JPH0558915B2 - - Google Patents

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JPH0558915B2
JPH0558915B2 JP59198300A JP19830084A JPH0558915B2 JP H0558915 B2 JPH0558915 B2 JP H0558915B2 JP 59198300 A JP59198300 A JP 59198300A JP 19830084 A JP19830084 A JP 19830084A JP H0558915 B2 JPH0558915 B2 JP H0558915B2
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recording layer
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Shigeru Asami
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Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 技術分野 本発明は、光記録方法、特にヒートモードの光
記録媒体に対する光記録方法に関する。 先行技術 光記録媒体は、媒体と書き込みないし読み出し
ヘツドが非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化
しないという特徴をもち、このため、種々の光記
録媒体の開発研究が行われている。 このような光記録媒体のうち、暗室による現像
処理が不要である等の点で、ヒートモード光記録
媒体の開発が活発になつている。 このヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱
として利用する光記録媒体であり、その1例とし
て、レーザー等の記録光で媒体の一部を融解、除
去等して、ピツトと称される小穴を形成して書き
込みを行い、このビツトにより情報を記録し、こ
のピツトを読み出し光で検出して読み出しを行う
ピツト形成タイプのものがある。 このようなピツト形成タイプの媒体、特にその
うち、装置を小型化できる半導体レーザーを光源
とするものにおいては、これまで、Teを主体と
する材料を記録層とするものが大半をしめてい
る。 しかし、近年、Te系材料が有害であること、
そしてより高感度化する必要があること、より製
造コストを安価にする必要があることから、Te
系にかえ、色素を主とした有機材料系の記録層を
用いる媒体についての提案や報告が増加してい
る。 例えば、He−Neレーザー用としては、スクワ
リリウム色素〔特開昭56−46221号V.B.Jipson
and C.R.Jones,J.Vac.Sci.Technol.,18(1)105
(1981)〕や、金属フタロシアニン色素(特開昭57
−82094号,同57−82095号)などを用いるものが
ある。 また、金属フタロシアニン色素を半導体レーザ
ー用として使用した例(特開昭56−86795号)も
ある。 これらは、いずれも色素を蒸着により記録層薄
膜としたものであり、媒体製造上、Te系と大差
はない。 しかし、色素蒸着膜のレーザーに対する反射率
は一般に小さく、反射光量のピツトによる変化
(減少)によつて読み出し信号をうる、現在行わ
れている通常の方式では、大きなS/N比をうる
ことができない。 また、記録層を担持した透明基体を、記録層が
対向するようにして一体化した、いわゆるエアー
サンドイツチ構造の媒体とし、基体をとおして書
き込みおよび読み出しを行うと、書き込み感度を
下げずに記録層の保護ができ、かつ記録密度も大
きくなる点で有利であるが、このような記録再生
方式も、色素蒸着膜では困難である。 これは、通常の透明樹脂製基体では、屈折率が
ある程度の値をもち(ポリメチルメタクリレート
で1.5)、記録層の基体をとおしての反射率が、例
えばポリメチルメタクリレートでは半導体レーザ
ーの波長に対して25%程度以下になるため、低い
反射率しか示さない記録層では検出できないから
である。 色素蒸着膜からなる記録層の、読み出しのS/
N比を向上させるためには、通常、基体と記録層
との間に、Al等の蒸着反射膜を介在させている。 この場合、蒸着反射膜は、反射率を上げてS/
N比を向上させるためのものであり、ピツト形成
により反射膜が露出して反射率が増大するもので
あるが、当然のことながら、基体をとおしての記
録再生はできない。 同様に、特開昭55−161690号には、IR−132色
素(コダツク社製)とポリ酢酸ビニルとからなる
記録層、また、特開昭57−74845号には、1,
1′−ジエチル−2,2′−トリカルボシアニンイオ
ダイドとニトロセルロースとからなる記録層、さ
らにはK.Y.Law,etal.,Appl.Phys.Lett.39(9)718
(1981)には、3,3′−ジエチル−12−アセチル
チアテトラカルボシアニンとポリ酢酸ビニルとか
らなる記録層など、色素と樹脂とからなる記録層
を塗布法によつて設層した媒体が開示されてい
る。 しかし、これらの場合にも、基体と記録層との
間に反射膜を必要としており、基体裏面側からの
記録再生ができない点で、色素蒸着膜の場合と同
様の欠点をもつ。 このように、基体をとおしての記録再生が可能
である有機材料系の記録層をもつ媒体を実現する
には、有機材料自身が大きな反射率を示す必要が
ある。 しかし、従来、反射層を積層せずに、有機材料
の単層にて高い反射率を示す例はきわめて少な
い。 わずかに、バナジルフタロシアニンの蒸着膜が
高反射率を示す旨が報告〔P.Kivits,etal.,
Appl.Phys.Part A26(2)101(1981)、特開昭55−
97033号〕されているが、おそらく昇華温度が高
いためであろうと思われるが、書き込み感度が低
い。 また、チアゾール系やキノリン系等のシアニン
色素やメロシアニン色素が報告〔山本他、第27回
応用物理学会予稿集 1p−P−9(1980)〕され
ており、これにもとづく提案が特開昭58−112790
号になされているが、これら色素は、特に塗膜と
して設層したときに、溶剤に対する溶解度が小さ
く、また結晶化しやすく、さらには読み出し光に
対してきわめて不安定でただちに脱色してしま
