D62 [Φ■] (CH2) 30COCH3--D6
3 [Φ torture] C2H5- D64 [Φ] CH2CH2CH2503H-D6
5 [Φ store] C2H3 D86 [ΦXll+), C2H5--D6? [Φ
Twin) C2) 15 - -- 4-Cl5 D8B [Φ■) C3H1□ D69 [Φ■) Cl8H37- D70 [ΦVl) C3H1□ ---5-〇Cross D71 (Φ■) C3H17 D72 [Φ■] Cl8 H37 -5-C sentence-0CH3 D73 (('vI) 0B HI3 '6-0CH3
D74 [Φ■3 C8H,? -5-0CH3D75
[Φ■) C8H17-5-C sentence L--Eichi -l-
x- (L II ) HI (Lrl) H1 (Lm) -N (Cs Is) 2 1 Cl04
(LIII) -N (Ca Hs) 2 1 I(
Ill) HBr (Lll) HBr (Lll) HI (Lm) -N(C8H5)2 1 Br(Lll)
HCl04 (Lm) -N (CB H5')2 1 C cross04 (
LII) HI (L II) HI (LIV) -1I CLm) N (C8H5) 2 1 Br■ Beg'Mo-1'Shini' Yu Red D76 [ΦVl) C, 8H37-5-C See D77
[ΦVl) C8H,7-- D78 [ΦVl) C8H,7-- D73 [ΦVT) C,8H375-Cl1)8Q
(ΦVl) Cl8H37-5-CgLD81 (Φ■
) C8H17--D82 [ΦVl) C3H1□ --D83 (ΦV
I) C3H17 D84 [Φ■) C3H1? -- D85 [Φ■) Cl8H37-- D86 [Φ■) Cl5H27-- D87 (Φ■) C13H2? --D88 [Φ■
) C8H17-- D88 [Φ■) C8H17-- D80 [Φ■) Cl8H37-- L Earth Earthwork (Lm) -N (C8H5) 2 1 B r (LI
I (Lll) HI (L II) HCH3G6H45O31 (L II
) HC;C61(,5O3(LV) HI I (LVI) HI Br [L■]-■ (Lllll)' -N (C6H5)2 l Br(L
II) HCH3C3H4S03(Lll) HB
r (LIE) HBr (Lm (, Lllll) 0CR31 Engineering (L II) H, CJI3C8H, So3 blood situation
Free boat 1L-1 upper' LL-fli 1 soil D91 [
Φ■) C8H17-- D82 [Φ■] Cl8H3゜ --D93 [Φ scale] C8H17-- D94 [Φ mowing) C8H, □ -- D85 [Φ mowing] C8H,. -- D86 [Φ mowing] C, 3H27-5-GKLD87
[Φ cut] C3H1□ -- D98 [Φ■) Cl8H3□ D89 [Φ store] C8H17 -- Dloo (Φ twin) C8H, □ --Dlol (O
V) C8H,7,--D102 (Φ■) C3H1
□ --0103 (Φ store) C3H1? -- D104 (ΦI) CHCHOCOCH3CH3-2 0105 (Φ■) CH2CH20HCH3-DlOB
[Φm) CH3CH3- 1--■- Sentence X (L II) HC) 1308) 14SO3 (Lm)
-NCC6H5)2 1 C)13C6H4SO3(
Llri HBr (Lll) 'HI (Lll) HI (Lm) N(C8H5), 2 1 Br(Lm) -
N(C8H5)2 1 Br(Lll)l(Br (L II ) HB r (Lll) HBr (Lll) HBr (Lll) HBr (L II ) H0 sentence 04 (Lll) HBr (LVI) B r I ClO4 Blood Meng Man 1E%P lLLl 工' lLLlE -&Sat DAO7 (ΦI) CH3CH3- p108 [Φm) CH3CH3- 0109 (ΦVl) C2H5-6-C! 10110
(ΦVl) C11HI7-6-C sentence DIll (
Φ)ffll) C2HEl --DI+2 , (ΦV
l) CH3CH3-01+3 (ΦVl) CH3C
H3-L Y Sentence
H-0 sentence 04 [L ■) HC intersection 04 (Lm) N (C6) 15) 2 0 C104 (Lll
) H-, C 04 Furthermore, the second phthalocyanine dye has the greatest effect according to the present invention.

用いるフタロシアニンには、特に制限はなく、中心原子
としては、Cu、Fe、Co。
There are no particular restrictions on the phthalocyanine used, and examples of the central atom include Cu, Fe, and Co.

N、In、Ga、Ai、InC3L、InBr。N, In, Ga, Ai, InC3L, InBr.

InI、GaC1,GaBr、GaI。InI, GaCl, GaBr, GaI.

AfCl、AMBr、Ti、TiO,Si。AfCl, AMBr, Ti, TiO, Si.

Ge、H,R2、Pb、Vo、Mn、Sn等か可能であ
る。
Ge, H, R2, Pb, Vo, Mn, Sn, etc. are possible.

また、フタロシアニンのベンゼン環には、直接または適
当な連結ノ、(を介して、−OH、ハロゲン、−COO
H,NR2、−CoC1、−COOR’ 、−0COR
’ (ただし、R′は各種アルキルないしアリール等)
、 −5o2c文、−5O3H1−CONH2、−CN、N
O2、−3CN、−3H1 −CH2CM等の種々の置換基が結合したものであって
よい。
In addition, the benzene ring of phthalocyanine can be directly or via an appropriate linkage, -OH, halogen, -COO
H, NR2, -CoC1, -COOR', -0COR
' (However, R' is various alkyl or aryl, etc.)
, -5o2c sentence, -5O3H1-CONH2, -CN,N
Various substituents such as O2, -3CN, -3H1-CH2CM, etc. may be bonded.

このような色素は、大有機化学(朝食書店)含窒素複素
環化合物I432ページ等に記載された方法に準じて容
易に合成することができる。
Such dyes can be easily synthesized according to the method described in Nitrogen-Containing Heterocyclic Compounds I, page 432, Dai Organic Chemistry (Breakfast Shoten).

すなわち、まず対応するΦ′−CH3(Φ′は前記Φに
対応する環を表わす。)を、過剰のR,I (R1はア
ルキル基またはアリール基)とともに加熱して、R1を
Φ′中の窒素原子に導入してΦ−CH3I−を得る。 
次いで、これを、不飽和ジアルデヒド、 ヒドロキシア
ルデヒド、ペンタジェンシアルまたはイソホロンなどと
、ピペリジン、トリアルキルアミンなどアルカリ触媒ま
たは無水酢酸等を用いて脱水縮合すればよい。
That is, first, the corresponding Φ'-CH3 (Φ' represents the ring corresponding to Φ) is heated with excess R and I (R1 is an alkyl group or an aryl group), and R1 in Φ' is is introduced into a nitrogen atom to obtain Φ-CH3I-.
Next, this may be subjected to dehydration condensation with an unsaturated dialdehyde, hydroxyaldehyde, pentagonal or isophorone using an alkali catalyst such as piperidine or trialkylamine, or acetic anhydride.

このような色素は、単独で記録層を形成することもでき
る。
Such a dye can also form a recording layer alone.

あるいは樹脂とともに記録層を形成する。Alternatively, a recording layer is formed together with resin.

用いる樹脂としては、自己酸化性のもの、あるいは熱可
塑性樹脂が好適である。
The resin used is preferably a self-oxidizing resin or a thermoplastic resin.

記#i層に含有される自己酸化性の樹脂は、昇温したと
き、酸化的な分解を生じるものであるが、これらのうち
、特にニトロセルロースが好適である。
The self-oxidizing resin contained in layer #i undergoes oxidative decomposition when the temperature rises, and among these, nitrocellulose is particularly preferred.

また、熱iq塑性樹脂は、記録光を吸収した色素の昇温
により軟化するものであり、熱可塑性樹脂としては、公
知の種々のものを用いることができる。
Further, the thermo-iq plastic resin is softened by increasing the temperature of the dye that has absorbed the recording light, and various known thermoplastic resins can be used as the thermoplastic resin.

これらのうち、特に好適に用いることができる熱可塑性
樹脂には、以下のようなものがある。
Among these, thermoplastic resins that can be particularly preferably used include the following.

i)ポリオレフィン ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ4−メチルペンテ
ン−1など。
i) Polyolefin polyethylene, polypropylene, poly4-methylpentene-1, etc.

ii)ポリオレフィン共重合体 例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体。ii) Polyolefin copolymer For example, ethylene-vinyl acetate copolymer.

エチレン−アクリル酸エステル共重合体、エチレン−ア
クリル酸共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、エ
チレン−ブテン−1八重合体、エチレン−無水マレイン
酸共重合体、エチレンプロピレンターポリマー(EPT
)など。
Ethylene-acrylic acid ester copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-propylene copolymer, ethylene-butene-1 octapolymer, ethylene-maleic anhydride copolymer, ethylene propylene terpolymer (EPT)
)Such.

この場合、コモノマーの重合比は任意のものとすること
ができる。
In this case, the polymerization ratio of the comonomers can be arbitrary.

