JP2523448B2 - Optical recording medium and optical recording method - Google Patents

Optical recording medium and optical recording method

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JP2523448B2
JP2523448B2 JP6282499A JP28249994A JP2523448B2 JP 2523448 B2 JP2523448 B2 JP 2523448B2 JP 6282499 A JP6282499 A JP 6282499A JP 28249994 A JP28249994 A JP 28249994A JP 2523448 B2 JP2523448 B2 JP 2523448B2
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optical recording
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利樹 青井
一夫 高橋
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光記録媒体、特にヒー
トモードの光記録媒体および光記録方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium, particularly a heat mode optical recording medium and an optical recording method.

【0002】[0002]

【従来の技術】光記録媒体は、媒体と書き込みないし読
み出しヘッドが非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化
しないという特徴をもち、このため、種々の光記録媒体
の開発研究が行われている。
2. Description of the Related Art An optical recording medium has a characteristic that the recording medium does not wear and deteriorate because the writing and reading heads are not in contact with the medium. Therefore, various optical recording media have been researched and developed. .

【0003】このような光記録媒体のうち、暗室による
現像処理が不要である等の点で、ヒートモード光記録媒
体の開発が活発になっている。
Among such optical recording media, development of a heat mode optical recording medium has been active in that development processing in a dark room is unnecessary.

【0004】このヒートモードの光記録媒体は、記録光
を熱として利用する光記録媒体であり、その1例とし
て、レーザー等の記録光で媒体の一部を融解、除去等し
て、ピットと称される小穴を形成して書き込みを行い、
このピットにより情報を記録し、このピットを読み出し
光で検出して読み出しを行うピット形成タイプのものが
ある。
This heat mode optical recording medium is an optical recording medium that uses recording light as heat. As an example, a recording light such as a laser melts and removes a part of the medium to form pits. Write a small hole called
There is a pit formation type in which information is recorded by the pits, and the pits are detected by the reading light to perform reading.

【0005】このようなピット形成タイプの媒体、特に
そのうち、装置を小型化できる半導体レーザーを光源と
するものにおいては、これまで、Teを主体とする材料
を記録層とするものが大半をしめている。
Most of the pit-forming media, especially those having a semiconductor laser as a light source, which can miniaturize the device, have a recording layer mainly made of Te. .

【0006】しかし、近年、Te系材料が有害であるこ
と、そしてより高感度化する必要があること、より製造
コストを安価にする必要があることから、Te系にか
え、色素を主とした有機材料系の記録層を用いる媒体に
ついての提案や報告が増加している。
However, in recent years, Te-based materials are harmful, need to be more sensitive, and manufacturing cost must be reduced. Therefore, instead of Te-based materials, dyes have been mainly used. Proposals and reports on media using organic material-based recording layers are increasing.

【0007】例えば、He−Neレーザー用としては、
スクワリリウム色素〔特開昭56-46221号 V.B. Jipson a
nd C.R.Jones, J.Vac.Sci.Technol., 18(1)105(1981)〕
や、金属フタロシアニン色素(特開昭57-82094号、同57
-82095号)などを用いるものがある。
For example, for a He-Ne laser,
Squarylium dye [JP-A-56-46221 VB Jipson a
nd CRJones, J.Vac.Sci.Technol., 18 (1) 105 (1981))
And metal phthalocyanine dyes (JP-A-57-82094, 57
-82095) and some use.

【0008】また、金属フタロシアニン色素を半導体レ
ーザー用として使用した例(特開昭56-86795号)もあ
る。
There is also an example (JP-A-56-86795) in which a metal phthalocyanine dye is used for a semiconductor laser.

【0009】これらは、いずれも色素を蒸着により記録
層薄膜としたものであり、媒体製造上、Te系と大差は
ない。
Each of these is a recording layer thin film formed by vapor deposition of a dye, and is not much different from the Te system in terms of manufacturing a medium.

【0010】しかし、色素蒸着膜のレーザーに対する反
射率は一般に小さく、反射光量のピットによる変化(減
少)によって読み出し信号をうる、現在行われている通
常の方式では、大きなS/N比をうることができない。
However, the reflectance of the dye vapor deposition film with respect to the laser is generally small, and a read signal can be obtained by a change (decrease) in the amount of reflected light due to pits, and a large S / N ratio can be obtained in the ordinary system currently used. I can't.

【0011】また、記録層を担持した透明基体を、記録
層が対向するようにして一体化した、いわゆるエアーサ
ンドイッチ構造の媒体とし、基体をとおして書き込みお
よび読み出しを行うと、書き込み感度を下げずに記録層
の保護ができ、かつ記録密度も大きくなる点で有利であ
るが、このような記録再生方式も、色素蒸着膜では不可
能である。
When a transparent substrate carrying a recording layer is integrated so that the recording layers face each other, that is, a medium having a so-called air sandwich structure, and writing and reading are performed through the substrate, the writing sensitivity is not lowered. Further, it is advantageous in that the recording layer can be protected and the recording density is increased, but such a recording / reproducing system is not possible with the dye vapor deposition film.

【0012】これは、通常の透明樹脂製基体では、屈折
率がある程度の値をもち(ポリメチルメタクリレートで
1.5)、また、表面反射率がある程度大きく(同4
%)、記録層の基体をとおしての反射率が、例えばポリ
メチルメタクリレートでは60%程度以下になるため、
低い反射率しか示さない記録層では検出できないからで
ある。
This is because the ordinary transparent resin substrate has a certain degree of refractive index (1.5 for polymethylmethacrylate) and a large surface reflectance (see 4).
%), Since the reflectance of the recording layer through the substrate is, for example, about 60% or less for polymethylmethacrylate,
This is because it cannot be detected in the recording layer showing only a low reflectance.

【0013】色素蒸着膜からなる記録層の、読み出しの
S/N比を向上させるためには、通常、基体と記録層と
の間に、Al 等の蒸着反射膜を介在させている。
In order to improve the read S / N ratio of the recording layer composed of the dye vapor deposition film, a vapor deposition reflective film such as Al is usually interposed between the substrate and the recording layer.

【0014】この場合、蒸着反射膜は、反射率を上げて
S/N比を向上させるためのものであり、ピット形成に
より反射膜が露出して反射率が増大したり、あるいは場
合によっては、反射膜を除去して反射率を減少させるも
のであるが、当然のことながら、基体をとおしての記録
再生はできない。
In this case, the vapor-deposited reflection film is for increasing the reflectance to improve the S / N ratio, and the reflection film is exposed by the formation of pits to increase the reflectance, or in some cases, Although the reflective film is removed to reduce the reflectance, it goes without saying that recording / reproduction cannot be performed through the substrate.

【0015】同様に、特開昭 55-161690号には、IR-1
32色素(コダック社製)とポリ酢酸ビニルとからなる記
録層、また、特開昭57-74845号には、1,1´−ジエチル-
2,2´−トリカルボシアニンイオダイドとニトロセルロ
ースとからなる記録層、さらには K.Y.Law, et al., Ap
pl. Phys. Lett. 39(9)718(1981)には、 3,3´−ジエチ
ル-12-アセチルチアテトラカルボシアニンとポリ酢酸ビ
ニルとからなる記録層など、色素と樹脂とからなる記録
層を塗布法によって設層した媒体が開示されている。
Similarly, in JP-A-55-161690, IR-1
A recording layer comprising 32 dyes (manufactured by Kodak Co.) and polyvinyl acetate, and 1,1′-diethyl-containing dye in JP-A-57-74845.
Recording layer composed of 2,2'-tricarbocyanine iodide and nitrocellulose, and further KYLaw, et al., Ap
pl. Phys. Lett. 39 (9) 718 (1981), a recording layer composed of a dye and a resin, such as a recording layer composed of 3,3'-diethyl-12-acetylthiatetracarbocyanine and polyvinyl acetate. There is disclosed a medium in which is coated by a coating method.

【0016】しかし、これらの場合にも、基体と記録層
との間に反射膜を必要としており、基体裏面側からの記
録再生ができない点で、色素蒸着膜の場合と同様の欠点
をもつ。
However, in these cases as well, a reflective film is required between the substrate and the recording layer, and recording and reproduction cannot be performed from the back surface side of the substrate, which has the same drawbacks as in the case of the dye vapor deposition film.

【0017】このように、基体をとおしての記録再生が
可能であり、Te系材料からなる記録層をもつ媒体との
互換性を有する、有機材料系の記録層をもつ媒体を実現
するには、有機材料自身が大きな反射率を示す必要があ
る。
As described above, in order to realize a medium having a recording layer of an organic material, which is capable of recording / reproducing through a substrate and is compatible with a medium having a recording layer of a Te-based material. However, the organic material itself needs to exhibit a large reflectance.

【0018】しかし、従来、反射層を積層せずに、有機
材料の単層にて高い反射率を示す例はきわめて少ない。
However, heretofore, very few examples have shown a high reflectance with a single layer of an organic material without laminating a reflection layer.

【0019】わずかに、バナジルフタロシアニンの蒸着
膜が高反射率を示す旨が報告〔P.Kivits, et al.,Appl.
Phys.Part A26(2)101(1981) 、特開昭55-97033号〕され
ているが、おそらく昇華温度が高いためであろうと思わ
れるが、書き込み感度が低い。
Slightly, it was reported that the vapor-deposited film of vanadyl phthalocyanine exhibits high reflectance [P.Kivits, et al., Appl.
Phys. Part A 26 (2) 101 (1981), JP-A-55-97033], the writing sensitivity is low, probably because the sublimation temperature is high.

【0020】また、チアゾール系やキノリン系等のシア
ニン色素やメロシアニン色素が報告〔山本他、第27回
応用物理学会予稿集1p-P-9(1980)〕されており、これに
もとづく提案が特開昭 58-112790号になされているが、
これら色素は、特に塗膜として設層したときに、溶剤に
対する溶解度が小さく、また結晶化しやすく、さらには
読み出し光に対してきわめて不安定でただちに脱色して
しまい、実用に供しえない。
Further, thiazole-based and quinoline-based cyanine dyes and merocyanine dyes have been reported [Yamamoto et al., 27th
Proceedings of the Japan Society of Applied Physics 1p-P-9 (1980)], and a proposal based on this has been made in JP-A-58-112790.
These dyes have a low solubility in a solvent, are easily crystallized, and are extremely unstable with respect to a reading light and are immediately decolorized, and thus cannot be put to practical use, especially when formed as a coating film.