い、実用に供しえない。 このような実状に鑑み、本発明者らは、先に、
溶剤に対する溶解度が高く、結晶化も少なく、か
つ熱的に安定であつて、塗膜の反射率が高いイン
ドレニン系のシアニン色素を単層膜として用いる
旨を提案している(特願昭57−134397号、同57−
134170号)。 また、インドレニン系、あるいはチアゾール
系、キノリン系、セレナゾール系等の他のシアニ
ン色素においても、長鎖アルキル基を分子中に導
入して、溶解性の改善と結晶化の防止がはかられ
ることを提案している(特願昭57−182589号、同
57−177776号等)。 さらに、光安定性をまし、特に読み出し光によ
る脱色(再生劣化)を防止するために、シアニン
色素に遷移金属化合物クエンチヤーを添加する旨
の提案を行つている(特願昭57−166832号、同57
−168048号等)。 さらには、色素とクエンチヤーとのイオン結合
体を形成し、これにより再生劣化をより減少し、
かつ安定性を高める旨の提案も行つている(特願
昭59−14848号、同59−18878号、同59−19715
号)。 ところで、色素または色素組成物からなる光記
録膜は光照射と同時に照射光の中央部からピツト
の形成が始まり、照射光パルスの後半では最もエ
ネルギーの集中している照射光の中央部で吸収さ
れなくなる。従つて、エネルギーの利用効率が低
く感度がある値以上に向上しない原因となつてい
る。 そこで、本発明者らは、先に、ケイ素系縮合物
のコロイド粒子分散液の塗膜などの高融点の膜を
表面層として設層する旨を提案している(特願昭
59−62386号等)。 この提案によれば、ピツトは一定時間の照射光
によつては形成されず、その間温度上昇がおこ
り、十分な温度になつたのち一気にピツトを形成
するので、感度はきわめて高いものとなる。 しかし、このようなピツト形成を行うので、得
られるコントラスに比較して、書き込み光強度が
高く、媒体走行速度も低くせざるをえないという
欠点がある。 また、このような場合、通常の状態では、ピツ
ト形成に際し、同時にピツト部で表面層の断製な
いし破砕も生じ、これが他のトラツクに飛散し、
S/N比を低下させたり、エラーレートを大きく
したりする不都合がある。 発明の目的 本発明の目的は、色素または色素組成物からな
る記録層を有する光記録媒体を用いた光記録方法
において、その表面層を改良して、感度が高く、
しかもS/N比が高く、かつエラーレートの少な
いものとすることにある。 発明の開示 このような目的は下記の本発明によつて達成さ
れる。 すなわち本発明は、基体上に、色素または色素
組成物からなる記録層を有し、この記録層上に、
それより高融点の無機膜の表面層を有する光記録
媒体に、書き込み光を照射してピツトを形成して
光記録を行うにあたり、 前記表面層により十分なエネルギーを吸収でき
るまで記録層への記録が行われないようにして感
度を向上させるとともに、 ピツトを、表面層が実質的に破断しない状態に
て凹部として形成して記録時の破砕片の飛び散り
を防止する光記録方法である。 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明
する。 本発明に用いる光記録媒体の記録層中には色素
が含有される。 用いる色素には特に制限はなく、シアニン系、
フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、テトラ
デヒドロコリンないしテトラデヒドロコロール
系、アントラキノン系、アゾ系、トリフエニルメ
タン系、ビリリウムないしチアビリリウム塩素系
等の色素はいずれも使用可能である。 このような中で、本発明による効果が大きいの
は、第1にシアニン色素である。 シアニン色素の中では下記式〔〕で示される
ものが好ましい。 式 〔〕 φ−L=ψ (X-n 上記式〔〕において、ψおよびφは、芳香族
環、例えばベンゼン環、ナフタレン環、フエナン
トレン環等が縮合してもよいインドール環、チア
ゾール環、オキサゾール環、セレナゾール環、イ
ミダゾール環、ピリジン環等をあらわす。 これらφおよびψは、同一でも異なつていても
よいが、通常は同一のものであり、これらの環に
は、種々の置換基が結合していてもよい。なお、
φは、環中の窒素原子が+電荷をもち、ψは、環
中の窒素原子が中性のものである。 これらのφおよびψの骨格環としては、下記式
〔φ〕〜〔φ〕で示されるものであること
が好ましい。 なお、下記においては、構造はφの形で示され
る。 〔φ〕 〔φ〕 〔φ〕 〔φ〕 〔φ〕 〔φ〕 〔φ〕 〔φ〕 〔φ〕 〔φ〕 〔φXI〕 〔φXII〕 〔φ〕 〔φ〕 〔φ〕 〔φ〕 このような各種環において、環中の窒素原子
(イミダゾール環では2個の窒素原子)に結合す
る基R1(R1,R1′)は、置換または非置換のアル
キル基またはアリール基である。 このような環中の、窒素原子に結合する基R1
R1′の炭素原子数には、特に制限はない。また、
この基がさらに置換基を有するものである場合、
置換基としては、スルホン酸基、アルキルカルボ
ニルオキシ基、アルキルアミド基、アルキルスル
ホンアミド基、アルコキシカルボニル基、アルキ
ルアミノ基、アルキルカルバモイル基、アルキル
スルフアモイル基、水酸基、カルボキシ基、ハロ
ゲン原子等いずれであつてもよい。 なお、後述のmが0である場合、φ中の窒素原
子に結合する基R1は、置換アルキルまたはアリ
ール基であり、かつ−電荷をもつ。 さらに、φおよびψの環が、縮合ないし非縮合
のインドール環(式〔φ〕〜〔φ〕)である
場合、その3位には、2つの置換基R2,R3が結
合することが好ましい。この場合、3位に結合す
る2つの置換基R2,R3としては、アルキル基ま
たはアリール基であることが好ましい。そして、
これらのうちでは、炭素原子数1または2、特に
1の非置換アルキル基であることが好ましい。 一方、φおよびψで表わされる環中の所定の位
置には、さらに他の置換基R4が結合していても
よい。このような置換基としては、アルキル基、
アリール基、複素環残基、ハロゲン原子、アルコ
キシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、アルキルカルボニル基、アリールカ
ルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アリ
ーロキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキ
シ基、アリールカルボニルオキシ基、アルキルア
ミド基、アリールアミド基、アルキルカルバモイ
ル基、アリールカルバモイル基、アルキルアミノ
基、アリールアミノ基、アルボン酸基、アルキル
スルホニル基、アリールスルホニル基、アルキル
スルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、
アルキルスルフアモイル基、アリールスルフアモ
イル基、シアノ基、ニトロ基等、種々の置換基で
あつてよい。 そして、これらの置換基の数(p,q,r,
s,t)は、通常、0または1〜4程度とされ
る。なお、p,q,r,s,tが2以上であると
き、複数のR4は互いに異なるものであつてよい。 なお、これらのうちでは、式〔φ〕〜〔φ
〕の縮合ないし非縮合のインドール環を有する
ものが好ましい。これらは溶剤に対する溶解度、
塗膜性、安定性にすぐれ、きわめて高い反射率を
示し、読み出しのS/N非がきわめて高くなるの
である。 他方、Lは、モノ、ジ、トリまたはテトラカル
ボシアニン色素を形成するための連結基を表わす
が、特に式〔L〕〜〔L〕のいずれかである
ことが好ましい。 式〔L〕 式〔L〕 式〔L〕 式〔L〕 式〔L〕 式〔L〕 式〔L〕 式〔L〕 式〔L〕 ここに、Yは、水素原子または1価の基を表わ
す。この場合、1価の基としては、メチル基等の
低級アルキル基、メトキシ基等の低級アルコキシ
基、ジメチルアミノ基、ジフエニルアミノ基、メ
チルフエニルアミノ基、モルホリノ基、イミダゾ
リジン基、エトキシカルボニルピペラジン基など
のジ置換アミノ基、アセトキシ基等のアルキルカ
ルボニルオキシ基、メチルチオ基等のアルキルチ
オ基、シアノ基、ニトロ基、Br,Cl等のハロゲ
ン原子などであることが好ましい。 なお、これら式〔L〕〜〔L〕の中では、
トリカルボシアニン連結基、特に式〔L〕、〔L
〕が好ましい。 さらに、-は陰イオンであり、その好ましい
例としては、 -,Br-,ClO4 -,BF4 -, 【式】 【式】 等を挙げることができる。 なお、mは0または1であるが、mが0である
ときには、通常、φのR1-電荷をもち、分子内
塩となる。 次に、本発明のシアニン色素の具体例を挙げる
が、本発明はこれらのみに限定されるものではな
い。 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 さらに、本発明による効果が大きいのは、第2
にフタロシアニン色素である。 用いるフタロシアニンには、特に制限はなく、
中心原子としては、Cu,Fe,Co,N,In,Ga,
Al,InCl,InBr,InI,GaCl,GaBr,GaI,
AlCl,AlBr,Ti,TiO,Si,Ge,H,H2,Pb,
Vo,Mn,Sn等が可能である。 また、フタロシアニンのベンゼン環には、直接
または適当な連結基を介して、−OH、ハロゲン、
−COOH、NH2、−CoCl、−COOR′、−OCOR′(た
だし、R′は各種アルキルないしアリール等)、 −SO2Cl、−SO3H、−CONH2、 −CN、−NO2、−SCN、−SH、 −CH2Cl等の種々の置換基が結合したものであつ
てよい。 次に、本発明の光吸収色素の具体例を挙げる
が、本発明はこれらのみに限定されるものではな
い。 このような色素は、大有機化学(朝倉書店)含
窒素複素環化合物 432ページ等に記載された
方法に準じて容易に合成することができる。 すなわち、まず対応するφ′−CH3(φ′は前記φ
に対応する環を表わす。)を、過剰のR1I(R1はア
ルキル基またはアリール基)とともに加熱して、
R1をφ′中の窒素原子に導入してφ−CH3I-を得
る。次いで、これを、不飽和ジアルデヒド、不飽
和ヒドロキシアルデヒド、ペンタジエンジアリル
またはイソホロンなどと、ピペリジン、トリアル
キルアミンなどアルカリ触媒または無水酢酸等を
用いて脱水縮合すればよい。 このような色素は、単独で記録層を形成するこ
ともできる。 あるいは樹脂とともに記録層を形成する。 用いる樹脂としては、自己酸化性のもの、ある
いは熱可塑性樹脂が好適である。 記録層に含有される自己酸化性の樹脂は、昇温
したとき、酸化的な分解を生じるものであるが、
これらのうち、特にニトロセルロースが好適であ
る。 また、熱可塑性樹脂は、記録光を吸収した色素
の昇温により軟化するものであり、熱可塑性樹脂
としては、公知の種々のものを用いることができ
る。 これらのうち、特に好適に用いることができる
熱可塑性樹脂には、以下のようなものがある。 ポリオレフイン ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ4−メ
チルペンテン−1など。 ポリオレフイン共重合体 例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エ
チレン−アクリル酸エステル共重合体、エチレ
ン−アクリル酸共重合体、エチレン−プロピレ
ン共重合体、エチレン−ブテン−1共重合体、
エチレン−無水マレイン酸共重合体、エチレン
プロピレンターポリマー(EPT)など。 この場合、コモノマーの重合比は任意のもの
とすることができる。 塩化ビニル共重合体 例えば、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、
塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニル−無水マレイン酸共重合体、アクリル酸エ
ステルないしメタアクリル酸エステルと塩化ビ
ニルとの共重合体、アクリロニトリル−塩化ビ
ニル共重合体、塩化ビニルエーテル共重合体、
エチレンないしプロピレン−塩化ビニル共重合
体、エチレン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニ
ルをグラフト重合したものなど。 この場合、共重合比は任意のものとすること
ができる。 塩化ビニリデン共重合体 塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化
ビニリデン−塩化ビニル−アクリロニトリル共
重合体、塩化ビニリデン−ブタジエン−ハロゲ
ン化ビニル共重合体など。 この場合、共重合比は、任意のものとするこ