111)塩化ビニル共重合体 例えば、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、11!化ビ
ニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−無水マレ
イン酪共重合体、アクリル酸エステルないしメタアクリ
ル酸エステルと塩化ビニルとの共重合体、アクリロニト
リル−塩化ビニル共重合体、塩化ビニルエーテル共重合
体、エチレンないしプロピレン−塩化ビニル共重合体、
エチレン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニルをグラフト
重合したものなど。
111) Vinyl chloride copolymer, for example, vinyl acetate-vinyl chloride copolymer, 11! Vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-maleic anhydride copolymer, copolymer of acrylic acid ester or methacrylic acid ester and vinyl chloride, acrylonitrile-vinyl chloride copolymer, vinyl chloride ether copolymer, ethylene or propylene-vinyl chloride copolymer,
Such as those obtained by graft polymerizing vinyl chloride to ethylene-vinyl acetate copolymer.

この場合、共重合比は任意のものとすることができる。In this case, the copolymerization ratio can be arbitrary.

1t)fil化ビニリデン共重合体 塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ヒニリデン
ー塩化ビニルーアクリロニトリル共重合体、塩化ビこリ
デンーブタジエンーハロゲン化ビニル共重合体など。
1t) Vinylidene filtration copolymer Vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer, hnylidene chloride-vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, vinylidene chloride-butadiene-vinyl halide copolymer, etc.

この場合、共重合比は、任意のものとすることができる
In this case, the copolymerization ratio can be arbitrary.

V)ポリスチレン マi)スチレン共重合体 ゛例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合体(AS
樹脂)、スチレン−アクリロニトリル−ブタジェン共重
合体(ABS樹脂)、スチレン−無水マレイン酸共重合
体(SMA樹脂)、スチレン−アクリル酸エステル−ア
クリルアミド共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体
(SBR)、スチレン−11!化ビニリデン共重合体、
スチレン−メチルメタアクリレート共重合体など。 。
V) polystyrene i) styrene copolymer {for example, styrene-acrylonitrile copolymer (AS
resin), styrene-acrylonitrile-butadiene copolymer (ABS resin), styrene-maleic anhydride copolymer (SMA resin), styrene-acrylic acid ester-acrylamide copolymer, styrene-butadiene copolymer (SBR), Styrene-11! vinylidene chloride copolymer,
Styrene-methyl methacrylate copolymer, etc. .

この場合、共重合比は任意のものとすることができる。In this case, the copolymerization ratio can be arbitrary.

マii)スチレン型重合体 例えば、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、2
,5−ジクロルスチレン、α。
ii) Styrenic polymers such as α-methylstyrene, p-methylstyrene, 2
, 5-dichlorostyrene, α.

β−ビニルナフタレン、α−ビニルピリジン、アセナフ
テン、ビニルアントラセンなど、あるいはこれらの共重
合体、例えば、α−メチルスチレンとメタクリル酸エス
テルとの共重合体。
β-vinylnaphthalene, α-vinylpyridine, acenaphthene, vinylanthracene, etc., or copolymers thereof, such as copolymers of α-methylstyrene and methacrylic acid ester.

viii)クマロン−インデン樹脂 クマロン−インデン−スチレンの共T(合体。viii) Coumarone-indene resin Coumarone-indene-styrene co-T (coalescence).

ix)テルペン樹脂ないしピコライト 例えば、α−ピネンから得られるリモネンの重合体であ
るテルペン樹脂や、β−ピネンから1−リられるピコラ
イト。
ix) Terpene resin or picolite For example, terpene resin which is a polymer of limonene obtained from α-pinene, or picolite obtained from β-pinene.

りアクリル樹脂 特に下記式で示される原子団を含むものが好ましい。acrylic resin Particularly preferred are those containing an atomic group represented by the following formula.

式 R10 CH−C− −0R20 1 上記式において、R10は、水素原子またはアルキル基
を表わし、R20は、置換または非置換のアルキルノ、
(を表わす、 この場合、上記式において、R10は、
水素原子または炭素原子数1〜4の低級アルキル基、特
に水素原r−またはメチル基であることが好ましい。
Formula R10 CH-C- -0R20 1 In the above formula, R10 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R20 represents a substituted or unsubstituted alkyl group,
In this case, in the above formula, R10 is
It is preferably a hydrogen atom or a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, particularly a hydrogen atom r- or a methyl group.

また、R20は、置換、非1ど換いずれのアルキル基で
あってもよいが、アルキル基の炭素原子数は1〜8であ
ることが&rましく、また、R20が置換アルキル基で
あるときには、アルキル基を置換する置換基は、水酸基
、ハロケン原子またはアミノ基(特に、ジアルキルアミ
ツノ、ti )であることが好ましい。
Further, R20 may be a substituted or non-monosubstituted alkyl group, but it is preferable that the alkyl group has 1 to 8 carbon atoms, and when R20 is a substituted alkyl group, The substituent substituting the alkyl group is preferably a hydroxyl group, a halogen atom, or an amino group (particularly dialkylamino, ti).

このような上記式で示される原子団は、他 1のくりか
えし原子団とともに、共重合体を形成して各種アクリル
樹脂、を構成してもよいが、通常は、上記式で示される
原子団の1種または2種以上をくりかえし単位とする単
独重合体または共重合体を形成してアクリル樹脂を構成
することになる。
The atomic group represented by the above formula may form a copolymer with other repeating atomic groups to constitute various acrylic resins, but usually, the atomic group represented by the above formula An acrylic resin is formed by forming a homopolymer or copolymer having one or more repeating units.

xi)ポリアクリロニトリル xii)アクリロニトリル共重合体 例えば、アクリロニトリル−酢酸ビニル共重合体、アク
リロニトリル−塩化ビニル共重合体、アクリロニトリル
−スチレン共重合体、アクリロニI・ツルー112化ビ
ニリチン共重合体、アクリロニトリル−ビニルピリジン
共重合体、アクリロニトリル−メタクリル酸メチル共千
合体、アクリロニトリル−ブタジェン共重合体、アクリ
ロニトリル−アクリル酸ブチル共重合体など。
xi) Polyacrylonitrile xii) Acrylonitrile copolymer such as acrylonitrile-vinyl acetate copolymer, acrylonitrile-vinyl chloride copolymer, acrylonitrile-styrene copolymer, acrylonitrile-true 112 vinylitine copolymer, acrylonitrile-vinylpyridine copolymers, acrylonitrile-methyl methacrylate copolymers, acrylonitrile-butadiene copolymers, acrylonitrile-butyl acrylate copolymers, etc.

この場合、共重合比は任意のものとすることができる。In this case, the copolymerization ratio can be arbitrary.

・l自)ダイア七トンアクリルアミドポリマーアクリロ
ニトリルにアセトンを作用させたダイア七トンアクリル
アミドポリマー。
・l Self) Dia-7ton Acrylamide Polymer Dia-7ton acrylamide polymer made by reacting acetone with acrylonitrile.

xiv)ポリ酢酸ビニル xv)酢酸ビニル共重合体 例えば、アクリル酸エステル、ビニルエーテル、エチレ
ン、塩化ビニル等との共重合体など。
xiv) Polyvinyl acetate xv) Vinyl acetate copolymers, such as copolymers with acrylic esters, vinyl ethers, ethylene, vinyl chloride, etc.

共重合比は任意のものであってよい。The copolymerization ratio may be arbitrary.

xvi)ポリビニルエーテル 例えば、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルエチル
エーテル、ポリビニルアルコールなど。
xvi) Polyvinyl ethers such as polyvinyl methyl ether, polyvinylethyl ether, polyvinyl alcohol, etc.

xvii)ポリアミド この場合、ポリアミドとしては、ナイロン6、ナイロン
6−6、ナイロン6−10、ナイロン6−12.ナイロ
ン9、ナイロンll、ナイロン12、ナイロン13等の
通常のホモナイロンの他、ナイロン6/6−6/6−1
0、ナイロン6/6−6/l 2.ナイロン6/6−6
/11等の重合体や、場合によっては変性ナイロンであ
ってもよい。
xvii) Polyamide In this case, polyamides include nylon 6, nylon 6-6, nylon 6-10, nylon 6-12. In addition to regular homonylons such as nylon 9, nylon ll, nylon 12, and nylon 13, nylon 6/6-6/6-1
0, nylon 6/6-6/l 2. Nylon 6/6-6
Polymers such as /11 or modified nylon may also be used.

xvii)ポリエステル 例えば、シュウ酸、コハク酸、マレイン酸、アジピン酸
、セパステン酸等の脂肪族二塩基酸、あるいはイソ−フ
タル酸、テレフタル酸などの芳香族二塩基酸などの各種
二塩基酸と、エチレングリコール、テトラメチレングリ
コール、ヘキサメチレングリコール等のグリコール類と
の縮合物や、共縮合物が好適である。
xvii) polyesters with various dibasic acids such as aliphatic dibasic acids such as oxalic acid, succinic acid, maleic acid, adipic acid, cepasthenic acid, or aromatic dibasic acids such as isophthalic acid, terephthalic acid; Condensates and co-condensates with glycols such as ethylene glycol, tetramethylene glycol and hexamethylene glycol are suitable.