【0021】このような実状に鑑み、本発明者らは、先
に、溶剤に対する溶解度が高く、結晶化も少なく、かつ
熱的に安定であって、塗膜の反射率が高いインドレニン
系のシアニン色素を単層膜として用いる旨を提案してい
る(特願昭57-134397 号、同57-134170 号) 。
In view of such circumstances, the inventors of the present invention previously found that an indolenine-based resin having high solubility in a solvent, low crystallization, thermal stability, and high reflectance of a coating film. It has been proposed to use a cyanine dye as a single layer film (Japanese Patent Application Nos. 57-134397 and 57-134170).

【0022】また、インドレニン系、あるいはチアゾー
ル系、キノリン系、セレナゾール系等の他のシアニン色
素においても、長鎖アルキル基を分子中に導入して、溶
解性の改善と結晶化の防止がはかられることを提案して
いる(特願昭57-182589 号、同57-177776 号等)。
Further, in other cyanine dyes such as indolenine type, thiazole type, quinoline type and selenazole type, a long chain alkyl group is introduced into the molecule to improve solubility and prevent crystallization. It is proposed to get rid of it (Japanese Patent Application No. 57-182589, No. 57-177776, etc.).

【0023】さらに、光安定性をまし、特に読み出し光
による脱色(再生劣化)を防止するために、シアニン色
素に遷移金属化合物クエンチャーを添加する旨の提案を
行っている(特願昭57-166832 号、同57-168048 号
等)。
Further, in order to improve photostability, and particularly to prevent decolorization (reproduction deterioration) due to reading light, it has been proposed to add a transition metal compound quencher to a cyanine dye (Japanese Patent Application No. 57- 166832, 57-168048, etc.).

【0024】さらには、色素とクエンチャーとのイオン
結合体を形成し、これにより再生劣化をより減少し、か
つ安定性を高める旨の提案も行っている(特願昭59-148
48号, 同59-18878号, 同59-19715号)。
Further, it has been proposed to form an ionic bond between a dye and a quencher, thereby further reducing regeneration deterioration and improving stability (Japanese Patent Application No. 59-148).
48, 59-18878, 59-19715).

【0025】ところで、色素または色素組成物からなる
光記録膜は光照射と同時にピットが形成されてしまい、
その後の照射光は最もエネルギーの集中している中央部
で吸収されなくなる。
By the way, in the optical recording film made of the dye or the dye composition, pits are formed at the same time as the light irradiation,
The irradiation light after that is not absorbed in the central part where the energy is most concentrated.

【0026】従って、エネルギーの利用効率が低く感度
がある値以上に向上しない原因となっている。
Therefore, the energy utilization efficiency is low, and the sensitivity is not improved beyond a certain value.

【0027】そこで、本発明者らは、先に、ケイ素系縮
合物のコロイド粒子分散液塗膜などの高融点の膜を表面
層として設層して、一定時間の照射光に対してピットを
形成しないようにし、十分な温度にまで上昇するのを待
って、一気にピット形成をおこさせ、感度を向上させる
旨を提供している(特願昭59-62386号等)。
Therefore, the present inventors previously formed a high melting point film, such as a colloidal particle dispersion liquid coating film of a silicon-based condensate, as a surface layer to form a pit for irradiation light for a certain period of time. It provides that the pits are formed at a stretch by waiting for the temperature to rise to a sufficient temperature without forming the pits to improve the sensitivity (Japanese Patent Application No. 59-62386, etc.).

【0028】しかし、このような場合、一気にピット形
成がおこる結果、感度は向上するが、同時に表面層が破
砕して飛散り、これが他のトラックに飛散してS/N比
を低下させたり、エラーレートを大きくしたりする不都
合が生じる場合があることが判明した。
However, in such a case, the pits are formed all at once, so that the sensitivity is improved, but at the same time, the surface layer is crushed and scattered, which scatters on other tracks and reduces the S / N ratio. It has been found that there may be inconveniences such as increasing the error rate.

【0029】[0029]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、色素
または色素組成物からなる記録層を有する光記録媒体に
おいて、その表面層を改良して、感度が高く、しかもS
/N比が高く、かつエラーレートの少ないものにするこ
とにある。
DISCLOSURE OF THE INVENTION An object of the present invention is to improve the surface layer of an optical recording medium having a recording layer composed of a dye or a dye composition so that the sensitivity is high and the S
It is to make the / N ratio high and the error rate small.

【0030】[0030]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)、(2)の本発明により達成される。 (1)基体上に、色素カチオンとクエンチャーアニオン
との結合体を光吸収色素として含む記録層を有し、この
記録層上に表面層を有する光記録媒体において、表面層
が、記録層より高融点の無機膜の第1表面層と、この第
1表面層上に積層した高分子膜とを有することを特徴と
する光記録媒体。 (2)基体上に、色素カチオンとクエンチャーアニオン
との結合体を光吸収色素として含む記録層を有し、この
記録層上に表面層を有する光記録媒体にレーザー光を照
射して光記録を行うに際し、前記表面層として、記録層
より高融点の無機膜の第1表面層と、この第1表面層上
に積層した高分子膜とを設け、前記第1表面層により十
分なエネルギーを吸収できるまで記録層への記録が行わ
れないようにして感度を向上させるとともに、前記高分
子膜により記録時の破砕片の飛び散りを防止する光記録
方法。
The above object is achieved by the present invention described in (1) and (2) below. (1) In an optical recording medium having a recording layer containing a combination of a dye cation and a quencher anion as a light absorbing dye on a substrate, and having a surface layer on the recording layer, the surface layer is more than the recording layer. An optical recording medium comprising a first surface layer of an inorganic film having a high melting point and a polymer film laminated on the first surface layer. (2) Optical recording is performed by irradiating an optical recording medium having a recording layer containing a combination of a dye cation and a quencher anion as a light absorbing dye on a substrate and having a surface layer on the recording layer with laser light. In carrying out the above, as the surface layer, a first surface layer of an inorganic film having a melting point higher than that of the recording layer and a polymer film laminated on the first surface layer are provided, and sufficient energy is applied to the first surface layer. An optical recording method for improving sensitivity by preventing recording on a recording layer until absorption, and for preventing scattering of crushed pieces during recording by the polymer film.

【0031】[0031]

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。
Specific Structure The specific structure of the present invention will be described in detail below.

【0032】本発明の光記録媒体の記録層中には光吸収
色素として色素とクエンチャーとのイオン結合体が含有
される。
The recording layer of the optical recording medium of the present invention contains an ionic bond of a dye and a quencher as a light absorbing dye.

【0033】色素−クエンチャーイオン結合体として
は、特願昭59−14848号に記載したものを用いて
もよい。
As the dye-quencher ion bond, those described in Japanese Patent Application No. 59-14848 may be used.

【0034】ただ、より好適に用いることのできるの
は、特願昭59−18878号、同59−19715号
に記載したシアニン色素カチオンとクエンチャーアニオ
ンとの結合体である。
However, more preferably used are the conjugates of the cyanine dye cation and the quencher anion described in Japanese Patent Application Nos. 59-18878 and 59-19715.

【0035】このような結合体としては、下記式〔I〕
で示されるものが好ましい。
Such a conjugate has the following formula [I]:
Are preferred.

【0036】式〔I〕 Φ−L=Ψ (Q-m 上記式〔I〕において、ΨおよびΦは、芳香族環、例え
ばベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環等が縮
合してもよいインドール環、チアゾール環、オキサゾー
ル環、セレナゾール環、イミダゾール環、ピリジン環等
を表わす。
Formula [I] Φ-L = Ψ (Q ) m In the above formula [I], Ψ and Φ are indoles to which an aromatic ring such as a benzene ring, a naphthalene ring or a phenanthrene ring may be condensed. And ring, thiazole ring, oxazole ring, selenazole ring, imidazole ring, pyridine ring and the like.

【0037】これらΦおよびΨは、同一でも異なってい
てもよいが、通常は同一のものであり、これらの環に
は、種々の置換基が結合していてもよい。なお、Φは、
環中の窒素原子が+電荷をもち、Ψは、環中の窒素原子
が中性のものである。
These Φ and Ψ may be the same or different, but they are usually the same, and various substituents may be bonded to these rings. Note that Φ is
The nitrogen atom in the ring has a positive charge, and in Ψ, the nitrogen atom in the ring is neutral.

【0038】これらのΦおよびΨの骨格環としては、下
記のものが挙げられるが、式〔ΦI〕〜〔ΦXV〕で示さ
れるものであることが好ましい。なお、下記において
は、構造はΦの形で示される。
Examples of the skeletal rings of Φ and Ψ include the followings, but those represented by the formulas [ΦI] to [ΦXV] are preferable. In the following, the structure is shown in the form of Φ.

【0039】[0039]

【化1】 Embedded image

【0040】[0040]

【化2】 Embedded image

【0041】[0041]

【化3】 Embedded image

【0042】[0042]

【化4】 Embedded image

【0043】[0043]

【化5】 Embedded image

【0044】[0044]

【化6】 [Chemical 6]

【0045】[0045]

【化7】 [Chemical 7]

【0046】[0046]

【化8】 Embedded image

【0047】[0047]

【化9】 [Chemical 9]

【0048】[0048]

【化10】 [Chemical 10]

【0049】[0049]

【化11】 [Chemical 11]

【0050】[0050]

【化12】 [Chemical 12]

【0051】[0051]

【化13】 [Chemical 13]

【0052】[0052]

【化14】 Embedded image

【0053】[0053]

【化15】 Embedded image

【0054】[0054]

【化16】 Embedded image

【0055】このような各種環において、環中の窒素原
子(イミダゾール環では2個の窒素原子)に結合する基
1 (R1 ,R1 ´)は、置換または非置換のアルキル
基またはアリール基である。
In such various rings, the group R 1 (R 1 , R 1 ′) bonded to the nitrogen atom (two nitrogen atoms in the imidazole ring) in the ring is a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl. It is a base.

【0056】このような環中の、窒素原子に結合する基
1 ,R1 ´の炭素原子数には、特に制限はない。ま
た、この基がさらに置換基を有するものである場合、置
換基としては、スルホン酸基、アルキルカルボニルオキ
シ基、アルキルアミド基、アルキルスルホンアミド基、
アルコキシカルボニル基、アルキルアミノ基、アルキル
カルバモイル基、アルキルスルファモイル基、水酸基、
カルボキシ基、ハロゲン原子等いずれであってもよい。
There is no particular limitation on the number of carbon atoms of the groups R 1 and R 1 'bonded to the nitrogen atom in such a ring. When this group further has a substituent, the substituent is a sulfonic acid group, an alkylcarbonyloxy group, an alkylamido group, an alkylsulfonamido group,
Alkoxycarbonyl group, alkylamino group, alkylcarbamoyl group, alkylsulfamoyl group, hydroxyl group,
It may be a carboxy group, a halogen atom or the like.