とができる。 ポリスチレン スチレン共重合体 例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合
体(AS樹脂)、スチレン−アクリロニトリル−
ブタジエン共重合体(ABS樹脂)、スチレン−
無水マレイン酸共重合体(SMA樹脂)、スチレ
ン−アクリル酸エステル−アクリルアミド共重
合体、スチレン−ブタジエン共重合体
(SBR)、スチレン−塩化ビニリデン共重合体、
スチレン−メチルメタアクリレート共重合体な
ど。 この場合、共重合比は任意のものとすること
ができる。 スチレン型重合体 例えば、α−メチルスチレン、p−メチルス
チレン、2,5−ジクロルスチレン、α,β−
ビニルナフタレン、α−ビニルピリジン、アセ
ナフテン、ビニルアントラセンなど、あるいは
これらの共重合体、例えば、α−メチルスチレ
ンとメタクリル酸エステルとの共重合体。 クロマン−インデン樹脂 クマロン−インデン−スチレンの共重合体。 テルペン樹脂ないしピコライト 例えば、α−ピネンから得られるリモネンの
重合体であるテルペン樹脂や、β−ピネンから
得られるピコライト。 アクリル樹脂 特に下記式で示される原子団を含むものが好
ましい。 式 上記式において、R10は、水素原子またはアル
キル基を表わし、R20は、置換または非置換のア
ルキル基を表わす。この場合、上記式において、
R10は、水素原子または炭素原子数1〜4の低級
アルキル基、特に水素原子またはメチル基である
ことが好ましい。 また、R20は、置換、非置換いずれのアルキル
基であつてもよいが、アルキル基の炭素原子数は
1〜8であることが好ましく、また、R20が置換
アルキル基であるときには、アルキル基を置換す
る置換基は、水酸基、ハロゲン原子またはアミノ
基(特に、ジアルキルアミノ基)であることが好
ましい。 このような上記式で示される原子団は、他のく
りかえし原子団とともに、共重合体を形成して各
種アクリル樹脂を構成してもよいが、通常は、上
記式で示される原子団の1種または2種以上をく
りかえし単位とする単独重合体または共重合体を
形成してアクリル樹脂を構成することになる。 ポリアクリロニトリル アクリロニトリル共重合体 例えば、アクリロニトリル−酢酸ビニル共重
合体、アクリロニトリル−塩化ビニル共重合
体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ア
クリロニトリル−塩化ビニリデン共重合体、ア
クリロニトリル−ビニルピリジン共重合体、ア
クリロニトリル−メタクリル酸メチル共重合
体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、
アクリロニトリル−アクリル酸ブチル共重合体
など。 この場合、共重合比は任意のものとすること
ができる。 ダイアセトンアクリルアミドポリマー アクリロニトリルにアセトンを作用させたダ
イアセトンアクリルアミドポリマー。 ポリ酢酸ビニル 酢酸ビニル共重合体 例えば、アクリル酸エステル、ビニルエーテ
ル、エチレン、塩化ビニル等との共重合体な
ど。 共重合比は任意のものであつてもよい。 ポリビニルエーテル 例えば、ポリビニルメチルエーテル、ポリビ
ニルエチルエーテル、ポリビニルブチルエーテ
ルなど。 ポリアミド この場合、ポリアミドとしては、ナイロン
6、ナイロン6−6、ナイロン6−10、ナイロ
ン6−12、ナイロン9、ナイロン11、ナイロン
12、ナイロン13等の通常のホモナイロンの他、
ナイロン6/6−6/6−10、ナイロン6/6
−6/12、ナイロン6/6−6/11等の重合体
や、場合によつては変性ナイロンであつてもよ
い。 ポリエステル 例えば、シユウ酸、コハク酸、マレイン酸、
アジピン酸、セバステン酸等の脂肪族二塩基
塩、あるいはイソフタル酸、テレフタル酸など
の芳香族二塩基酸などの各種二塩基酸と、エチ
レングリコール、テトラメチレングリコール、
ヘキサメチレングリコール等のグリコール類と
の縮合物や、共縮合物が好適である。 そして、これらのうちでは、特に脂肪族二塩
基酸とグリコール類との縮合物や、グリコール
類と脂肪族二塩基酸との共縮合物は、特に好適
である。 さらに、例えば、無水フタル酸とグリセリン
との縮合物であるグリプタル樹脂を、脂肪酸、
天然樹脂等でエステル化変性した変性グリプタ
ル樹脂等も好適に使用される。 ポリビニルアセタール系樹脂 ポリビニルアルコールを、アセタール化して
得られるポリビニルホルマール、ポリビニルア
セタール系樹脂はいずれも好適に使用される。 この場合、ポリビニルアセタール系樹脂のア
セタール化度は任意のものとすることができ
る。 ポリウレタン樹脂 ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹
脂。 特に、グリコール類とジイソシアナート類と
の縮合によつて得られるポリウレタン樹脂、と
りわけ、アルキレングリコールとアルキレンジ
イソシアナートとの縮合によつて得られるポリ
ウレタン樹脂が好適である。 ポリエーテル スチレンホルマリン樹脂、環状アセタールの
開環重合体、ポリエチレンオキサイドおよびグ
リコール、ポリプロピレンオキサイドおよびグ
リコール、プロピレンオキサイド−エチレンオ
キサイド共重合体、ポリフエニレンオキサイド
など。 セルロース誘導体 例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロ
ース、エチルセルロース、アセチルブチルセル
ロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロ
キシプロピルセルロース、メチルセルロース、
エチルヒドロキシエチルセルロースなど、セル
ロースの各種エステル、エーテルないしこれら
の混合体。 ポリカーボネート 例えば、ポリジオキシジフエニルメタンカー
ボネート、ジオキシジフエニルプロパンカーボ
ネート等の各種ポリカーボネート。 アイオノマー メタクリル酸、アクリル酸などのNa,Li,
Zn,Mg塩など。 ケトン樹脂 例えば、シクロヘキサノンやアセトフエノン
等の環状ケトンとホルムアルデヒドとの縮合
物。 キシレン樹脂 例えば、m−キシレンまたはメシチレンとホ
ルマリンとの縮合物、あるいはその変性体。 石油樹脂 C5系、C9系、C5−C9共重合系、ジシクロペ