そして、これらのうちでは、特に脂肪族二塩基酸とグリ
コール類との縮合物や、グリコール類と脂肪族二塩基酸
との共縮合物は、特に好適である。 ′ さらに、例えば、無水フタル酸とグリセリンとの縮合物
であるグリプタル樹脂を、脂肪^(、天然樹脂等でエス
テル化変性した変性グリプタル樹脂等も好適に使用され
る。
Among these, condensates of aliphatic dibasic acids and glycols and cocondensates of glycols and aliphatic dibasic acids are particularly suitable. 'Furthermore, for example, a modified gliptal resin, which is a condensate of phthalic anhydride and glycerin, is esterified and modified with a fat, natural resin, etc., and the like may also be suitably used.

xlx) ポリビニルアセタール系樹脂ポリビニルアル
コールを、アセタール化して得られるポリビニルホルマ
ール、ポリビニルアセタール系樹脂はいずれも好適に使
用される。
xlx) Polyvinyl acetal resin Both polyvinyl formal and polyvinyl acetal resin obtained by acetalizing polyvinyl alcohol are preferably used.

この場合、ポリビニルアセタール系樹脂の7セタ一ル化
度は任意のものとすることができる。
In this case, the degree of 7-cetalization of the polyvinyl acetal resin can be arbitrary.

xx)ポリウレタン樹脂 ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹脂。xx) Polyurethane resin Thermoplastic polyurethane resin with urethane bonds.

勃に、グリコール類とシイソシアナ−1・類との縮合に
よってflIられるポリウレタン樹脂、とりわけ、アル
キレングリコールとアルキレンジイソシアナートとの縮
合によって得られるポリウレタン樹脂が好適である。
Particularly suitable are polyurethane resins obtained by condensation of glycols and cyisocyanates, especially polyurethane resins obtained by condensation of alkylene glycols and alkylene diisocyanates.

xxi)ポリエーテル スチレンホルマリン樹脂、環状アセタールの開環重合物
、ポリエチレンオキサイドおよびグリコール、ポリプロ
ピレンオキサイドおよびグリコール、プロピレンオキサ
イド−エチレンオキサイド共重合体、ポリフェニレンオ
キサイドなど。
xxi) Polyether styrene formalin resin, ring-opening polymer of cyclic acetal, polyethylene oxide and glycol, polypropylene oxide and glycol, propylene oxide-ethylene oxide copolymer, polyphenylene oxide, etc.

xxii)セルロース誘導体 例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、エチ
ルセルロース、アセチルブチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メ
チルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロースな
ど、セルロースの各種エステル、エーテルないしこれら
の混合体。
xxii) Cellulose derivatives For example, various esters and ethers of cellulose, such as nitrocellulose, acetylcellulose, ethylcellulose, acetylbutylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydroxypropylcellulose, methylcellulose, ethylhydroxyethylcellulose, and mixtures thereof.

X菫1ii)ポリカーボネート 例えば、ポリジオキシジフェニルメタンカーホネート、
ジオキシジフェニルプロパンカーポネート等の各種ポリ
カーボネート。
X 1ii) Polycarbonates such as polydioxydiphenylmethane carbonate,
Various polycarbonates such as dioxydiphenylpropane carbonate.

xxiマ)アイオノマー メタクリル酸、アクリル酸などのNa。xxi) Ionomer Na such as methacrylic acid and acrylic acid.

Li、Zn、Mg塩など。Li, Zn, Mg salts, etc.

X!マ)ケトン樹脂 例えば、シクロヘキサノンやアセトフェノン等ノ環状ケ
トンとホルムアルデヒドとの縮合物。
X! m) Ketone resin For example, a condensate of a cyclic ketone such as cyclohexanone or acetophenone and formaldehyde.

+++1vi)キシレン樹脂 例えば、m−キシレンまたはメシチレンとホルマリンと
の縮合物、あるいはその変性体。
+++1vi) Xylene resin, for example, a condensate of m-xylene or mesitylene with formalin, or a modified product thereof.

xxvii)石油樹脂 C5系、C9系、C5−cQ共重合系、ジシクロペンタ
ジェン系、あるいは、これらの共重合体ないし変性体な
ど。
xxvii) Petroleum resins C5 type, C9 type, C5-cQ copolymer type, dicyclopentadiene type, or copolymers or modified products thereof.

xxviii)上記i) 〜xxvii)の2種以上の
ブレンド体、またはその他の熱可塑性樹脂とのブレンド
体。
xxviii) A blend of two or more of the above i) to xxvii), or a blend with other thermoplastic resins.

なお、自己酸化性または熱可塑性の樹脂の分子部等は種
々のものであってよい。
The self-oxidizing or thermoplastic resin may have various molecular parts.

このような自己酸化性化合物または熱可塑性樹脂樹脂と
、前記の色素とは、通常、重!Ji−比で1対0.1−
100の広範なイー:比にて設層される。
Such self-oxidizing compounds or thermoplastic resins and the above-mentioned dyes are usually combined with heavy! Ji-ratio: 1:0.1-
Layered with a wide E: ratio of 100.

このような記録層中には、クエンチャ−か含有されるこ
とが好ましい。
It is preferable that such a recording layer contains a quencher.

これにより、読み出し光のくりかえし照射によるS/N
比の再生劣化が減少する。
As a result, the S/N due to repeated irradiation of readout light is
The reproduction deterioration of the ratio is reduced.

また、明室保存による耐光性が向」ニする。In addition, the light resistance is improved by storing it in a bright room.

クエンチャ−としては、種々のものを用いることができ
るが、特に、色素が励起して一爪項酸素が生したとき、
−重信酸素から電子移動ないしエネルギー移動をうけて
励起状態となり、自ら基底状態にもどるとともに、−m
項酪素を三重項状態に変換する一重項耐素クエンチャー
であることが好ましい。
Various quenchers can be used, but in particular, when the dye is excited and single-claw oxygen is produced,
- Shigenobu It undergoes electron transfer or energy transfer from oxygen and becomes an excited state, returns to the ground state by itself, and -m
Preferably, it is a singlet-resistant quencher that converts butyric to the triplet state.

一重項酸素クエンチャーとしても、種々のものを用いる
ことができるが、特に、酸性劣化が減少すること、そし
て色素との相溶性が良好であることなどから、遷移金属
キレート化合物であることか好ましい。 この場合、中
心金属としては、Ni、Co、Cu、Mn、Pd、Pt
等が好ましく、特に下記の化合物が好適である。
Various singlet oxygen quenchers can be used, but transition metal chelate compounds are particularly preferred because they reduce acidic deterioration and have good compatibility with dyes. . In this case, the central metal is Ni, Co, Cu, Mn, Pd, Pt.
etc. are preferred, and the following compounds are particularly preferred.

l) アセチルアセトナートキレート Ql−I Ni(II)アセチルアセI・ナートQl−
2 Cu(II)アセチルアセトナートQl−3 Mn
(m)アセチルアセトナートQl−4 Co(II)ア
セチルアセトナート2) ド記式で示されるビスジチオ
−α−ジケトン系 4 ここに、R −R は、置換ないし非置換のアルキル基
またはアリール基を表わし、Mは、Ni,Co,Cu,
Pd,Pt等の遷移金属原子を表わす。
l) Acetylacetonate chelate Ql-I Ni(II) acetylacetonatochelate Ql-
2 Cu(II) acetylacetonate Ql-3 Mn
(m) Acetylacetonate Ql-4 Co(II) Acetylacetonate 2) Bisdithio-α-diketone system 4 represented by the following formula: Here, R - R represents a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. where M is Ni, Co, Cu,
Represents a transition metal atom such as Pd or Pt.

この場合、Mは一電荷をもち、4級アンモニウムイオン
等のカチオン(Cat)と塩を形成してもよい。
In this case, M has a single charge and may form a salt with a cation (Cat) such as a quaternary ammonium ion.

なお、以下の記載において、phはフェニル基、φハl
,4ーフェニレンノ人、φ′ は1.2−フェニレン基
、benzは環上にてとなりあう基が互いに結合して縮
合ベンゼン環を形成することを表わすものである。
In addition, in the following description, ph is a phenyl group, φhal
, 4-phenylene group, φ' represents a 1,2-phenylene group, and benz represents that adjacent groups on the ring are bonded to each other to form a condensed benzene ring.

σ σ Ci σ σ 3) 下記式で示されるヒスフェニルジチオール系 ここに、R5ないしR8は、水素またはメチルノ、(、
エチル基などのアルキル基、C1などのハロケン原子、
あるいはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などの7
ミノ基を表わし、Mは、Ni 、Co、Cu、Pd、P
L等の遷移金属原子を表わす。
σ σ Ci σ σ 3) Hisphenyldithiol system represented by the following formula, where R5 to R8 are hydrogen or methyl, (,
Alkyl groups such as ethyl groups, haloken atoms such as C1,
Or 7 such as dimethylamino group, diethylamino group, etc.
Represents a mino group, M is Ni, Co, Cu, Pd, P
Represents a transition metal atom such as L.

また、上記構造のMは一電荷をもって、4級アンモニウ
ムイオン等のカチオン(Cat)と44を形成してもよ
く、さらにはMの上下には。
Furthermore, M in the above structure has a single charge and may form 44 with a cation (Cat) such as a quaternary ammonium ion, and further above and below M.

さらに他の配位子が結合してもよい。Furthermore, other ligands may be bound.