【0057】さらに、ΦおよびΨの環が、縮合ないし非
縮合のインドール環(式〔ΦI〕〜〔ΦIV〕)である場
合、その3位には、2つの置換基R2 ,R3 が結合する
ことが好ましい。この場合、3位に結合する2つの置換
基R2 ,R3 としては、アルキル基またはアリール基で
あることが好ましい。そして、これらのうちでは、炭素
原子数1または2、特に1の非置換アルキル基であるこ
とが好ましい。
Further, when the rings of Φ and Ψ are fused or non-fused indole rings (formula [ΦI] to [ΦIV]), two substituents R 2 and R 3 are bonded to the 3-position. Preferably. In this case, the two substituents R 2 and R 3 bonded to the 3-position are preferably an alkyl group or an aryl group. And, of these, an unsubstituted alkyl group having 1 or 2 carbon atoms, particularly 1, is preferable.

【0058】一方、ΦおよびΨで表わされる環中の所定
の位置には、さらに他の置換基R4が結合していてもよ
い。このような置換基としては、アルキル基、アリール
基、複素環残基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリー
ロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキル
カルボニル基、アリールカルボニル基、アルキルオキシ
カルボニル基、アリーロキシカルボニル基、アルキルカ
ルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アル
キルアミド基、アリールアミド基、アルキルカルバモイ
ル基、アリールカルバモイル基、アルキルアミノ基、ア
リールアミノ基、カルボン酸基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、アルキルスルホンアミド
基、アリールスルホンアミド基、アルキルスルファモイ
ル基、アリールスルファモイル基、シアノ基、ニトロ基
等、種々の置換基であってよい。
On the other hand, another substituent R 4 may be further bonded to a predetermined position in the ring represented by Φ and Ψ. Examples of such a substituent include an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic residue, a halogen atom, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylcarbonyl group, an arylcarbonyl group, an alkyloxycarbonyl group and an aryloxycarbonyl. Group, alkylcarbonyloxy group, arylcarbonyloxy group, alkylamido group, arylamido group, alkylcarbamoyl group, arylcarbamoyl group, alkylamino group, arylamino group, carboxylic acid group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, alkylsulfone It may be various substituents such as an amide group, an aryl sulfonamide group, an alkylsulfamoyl group, an arylsulfamoyl group, a cyano group and a nitro group.

【0059】そして、これらの置換基の数(p,q,
r,s,t)は、通常、0または1〜4程度とされる。
なお、p,q,r,s,tが2以上であるとき、複数の
4 は互いに異なるものであってよい。
The number of these substituents (p, q,
r, s, t) is usually 0 or about 1 to 4.
When p, q, r, s, and t are 2 or more, a plurality of R 4 may be different from each other.

【0060】なお、これらのうちでは、式〔ΦI〕〜
〔ΦIV〕の縮合ないし非縮合のインドール環を有するも
のが好ましい。これらは溶剤に対する溶解度、塗膜性、
安定性にすぐれ、きわめて高い反射率を示し、読み出し
のS/N比がきわめて高くなるのである。
Among these, the expressions [ΦI] to
Those having a condensed or non-condensed indole ring of [ΦIV] are preferable. These are solubility in solvent, coating property,
The stability is excellent, the reflectance is extremely high, and the read S / N ratio is extremely high.

【0061】他方、Lは、モノ、ジ、トリまたはテトラ
カルボシアニン色素を形成するための連結基を表わす
が、下記のものが挙げられ、特に式〔LI〕〜〔LVII
I〕のいずれかであることが好ましい。
On the other hand, L represents a linking group for forming a mono-, di-, tri- or tetracarbocyanine dye, and examples thereof include the following, particularly those of the formulas [LI] to [LVII:
It is preferably any one of I].

【0062】[0062]

【化17】 [Chemical 17]

【0063】[0063]

【化18】 Embedded image

【0064】[0064]

【化19】 [Chemical 19]

【0065】[0065]

【化20】 Embedded image

【0066】[0066]

【化21】 [Chemical 21]

【0067】[0067]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0068】[0068]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0069】[0069]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0070】[0070]

【化25】 [Chemical 25]

【0071】ここに、Yは、水素原子または1価の基を
表わす。この場合、1価の基としては、メチル基等の低
級アルキル基、メトキシ基等の低級アルコキシ基、ジメ
チルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルア
ミノ基、モルホリノ基、イミダゾリジン基、エトキシカ
ルボニルピペラジン基などのジ置換アミノ基、アセトキ
シ基等のアルキルカルボニルオキシ基、メチルチオ基等
のアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、Br,Cl 等
のハロゲン原子などであることが好ましい。
Here, Y represents a hydrogen atom or a monovalent group. In this case, the monovalent group includes a lower alkyl group such as a methyl group, a lower alkoxy group such as a methoxy group, a dimethylamino group, a diphenylamino group, a methylphenylamino group, a morpholino group, an imidazolidine group, an ethoxycarbonylpiperazine group. And a disubstituted amino group, an alkylcarbonyloxy group such as an acetoxy group, an alkylthio group such as a methylthio group, a cyano group, a nitro group, and a halogen atom such as Br and Cl.

【0072】なお、これら式〔LI〕〜〔LVIII〕の中
では、トリカルボシアニン連結基、特に式〔LII〕、
〔LIII 〕が好ましい。
In these formulas [LI] to [LVIII], a tricarbocyanine linking group, especially formula [LII],
[LIII] is preferred.

【0073】以下に、本発明において結合体を形成する
シアニン色素カチオンD+ の具体例を挙げるが、本発明
はこれらのみに限定されるものではない。
Specific examples of the cyanine dye cation D + forming the conjugate in the present invention will be given below, but the present invention is not limited thereto.

【0074】[0074]

【表1】 [Table 1]

【0075】[0075]

【表2】 [Table 2]

【0076】[0076]

【表3】 [Table 3]

【0077】[0077]

【表4】 [Table 4]

【0078】[0078]

【表5】 [Table 5]

【0079】[0079]

【表6】 [Table 6]

【0080】[0080]

【表7】 [Table 7]

【0081】式〔I〕において、Q- はクエンチャーア
ニオンをあらわし、mは1である。
In the formula [I], Q represents a quencher anion, and m is 1.

【0082】Q- は下記1)〜8)のクエンチャーQの
うちのいずれのアニオン体であってもよい。
Q may be any anion form of the quencher Q described in 1) to 8) below.

【0083】1) 下記化26で示されるビスジチオ−
α−ジケトン系
1) Bisdithio-represented by the following chemical formula 26
α-diketone

【0084】[0084]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0085】ここに、R1 〜R4 は、置換ないし非置換
のアルキル基またはアリール基を表わし、Mは、Ni,
Co,Cu,Pd,Pt等の遷移金属原子を表わす。
Here, R 1 to R 4 represent a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group, and M is Ni,
It represents a transition metal atom such as Co, Cu, Pd, or Pt.

【0086】この場合、Mは−電荷をもち、4級アンモ
ニウムイオン等のカチオン(Cat) と塩を形成してもよ
い。
In this case, M has a negative charge and may form a salt with a cation (Cat) such as a quaternary ammonium ion.

【0087】なお、以下に、化26におけるR1 等の組
合せで具体例を示すが、以下の記載において、phはフェ
ニル基、φは1,4-フェニレン基、φ′は1,2-フェニレン
基、benzは環上にてとなりあう基が互いに結合して縮合
ベンゼン環を形成することを表わすものである。
Specific examples of the combination of R 1 and the like in Chemical formula 26 are shown below. In the following description, ph is a phenyl group, φ is a 1,4-phenylene group, and φ ′ is a 1,2-phenylene group. The group, benz, means that groups that are adjacent to each other on the ring are bonded to each other to form a condensed benzene ring.

【0088】[0088]

【表8】 [Table 8]

【0089】2) 下記化27で示されるビスフェニル
ジチオール系
2) Bisphenyldithiol system represented by the following chemical formula 27

【0090】[0090]

【化27】 [Chemical 27]

【0091】ここに、R5 〜R8 は、水素またはメチル
基、エチル基などのアルキル基、Cl などのハロゲン原
子、あるいはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基など
のアミノ基を表わし、Mは、Ni,Co,Cu,Pd,
Pt等の遷移金属原子を表わす。
Here, R 5 to R 8 represent hydrogen or an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group, a halogen atom such as Cl, or an amino group such as a dimethylamino group and a diethylamino group, and M represents Ni, Co, Cu, Pd,
Represents a transition metal atom such as Pt.

【0092】また、上記構造のMは−電荷をもって、4
級アンモニウムイオン等のカチオン(Cat)と塩を形
成してもよく、さらにはMの上下には、さらに他の配位
子が結合してもよい。
In addition, M in the above structure has a -charge and is 4
A salt may be formed with a cation (Cat) such as a primary ammonium ion, and further, another ligand may be bonded to the upper and lower sides of M.

【0093】このようなものとしては、下記のものがあ
る。ここでは、化27を用い、R5等の組合せで示して
いる。
Examples of such a device are as follows. Here, the chemical formula 27 is used and shown by a combination of R 5 and the like.

【0094】[0094]

【表9】 [Table 9]

【0095】[0095]

【表10】 [Table 10]

【0096】この他、特開昭50−45027号や特願
昭58−163080号に記載したものなどがある。
In addition to these, there are those described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 50-45027 and Japanese Patent Application No. 58-163080.

【0097】3) 下記化28で示されるもの3) Those represented by the following chemical formula 28

【0098】[0098]

【化28】 Embedded image

【0099】ここに、Mは、遷移金属原子を表わし、Q
1 は、下記化29で示されるQ11、Q12であり、Cat
は、カチオンを表わす。
Here, M represents a transition metal atom, and Q
1 is Q 11 and Q 12 shown in the following Chemical Formula 29, and Cat
Represents a cation.

【0100】[0100]

【化29】 [Chemical 29]

【0101】以下に化28のM等の組合せで具体例を示
す。
Specific examples will be shown below with combinations of M and the like in Chemical formula 28.

【0102】 [0102]

【0103】この他、特願昭58−125654号に記
載したものがある。
Besides, there is one described in Japanese Patent Application No. 58-125654.