ンタジエン系、あるいは、これらの共重合体な
いし変性体など。 上記〜の2種以上のブレンド
体、またはその他の熱可塑性樹脂とのブレンド
体。 なお、自己酸化性または熱可塑性の樹脂の分子
量等は種々のものであつてよい。 このような自己酸化性化合物または熱可塑性樹
脂樹脂と、前記の色素とは、通常、重量比で1対
0.1〜100の広範な量比にて設層される。 このような記録層中には、さらに、クエンチヤ
ーが含有されることが好ましい。 これにより、再生劣化が減少し、耐光性が向上
する。 クエンチヤーとしては、種々のものを用いるこ
とができるが、特に、色素が励起して一重項酸素
が生じたとき、一重項酸素から電子移動ないしエ
ネルギー移動をうけて励起状態となり、自ら基底
状態にもどるとともに、一重項酸素を三重項状態
に変換する一重項酸素クエンチヤーであることが
好ましい。 一重項酸素クエンチヤーとしても、種々のもの
を用いることができるが、特に、酸性劣化が減少
すること、そして色素との相溶性が良好であるこ
となどから、遷移金属キレート化合物であること
が好ましい。この場合、中心金属としては、Ni,
Co,Cu,Mn,Pd,Pt等が好ましく、特に下記
の化合物が好適である。 1 アセチルアセトナートキレート系 Q1−1 Ni()アセチルアセトナート Q1−2 Cu()アセチルアセトナート Q1−3 Mn()アセチルアセトナート Q1−4 Co()アセチルアセトナート 2 下記式で示されるビスジチオ−α−ジケトン
ここに、R1〜R4は、置換ないし非置換のアル
キル基またはアリール基を表わし、Mは、Ni,
Co,Cu,Pd,Pt等の遷移金属原子を表わす。 この場合、Mは−電荷をもち、4級アンモニウ
ムイオン等のカチオン(Cat)と塩を形成しても
よい。 なお、以下の記載において、Phはフエニル基、
φは1,4−フエニレン基、φ′は1,2−フエニ
レン基、benzは環上にてとなりあう基が互いに
結合して縮合ベンゼン環を形成することを表わす
ものである。 【表】 3 下記式で示されるビスフエニルジチオール系 ここに、R5ないしR8は、水素またはメチル基、
エチル基などのアルキル基、Clなどのハロゲン原
子、あるいはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ
基などのアミノ基を表わし、 Mは、Ni,Co,Cu,Pd,Pt等の遷移金属原子
を表わす。 また、上記構造のMは−電荷をもつて、4級ア
ンモニウムイオン等のカチオン(Cat)と塩を形
成してもよく、さらにはMの上下には、さらに他
の配位子が結合してもよい。 このようなものとしては、下記のものがある。 【表】 【表】 この他、特開昭50−45027号や特願昭58−
163080号に記載したものなど。 4 下記式で示されるジチオカルバミン酸キレー
ト系 ここに、R9およびR10はアルキル基を表わす。 また、MはNi,Co,Cu,Pd,Pt等の遷移金属
を表わす。 Q4−1R9,R10/C4H9 M/Ni 5 下記式で示されるもの ここに、Mは、遷移金属原子を表わし、Q1は、 【式】または【式】 を表わし、Catは、カチオンを表わす。 【表】 この他、特願昭58−125654号に記載したもの。 6 下記式で示されるもの ここに、 Mは遷移金原子を表わし、 AはS,C<R11 R12またはC Q2を表わし、 R11およびR12は、それぞれCN,COR13
COOR14,CONR15,R16またはSO2R17を表わし、 R13ないしR17は、それぞれ水素原子または置
換もしくは非置換のアルキル基もしくはアリール
基を表わし、 Q2は、5員または6員環を形成するのに必要
な原子群を表わし、 Catは、カチオンを表わし、 nは1または2である。 【表】 【表】 この他、特願昭58−127074号に記載したもの。 7 下記式で示される化合物 ここに、Mは遷移金属原子を表わし、 Catは、カチオンを表わし、 nは1または2である。
Cat Q7−1 Ni
2〔(n−C4H93N〕 Q7−2 Ni
2〔n−C16H33(CH33N〕 この他、特願昭58−127075号に記載したもの。 8 ビスフエニルチオール系 Q8−1 Ni−ビス(オクチルフエニル) サルフアイド 9 下記式で示されるチオカテコールキレート系 ここに、Mは、Ni,Co,Cu,Pd,Pt等の遷移
金属原子を表わす。 また、Mは−電荷をもち、カチオン(Cat)と
塩を形成してもよく、ベンゼン環は置換基を有し
ていてもよい。 Cat Q9−1 Ni N+(C4H94 10 下記式で示される化合物 ここに、R18は、1価の基を表わし、 lは、0〜6であり、 Mは、遷移金属原子を表わし、 Catは、カチオンを表わす。 R18 Cat Q10−1 Ni H 0 N(n−C4H94 Q10−2 Ni CH3 1 N(n−C4H94 特願昭58−143531号に記載したもの。 11 下記の両式で示される化合物 ここに、上記式において、 R20,R21,R22およびR23は、それぞれの水素
原子または1価の基を表わし、 R24,R25,R26およびR27は、水素原子または
1価の基を表わすが、 R24とR25、R25とR26、R26とR27は、互いに結
合して6員環を形成してもよい。 また、Mは、遷移金属原子を表わす。 【表】 この他、特願昭58−145294号に記載したもの。 12 下記式で示される化合物 ここに、Mは、Pt,NiまたはPdを表わし、
X1,X2,X3,X4は、それぞれOまたはSを表わ
す。 X1 X2 X3 X4 Q12−1 Ni O O O O Q12−2 Ni S S S S この他、特願昭58−145295号に記載したもの。 13 下記式で示される化合物 ここに、R31は、置換もしくは非置換のアルキ
ル基またはアリール基であり、 R32,R33,R34およびR35は、水素原子または
1価の基を表わすが、R32とR33、R33とR34、R34
とR35は、互いに結合して6員環を形成してもよ
い。 また、Mは、遷移金属原子を表わす。 【表】 この他、特願昭58−151928号に記載したもの。 14 下記両式で示される化合物 R41,R41,R43およびR44は、それぞれ水素原
子または1価の基を表わすが、 R41とR42、R42とR43、R43とR44は、互いに結
合して6員環を形成してもよい。 また、R45およびR46は、水素原子または1価