このようなものとしては、下記のものがある。Examples of this include the following:

σ C1d σ σ σ σ σ 0 σ010/ c
IO’ (7σ σ σ σ Uこの他、特開昭50−
45027 t+や特願昭58−163080号に記載
したものなど。
σ C1d σ σ σ σ σ 0 σ010/ c
IO' (7σ σ σ σ
45027 t+ and those described in Japanese Patent Application No. 58-163080.

4) 下記式で小されるジチオカルバミン酸キレート系 ここに、R9およびR10はアルキル基を表わす・ また、MはNi 、Co、Cu、Pd、Pt等の遷移金
属を表わす。
4) Dithiocarbamic acid chelate system represented by the following formula: where R9 and R10 represent an alkyl group; M represents a transition metal such as Ni, Co, Cu, Pd, or Pt;

5) 下記式で示されるもの ここに1Mは、!移金属原子を表わし、Qlは、 を表わし、Catは、カチオンを表わす。5) What is shown by the following formula 1M is here! Represents a transfer metal atom, Ql is and Cat represents a cation.

M 虹 Cat Q5−I Ni Q’2 2CHN◆(CH3)363
3 Q5−2 N i Ql2 2G(C4H8)4N+Q
5−3 Co Ql2 2C(C4H8)4N”Q 5
−4 Cu Q 12 2CCC4H8)4N”Q 5
−5 P d Q 12 2C(C2H9)4N+この
他、特願昭58−125654号に記載したもの。
M Rainbow Cat Q5-I Ni Q'2 2CHN◆(CH3)363
3 Q5-2 N i Ql2 2G(C4H8)4N+Q
5-3 Co Ql2 2C(C4H8)4N"Q 5
-4 Cu Q 12 2CCC4H8)4N"Q 5
-5 P d Q 12 2C(C2H9)4N+Others described in Japanese Patent Application No. 125654/1983.

6) 下記式で示されるもの ここに、 Mは遷移金原子を表わし、 R11およびR12は、それぞれcN、coR”pc 
o OR’ICON R”?R16または5O2R”を
表わし、 R13ないしR17は、それぞれ水素原子または置換も
しくは非置換のアルキル基もしくはアリール基を表わし
、 Q2は、5員または6 M IEiを形成するのに必要
な原子群を表わし、 Catは、カチオンを表わし、 nは1または2である。
6) Those represented by the following formula, where M represents a transition gold atom, and R11 and R12 are cN and coR”pc, respectively.
o OR'ICON R represents "?R16 or 5O2R", R13 to R17 each represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group, and Q2 represents a 5-membered or 6-M IEi Represents a necessary atomic group; Cat represents a cation; n is 1 or 2;

2′−雷 2 (%IN ヱ 88 2− 22202 − 〜 cQ 寸 り ■ II I II I Coco Co coo C0 σ σ CI σ 07 σ この他、特願昭58−127074号に記載したもの。2'-Lightning 2 (%INヱ 88 2- 22202 - ~ cQ size ■ II I II I Coco Co coo C0 σ σ CI σ 07 σ In addition, those described in Japanese Patent Application No. 58-127074.

7)、、1’記式で示される化合物 ここに、Mは越移金属原子を表わし、 Catは、カチオンを表わし、 nは1または2である。7) Compounds represented by the formula 1' Here, M represents a transition metal atom, Cat represents a cation; n is 1 or 2.

M Ca t Q 7− I N i 2 ((II−C4H9)3N
:]Q 7 − 2 N i 2 (n−T)、16H
33(CH3ン3N 〕この他、特願昭58−1 ’2
7075吋に記載したもの。
M Cat Q 7- I N i 2 ((II-C4H9)3N
:]Q7-2Ni2(n-T), 16H
33 (CH3-3N) In addition, patent application 1986-1 '2
What is written in 7075 inches.

8) ビスフェニルチオール系 Q 8− I N i−ビス(オクチルフェニル)サル
ファイド 9) ド記式で示されるチオカテコールキレート系 ここに、Mは、Ni 、Co、Cu、Pd、Pl A−
fの遷移金属原子を表わす。
8) Bisphenylthiol system Q 8- I Ni-bis(octylphenyl) sulfide 9) Thiocatechol chelate system represented by the following formula, where M is Ni, Co, Cu, Pd, Pl A-
represents a transition metal atom of f.

また、Mは一電荷をもち、カチオン(Cat)とliA
を形成してもよく、ベンゼン環は置換基を有していても
よい。
In addition, M has one charge, and cation (Cat) and liA
may be formed, and the benzene ring may have a substituent.

M Ca t Q9−I Ni N” (C4H9)410) 下記式
で示される化合物 ここに、R18は、1価の基を表わし、又は、θ〜6で
あり、 Mは、鵡移金hA原子を表わし、 Catは、カチオンを表わす。
M Cat Q9-I Ni N” (C4H9)410) A compound represented by the following formula, where R18 represents a monovalent group or is θ~6, and M represents a mole gold hA atom. and Cat represents a cation.

M R” l Cat QIO−I N i HON(n−C4H8)。M R” l Cat QIO-I N i HON (n-C4H8).

Q 10−2 N i CH31N(n−C4H9)4
特願昭58−143531号に記載したもの。
Q 10-2 N i CH31N(n-C4H9)4
What is described in Japanese Patent Application No. 143531/1982.

11) 下記の両式で示される化合物 ここに、上記→貨式 ゛ にお 20212223 いて、R、R、RおよびRは、それ ぞれの水素原子または1価の基を表わし、R、R、Rお
よびR27は、水素原子ま24 25 2B たは1価の基を表わすが、 RとR、RとR,R28とR27 24252526 は、互いに結合して6員環を形成してもよい。
11) Compounds represented by the following formulas: 20212223 in the formula ゛ above, where R, R, R and R each represent a hydrogen atom or a monovalent group, and R, R, R and R27 represents a hydrogen atom, 24 25 2B or a monovalent group, but R and R, R and R, and R28 and R27 24252526 may be bonded to each other to form a 6-membered ring.

また、Mは、遷移金属原子を表わす。Moreover, M represents a transition metal atom.

Σ1 ; ; 匡1 工 I Ctl :G 工 国10: 工 国1 工 工 σ σ この他、特願昭58−145294号に記載したもの。Σ1 ; ; 匡1 工 I Ctl:G engineering Country 10: Engineering Country 1 engineering σ σ In addition, those described in Japanese Patent Application No. 58-145294.

12) 下記式で示される化合物 ここに、Mは、Pt、NiまたはPdを表わし、Xl 
、X2 、X3 、X4は、それぞれOまたはSを表わ
す。
12) A compound represented by the following formula, where M represents Pt, Ni or Pd, and Xl
, X2, X3, and X4 each represent O or S.

L 入上 N1 Ni K土 Q12−I Ni OOO0 Q12−2 Ni S S S S この他、特願昭58−145295号に記載したもの。L Nirage N1 Ni K soil Q12-I Ni OOO0 Q12-2 Ni S S S S In addition, those described in Japanese Patent Application No. 58-145295.

13) 下記式で示される化合物 ここに、R31は、置換もしくは非置換のアルキル基ま
たはアリール基であり、 R、R、RおよびR35は、水素原子 32 33 34 または1価の基を表わすが、R32とR33,3334
3435 RとR、RとRは、互いに結合して 6員環を形成してもよい。
13) Compound represented by the following formula, where R31 is a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group, R, R, R and R35 represent a hydrogen atom 32 33 34 or a monovalent group, R32 and R33, 3334
3435 R and R, or R and R may be bonded to each other to form a 6-membered ring.

また、Mは、遷移金属原子を表わす。Moreover, M represents a transition metal atom.

31 32 33 34 35 RRRRM Q13−1 ncHHHHHNi 8 Q13−2CHHHCHHNi 65 25 Q13−3 nCHHHbenz Ni8 この他、特願昭58〜151928号に記載したも14
) 下記内式で示される化合物 41 41 43 R、R、RおよびR44は、それぞれ 水素原子または1価の基を゛表わすか、41 42 4
2 43 43 44 RとR、RとR、RとRは、 11いに結合して6員環を形成してもよい。
14
) The compound represented by the following formula 41 41 43 R, R, R and R44 each represent a hydrogen atom or a monovalent group, or 41 42 4
2 43 43 44 R and R, R and R, and R and R may be bonded to 11 to form a 6-membered ring.

5 また、RおよびR46は、水素原子または1価のノ1(
を表わす。
5 In addition, R and R46 are a hydrogen atom or a monovalent No1 (
represents.

さらに、Mは、遷移金属原子を表わす。Furthermore, M represents a transition metal atom.

、41 R42R43R44R45!l!48 MQ1
4−1)I H)I HH−旧 Q 14−:l’ HHC4H70COHHNlこの他
、特願昭58−151929号に記載したも15) 下
記式で示される化合物 、51 ハ 51 52 53 54 55 ここに、R、R、R、R、R。
, 41 R42R43R44R45! l! 48 MQ1
4-1) I H) I HH-old Q 14-:l' HHC4H70COHHNl In addition, those described in Japanese Patent Application No. 151929/1981 15) Compounds represented by the following formula, 51 Ha51 52 53 54 55 Here , R, R, R, R, R.