【0104】4) 下記化30で示されるもの4) What is shown in the following chemical formula 30

【0105】[0105]

【化30】 Embedded image

【0106】ここに、Mは遷移金原子を表わし、Aは
S,C(R11)(R12)または化31のものを表わし、
Here, M represents a transition gold atom, A represents S, C (R 11 ) (R 12 ), or a compound of formula 31,

【0107】[0107]

【化31】 [Chemical 31]

【0108】R11およびR12は、それぞれCN,COR
13 ,COOR14 ,CON(R15)(R16)またはSO2
17を表わし、R13〜R17は、それぞれ水素原子または
置換もしくは非置換のアルキル基もしくはアリール基を
表わし、Q2 (化31中)は、5員または6員環を形成
するのに必要な原子群を表わし、Catは、カチオンを
表わし、nは1または2である。
R 11 and R 12 are CN and COR, respectively.
13 , COOR 14 , CON (R 15 ) (R 16 ) or SO 2
Represents R 17, R 13 ~R 17 each represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group, Q 2 (Chemical formula 31) is required to form a 5-membered or 6-membered ring Represents an atomic group, Cat represents a cation, and n is 1 or 2.

【0109】以下に、化30のM等の組合せで具体例を
示す。
Specific examples will be shown below with combinations of M and the like in Chemical formula 30.

【0110】[0110]

【表11】 [Table 11]

【0111】この他、特願昭58−127074号に記
載したものがある。
In addition to this, there is one described in Japanese Patent Application No. 58-127074.

【0112】5) 下記化32で示される化合物5) Compound represented by the following chemical formula 32

【0113】[0113]

【化32】 Embedded image

【0114】ここに、Mは遷移金属原子を表わし、Ca
tは、カチオンを表わし、nは1または2である。
Here, M represents a transition metal atom, and Ca
t represents a cation, and n is 1 or 2.

【0115】以下に、化32のM等の組合せで具体例を
示す。
Specific examples will be shown below with combinations of M and the like in Chemical formula 32.

【0116】 [0116]

【0117】この他、特願昭58−127075号に記
載したものがある。
In addition, there is one described in Japanese Patent Application No. 58-127075.

【0118】6) 下記化33で示されるチオカテコー
ルキレート系
6) Thiocatechol chelate system represented by the following chemical formula 33

【0119】[0119]

【化33】 [Chemical 33]

【0120】ここに、Mは、Ni,Co,Cu,Pd,
Pt等の遷移金属原子を表わす。
Where M is Ni, Co, Cu, Pd,
Represents a transition metal atom such as Pt.

【0121】また、Mは−電荷をもち、カチオン (Cat)
と塩を形成してもよく、ベンゼン環は置換基を有してい
てもよい。
In addition, M has a-charge and is a cation (Cat).
And a benzene ring may have a substituent.

【0122】以下に、化33のM等の組合せで具体例を
示す。
Specific examples will be shown below with combinations of M and the like in Chemical formula 33.

【0123】 [0123]

【0124】7) 下記化34で示される化合物7) Compound represented by the following chemical formula 34

【0125】[0125]

【化34】 Embedded image

【0126】ここに、R18は、1価の基を表わし、k
は、0〜6であり、Mは、遷移金属原子を表わし、Ca
tは、カチオンを表わす。
Here, R 18 represents a monovalent group, and k
Is 0 to 6, M represents a transition metal atom, and Ca
t represents a cation.

【0127】以下に、化34のM等の組合せで具体例を
示す。
Specific examples will be shown below in combination of M and the like in Chemical formula 34.

【0128】 18 Cat Q7−1 Ni H 0 N+(n-C4H9)4 Q7−2 Ni CH3 1 N+(n-C4H9)4 [0128] M R 18 k Cat Q7-1 Ni H 0 N + (nC 4 H 9) 4 Q7-2 Ni CH 3 1 N + (nC 4 H 9) 4

【0129】この他、特願昭58−143531号に記
載したものがある。
In addition, there is one described in Japanese Patent Application No. 58-143531.

【0130】8) 下記化35で示されるチオビスフェ
ノレートキレート系
8) Thiobisphenolate chelate system represented by the following chemical formula 35

【0131】[0131]

【化35】 Embedded image

【0132】ここに、Mは前記と同じであり、R65およ
びR66は、アルキル基を表わす。また、Mは−電荷をも
ち、カチオン(Cat) と塩とを形成していてもよい。
Here, M is the same as defined above, and R 65 and R 66 represent an alkyl group. Further, M has a-charge and may form a salt with a cation (Cat).

【0133】以下に、化35のM等の組合せで具体例を
示す。
Specific examples will be shown below with combinations of M and the like in Chemical formula 35.

【0134】 [0134]

【0135】以下に本発明に用いる色素カチオンとクエ
ンチャーアニオンとの結合体の具体例を挙げる。なお、
+ は前出の色素カチオンであり、Q- は前出のクエン
チャーに対応するクエンチャーアニオンであり、これら
の組合せで表示する。
Specific examples of the conjugate of the dye cation and the quencher anion used in the present invention will be given below. In addition,
D + is the dye cation described above, Q is the quencher anion corresponding to the quencher described above, and is indicated by a combination thereof.

【0136】[0136]

【表12】 [Table 12]

【0137】[0137]

【表13】 [Table 13]

【0138】[0138]

【表14】 [Table 14]

【0139】このような光吸収性をもつ色素−クエンチ
ャー結合体は、用いる光源に応じ、適宜選択して使用さ
れる。
The dye-quencher conjugate having such a light absorbing property is appropriately selected and used according to the light source to be used.

【0140】このような色素−クエンチャー結合体は、
単独で記録層を形成することもできる。
Such a dye-quencher conjugate is
The recording layer can be formed alone.

【0141】あるいは樹脂とともに記録層を形成する。Alternatively, the recording layer is formed together with the resin.

【0142】用いる樹脂としては、自己酸化性のもの、
あるいは熱可塑性樹脂が好適である。
The resin used is a self-oxidizing resin,
Alternatively, a thermoplastic resin is suitable.

【0143】記録層に含有される自己酸化性の樹脂は、
昇温したとき、酸化的な分解を生じるものであるが、こ
れらのうち、特にニトロセルロースが好適である。
The self-oxidizing resin contained in the recording layer is
Among them, nitrocellulose is particularly preferable, although it causes oxidative decomposition when the temperature is raised.

【0144】また、熱可塑性樹脂は、記録光を吸収した
色素の昇温により軟化するものであり、熱可塑性樹脂と
しては、公知の種々のものを用いることができる。
The thermoplastic resin is softened by the temperature rise of the dye that has absorbed the recording light, and various known thermoplastic resins can be used.

【0145】これらのうち、特に好適に用いることがで
きる熱可塑性樹脂には、以下のようなものがある。
Among these, the thermoplastic resins which can be used particularly preferably include the following.

【0146】i ) ポリオレフィン ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ4−メチルペンテ
ン−1など。
I) Polyolefin Polyethylene, polypropylene, poly-4-methylpentene-1 and the like.

【0147】ii) ポリオレフィン共重合体 例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ア
クリル酸エステル共重合体、エチレン−アクリル酸共重
合体、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテ
ン−1共重合体、エチレン−無水マレイン酸共重合体、
エチレンプロピレンターポリマー(EPT)など。この
場合、コモノマーの重合比は任意のものとすることがで
きる。
Ii) Polyolefin Copolymer For example, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-acrylic acid ester copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-propylene copolymer, ethylene-butene-1 copolymer. Coalesce, ethylene-maleic anhydride copolymer,
Ethylene propylene terpolymer (EPT) etc. In this case, the polymerization ratio of the comonomer can be arbitrary.

【0148】iii) 塩化ビニル共重合体 例えば、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−無水マレイン
酸共重合体、アクリル酸エステルないしメタアクリル酸
エステルと塩化ビニルとの共重合体、アクリロニトリル
−塩化ビニル共重合体、塩化ビニルエーテル共重合体、
エチレンないしプロピレン−塩化ビニル共重合体、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニルをグラフト重合
したものなど。この場合、共重合比は任意のものとする
ことができる。
Iii) Vinyl chloride copolymer For example, vinyl acetate-vinyl chloride copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-maleic anhydride copolymer, acrylic ester or methacrylic ester and chloride Copolymer with vinyl, acrylonitrile-vinyl chloride copolymer, vinyl chloride ether copolymer,
Ethylene or propylene-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer graft-polymerized with vinyl chloride, etc. In this case, the copolymerization ratio can be arbitrary.

【0149】iv) 塩化ビニリデン共重合体 塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン
−塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニリ
デン−ブタジエン−ハロゲン化ビニル共重合体など。こ
の場合、共重合比は、任意のものとすることができる。
Iv) Vinylidene chloride copolymers Vinylidene chloride-vinyl chloride copolymers, vinylidene chloride-vinyl chloride-acrylonitrile copolymers, vinylidene chloride-butadiene-vinyl halide copolymers and the like. In this case, the copolymerization ratio can be arbitrary.

【0150】v ) ポリスチレン vi) スチレン共重合体 例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合体(AS樹
脂)、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合
体(ABS樹脂)、スチレン−無水マレイン酸共重合体
(SMA樹脂)、スチレン−アクリル酸エステル−アク
リルアミド共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体
(SBR)、スチレン−塩化ビニリデン共重合体、スチ
レン−メチルメタアクリレート共重合体など。この場
合、共重合比は任意のものとすることができる。
V) Polystyrene vi) Styrene copolymer For example, styrene-acrylonitrile copolymer (AS resin), styrene-acrylonitrile-butadiene copolymer (ABS resin), styrene-maleic anhydride copolymer (SMA resin). , Styrene-acrylic acid ester-acrylamide copolymer, styrene-butadiene copolymer (SBR), styrene-vinylidene chloride copolymer, styrene-methyl methacrylate copolymer and the like. In this case, the copolymerization ratio can be arbitrary.

【0151】vii) スチレン型重合体 例えば、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、
2,5−ジクロルスチレン、α,β−ビニルナフタレ
ン、α−ビニルピリジン、アセナフテン、ビニルアント
ラセンなど、あるいはこれらの共重合体、例えば、α−
メチルスチレンとメタクリル酸エステルとの共重合体。
Vii) Styrene-type polymer For example, α-methylstyrene, p-methylstyrene,
2,5-dichlorostyrene, α, β-vinylnaphthalene, α-vinylpyridine, acenaphthene, vinylanthracene and the like, or copolymers thereof, such as α-
Copolymer of methylstyrene and methacrylic acid ester.

【0152】viii) クマロン−インデン樹脂 クマロン−インデン−スチレンの共重合体。Viii) Coumaron-indene resin Coumaron-indene-styrene copolymer.