の基を表わす。 さらに、Mは、遷移金属原子を表わす。 【表】 この他、特願昭58−151929号に記載したもの。 15 下記式で示される化合物 ここに、R51,R52.R53,R54,R55,R56,R57
およびR58は、それぞれ、水素原子または1価の
基を表わすが、 R51とR52、R52とR53、R53とR54、R55とR56
R56とR57およびR57とR58は互いに結合して6員
環を形成してもよい。 Xは、ハロゲンを表わす。 Mは、遷移金属原子を表わす。 【表】 この他、特願昭58−153392号に記載したもの。 16 下記式で示されるサリチルアルデヒドオキシ
ム系 ここに、R60およびR61は、アルキル基を表わ
し、Mは、Ni,Co,Cu,Pd,Pt等の遷移金属原
子を表わす。 【表】 17 下記式で示されるチオビスフエノレートキレ
ート系 ここに、Mは前記と同じであり、R65および
R66は、アルキル基を表わす。また、Mは−電荷
をもち、カチオン(Cat)と塩とを形成していて
もよい。 【表】 18 下記式で示される亜ホスホン酸キレート系 ここに、Mは前記と同じであり、R71および
R72は、アルキル基、水酸基等の置換基を表わ
す。 R71 R72 Q18−1 3−t−C4H9,5−t−C4H9,6−
OH Ni 19 下記各式で示される化合物 ここに、R81,R82,R83およびR84は、水素原
子または1価の基を表わすが、 R81とR82,R82とR83,R83とR84は、互いに結
合して、6員環を形成してもよい。 R85およびR88は、それぞれ、水素原子または
置換もしくは非置換のアルキル基もしくはアリー
ル基を表わす。 R86は、水素原子、水酸基または置換もしくは
非置換のアルキル基もしくはアリール基を表わ
す。 R87は、置換または非置換のアルキル基または
アリール基を表わす。 Zは、5員または6員の環を形成するのに必要
な非金属原子群を表わす。 Mは、遷移金属原子を表わす。 【表】 この他、特願昭58−153393号に記載したもの。 20 下記式で示される化合物 ここに、R91およびR92は、それぞれ、水素原
子、置換または非置換のアルキル基、アリール
基、アシル基、N−アルキルカルバモイル基、N
−アリールカルバモイル基、N−アルキルスルフ
アモイル基、N−アリールスルフアモイル基、ア
ルコキシカルボニル基またはアリーロキシカルボ
ニル基を表わし、 Mは、遷移金属原子を表わす。 R91 R92 Q20−1 nC4H9CH3 Ni Q20−2 CH3CH3O−φ−NHCO Ni この他、特願昭58−155359号に記載したもの。 この他、他のクエンチヤーとしては、下記のよ
うなものがある。 21 ベンゾエート系 Q21−1 既存化学物質3−3040〔チヌビン−
120(チバガイギー社製)〕 22 ヒンダードアミン系 Q22−1 既存化学物質5−3732 〔SANOLIS−770(三共製薬社製)〕 これら各クエンチヤーは、色素1モルあたり
0.01〜12モル、特に0.05〜1.2モル程度含有され
る。 なお、クエンチヤーの極大吸収波長は、用いる
色素の極大吸収波長以上であることが好ましい。 これにより、再生および劣化はきわめて小さく
なる。 この場合、両者の差は0か、350nm以下である
ことが好ましい。 なお、装置を小型化するためには、書き込みお
よび読み出しの光源として、好ましくは750、
780、830nmの半導体レーザーあるいは633nmの
He−NEレーザー等オエ用いることが好ましいの
で、一重項酸素クエンチヤーの吸収極大波長は
680nm以上、特に680〜1500、より一層好ましく
は、800〜1500nmにあることが好ましい。 さらに、読み出し光の波長における用いる色素
(2種以上用いるときにはその実効値)および一
重項酸素クエンチヤーの吸収係数をそれぞれεD
およびεQとしたとき、εD/εQは3以上であるこ
とが好ましい。 なお、色素を2種以上併用して用いることに
は、色素の吸収極大波長とεDとは、濃度に応じ
た相加平均実効値である。 このような値となることにより、読み出し光の
照射時のクエンチヤーの励起がきわめて小さくな
り、一重項酸素による再生劣化はきわめて小さく
なる。 さらに、クエンチヤーは、色素とイオン結合体
を形成してもよい。 クエンチヤー色素イオン結合体としては、特願
昭59−14848号に記載したものを用いてもよい。 ただ、より好適に用いることのできるのは、特
願昭59−18878号、同59−19715号に記載したシア
ニン色素カチオンとクエンチヤーアニオンとの結
合体である。 用いるシアニン色素カチオンとしては、上記し
たもののカチオン体いずれであつてもよい。 また、クエンチヤーアニオンは、上記3)、
5)、6)、7)、9)、10)、17)のうちのいずれ
のアニオン体であつてもよい。 以下にその具体例をあげる。 なお、下記において、D+は対応するDのカチ
オン、また、Q-は対応するクエンチヤーのアニ
オンである。 【表】 【表】 このような吸収特性をもつクエンチヤーは、用
いる光源および色素に応じ、適宜選択して使用さ
れる。 このような記録層を設置するには、一般に常法
に従い塗設すればよい。 そして、記録層の厚さは、通常、0.03〜2μm程
度とされる。あるいは色素とクエンチヤーのみで
記録層を形成するとくには、蒸着、スパツタリン
グ等によつてもよい。 記録層の厚みは、0.04〜0.12μm、特に0.05〜
0.08μmであることが好ましい。 0.04μm、特に0.03μm以下では吸収量反射量と
も小さく書き込み感度、再生感度とも大きく取る
ことができない。 0.12μm以上では、プリグループが埋没してし
まい、トラツキング信号を得ることが困難とな
る。また、ビツト形成が容易でなき、書き込み感
度が低下する。 なお、このような記録層には、この他、他の色
素や、他のポリマーないしオリゴマー、各種可塑
剤、界面活性剤、帯電防止剤、滑剤、難燃剤、安
定剤、分散剤、酸化防止剤、そそして架橋剤等が
含有されていてもよい。 このような記録層を設層するには、基体上に、
所定の溶媒を用いて塗布、乾燥すればよい。 なお、塗布に用いる溶媒としては、例えばメチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シク
ロヘキサノン等のケトン系、酢酸ブチル、酢酸エ
チル、カルビトールアセテート、ブチルカルビト