56 57 R、R、およびR58は、それぞれ、水素原子または1
価の基を表わすか、 R51とR52、R52とR53、R53とR54,5
55G’ 58 57 RとR、RとRおよびR57とR58はtlHいに結合
して6員環を形成してもよい。
56 57 R, R, and R58 are each a hydrogen atom or 1
R51 and R52, R52 and R53, R53 and R54,5
55G' 58 57 R and R, R and R, and R57 and R58 may be bonded to tlH to form a 6-membered ring.

Xは、ハロゲンを表わす。X represents halogen.

Mは、遷移金属原子を表わす。M represents a transition metal atom.

σ σ この他、特願昭58−153392号に記載したもの。σ σ In addition, those described in Japanese Patent Application No. 58-153392.

18) 下記式で示されるサリチルアルテヒドオキシム
系 、、61 0 ここに、RおよびR61は、アルキル基を表わし、Mは
、Ni 、Co、Cu、Pd。
18) Salicylaltehydoxime system represented by the following formula, 610 where R and R61 represent an alkyl group, and M is Ni, Co, Cu, or Pd.

Pt等の晶移金属原子を表わす。Represents a crystal transition metal atom such as Pt.

u 60 u 8−I M Q l 6−1 1−C3H71−C3H7N iQ 
16−2 (CH) CH(CH2)、、CH3N i
211 3 Q l 6−3 (CH) CH((182)、、C)
I3C。
u 60 u 8-IM Q l 6-1 1-C3H71-C3H7N iQ
16-2 (CH) CH(CH2),,CH3N i
211 3 Q l 6-3 (CH) CH((182),,C)
I3C.

211 3 Q l 6−4 (CH) CH(CH12)、、cH
3C。
211 3 Q l 6-4 (CH) CH(CH12),,cH
3C.

211 3 Ql6−5 C6H5C6H5Nj Q16−8 C6H5Cs H6C。211 3 Ql6-5 C6H5C6H5Nj Q16-8 C6H5Cs H6C.

Ql 6? C6H5C6H5Cu Q16−8 NHCsHh NHO2Hh N1Q16
−9 0HOHNi 17) ド記式で示されるチオヒスフェルレートキレ−
1・系 ここに、Mは前記と同じであり、%5およびR66は、
アルキル基を表わす。 また1Mは一′屯荷をもち、カ
チオン(Cat)とjスジとを形成していてもよい。
Ql 6? C6H5C6H5Cu Q16-8 NHCsHh NHO2Hh N1Q16
-9 0HOHNi 17) Thiohisferrate chelate represented by the formula
1. System where M is the same as above, %5 and R66 are:
Represents an alkyl group. Further, 1M has a 1' charge and may form a cation (Cat) and a j-line.

566 RRM Ca−T Q 17−1 t−CHN i N”H3”(C:4H
8)8 1? Q l 7−2 t−CHCON”H3(C4H8) 
17 Q17−3 t−C’HNi − 17 1B) 下記式で示される亜ホスホン酸キレート系 」2◇72 (R)d ここに、Mは前記と回しであり、u 7 +およびR7
2は、アルキル基、水酸基等の置換基を表わす。
566 RRM Ca-T Q 17-1 t-CHN i N"H3" (C:4H
8) 8 1? Q l 7-2 t-CHCON”H3 (C4H8)
17 Q17-3 t-C'HNi - 17 1B) Phosphonous acid chelate system represented by the following formula 2◇72 (R)d Here, M is the same as above, and u 7 + and R7
2 represents a substituent such as an alkyl group or a hydroxyl group.

172 1−−よRM Q 18−1 3−t−CH、5−t−C4)19.8
−0)I Ni9 tS) 下記各人で示される化合物 787 ここに、R、R、RおよびR84は、水素81 82 
83 1j;(子または1価の基を表わすが、81 82 8
2 83 83 84 RとR、RとR、RとRは、カニい −に結合して、6員環を形成してもよい。
172 1--yo RM Q 18-1 3-t-CH, 5-t-C4) 19.8
-0) I Ni9 tS) Compound 787 represented by each person below, where R, R, R and R84 are hydrogen 81 82
83 1j; (represents a child or a monovalent group, but 81 82 8
2 83 83 84 R and R, R and R, and R and R may be bonded together to form a 6-membered ring.

RおよびR88は、それぞれ、水素原子または5 置換もしくは非置換のアルキル基もしくはアリール基を
表わす。
R and R88 each represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group.

R86は、水素原子、水酸)、(または16換もしくは
非]δ換のアルキル基もしくはアリールノ人を表わす。
R86 represents a hydrogen atom, hydroxyl), (or a 16-substituted or non-[delta]-substituted alkyl group, or an aryl group).

R87は、置換または非置換のアルキル基またはアリー
ル基を表わす。
R87 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group.

Zは、5員または6員の環を形成するのに必要な非金属
b:(子群を表わす。
Z represents a nonmetal b:(child group) necessary to form a 5- or 6-membered ring.

Mは、遷移金属原子を表わす。M represents a transition metal atom.

21 ; ; ; 、l l l 1 t1エエ:  77 =:: 16CI この他、特願昭58−153393号に記載したもの。21 ; ; ; , l l l l 1 t1ee: 77 =:: 16CI In addition, those described in Japanese Patent Application No. 58-153393.

20) 下記式で示される化合物 ここに、R91およびR92は、それぞれ、水素原子、
置換または非置換のアルキル基、アリール基、アシル基
、N−フルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモ
イル基、N−アルキルスルファモイル基、N−アリール
スルファモイル基、アルコキシカルボニル基またはアリ
ーロキシカルボニル基を表わし、 Mは、遷移金属原子を表わす。
20) Compound represented by the following formula, where R91 and R92 are each a hydrogen atom,
Substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, acyl group, N-furkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, alkoxycarbonyl group or aryloxycarbonyl group , M represents a transition metal atom.

R91u 92 M Q20−1 nC4Hg CH3N1 Q20−2 CN3 CH30−φ−N)IcONiこ
の他、特願昭58−155359号に記載したもの。
R91u 92 M Q20-1 nC4Hg CH3N1 Q20-2 CN3 CH30-φ-N) IcONi In addition, those described in Japanese Patent Application No. 155359/1982.

この他、他のクエンチャ−としては、下記のようなもの
がある。
In addition, other quenchers include the following.

l)ベンゾエート系 Q 21−1 既存化学物質3−3040 (チヌビン
−120(チバガイギー社製)〕 2)ヒンダードアミン系 Q22−1 既存化学物質5−3732 (SAN、0
LLS −770(三共製薬社製)〕 これら各クエンチャ−は、色素1モルあたり0.01〜
12モル、特に0.05〜1.2モル程度含有される。
l) Benzoate type Q 21-1 Existing chemical substance 3-3040 (Tinuvin-120 (manufactured by Ciba Geigy)) 2) Hindered amine type Q22-1 Existing chemical substance 5-3732 (SAN, 0
LLS-770 (manufactured by Sankyo Pharmaceutical Co., Ltd.)] Each of these quenchers has a concentration of 0.01 to 1 mole of dye.
It is contained in an amount of about 12 moles, particularly about 0.05 to 1.2 moles.

なお、クエンチャ−の極大吸収波長は、用いる色素の極
大吸収波長以上であることが好ましい。
Note that the maximum absorption wavelength of the quencher is preferably greater than or equal to the maximum absorption wavelength of the dye used.

これにより、再生および劣化はきわめで小さくなる。This makes regeneration and deterioration extremely small.

この場合、両者の差はOか、350nm以下であること
が好ましい。
In this case, the difference between the two is preferably 0 or 350 nm or less.

なお、装置を小型化するためには、書き込みおよび読み
出しの光源として、kfましくは750.780.83
0nmの半導体レーザーあるいは633nmのHe−N
Eレーザー等を用いることが好ましいので、−重ダ1酸
素クエンチャ−の吸収極大波長は680nm以上、特に
680〜1500、より一層好ましくは800〜150
0nmにあることが好ましい。
Note that in order to downsize the device, kf or 750.780.83 is required as a light source for writing and reading.
0nm semiconductor laser or 633nm He-N
Since it is preferable to use an E laser or the like, the maximum absorption wavelength of the heavy D1 oxygen quencher is 680 nm or more, particularly 680 to 1500 nm, and even more preferably 800 to 150 nm.
Preferably, it is 0 nm.

さらに、読み出し光の波長における用いる色素(2種以
上用いるときにはその実効イ+I+)および−改ダ(酸
素クエンチャ−の吸収係数をそれぞれSDおよびεQと
したときεD/εQは3以上であることが好ましい。
Furthermore, it is preferable that εD/εQ is 3 or more when the absorption coefficients of the dye used (when two or more types are used, their effective I+I+) and -modifier (oxygen quencher) are SD and εQ at the wavelength of the readout light. .

なお、色素を2種以上併用して用いることには、色素の
吸収極大波長とSDとは、濃度に応じた相加平均実効値
である。
In addition, when using two or more kinds of dyes in combination, the absorption maximum wavelength and SD of the dyes are arithmetic mean effective values depending on the concentration.

このような値となることにより、読み出し光の照射時の
クエンチャ−の励起がきわめて小さくなり、−重信酸素
による再生劣化はきわめて小さくなる。
With such a value, the excitation of the quencher during irradiation with the readout light becomes extremely small, and the deterioration of reproduction due to Shigenobu oxygen becomes extremely small.