【0153】ix) テルペン樹脂ないしピコライト 例えば、α−ピネンから得られるリモネンの重合体であ
るテルペン樹脂や、β−ピネンから得られるピコライ
ト。
Ix) Terpene resin or picolite For example, a terpene resin which is a polymer of limonene obtained from α-pinene, or picolite obtained from β-pinene.

【0154】x ) アクリル樹脂 特に下記化36で示される原子団を含むものが好まし
い。
X) Acrylic resin In particular, an acrylic resin containing an atomic group represented by the following chemical formula 36 is preferable.

【0155】[0155]

【化36】 Embedded image

【0156】上記式において、R10は、水素原子または
アルキル基を表わし、R20は、置換または非置換のアル
キル基を表わす。この場合、上記式において、R10は、
水素原子または炭素原子数1〜4の低級アルキル基、特
に水素原子またはメチル基であることが好ましい。ま
た、R20は、置換、非置換いずれのアルキル基であって
もよいが、アルキル基の炭素原子数は1〜8であること
が好ましく、また、R20が置換アルキル基であるときに
は、アルキル基を置換する置換基は、水酸基、ハロゲン
原子またはアミノ基(特に、ジアルキルアミノ基)であ
ることが好ましい。
In the above formula, R 10 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 20 represents a substituted or unsubstituted alkyl group. In this case, in the above formula, R 10 is
A hydrogen atom or a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, particularly a hydrogen atom or a methyl group is preferable. R 20 may be a substituted or unsubstituted alkyl group, but the alkyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms, and when R 20 is a substituted alkyl group, it is an alkyl group. The substituent for substituting the group is preferably a hydroxyl group, a halogen atom or an amino group (particularly a dialkylamino group).

【0157】このような上記式で示される原子団は、他
のくりかえし原子団とともに、共重合体を形成して各種
アクリル樹脂を構成してもよいが、通常は、上記式で示
される原子団の1種または2種以上をくりかえし単位と
する単独重合体または共重合体を形成してアクリル樹脂
を構成することになる。
The atomic group represented by the above formula may form a copolymer with other repeating atomic groups to form various acrylic resins. The acrylic resin is constituted by forming a homopolymer or a copolymer having 1 or 2 or more of the above as a repeating unit.

【0158】xi) ポリアクリロニトリル xii) アクリロニトリル共重合体 例えば、アクリロニトリル−酢酸ビニル共重合体、アク
リロニトリル−塩化ビニル共重合体、アクリロニトリル
−スチレン共重合体、アクリロニトリル−塩化ビニリデ
ン共重合体、アクリロニトリル−ビニルピリジン共重合
体、アクリロニトリル−メタクリル酸メチル共重合体、
アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリロニト
リル−アクリル酸ブチル共重合体など。この場合、共重
合比は任意のものとすることができる。
Xi) Polyacrylonitrile xii) Acrylonitrile copolymer For example, acrylonitrile-vinyl acetate copolymer, acrylonitrile-vinyl chloride copolymer, acrylonitrile-styrene copolymer, acrylonitrile-vinylidene chloride copolymer, acrylonitrile-vinyl pyridine. Copolymer, acrylonitrile-methyl methacrylate copolymer,
Acrylonitrile-butadiene copolymer, acrylonitrile-butyl acrylate copolymer and the like. In this case, the copolymerization ratio can be arbitrary.

【0159】xiii) ダイアセトンアクリルアミドポリマ
ー アクリロニトリルにアセトンを作用させたダイアセトン
アクリルアミドポリマー。
Xiii) Diacetone acrylamide polymer A diacetone acrylamide polymer obtained by reacting acrylonitrile with acetone.

【0160】xiv) ポリ酢酸ビニル xv) 酢酸ビニル共重合体 例えば、アクリル酸エステル、ビニルエーテル、エチレ
ン、塩化ビニル等との共重合体など。共重合比は任意の
ものであってよい。
Xiv) Polyvinyl acetate xv) Vinyl acetate copolymer For example, copolymers with acrylic acid ester, vinyl ether, ethylene, vinyl chloride and the like. The copolymerization ratio may be arbitrary.

【0161】xvi) ポリビニルエーテル 例えば、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルエチル
エーテル、ポリビニルブチルエーテルなど。
Xvi) Polyvinyl ether For example, polyvinyl methyl ether, polyvinyl ethyl ether, polyvinyl butyl ether and the like.

【0162】xvii) ポリアミド この場合、ポリアミドとしては、ナイロン6、ナイロン
6−6、ナイロン6−10、ナイロン6−12、ナイロ
ン9、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン13等の
通常のホモナイロンの他、ナイロン6/6−6/6−1
0、ナイロン6/6−6/12、ナイロン6/6−6/
11等の重合体や、場合によっては変性ナイロンであっ
てもよい。
Xvii) Polyamide In this case, as the polyamide, in addition to ordinary homonylon such as nylon 6, nylon 6-6, nylon 6-10, nylon 6-12, nylon 9, nylon 11, nylon 12, nylon 13, etc. , Nylon 6 / 6-6 / 6-1
0, nylon 6 / 6-6 / 12, nylon 6 / 6-6 /
It may be a polymer such as 11, or modified nylon in some cases.

【0163】xviii)ポリエステル 例えば、シュウ酸、コハク酸、マレイン酸、アジピン
酸、セバステン酸等の脂肪族二塩基酸、あるいはイソフ
タル酸、テレフタル酸などの芳香族二塩基酸などの各種
二塩基酸と、エチレングリコール、テトラメチレングリ
コール、ヘキサメチレングリコール等のグリコール類と
の縮合物や、共縮合物が好適である。
Xviii) Polyester For example, with an aliphatic dibasic acid such as oxalic acid, succinic acid, maleic acid, adipic acid, and sebastenic acid, or various dibasic acids such as aromatic dibasic acid such as isophthalic acid and terephthalic acid. Condensates and co-condensates with glycols such as ethylene glycol, tetramethylene glycol and hexamethylene glycol are preferable.

【0164】そして、これらのうちでは、特に脂肪族二
塩基酸とグリコール類との縮合物や、グリコール類と脂
肪族二塩基酸との共縮合物は、特に好適である。
Of these, a condensate of an aliphatic dibasic acid and a glycol, and a cocondensate of a glycol and an aliphatic dibasic acid are particularly preferable.

【0165】さらに、例えば、無水フタル酸とグリセリ
ンとの縮合物であるグリプタル樹脂を、脂肪酸、天然樹
脂等でエステル化変性した変性グリプタル樹脂等も好適
に使用される。
Further, for example, a modified glyptal resin obtained by esterifying a glyptal resin, which is a condensate of phthalic anhydride and glycerin, with a fatty acid, a natural resin or the like is also suitably used.

【0166】xix) ポリビニルアセタール系樹脂 ポリビニルアルコールを、アセタール化して得られるポ
リビニルホルマール、ポリビニルアセタール系樹脂はい
ずれも好適に使用される。
Xix) Polyvinyl acetal resin Polyvinyl formal and polyvinyl acetal resin obtained by acetalizing polyvinyl alcohol are preferably used.

【0167】この場合、ポリビニルアセタール系樹脂の
アセタール化度は任意のものとすることができる。
In this case, the degree of acetalization of the polyvinyl acetal resin can be arbitrary.

【0168】xx) ポリウレタン樹脂 ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹脂。特に、
グリコール類とジイソシアナート類との縮合によって得
られるポリウレタン樹脂、とりわけ、アルキレングリコ
ールとアルキレンジイソシアナートとの縮合によって得
られるポリウレタン樹脂が好適である。
Xx) Polyurethane resin A thermoplastic polyurethane resin having a urethane bond. In particular,
Polyurethane resins obtained by condensation of glycols and diisocyanates, particularly polyurethane resins obtained by condensation of alkylene glycols and alkylene diisocyanates, are suitable.

【0169】xxi) ポリエーテル スチレンホルマリン樹脂、環状アセタールの開環重合
物、ポリエチレンオキサイドおよびグリコール、ポリプ
ロピレンオキサイドおよびグリコール、プロピレンオキ
サイド−エチレンオキサイド共重合体、ポリフェニレン
オキサイドなど。
Xxi) Polyether Styrene formalin resin, ring-opening polymer of cyclic acetal, polyethylene oxide and glycol, polypropylene oxide and glycol, propylene oxide-ethylene oxide copolymer, polyphenylene oxide and the like.

【0170】xxii) セルロース誘導体 例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、エチ
ルセルロース、アセチルブチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メ
チルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロースな
ど、セルロースの各種エステル、エーテルないしこれら
の混合体。
Xxii) Cellulose derivatives For example, various esters of cellulose such as nitrocellulose, acetyl cellulose, ethyl cellulose, acetyl butyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, methyl cellulose, ethyl hydroxyethyl cellulose, ethers and mixtures thereof.

【0171】xxiii)ポリカーボネート 例えば、ポリジオキシジフェニルメタンカーボネート、
ジオキシジフェニルプロパンカーボネート等の各種ポリ
カーボネート。
Xxiii) Polycarbonate For example, polydioxydiphenylmethane carbonate,
Various polycarbonates such as dioxydiphenyl propane carbonate.

【0172】xxiv) アイオノマー メタクリル酸、アクリル酸などのNa, Li,Zn,
Mg塩など。
Xxiv) Ionomer Methacrylic acid, acrylic acid, and other Na, Li, Zn,
Mg salt etc.

【0173】xxv) ケトン樹脂 例えば、シクロヘキサノンやアセトフェノン等の環状ケ
トンとホルムアルデヒドとの縮合物。
Xxv) Ketone resin For example, a condensation product of a cyclic ketone such as cyclohexanone or acetophenone and formaldehyde.

【0174】xxvi) キシレン樹脂 例えば、m−キシレンまたはメシチレンとホルマリンと
の縮合物、あるいはその変性体。
Xxvi) Xylene resin For example, a condensate of m-xylene or mesitylene and formalin, or a modified product thereof.

【0175】xxvii)石油樹脂 C5 系、C9 系、C5 −C9 共重合系、ジシクロペンタ
ジエン系、あるいは、これらの共重合体ないし変性体な
ど。
Xxvii) Petroleum resin C 5 type, C 9 type, C 5 -C 9 copolymer type, dicyclopentadiene type, or copolymers or modified products thereof.

【0176】xxviii)上記 i) 〜xxvii)の2種以上のブ
レンド体、またはその他の熱可塑性樹脂とのブレンド
体。
Xxviii) A blend of two or more of the above i) to xxvii), or a blend with another thermoplastic resin.

【0177】なお、自己酸化性または熱可塑性の樹脂の
分子量等は種々のものであってよい。
The self-oxidizing or thermoplastic resin may have various molecular weights.