ールアセテート等のエステル系、メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ等のエーテル系、ないしト
ルエン、キシレン等の芳香族系、ジクロロエタン
等のハロゲン化アルキル系、アルコール系などを
用いればよい。 このような記録層を設層する基体は樹脂製であ
る。 樹脂の材質としては、種々のものが可能であ
る。 ただ、このような樹脂中、特に上記したような
各種塗布用の溶媒、特にケトン系、エステル系、
ハロゲン化アルキル等におかされやすく、本発明
の下地層による効果が特に大きいのは、アクリル
樹脂またはポリカーボネート樹脂である。 そして、これらでは、書き込みおよび読み出し
光に対し、実質的に透明であるので、書き込みお
よび読み出しを基体裏面側から行うことができ、
感度、S/N比等の点で有利であり、またホコリ
対策等の実装上の点でも有利である。 さらに、成形性も良好であるので、トラツキン
グ用の溝の形成も容易である。 アクリル樹脂としては、ポリメチルメタクリレ
ート等、炭素原子数1〜8の鎖状ないし環状のア
ルキル基をもつメタクリル酸エステルを主体とす
るコポリマーないしホモポリマーが好ましい。 また、ポリカーボネート樹脂としては、ビスフ
エノールAタイプが好ましい。 そして、これらアクリル樹脂またはポリカーボ
ネート樹脂は、射出成形によつて形成されたもの
であるとき、本発明の下地層の効果はより大きな
ものとなる。 なお、これらアクリル樹脂またはポリカーボネ
ート樹脂の数平均重合度は、800〜6000程度であ
ることが好ましい。 記録層上に設層される表面層は、記録層より高
融点で、さらにはそれより硬度の高い膜であれば
よい。 従つて、各種酸化物系、窒化物系、炭化物系等
の無機物質、例えば酸化ケイ素、酸化チタン、酸
化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコ
ン、窒化ケイ素、炭化ケイ素等の気相被着膜であ
つてもよい。 あるいは、いわゆる架橋剤として知られるキレ
ート化合物等から形成される酸化ケイ素、酸化チ
タン、酸ジルコン、酸化アルミニウム等から主と
して形成される加水分解塗膜であつてもよい。 ただ、これらの中で、もつとも有動なのは、ケ
イ素系縮合物のコロイド粒子分散液の塗膜であ
る。 ケイ素系縮合物のコロイド粒子は、ハロゲン化
ケイ素、特に四塩化ケイ素、ないしアルキルケイ
酸、特に四低級アルキル(メチル、エチル)ケイ
酸の加水分解縮合物が好適である。 そして、コロイド粒子径は、30〜100Å、特に
50〜80Å程度とされる。 また、分数媒としては、アルコール、特に1個
の脂肪族アルコール、あるいは酢酸アルキル、あ
るいはこれらと芳香族炭化水素との混合溶媒等が
用いられる。 また、加水分解のためには、必要に応じ鉱酸が
添加される。 そして、必要に応じエチレングリコール等の安
定剤や界面活性剤等が添加される。 このようなコロイド粒子分散液の1例として
は、特公昭31−6533号に記載された四塩化ケイ素
(SiCl4)と1価の脂肪族アルコールとを酢酸アル
キルエステル中に溶解させたものがある。 また、特公昭36−4740号に記載された四アルキ
ルケイ酸と1価の脂肪族アルコール、酢酸アルキ
ルおよび鉱酸よりなる溶液に、1〜20wt%のエ
チレングリコールを添加したのでもよい。 さらには、特公昭45−35435号に記載された四
低級アルキルケイ酸のアルコール溶液でもよい。 このような場合、使用する1価の脂肪族アルコ
ールとしては、メチルアルコール、エチルアルコ
ール、変性アルコール、イソプロピルアルコー
ル、ブチルアルコールあるいはそれらの混合物、 酢酸アルキルとしては、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸アミル、酢酸ブチルあるいはこれらの混
合物を用い、 鉱酸としては、塩酸、硫酸の水溶液等で、普通
工業的に用いられているものを用いればよい。 なお、これらの分散液の塗布は、常法に従い、
スピンナーコート等の塗布にすればよい。 この場合、希釈溶媒としては、例えば炭化水素
系とアルコール系との混合溶媒がある。 そして、乾燥は、40〜80℃にて、20分〜2時間
程度行えばよい。 このようにして形成される塗膜は、水酸基を含
む酸化ケイ素塗膜である。 以上の第1表面層の厚さは、0.005〜0.03μmで
ある。特に好ましくは、0.08〜0.12μmであること
が好ましい。 第1表面層が、0.003μm未満であれば、光記録
媒体としての書き込み読み出しの感度向上の効果
が得られない。 第1表面層が0.03μmを超えると、光記録媒体
としての書き込み読み出しの感度は、かえつて、
低下してしまう。 色素組成物からなる光記録膜は光照射と同時に
ピツトが形成されてしまい、その後の照射光は最
もエネルギーの集中している中央部で吸収されな
くなる。従つてエネルギーの利用効率が低く、感
度がある値以上向上しない原因となつている。 本発明の表面層は高融点の固い膜で、一定時間
以下で照射光に対してピツトを形成しないように
している。 そして、高融点の表面層を設けるときでも、書
き込み光の強度、パルス巾、回転速度等を調整す
ることにより、表面層が実質的に連続した状態
で、かつ実質的に破断することなく、ピツト凹部
が形成されることになる。 従つて、高い感度を維持した上で、表面層破断
片の飛散にもとづくS/N比の低下やエラーレー
トの上昇が防止される。 なお、このような書き込み条件は、容易に実験
的に求めることができる。 なお、実質的に表面層が連続しかつ破断しない
とは、ピツト径に対し無視しうるピンホールの発
生は許容するものである。 また、このような表面層は複合積層膜であつて
もよい。 さらに、このような表面層には、上層として高
分子膜が積層されていてもよい。 そして、このような高分子膜の設層によつて
も、表面層の破断が防止されるのである。 用いる高分子としては種々のものが適用できる
が、特に上記の表面層を侵して色素を溶解しない
こと、密着性のよいこと、均一性のよいこと、塗
布性のよいこと、低粘度のあること等の点で、水
または水−アルコール混合溶媒に可溶で、かつ水
酸基を含有する高分子化合物の塗膜からなるもの
が好ましい。 この場合、水または水−アルコール混合溶媒に
可溶であるとは、水あるいは後述のような水−ア
ルコール混合溶媒に1%程度以上溶解するもので