さらに、クエンチャ−は、色素とイオン結合体を形成し
てもよい。
Furthermore, the quencher may form an ionic bond with the dye.

クエンチャ−色素イオン結合体としては、特願昭59−
14848号に記載したものを用いてもよい。
As a quencher-dye ion conjugate, patent application No. 59-
Those described in No. 14848 may also be used.

ただ、より好適に用いることのできるものは、特願昭5
9−18878号、同59−1!11715号に記載し
たシアニン色素カチオンとクエンチャ−アニオンとの結
合体である。
However, what can be used more suitably is the patent application filed in 1973.
It is a conjugate of a cyanine dye cation and a quencher anion described in No. 9-18878 and No. 59-1!11715.

用いるシアニン色素カチオンとしては、上記したものの
カチオン体いずれであってもよい。
The cyanine dye cation used may be any of the cations listed above.

また、クエンチャ−アニオンは、上記3)。The quencher anion is 3) above.

5)、6)、7)、9)、10)、17)のうちのいず
れのアニオン体であってもよい。
It may be any anion form among 5), 6), 7), 9), 10), and 17).

以下にその具体例をあげる。A specific example is given below.

なお、下記において、D+は対応するDのカチオン、ま
た、Q−は対応するクエンチャ−のアニオンである。
In addition, in the following, D+ is the corresponding cation of D, and Q- is the corresponding anion of quencher.

Dl qニー SDI D” I Q”’3−8 SD2 D” I Q−3−15 SD3D+IQ−3−15 SD4 D” 10 Q−3−3 SD5 D” 10 Q−3−15 SD6D”17Q73−8 SD、7D+2IQ−3−8 SDB D十 II Q”’3−8 SD9 D + 8 Q−3−8 5010D” 8 Q−3−2 SDIID+9Q−3−15 S 012 D”、 106 Q”’ 3−15SD1
3D+toQ−3−15 SDI4 0+ 5 Q−3−15 SDI5 D+ 10 Q−3−7 3D16 D” 22 Q−3−15 SD17 D” 105 Q−3−185018D” 
7 Q−3−17 SDIII D” 20 Q−3−[1SD20 D+
 I Q”’3−1 5 D21 D” I Q−3−2 SD22 D+ I Q−3−16 SD23 D ” I Q−3−17 SD24 ’D” 10 Q−3−7 SD25 D” 108 Q−3−8 SD26 D” 108 Q−3−7 3D27 I)+ 108 Q−3−2SD28 D 
” 106 Q−3−18SD29 D” 5 Q−3
−8 SD30D+5Q−3−,2 SD31D”5Q−3−7 SD32 D” 5 Q−3−18 SD34 D” I Q−3−8 SD35 D” I Q−3−3 SD36 D+ 10 Q”’3−1 SD37D+17.Q−17−I Sn2OD” II Q−10−I SD39 D + 2I Q−7−2 SD40 D+ 9 Q−10−1 5D41 D” IQe Q−6−I SD42 D” 5 Q−3−3 SD43 D ◆ 42 Q−3−8 SD44D”109.Q−3−8 SD45D+70Q−3−8 SD4’8 D+ 110 Q−3−8SD47 D+
 70 Q−3−15 3D48 D+ 42 Q−3−17 SD411 D” 43 Q−3−7 SD50 D+ 91 Q−3−8 SD51 D+ 111 Q−3−8 SD52 D+ 112 Q−3−2 SD53 D+ 113 Q−3−8 SD54 D+ 70 Q−2−3 このような吸収特性をもつクエンチャ−は、用いる光源
および色素に応じ、適宜選択して使用される。
Dl q knee SDI D" I Q"'3-8 SD2 D" I Q-3-15 SD3D+IQ-3-15 SD4 D" 10 Q-3-3 SD5 D" 10 Q-3-15 SD6D"17Q73-8 SD, 7D+2IQ-3-8 SDB D 10 II Q"'3-8 SD9 D+8 Q-3-8 5010D" 8 Q-3-2 SDIID+9Q-3-15 S 012 D", 106 Q"' 3- 15SD1
3D+toQ-3-15 SDI4 0+ 5 Q-3-15 SDI5 D+ 10 Q-3-7 3D16 D" 22 Q-3-15 SD17 D" 105 Q-3-185018D"
7 Q-3-17 SDIII D” 20 Q-3-[1SD20 D+
I Q"'3-1 5 D21 D" I Q-3-2 SD22 D+ I Q-3-16 SD23 D "I Q-3-17 SD24 'D" 10 Q-3-7 SD25 D" 108 Q- 3-8 SD26 D” 108 Q-3-7 3D27 I)+ 108 Q-3-2SD28 D
"106 Q-3-18SD29 D" 5 Q-3
-8 SD30D+5Q-3-, 2 SD31D"5Q-3-7 SD32 D" 5 Q-3-18 SD34 D" I Q-3-8 SD35 D" I Q-3-3 SD36 D+ 10 Q"'3- 1 SD37D+17.Q-17-I Sn2OD" II Q-10-I SD39 D + 2I Q-7-2 SD40 D+ 9 Q-10-1 5D41 D" IQe Q-6-I SD42 D" 5 Q-3- 3 SD43 D ◆ 42 Q-3-8 SD44D"109.Q-3-8 SD45D+70Q-3-8 SD4'8 D+ 110 Q-3-8SD47 D+
70 Q-3-15 3D48 D+ 42 Q-3-17 SD411 D” 43 Q-3-7 SD50 D+ 91 Q-3-8 SD51 D+ 111 Q-3-8 SD52 D+ 112 Q-3-2 SD53 D+ 113 Q-3-8 SD54 D+ 70 Q-2-3 A quencher having such absorption characteristics is appropriately selected and used depending on the light source and dye used.

このような記録層を設層するには、一般に常法に従い塗
設すればよい。
In order to form such a recording layer, it is generally necessary to apply it by coating according to a conventional method.

そして、記録層の厚さは、通常、0.03〜2μm程度
とされる。 あるいは色素とクエンチャ−のみで記録層
を形成するときには、蒸着、スパッタリング等によって
もよい。
The thickness of the recording layer is usually about 0.03 to 2 μm. Alternatively, when forming a recording layer using only a dye and a quencher, vapor deposition, sputtering, etc. may be used.

記録層の厚みは、0.04〜0.121Lm、特に0.
05〜0.081Lmであることが好ましい。
The thickness of the recording layer is 0.04 to 0.121 Lm, particularly 0.04 to 0.121 Lm.
It is preferable that it is 05-0.081Lm.

0.04Bm、特に0.031Lm以下では吸収量反射
(6とも小さく書き込み感度、rIj生感度とも太きく
取ることができない。
At 0.04 Bm, especially below 0.031 Lm, the absorption amount and reflection (6) are both small and it is not possible to obtain large write sensitivity and rIj raw sensitivity.

0.12μm以上では、プリグループが埋没してしまい
、トラッキング信号を得ることが困難となる。 また、
ビット形成が容易でなく書き込み感度が低下する。
If it is 0.12 μm or more, the pre-group will be buried, making it difficult to obtain a tracking signal. Also,
It is not easy to form bits, and writing sensitivity decreases.

なお、このような記録層には、この他、他の色素や、他
のポリマーないしオリゴマー、各種u(塑剤、界面活性
剤、帯電防止剤、滑剤、難燃剤、安定剤、分散剤、酸化
防11−剤、そして架橋剤等が含イ〕されていてもよい
In addition, such a recording layer may contain other dyes, other polymers or oligomers, various u (plastics, surfactants, antistatic agents, lubricants, flame retardants, stabilizers, dispersants, oxidants). An inhibitor, a crosslinking agent, etc. may also be included.

このような記録層を設層するには、基体上に、所ル′の
溶媒を用いて塗布、乾燥すればよい。
To form such a recording layer, it may be applied onto the substrate using a certain solvent and dried.

なお、塗布に用いる溶媒としては、例えばメチルエチル
ケトン、メチルイソプナルケトン、シクロヘキサノン等
のケトン系、酢酸ブチル、酢酸エチル、カルピトールア
セテート、ブチルカルピトールアセテート等のエステル
系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のエーテル
系、ないしトルエン、キシレン等の芳香族系、ジクロロ
エタン等のハロゲン化アルキル系、アルコール系などを
用いればよい。
Examples of solvents used for coating include ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isopnal ketone, and cyclohexanone, esters such as butyl acetate, ethyl acetate, carpitol acetate, and butyl carpitol acetate, and ethers such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve. or aromatic systems such as toluene and xylene, halogenated alkyl systems such as dichloroethane, alcohol systems, etc. may be used.

このような記録層を設層する基体は樹脂製である。The substrate on which such a recording layer is provided is made of resin.

樹脂の材質としては、種々のものがu丁能である。Various resin materials are available.

ただ、このような樹脂中、特に上記したような各種塗布
用の溶媒、特にケトン系、エステル系、ハロゲン化アル
キル等におかされやすく、本発明の下地層による効果が
特に大きいのは、アクリル樹脂またはポリカーボネート
4M脂である。
However, among such resins, acrylic resins are particularly susceptible to the various coating solvents mentioned above, especially ketones, esters, alkyl halides, etc., and the effect of the base layer of the present invention is particularly large. Or polycarbonate 4M resin.