【0178】このような自己酸化性化合物または熱可塑
性樹脂樹脂と、前記の色素−クエンチャー結合体とは、
通常、重量比で1対0.1〜100の広範な量比にて設
層される。
The self-oxidizing compound or thermoplastic resin and the dye-quencher conjugate are
Usually, the layer is formed in a wide range of the weight ratio of 1 to 0.1 to 100.

【0179】このような記録層を設層するには、一般に
常法に従い塗設すればよい。そして、記録層の厚さは、
通常、0.03〜2μm 程度とされる。
In order to form such a recording layer, generally, it may be coated by a conventional method. And the thickness of the recording layer is
Usually, it is about 0.03 to 2 μm.

【0180】記録層の厚みは、0.04〜0.12μm
、特に0.05〜0.08μm であることが好まし
い。
The recording layer has a thickness of 0.04 to 0.12 μm.
, Particularly preferably 0.05 to 0.08 μm.

【0181】0.04μm 、特に0.03μm 以下では
吸収量反射量とも小さく書き込み感度、再生感度とも大
きく取ることができない。
At 0.04 μm or less, especially 0.03 μm or less, both the absorption amount and the reflection amount are small, and the writing sensitivity and the reproducing sensitivity cannot be large.

【0182】0.12μm 以上では、プリグループが埋
没してしまい、トラッキング信号を得ることが困難とな
る。また、ピット形成が容易でなく、書き込み感度が低
下する。
When the thickness is 0.12 μm or more, the pregroup is buried and it becomes difficult to obtain a tracking signal. Further, it is not easy to form pits, and the writing sensitivity is reduced.

【0183】なお、このような記録層には、この他、他
の色素や、他のポリマーないしオリゴマー、各種可塑
剤、界面活性剤、帯電防止剤、滑剤、難燃剤、安定剤、
分散剤、酸化防止剤、そして架橋剤等が含有されていて
もよい。
In addition, in such a recording layer, other dyes, other polymers or oligomers, various plasticizers, surfactants, antistatic agents, lubricants, flame retardants, stabilizers,
A dispersant, an antioxidant, a crosslinking agent and the like may be contained.

【0184】このような記録層を設層するには、基体上
に、所定の溶媒を用いて塗布、乾燥すればよい。
In order to form such a recording layer, it is sufficient to coat the substrate with a predetermined solvent and dry it.

【0185】なお、塗布に用いる溶媒としては、例えば
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノン等のケトン系、酢酸ブチル、酢酸エチル、カ
ルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート
等のエステル系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ
等のエーテル系、ないしトルエン、キシレン等の芳香族
系、ジクロロエタン等のハロゲン化アルキル系、アルコ
ール系などを用いればよい。
The solvent used for coating is, for example, a ketone system such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone, an ester system such as butyl acetate, ethyl acetate, carbitol acetate, butyl carbitol acetate, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, etc. The ether type, aromatic type such as toluene or xylene, alkyl halide type such as dichloroethane, alcohol type and the like may be used.

【0186】このような記録層を設層する基体は樹脂製
である。樹脂の材質としては、種々のものが可能であ
る。
The substrate on which such a recording layer is provided is made of resin. Various materials can be used as the resin material.

【0187】ただ、このような樹脂中、特に上記したよ
うな各種塗布用の溶媒、特にケトン系、エステル系、ハ
ロゲン化アルキル等におかされやすく、本発明の下地層
による効果が特に大きいのは、アクリル樹脂またはポリ
カーボネート樹脂である。
However, in such a resin, it is particularly easy to be exposed to the above-mentioned various coating solvents, particularly ketone-based, ester-based, alkyl halide, etc., and the effect of the underlayer of the present invention is particularly great. , Acrylic resin or polycarbonate resin.

【0188】そして、これらでは、書き込みおよび読み
出し光に対し、実質的に透明であるので、書き込みおよ
び読み出しを基体裏面側から行うことができ、感度、S
/N比等の点で有利であり、またホコリ対策等の実装上
の点でも有利である。さらに、成形性も良好であるの
で、トラッキング用の溝の形成も容易である。
Since these are substantially transparent to writing and reading light, writing and reading can be performed from the back surface side of the substrate, and sensitivity and S
It is advantageous in terms of the / N ratio and the like, and is also advantageous in terms of mounting such as measures against dust. Further, since the moldability is good, it is easy to form the groove for tracking.

【0189】アクリル樹脂としては、ポリメチルメタク
リレート等、炭素原子数1〜8の鎖状ないし環状のアル
キル基をもつメタクリル酸エステルを主体とするコポリ
マーないしホモポリマーが好ましい。
The acrylic resin is preferably a copolymer or homopolymer mainly composed of a methacrylic acid ester having a chain or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms such as polymethylmethacrylate.

【0190】また、ポリカーボネート樹脂としては、ビ
スフェノールAタイプが好ましい。
The polycarbonate resin is preferably bisphenol A type.

【0191】そして、これらアクリル樹脂またはポリカ
ーボネート樹脂は、射出成形によって形成されたもので
あるとき、本発明の下地層の効果はより大きなものとな
る。
When the acrylic resin or the polycarbonate resin is formed by injection molding, the effect of the underlayer of the present invention becomes greater.

【0192】なお、これらアクリル樹脂またはポリカー
ボネート樹脂の数平均重合度は、800〜6000程度
であることが好ましい。
The number average degree of polymerization of these acrylic resins or polycarbonate resins is preferably about 800 to 6000.

【0193】記録層上に設層される表面層は、第1表面
層と、この第1表面層上に積層される高分子膜とからな
る。
The surface layer provided on the recording layer comprises a first surface layer and a polymer film laminated on the first surface layer.

【0194】第1表面層は、記録層より高融点で、さら
にそれより硬度の高い無機質膜であればよい。
The first surface layer may be an inorganic film having a melting point higher than that of the recording layer and a hardness higher than that.

【0195】従って、各種酸化物系、窒化物系、炭化物
系等の無機物質、例えば酸化ケイ素、酸化チタン、酸化
アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコン、窒化
ケイ素、炭化ケイ素等の気相被着膜であってもよい。
Accordingly, various oxide-based, nitride-based, and carbide-based inorganic materials such as silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, zircon oxide, silicon nitride, and silicon carbide can be used as a vapor deposition film. It may be.

【0196】あるいは、いわゆる架橋剤として知られる
キレート化合物等から形成される酸化ケイ素、酸化チタ
ン、酸ジルコン、酸化アルミニウム等から主として形成
される加水分解塗膜であってもよい。
Alternatively, it may be a hydrolyzed coating film mainly formed of silicon oxide, titanium oxide, zirconate acid, aluminum oxide or the like formed from a chelate compound known as a so-called crosslinking agent.

【0197】ただ、これらの中で、もっとも有用なの
は、ケイ素系縮合物のコロイド粒子分散液の塗膜であ
る。
However, of these, the most useful is a coating film of a colloidal particle dispersion of a silicon-based condensate.

【0198】ケイ素系縮合物のコロイド粒子は、ハロゲ
ン化ケイ素、特に四塩化ケイ素、ないしアルキルケイ
酸、特に四低級アルキル(メチル、エチル)ケイ酸の加
水分解縮合物が好適である。
The colloidal particles of the silicon-based condensate are preferably hydrolyzed condensates of silicon halide, especially silicon tetrachloride, or alkyl silicic acid, especially tetra-lower alkyl (methyl, ethyl) silicic acid.

【0199】そして、コロイド粒子径は、30〜100
A 、特に50〜80A 程度とされる。
The colloidal particle size is 30-100.
A, especially about 50 to 80 A.

【0200】また、分散媒としては、アルコール、特に
1個の脂肪族アルコール、あるいは酢酸アルキル、ある
いはこれらと芳香族炭化水素との混合溶媒等が用いられ
る。
As the dispersion medium, alcohol, particularly one aliphatic alcohol, alkyl acetate, a mixed solvent of these and aromatic hydrocarbon, or the like is used.

【0201】また、加水分解のためには、必要に応じ鉱
酸が添加される。
For hydrolysis, a mineral acid is added if necessary.

【0202】そして、必要に応じエチレングリコール等
の安定剤や界面活性剤等が添加される。
Then, if necessary, a stabilizer such as ethylene glycol or a surfactant is added.

【0203】このようなコロイド粒子分散液の1例とし
ては、特公昭31-6533 号に記載された四塩化ケイ素(S
iCl 4 )と1価の脂肪族アルコールとを酢酸アルキル
エステル中に溶解させたものがある。
One example of such a colloidal particle dispersion is silicon tetrachloride (S) described in JP-B-31-6533.
iCl 4 ) and a monohydric aliphatic alcohol are dissolved in an alkyl acetate ester.

【0204】また、特公昭36-4740 号に記載された四ア
ルキルケイ酸と1価の脂肪族アルコール、酢酸アルキル
および鉱酸よりなる溶液に、1〜20wt% のエチレング
リコールを添加したものでもよい。
Further, a solution containing tetraalkylsilicic acid, a monohydric aliphatic alcohol, an alkyl acetate and a mineral acid described in JP-B-36-4740 may be added with 1 to 20 wt% of ethylene glycol. .

【0205】さらには、特公昭45-35435号に記載された
四低級アルキルケイ酸のアルコール溶液でもよい。
Further, an alcohol solution of a tetra-lower alkylsilicic acid described in JP-B-45-35435 may be used.

【0206】このような場合、使用する1価の脂肪族ア
ルコールとしては、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、変性アルコール、イソプロピルアルコール、ブチル
アルコールあるいはそれらの混合物、
In such a case, the monohydric aliphatic alcohol used is methyl alcohol, ethyl alcohol, denatured alcohol, isopropyl alcohol, butyl alcohol, or a mixture thereof,

【0207】酢酸アルキルとしては、酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸アミル、酢酸ブチルあるいはこれらの混合
物を用い、
As the alkyl acetate, methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, butyl acetate or a mixture thereof is used.

【0208】鉱酸としては、塩酸、硫酸の水溶液等で、
普通工業的に用いられているものを用いればよい。
As the mineral acid, an aqueous solution of hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.,
What is normally used industrially may be used.

【0209】なお、これらの分散液の塗布は、常法に従
い、スピンナーコート等の塗布にすればよい。
The dispersion may be applied by spinner coating or the like according to a conventional method.

【0210】この場合、希釈溶媒としては、例えば炭化
水素系とアルコール系との混合溶媒がある。
In this case, the diluting solvent may be, for example, a mixed solvent of a hydrocarbon type and an alcohol type.