そして、これらでは、書き込みおよび読み出し光に対し
、実質的に透明であるので、書き込みおよび読み出しを
基体裏面側から行うことができ、感度、S/N比等の点
で有利であり、またホコリ対策等の実装上の点でも有利
である。
Since these are substantially transparent to writing and reading light, writing and reading can be performed from the back side of the substrate, which is advantageous in terms of sensitivity, S/N ratio, etc., and is also effective against dust. It is also advantageous in terms of implementation.

さらに、成形性も良好であるので、トラッキング用の溝
の形成も容易である。
Furthermore, since the moldability is good, it is easy to form tracking grooves.

アクリル樹脂としては、ポリメチルメタクリレート等、
炭素原子数1〜8の鎖状ないし環状のアルキルノ五をも
つメタクリル酸エステルを三l:体とするコポリマーな
いしホモポリマーが好ましい。
Acrylic resins include polymethyl methacrylate, etc.
Preferably, a copolymer or homopolymer of a methacrylic acid ester having a chain or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is used.

また、ポリカーボネ−1・樹脂としては、ビスフェノー
ルAタイプが好ましい。
Furthermore, as the polycarbonate-1 resin, bisphenol A type is preferred.

そして、これらアクリル樹脂またはポリカーボネート樹
脂は、射出成形によっ・て形成されたものであるとき、
本発明の下地層の効果はより大きなものとなる。
When these acrylic resins or polycarbonate resins are formed by injection molding,
The effect of the base layer of the present invention is even greater.

なお、これらアクリル樹脂またはポリカーボネート樹脂
の数平均重合度は、800〜6000程度であることが
好ましい。
In addition, it is preferable that the number average degree of polymerization of these acrylic resins or polycarbonate resins is about 800 to 6,000.

また、基体の記録層側表面には、トラ・ンキング用の満
を形成しておくことが好ましい。
Further, it is preferable to form a hole for tracking on the surface of the substrate on the recording layer side.

下地層はケイ素系縮合物のコロイド粒子分散液の4膜か
らなる。
The base layer consists of four films of a colloidal particle dispersion of a silicon-based condensate.

ケイ素系縮合物のコロイド粒子は、ハロケン化ケイ素、
特に四塩化ケイ素、ないしアルキルケイ酸、特に四低級
アルキル(メチル、エチル)ケイ酸の加水分解縮合物が
好適である。
Colloidal particles of silicon-based condensate include silicon halide,
Particularly suitable are silicon tetrachloride or a hydrolyzed condensate of alkyl silicic acid, particularly tetralower alkyl (methyl, ethyl) silicic acid.

そして、コロイド粒子径は、30〜100人、特に50
〜80人程度とされる。
And the colloid particle size is 30 to 100, especially 50
It is said to be around 80 people.

また、分a奴としては、アルコール、特に1個の脂肪族
アルコール、あるいは酢酸アルキル、あるいはこれらと
芳香族炭化水素との混合溶媒等が用いられる。
Moreover, alcohol, especially one aliphatic alcohol, alkyl acetate, or a mixed solvent of these and an aromatic hydrocarbon can be used as the solvent.

また、加水分解のためには、必要に応し鉱酸か添加され
る。
For hydrolysis, mineral acid is added as necessary.

そして、必要に応しエチレングリコール等の安定剤や界
面活性剤等が添加される。
Then, a stabilizer such as ethylene glycol, a surfactant, etc. are added as necessary.

このようなコロイド粒子分散液の1例としては、特公昭
31−6533号に記載された四塩化ケイ素(Si0文
4)と1価の脂肪族アルコールとを酢酸アルキルエステ
ル中に溶解させたものがある・ そして、この塗膜から
なる下地層が形成され、この下地層上に記録層が塗設さ
れる、 また、特公昭3B−4740号に記載された四アルキル
ケイ酸と1価の脂肪族アルコール、酢酸アルキルおよび
鉱酸よりなる溶液に、1〜20wt%のエチレングリコ
ールを添加したものでもよい。
An example of such a colloidal particle dispersion is one in which silicon tetrachloride (Si0 Bun 4) and a monohydric aliphatic alcohol are dissolved in acetic acid alkyl ester, which is described in Japanese Patent Publication No. 31-6533. Then, a base layer consisting of this coating film is formed, and a recording layer is coated on this base layer. A solution containing alcohol, alkyl acetate, and a mineral acid with 1 to 20 wt% of ethylene glycol added thereto may also be used.

さらには、特公昭45−35435号に記載された四低
級アルキルケイ酸のアルコール溶液でもよい。
Furthermore, an alcohol solution of tetra-lower alkyl silicic acid described in Japanese Patent Publication No. 45-35435 may also be used.

このような場合、使用する1価の脂肪族アルコールとし
ては、メチルアルコール、エチルアルコール、変成アル
コール、インプロヒルアルコール、ブチルアルコールあ
るいはそれらの程合物、 酢酸アルキルとしては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
アミル、酢酸ブチルあるいはこれらの混合物を用い、 鉱酸としては塩酸、硫酸等で、を通工業的に用いられて
いるものを用いればよい。
In such cases, monohydric aliphatic alcohols to be used include methyl alcohol, ethyl alcohol, denatured alcohol, improlyl alcohol, butyl alcohol, or their mixtures, and alkyl acetates include methyl acetate, ethyl acetate, and acetic acid. Amyl, butyl acetate, or a mixture thereof may be used, and as the mineral acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc., which are used industrially, may be used.

なお、これらの分散液の塗布は、常法に従い、スピンナ
ーコート等の塗布にすればよい。
Incidentally, these dispersions may be applied by spinner coating or the like according to a conventional method.

そして、乾燥は、40〜80°Cにて、20分〜2時間
程度行えばよい。
Then, drying may be performed at 40 to 80°C for about 20 minutes to 2 hours.

このようにして形成される塗膜は、酸化ケイ朱塗11り
である。
The coating film thus formed is a red silicon oxide coating 11.

ド地層の厚さは、0.005〜0.05Km程亀とする
。 特に好ましくは、0.08〜0.012終m程瓜の
厚さとする。
The thickness of the stratum is approximately 0.005 to 0.05 km. Particularly preferably, the thickness of the melon is about 0.08 to 0.012 m.

ド地層が、0.051Lmをこえると、プリクループが
埋没してしまいトラッキング信号が得られない。
If the depth of the stratum exceeds 0.051 Lm, the precloop will be buried and no tracking signal will be obtained.

このような下地層上には、通常、直接記録層が設層され
るも−のであるが、必要に応じ、場合によっては、下地
層と記録層との間に、他の中間層を設層することもでき
る。
Normally, a recording layer is directly formed on such an underlayer, but if necessary, in some cases, another intermediate layer may be formed between the underlayer and the recording layer. You can also.

また、記録層上には、必要に応し、透明基体を用いると
きに、裏面として機能する各、111I最上層保護層、
ハーフミラ一層などを設けることもできる。
In addition, on the recording layer, if necessary, each 111I uppermost protective layer, which functions as a back surface when using a transparent substrate,
It is also possible to provide a single layer of half-mirror.

ただし、反射層は積層しないことがtlfましい。However, it is preferable not to stack the reflective layer.

本発明の媒体は、このような基体の一面上に、下地層を
介して上記の記録層を有するもの層が向いあうようにし
て、所定の間隔をもって対向させ、それを密閉したりし
てホコリやキズがつかないようにすることもできる。
The medium of the present invention is prepared by placing the layers having the above-mentioned recording layer on one surface of such a substrate so as to face each other with a predetermined distance between them, and sealing the substrate to prevent dust. It can also be used to prevent scratches.

■ 発明の具体的作用 本発明は、走行ないし回転下において、記録光をパルス
状に照射する。
(2) Specific Effects of the Invention The present invention irradiates recording light in a pulsed manner while traveling or rotating.

このとき、記録層中の色素の発熱により、自己酸【ヒ性
の樹脂が分解するか、あるいは熱可塑性樹脂や色素が融
解し、ピットが形成される。
At this time, due to the heat generated by the dye in the recording layer, the self-acidic resin decomposes or the thermoplastic resin and the dye melt, forming pits.

この場合、書き込みは気体裏面側から行うことが好まし
い。
In this case, writing is preferably performed from the gas back side.

特に、トリないしテトラカルボシアニン色素を用いると
きには、750.780.830n+*波長の記録半導
体レーザーダイオードなどを用いたとき、きわめて良好
な書き込みを行うことができる。
In particular, when a tri- or tetracarbocyanine dye is used, extremely good writing can be achieved when a recording semiconductor laser diode with a wavelength of 750.780.830 n++ is used.

また、フタロシアニン色素を用いるときには、730〜
760nm、波長の記録半導体レーザーダイオードなど
を用いたときに、非常に良好な書き込みを行うことがで
きる。
In addition, when using phthalocyanine dye, 730~
When using a recording semiconductor laser diode with a wavelength of 760 nm, very good writing can be performed.

このようにして形成されたピットは、やはり媒体の走行
ないし回転下、上記の波長の読み出し光の反射光ないし
透過光、特に反射光を検出することにより読み出される
The pits thus formed are read out by detecting reflected or transmitted light, especially reflected light, of the readout light of the above wavelength while the medium is running or rotating.

この場合、読み出し光は、やはり基体裏面側から照射し
て、その反射光を検知するようにすることが好ましい。
In this case, it is preferable that the readout light is irradiated from the back side of the substrate and the reflected light is detected.

なお、記録層に熱可塑性樹脂を用いるときに □は、一
旦記録層に形成したピットを光ないし熱で消去し、再書
き込みを行うこともできる。
Note that when a thermoplastic resin is used for the recording layer, the pits once formed in the recording layer can be erased with light or heat and then rewritten.

また、記録ないし読み出し光としては、He−Neレー
ザー等を用いることもできる。
Furthermore, a He--Ne laser or the like can also be used as the recording or reading light.

■ 発明の具体的効果 本発明の下地層を、基体、記録層間に形成すれば、記録
層の塗布用溶奴による樹脂製基体の劣化がきわめて小さ
くなるので、記録層の反射率の低下が少なく、読み出し
のS/N比が格段と向上する。
■Specific Effects of the Invention If the underlayer of the present invention is formed between the substrate and the recording layer, the deterioration of the resin substrate caused by the melt for coating the recording layer will be extremely small, so the decrease in reflectance of the recording layer will be minimal. , the read S/N ratio is significantly improved.

また、保存による反射率の経時劣化もない。Furthermore, there is no deterioration in reflectance over time due to storage.

この場合、他の下地層あるいは溶液塗膜ないし蒸着膜か
らなる酸化ケイ素系下地層を設ける場合と比較して、こ
のような効果はきわめて高いものとなる。
In this case, such effects are extremely high compared to the case where another base layer or a silicon oxide base layer made of a solution coating film or a vapor deposited film is provided.

本発明者らは、本発明の効果を確認するため種々の実験
を行った。
The present inventors conducted various experiments to confirm the effects of the present invention.

以下にその1例を示す。An example is shown below.

実験例1 下記表1に示される色素(D)と、樹脂(R)と、クエ
ンチャ−(Q)、クエンチャ−色素結合体とを用い、表
1に示される量比にて、所定の溶媒中に溶解し、直径3
0c+sのアクリルディスク基体(MFI=2のポリメ
チルメタクリレート)上に0.07gmの厚さに塗布設
層して記録層とし、各種媒体をえた。
Experimental Example 1 A dye (D), a resin (R), a quencher (Q), and a quencher-dye conjugate shown in Table 1 below were used in a predetermined solvent at the quantitative ratio shown in Table 1. Dissolved in diameter 3
A recording layer of 0.07 gm was formed on a 0c+s acrylic disk substrate (polymethyl methacrylate of MFI=2) to obtain various media.

この場合、本発明の媒体では、記録層と基体間に下地層
を介在させた。
In this case, in the medium of the present invention, an underlayer was interposed between the recording layer and the substrate.

下地層は、酢酸エチルとエチルアルコールを10:11
の割合で混合し、撹拌しながら徐々に5t(OC2H5
)4を酢酸エチルに対し2/25の割合で添加後、3〜
4日間放置した溶液をn−プロパツールでさらに10倍
希釈した後、基体上に塗布設層、60℃、30分処理し
て形成した。
For the base layer, mix ethyl acetate and ethyl alcohol in a ratio of 10:11.
While stirring, gradually add 5t (OC2H5
) After adding 4 to ethyl acetate at a ratio of 2/25, 3 to
The solution left for 4 days was further diluted 10 times with n-propertool, and then a coating layer was formed on the substrate by processing at 60° C. for 30 minutes.

この場合、酸化ケイ素コロイドの粒径は50〜80人で
あった。
In this case, the particle size of the silicon oxide colloid was 50-80.

下地層の膜厚は、本発明として約o、08JLm、0.
03gmを用い、比較のために下地層なしの場合とごく
薄い0.005の厚みの下地層を用いた。 さらに比較
のため、テトラエトキシシランのプロパツール溶液を塗
布し。
The film thickness of the base layer is approximately 0.08 JLm, 0.08 JLm in the present invention.
For comparison, a case without an underlayer and a very thin underlayer with a thickness of 0.005 mm were used. For further comparison, a propatool solution of tetraethoxysilane was applied.

0.01ルmの下地層を形成したサンプルを得た。A sample was obtained in which a base layer of 0.01 μm was formed.

なお、表1において、N、Cは窒素含量11.5〜12
.2%、JIS K6703にもとすく粘度20秒のニ
トロセルロースである。
In addition, in Table 1, N and C have a nitrogen content of 11.5 to 12
.. 2%, nitrocellulose with a viscosity of 20 seconds according to JIS K6703.

以上の試料を用いて、C/N比を1111定した。Using the above samples, the C/N ratio was determined to be 1111.

結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

表1に示される結果から1本発明の効果があきらかであ
る。
From the results shown in Table 1, the effects of the present invention are clear.

出願人 ティーディーケイ株式会社 代理人 弁理士 石 井 陽 − 第1頁の続き O発明者 高橋 −夫 [相]発明者黒岩 願意 東京都中央区日本橋1丁目1旙1号 ティーディーケイ
株式会社内 東京都中央区日本橋1丁目1旙1号 ティーディーケイ
株式会社内
Applicant TDC Co., Ltd. Agent Patent Attorney Akira Ishii - Continued from page 1 O Inventor Takahashi - Husband [Partner] Inventor Kuroiwa Request 1-1, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo Inside TDC Co., Ltd. TDC Co., Ltd., 1-1, 1-1, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1) 樹脂製の基体上に、ケイ素系縮合物のコロイド
粒子分散液の塗膜からなる下地層を有し、この下地層上
に、色素または色素組成物からなる記録層を有すること
を特徴とする光記録媒体。 (2)基体が書き込み光および読み出し光に対し、実質
的に透明である特許請求の範囲第1項に記載の光記録媒
体。 (3) 基体がアクリル樹脂またはポリカーボネート樹
脂である特許請求の範囲第1項または第2項に記載の光
記録媒体。 (4) コロイド粒子分散液の分散媒が、アルコールも
しくは酢酸アルキル、またはその混合溶媒である特許請
求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記載の光記録
媒体。 (5) ケイ素系縮合物がハロゲン化ケイ素またはアル
キルケイ酎の加水分解物である特許請求の範囲第1項な
いし第4項のいずれかに記載の光記録媒体。 (6) コロイド粒子径が30〜100人である4、¥
詐請求の範囲第1項ないし第5項のいずれかに記載の光
記録媒体。 (7) 下地層の厚さが50〜500人である特許請求
の範囲第1項ないし第6項のいずれかに記載の光記録媒
体。 (8) 記録層が色素組成物からなり、色素組成物が、
色素と樹脂とを含む特許請求の範囲第1項ないし7項の
いずれかに記載の光記録媒体。 (9) 記録層が色素組成物からなり、色素組成物が、
色素とクエンチャ−とを含む特許請求の範囲MS1項な
いし第8項のいずれかに記載の光記録媒体。 (lO) 色素がシアニン色素またはフタロシアニン色
素である特許請求の範囲第1項ないし9項のいずれかに
記載の光記録媒体。 (11) クエンチャ−が色素とイオン結合体を構成し
ている特許請求の範囲第1項ないし第1O項のいずれか
に記載の光記録媒体。 (12) 基体裏面側から8き込みおよび読み出しを行
う特許請求の範囲第1ダ1ないし第11項のいずれかに
記載の光記録媒体。 (13) 記録層に反射層か積層されていない特許請求
の範囲第1項ないし第12項のいずれかに記載の光記録
媒体。
[Scope of Claims] (1) A base layer made of a coating film of a colloidal particle dispersion of a silicon-based condensate is provided on a resin substrate, and a record made of a pigment or a pigment composition is provided on the base layer. An optical recording medium characterized by having a layer. (2) The optical recording medium according to claim 1, wherein the substrate is substantially transparent to writing light and reading light. (3) The optical recording medium according to claim 1 or 2, wherein the substrate is made of acrylic resin or polycarbonate resin. (4) The optical recording medium according to any one of claims 1 to 3, wherein the dispersion medium of the colloidal particle dispersion is alcohol, alkyl acetate, or a mixed solvent thereof. (5) The optical recording medium according to any one of claims 1 to 4, wherein the silicon-based condensate is a hydrolyzate of silicon halide or alkyl silicone distillate. (6) Colloid particle size is 30 to 100 4, ¥
An optical recording medium according to any one of claims 1 to 5. (7) The optical recording medium according to any one of claims 1 to 6, wherein the underlayer has a thickness of 50 to 500 layers. (8) The recording layer is made of a dye composition, and the dye composition is
The optical recording medium according to any one of claims 1 to 7, containing a dye and a resin. (9) The recording layer is made of a dye composition, and the dye composition is
An optical recording medium according to any one of claims 1 to 8, which contains a dye and a quencher. The optical recording medium according to any one of claims 1 to 9, wherein the (IO) dye is a cyanine dye or a phthalocyanine dye. (11) The optical recording medium according to any one of claims 1 to 10, wherein the quencher forms an ionic bond with the dye. (12) The optical recording medium according to any one of claims 1 to 11, in which recording and reading are performed from the back side of the substrate. (13) The optical recording medium according to any one of claims 1 to 12, in which the recording layer is not laminated with a reflective layer.
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