【0211】そして、乾燥は、40〜80℃にて、20
分〜2時間程度行えばよい。
Then, the drying is carried out at 40 to 80 ° C. for 20
It suffices to do it for about 2 minutes to 2 hours.

【0212】このようにして形成される塗膜は、水酸基
を含む酸化ケイ素無機質塗膜である。
The coating film thus formed is a silicon oxide inorganic coating film containing a hydroxyl group.

【0213】以上の第1表面層の厚さは、0.005〜
0.05μm である。特に好ましくは、0.008〜
0.012μm であることが好ましい。
The thickness of the first surface layer is 0.005 to 0.005.
It is 0.05 μm. Particularly preferably, 0.008-
It is preferably 0.012 μm.

【0214】第1表面層が、0.003μm 未満であれ
ば、光記録媒体としての書き込み読み出しの感度向上の
効果が得られない。
If the thickness of the first surface layer is less than 0.003 μm, the effect of improving the read / write sensitivity of the optical recording medium cannot be obtained.

【0215】第1表面層が0.03μm を超えると、光
記録媒体としての書き込み読み出しの感度は、かえっ
て、低下してしまう。
When the first surface layer exceeds 0.03 μm, the sensitivity of writing and reading as an optical recording medium is rather lowered.

【0216】色素組成物からなる光記録膜は光照射と同
時にピットが形成されてしまい、その後の照射光は最も
エネルギーの集中している中央部で吸収されなくなる。
従ってエネルギーの利用効率が低く、感度がある値以上
向上しない原因となっている。
In the optical recording film made of the dye composition, pits are formed at the same time as the light irradiation, and the irradiation light thereafter is not absorbed in the central portion where the energy is most concentrated.
Therefore, the use efficiency of energy is low, which causes the sensitivity not to improve more than a certain value.

【0217】本発明では、第1表面層として高融点の固
い膜を設けることにより、一定時間以下の照射光に対し
てピットを形成しないようにし、十分な温度にまで上昇
するのを待って、一気にピット形成が起こるようにする
ものである。
In the present invention, by providing a hard film having a high melting point as the first surface layer, pits are not formed with respect to irradiation light for a certain time or less, and after waiting for the temperature to rise to a sufficient temperature, The pits are formed at once.

【0218】このような第1表面層上に積層される高分
子膜は、ピット形成に際して、第1表面層の破砕片の飛
散を防止するためのものである。
The polymer film laminated on the first surface layer as described above is for preventing scattering of crushed pieces of the first surface layer when forming pits.

【0219】用いる高分子としては種々のものが適用で
きるが、特に第1表面層に対し、第1表面層を侵して色
素を溶解しないこと、密着性のよいこと、均一性のよい
こと、塗布し易いこと、低粘度であること等の点で、水
または水−アルコール混合溶媒に可溶で、かつ水酸基を
含有する高分子化合物の塗膜からなるものが好ましい。
Various polymers can be used as the polymer to be used. Particularly, for the first surface layer, the dye is not dissolved by invading the first surface layer, the adhesion is good, the uniformity is good, and the coating is good. From the viewpoints of easy handling, low viscosity, and the like, it is preferable to use a coating film of a polymer compound that is soluble in water or a water-alcohol mixed solvent and has a hydroxyl group.

【0220】この場合、水または水−アルコール混合溶
媒に可溶であるとは、水あるいは後述のような水−アル
コール混合溶媒に1%程度以上溶解するものであればよ
い。
In this case, the term "soluble in water or water-alcohol mixed solvent" means that it is soluble in water or a water-alcohol mixed solvent as described later by about 1% or more.

【0221】このような高分子化合物としては、アラビ
アゴム、アルギン酸、トラガントガム等の多糖類であっ
てもよいが、特に下記のようなセルロース誘導体や、ビ
ニルアルコール単位含有樹脂が好適である。
Such polymer compounds may be polysaccharides such as gum arabic, alginic acid and tragacanth gum, but the following cellulose derivatives and vinyl alcohol unit-containing resins are particularly preferable.

【0222】1)セルロース誘導体 ニトロセルロース、アセチルセルロース、エチルセルロ
ース、アセチルブチルセルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセル
ロース、エチルヒドロキシエチルセルロースなど。
1) Cellulose derivative Nitrocellulose, acetylcellulose, ethylcellulose, acetylbutylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydroxypropylcellulose, methylcellulose, ethylhydroxyethylcellulose and the like.

【0223】この場合、水酸基は、くりかえし単位あた
り、平均1以上含有されることが好ましい。
In this case, it is preferable that one or more hydroxyl groups are contained on average per repeating unit.

【0224】2)ビニルアルコール単位含有樹脂 ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、エチレン−酢
酸ビニル共重合体などの完全ないし部分加水分解物。
2) Vinyl alcohol unit-containing resin Complete or partial hydrolyzate of polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, ethylene-vinyl acetate copolymer and the like.

【0225】この場合、ビニルアルコール単位は、70
モル%以上、好ましくは、80モル%以上含有されるも
のが好ましい。
In this case, the vinyl alcohol unit is 70
It is preferable that the content is at least mol%, preferably at least 80 mol%.

【0226】なお、このような高分子化合物の数平均分
子量については、特に制限はない。
The number average molecular weight of such a polymer compound is not particularly limited.

【0227】このような高分子化合物は、通常、水−ア
ルコール混合溶媒に溶解されて塗布設層される。
Such a polymer compound is usually dissolved in a water-alcohol mixed solvent to form a coating layer.

【0228】この場合、アルコールとしては、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール等の単独ま
たは複合系が好適である。そして、水とアルコールとの
混合比は、1:0.5〜3程度とする。
In this case, the alcohol is preferably a single or complex system such as methanol, ethanol, propanol, butanol and the like. The mixing ratio of water and alcohol is about 1: 0.5 to 3.

【0229】なお、塗布溶媒としては、水を単独で用い
ることもできるが、樹脂製の基体に対する塗布性の点で
は、水−アルコール混合溶媒がすぐれている。
Although water alone can be used as the coating solvent, a water-alcohol mixed solvent is superior in terms of coating properties on a resin substrate.

【0230】このような層の塗設に際しては、塗布液中
に架橋剤を添加して、塗膜中の高分子化合物を架橋する
こともできる。
When coating such a layer, a crosslinking agent may be added to the coating solution to crosslink the polymer compound in the coating film.

【0231】このとき、耐溶剤性、耐水性、耐熱性が改
良され、記録層の安定性が向上する。
At this time, solvent resistance, water resistance and heat resistance are improved, and stability of the recording layer is improved.

【0232】この場合、塗布液中には、ピンホールの発
生を防止し、脱泡を完全に行い、しかも粘度を下げるた
めに、界面活性剤、消泡剤、帯電防止剤等を添加しても
よい。
In this case, a surfactant, an antifoaming agent, an antistatic agent, etc. are added to the coating liquid in order to prevent the generation of pinholes, completely defoam, and lower the viscosity. Good.

【0233】用いる架橋剤としては、チタン、ジルコニ
ウムもしくはアルミニウムの有機化合物もしくはキレ−
ト化物、あるいは、アルデヒト、オキシカルボン酸また
はメチロール含有オリゴマーであることが好ましい。
The crosslinking agent used is an organic compound of titanium, zirconium or aluminum or a chelating agent.
It is preferably a todide, or an aldecht, an oxycarboxylic acid, or a methylol-containing oligomer.

【0234】このような高分子膜は0.002〜0.8
μm 、より好ましくは0.005〜0.5μm の厚さと
することが好ましい。
Such a polymer film has a thickness of 0.002-0.8.
It is preferable that the thickness is μm, more preferably 0.005 to 0.5 μm.

【0235】0.002μm 未満では飛散防止の実働が
なく、0.8μm をこえると逆に感度が減少するからで
ある。
This is because if it is less than 0.002 μm, there is no actual work of preventing scattering, and if it exceeds 0.8 μm, the sensitivity is decreased.

【0236】さらに本発明の表面層を有する記録層は、
基体上に直接形成されてもよく、あるいは下地層を介し
て設層されてもよい。
Further, the recording layer having the surface layer of the present invention is
It may be formed directly on the substrate, or may be provided via an underlayer.

【0237】下地層としては、公知の種々のものであっ
てよいが、すでに述べた第1表面層ないし高分子膜と全
く同様にして作製されたものであることが好ましい。
The underlayer may be any of various known ones, but it is preferable that the underlayer is produced in exactly the same manner as the above-mentioned first surface layer or polymer film.

【0238】下地層の厚みは0.005〜0.05μm
である。特に0.008〜0.03μm であることが好
ましい。
The thickness of the underlayer is 0.005 to 0.05 μm
Is. It is particularly preferably 0.008 to 0.03 μm.

【0239】下地層が0.005μm 未満となると、基
体への耐溶剤性付与効果および耐熱性付与効果が不充分
である。0.05μm を超えると、感度が低下する。
If the thickness of the underlayer is less than 0.005 μm, the effect of imparting solvent resistance and heat resistance to the substrate is insufficient. If it exceeds 0.05 μm, the sensitivity decreases.

【0240】以上のような下地層を設置することによっ
て、光記録媒体としての感度がさらに上がり、S/N比
がさらに向上する。
By providing the underlayer as described above, the sensitivity as an optical recording medium is further increased and the S / N ratio is further improved.

【0241】下地層上には、通常直接記録層が設層され
るものであるが、必要に応じ場合によっては、下地層と
記録層との間に、他の中間層を設層することもできる。
A recording layer is usually provided directly on the underlayer, but if necessary, another intermediate layer may be provided between the underlayer and the recording layer. it can.

【0242】同様に表面層上に、さらに各種最上層保護
層、ハーフミラー層、反射層などを設けることもでき
る。ただし反射層は積層しないことが望ましい。
Similarly, various uppermost protective layers, half mirror layers, reflecting layers and the like can be further provided on the surface layer. However, it is desirable that the reflective layer is not laminated.

【0243】本発明の媒体は、このような基体の一面上
に下地層を介して、上記の記録層を有するものであって
もよく、その両面に下地層を介して記録層を有するもの
であってもよい。
The medium of the present invention may have the above-mentioned recording layer on one surface of such a substrate via an underlayer, or may have a recording layer on both surfaces thereof via an underlayer. It may be.

【0244】また基体の一面上に下地層を介して記録層
を塗設したものを2つ用い、それらを記録層が向かいあ
うようにして、所定の間隙をもって対向させ、それを密
閉し、ホコリやキズがつかないようにすることもでき
る。
Further, two recording layers were coated on one surface of the substrate with an underlayer interposed between them. The recording layers were made to face each other and faced each other with a predetermined gap therebetween, and they were sealed to remove dust or dust. You can also prevent scratches.

【0245】本発明の光記録方法は、上記構成の本発明
の光記録媒体を用いレーザー光を照射して光記録を行う
ものである。
The optical recording method of the present invention uses the optical recording medium of the present invention having the above-mentioned structure to irradiate a laser beam to perform optical recording.

【0246】なお、装置を小型化するためには、書き込
みおよび読み出しの光源として、好ましくは750、7
80、830nmの半導体レーザーあるいは633nmのH
e−Neレーザー等を用いることが好ましい。
In order to miniaturize the device, the light sources for writing and reading are preferably 750 and 7.
80,830nm semiconductor laser or 633nm H
It is preferable to use an e-Ne laser or the like.

【0247】[0247]

【作用】本発明では、光記録媒体に対し、走行ないし回
転下において、記録光をパルス状に照射する。
According to the present invention, the recording light is applied to the optical recording medium in a pulsed form while running or rotating.

【0248】このとき、記録層中の光吸収性色素である
色素−クエンチャー結合体の発熱により、自己酸化性の
樹脂が分解するか、あるいは熱可塑性樹脂や色素が融解
し、ピットが形成される。
At this time, the self-oxidizing resin is decomposed or the thermoplastic resin or the dye is melted by the heat generation of the dye-quencher combination which is the light absorbing dye in the recording layer, and pits are formed. It

【0249】この場合、書き込みは気体裏面側から行う
ことが好ましい。
In this case, it is preferable that writing is performed from the back side of the gas.

【0250】特に、トリないしテトラカルボシアニン色
素−クエンチャー結合体を用いるときには、750、7
80、830nm波長の記録半導体レーザーダイオードな
どを用いたとき、きわめて良好な書き込みを行うことが
できる。
In particular, when a tri- or tetracarbocyanine dye-quencher conjugate is used, 750,7
When a recording semiconductor laser diode having a wavelength of 80 or 830 nm is used, extremely good writing can be performed.

【0251】このようにして形成されたピットは、やは
り媒体の走行ないし回転下、上記の波長の読み出し光の
反射光ないし透過光、特に反射光を検出することにより
読み出される。
The pits thus formed are read by detecting reflected light or transmitted light of the read light of the above wavelength, particularly reflected light, while the medium is running or rotating.

【0252】この場合、読み出し光は、やはり基体裏面
側から照射して、その反射光を検知するようにすること
が好ましい。
In this case, it is preferable to irradiate the reading light from the back side of the substrate and detect the reflected light.

【0253】なお、記録層に熱可塑性樹脂を用いるとき
には、一旦記録層に形成したピットを光ないし熱で消去
し、再書き込みを行うこともできる。
When a thermoplastic resin is used for the recording layer, the pits once formed in the recording layer can be erased by light or heat and rewriting can be performed.

【0254】また、記録ないし読み出し光としては、H
e−Neレーザー等を用いることもできる。
The recording or reading light is H
An e-Ne laser or the like can also be used.

【0255】[0255]

【発明の効果】本発明は色素−クエンチャー結合体また
はこの結合体の組成物からなる記録層に、第1表面層と
高分子膜からなる表面層を有するので、光記録媒体とし
ての、書き込みの感度が向上する。
According to the present invention, since the recording layer comprising the dye-quencher conjugate or the composition of this conjugate has the surface layer comprising the first surface layer and the polymer film, writing as an optical recording medium is possible. The sensitivity of is improved.

【0256】そして、高分子膜により、ピット形成の際
の第1表面層の飛散が防止されるので、S/N比が向上
し、エラーレートが減少する。
Since the polymer film prevents scattering of the first surface layer during pit formation, the S / N ratio is improved and the error rate is reduced.

【0257】[0257]

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below by showing specific examples of the present invention.

【0258】実施例 基体直径30cmのPMMA(MFI=2)射出成形基板
に、 四エチル塩酸 4.2部 エチルアルコール 43部 酢酸エチル 42部 濃塩酸 5.4部 エチレングリコール 5.4部 を混和し、50〜80%のコロイド分散液とし、n−プ
ロパノールで希釈して塗布液とした。
Example Substrate A PMMA (MFI = 2) injection-molded substrate having a diameter of 30 cm was mixed with tetraethyl hydrochloric acid 4.2 parts ethyl alcohol 43 parts ethyl acetate 42 parts concentrated hydrochloric acid 5.4 parts ethylene glycol 5.4 parts. , 50 to 80% colloidal dispersion, and diluted with n-propanol to obtain a coating solution.

【0259】これをスピンコートしたのち、60℃、3
0分間処理した。膜厚は0.01μm である。
After spin-coating this, 60 ° C., 3
It was processed for 0 minutes. The film thickness is 0.01 μm.

【0260】次いで、色素カチオンD+ 1とクエンチャ
ーアニオンQ- 2−8との結合体SD1の1%溶液〔ジ
クロロエタン、ジクロヘキサノン(6:5)〕を用い、
スピンナーで結合体SD1からなる記録層を設層した。
Then, using a 1% solution of the conjugate SD1 of the dye cation D + 1 and the quencher anion Q - 2-8 [dichloroethane, diclohexanone (6: 5)],
A recording layer composed of the conjugate SD1 was formed with a spinner.

【0261】さらに、この記録層上に上記コロイド分散
液をn−ヘキサンで希釈した溶液をスピンナー塗布によ
って第1表面層を設層した。膜厚は約0.006μm で
あった。
Further, a first surface layer was formed on the recording layer by spinner coating a solution prepared by diluting the colloidal dispersion with n-hexane. The film thickness was about 0.006 μm.

【0262】さらに、この上に、ポリビニルアルコール
PVA(クラレ社製205、加水分解率88%)を、メ
タノール−水(1:1)中に1%濃度にて溶解したもの
を塗布、設層して高分子膜とした。膜厚約0.01μm
であった。以上を試料1とする。
Furthermore, a polyvinyl alcohol PVA (205, manufactured by Kuraray Co., Ltd., hydrolysis rate 88%) dissolved in methanol-water (1: 1) at a concentration of 1% was applied and layered thereon. To make a polymer film. Thickness of about 0.01 μm
Met. The above is Sample 1.

【0263】試料1と同様な条件で色素−クエンチャー
結合体にSD16を用いた記録層を設層した。表面層、
下地層は試料1と同様である。以上を試料2とする。
A recording layer using SD16 was formed on the dye-quencher conjugate under the same conditions as in Sample 1. Surface layer,
The underlayer is the same as in sample 1. The above is referred to as Sample 2.

【0264】そして、試料1において、高分子膜のない
ものを試料3、高分子膜および表面層のないものを試料
4とする。
Then, in Sample 1, those without a polymer film are referred to as Sample 3, and those without a polymer film and a surface layer are referred to as Sample 4.

【0265】以上の試料について、830nmでの基板裏
面側からの反射率を測定した。
With respect to the above samples, the reflectance from the back surface side of the substrate at 830 nm was measured.

【0266】また、830nm半導体レーザーを用い、集
光部出力10mWで、基板裏面側から書き込み、反射レベ
ル比(消光比)2が得られる最小パルス幅(ns)の逆数
を感度として測定した。
Further, the reciprocal of the minimum pulse width (ns) at which a reflection level ratio (extinction ratio) of 2 was obtained by writing from the back side of the substrate using an 830 nm semiconductor laser with a condensing part output of 10 mW was measured as the sensitivity.

【0267】さらに、ヒューレッドパッカード社製のス
ペクトラムアナライザーにて、バンド巾30kHz でのC
/N比を測定した。
Furthermore, with a spectrum analyzer manufactured by Hewlett-Packard Co., C at a bandwidth of 30 kHz was used.
The / N ratio was measured.

【0268】さらに、電子顕微鏡により、表面層破砕片
の有無を観察した。エラーレートを測定した。結果を表
15に示す。
Further, the presence or absence of crushed pieces of the surface layer was observed with an electron microscope. The error rate was measured. The results are shown in Table 15.

【0269】[0269]

【表15】 [Table 15]

【0270】表15に示される結果から本発明の効果が
明らかである。
From the results shown in Table 15, the effect of the present invention is clear.

【0271】なお、下記表16に、高分子膜および第1
表面層の有無による感度と破砕片の有無の結果を示す。
The following Table 16 shows the polymer film and the first film.
The results of the sensitivity depending on the presence or absence of the surface layer and the presence or absence of crushed pieces are shown.

【0272】[0272]

【表16】 [Table 16]

【0273】表16より本発明の効果は明らかである。From Table 16, the effect of the present invention is clear.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 一夫 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 テ ィーディーケイ株式会社内 (72)発明者 黒岩 顕彦 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 テ ィーディーケイ株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Kazuo Takahashi 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDC Corporation (72) Inventor Akihiko Kuroiwa 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDK Within the corporation

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 基体上に、色素カチオンとクエンチャー
アニオンとの結合体を光吸収色素として含む記録層を有
し、この記録層上に表面層を有する光記録媒体におい
て、表面層が、記録層より高融点の無機膜の第1表面層
と、この第1表面層上に積層した高分子膜とを有するこ
とを特徴とする光記録媒体。
1. An optical recording medium having a recording layer containing, on a substrate, a combination of a dye cation and a quencher anion as a light absorbing dye, and having a surface layer on the recording layer, the surface layer is a recording layer. An optical recording medium comprising: a first surface layer of an inorganic film having a higher melting point than the layer; and a polymer film laminated on the first surface layer.
【請求項2】 基体上に、色素カチオンとクエンチャー
アニオンとの結合体を光吸収色素として含む記録層を有
し、この記録層上に表面層を有する光記録媒体にレーザ
ー光を照射して光記録を行うに際し、前記表面層とし
て、記録層より高融点の無機膜の第1表面層と、この第
1表面層上に積層した高分子膜とを設け、前記第1表面
層により十分なエネルギーを吸収できるまで記録層への
記録が行われないようにして感度を向上させるととも
に、前記高分子膜により記録時の破砕片の飛び散りを防
止する光記録方法。
2. An optical recording medium having a recording layer containing a combination of a dye cation and a quencher anion as a light absorbing dye on a substrate, and having a surface layer on the recording layer is irradiated with laser light. When performing optical recording, as the surface layer, a first surface layer of an inorganic film having a melting point higher than that of the recording layer and a polymer film laminated on the first surface layer are provided, and the first surface layer is more sufficient. An optical recording method in which recording is not performed on a recording layer until energy can be absorbed to improve sensitivity, and the polymer film prevents scattering of shreds during recording.
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