あればよい。 このような高分子化合物としては、アラビアゴ
ム、アルギン酸、トラガントガム等の多糖類であ
つてもよいが、特に下記のようなセルロース誘導
体や、ビニルアルコール単位含有樹脂が好適であ
る。 1 セルロース誘導体 ニトロレルロース、アセチルセルロース、エチ
ルセルロース、アセチルブチルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセ
ルロース、メチルセルロース、エチルヒドロキシ
エチルセルロースなど。 この場合、水酸基は、くりかえし単位あたり、
平均1以上含有されることが好ましい。 2 ビニルアルコール単位含有樹脂 ポリビニルアルコール、 ポリ酢酸ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合
体などの完全ないし部分加水分解物。 この場合、ビニルアルコール単位は、70モル%
以上、好ましくは、80モル%以上含有されるもの
が好ましい。 なお、このような高分子化合物の数平均分子量
については、特に制限はない。 このような高分子化合物は、通常、水−アルコ
ール混合溶媒に溶解されて塗布設層される。 この場合、アルコールとしては、メタノール、
エタノール、プロパノール、ブタノール等の単独
または複合系が好適がある。そして、水とアルコ
ールとの混合比は、1:0.5〜3程度とする。 なお、塗布溶媒としては、水を単独で用いるこ
ともできるが、樹脂製の基体に対する塗布性の点
では、水−アルコール混合溶媒がすぐれている。 このような保護層の塗設に際しては、塗布液中
に架橋剤を添加して、塗膜中の高分子化合物を架
橋することができる。 このとき、耐溶剤性、耐水性、耐熱性が改良さ
れ、記録層の安定性が向上する。 この場合、塗布液中には、ピンホールの発生を
防止し、脱泡を完全に行い、しかも粘度を下げる
ために、界面活性剤、消泡剤、帯電防止剤等を添
加してもよい。 用いる架橋剤としては、チタン、ジルコニウム
もしつくはアルミニウムの有機化合物もしくはキ
レート化物、あるいは、アルデヒド、オキシカル
ボン酸またはメチロール含有オルゴマーであるこ
とが好ましい。 このような高分子膜は、0.002〜0.8μmより好ま
しくは0.005〜0.5μmの厚さとすることが好まし
い。 0.002μm未満では、飛散防止の実効がなく、
0.8μmをこえると逆に感度が減少するからであ
る。 さらに本発明の表面層を有する記録層は、基体
上に直接形成されてもよく、あるいは、下地層を
介して設層されてもよい。 下地層としては、公知の種々のものであつてよ
いが、すでに述べた第1表面層ないし高分子膜と
全く同様にして作製されたものであることが好ま
しい。 下地層の厚みは0.005〜0.05μmである。特に
0.008〜0.03μmであることが好ましい。 下地層が0.005μm未満となると、基体への耐溶
剤性付与効果および耐熱性付与効果が不充分であ
る。0.05μmを超えると、感度が低下する。 以上のような下地層を設置することによつて、
光記録媒体としての感度がさらにあがり、S/N
比がさらに向上する。 下地層上には、通常直接記録層が設層されるも
のであるが、必要に応じ場合によつては、下地層
と記録層との間に、他の中間層を設層することも
できる。 同様に表面層上等に、さらに各種最上層保護
層、ハーフミラー層、反射層などを設けることも
できる。 本発明の媒体は、このような基体の一面上に下
地層を介して、上記の記録層を有するものであつ
てもよく、その両面に下地層を介して記録層を有
するものであつてもよい。 また基体の一面上に下地層を介して記録層を塗
設したものを2つ用い、それらを記録層が向かい
あうようにして、所定の間隙をもつて対向させ、
それを密閉し、ホコリやキズがつかないようにす
ることもできる。 本発明の記録方法においては、媒体に対し、そ
の走行ないし回転下において、記録光をパルス状
に照射する。 このとき、記録層中の色素の発熱により、自己
酸化性の樹脂が分解するか、あるいは熱可塑性樹
脂や色素が融解し、ピツトが形成される。 この場合、書き込みは基体裏面側から行うこと
が好ましい。 特に、トリないしテトラカルボシアニン色素を
用いるときには、750、780、830nm波長の記録半
導体レーザーダイオードなどを用いたとき、きわ
めて良好な書き込みを行うことができる。 また、フタロシアニン色素を用いるときには、
730〜760nm,波長の記録半導体レーザーダイオ
ードなどを用いたときに、非常に良好な書き込み
を行うことができる。 このようにして形成されたピツトは、やはり媒
体の走行ないし回転下、上記の波長の読み出し光
の反射光ないし透過光、特に反射光を検出するこ
とにより読み出される。 この場合、読み出し光は、やはり基体裏面側か
ら照射して、その反射光を検知するようにするこ
とが好ましい。 なお、記録層ないし熱可塑性樹脂を用いるとき
には、一旦記録層に形成したピツトを光ないし熱
で消去し、再書き込みを行うこともできる。 また、記録ないし読み出し光としては、He−
Neレーザー等を用いることもできる。 このような場合において、本発明に従い、表面
層を実質的に破断しない状態でピツトの形成を行
う。第1図には形成されたピツトの断面図が示さ
れる。このような場合、上記したように、通常の
高融点の表面層を形成するときには、書き込み条
件を調整する。すなわち、光強度を若干低くし、
かつ記録媒体の照射光に対する通過速度を速くす
ればよい。このとき同時に高速の記録ができるこ
とになる。 また、表面層上に高分子膜を形成して、ピツト
部の表面層の破断を防止してもよい。 発明の具体的効果 本発明は、色素または色素組成物からなる記録
層に、高融点の表面層を有する光記録媒体を用
い、これに対し表面層が破断しないような状態で
ピツトを形成するので、同一コントラストをうる
ための書き込み光の強度が低下し、媒体走行速度
を上げることができる。 そして、高分子膜の設層や書き込み条件の設定
により、ピツト形成の際の表面層の破断とそれに
ともなう飛散が防止されるので、S/N比が向上
し、エラーレートが減少する。 発明の具体的実施例 以下、本発明の実施例を挙げ、本発明をさらに
詳細に説明する。 実施例 基体直径30cmのPMMA(MFI=2)射出成形
基板に、 四エチル塩酸 4.2部 エチルアルコール 43部 酢酸エチル 42部 濃塩酸 5.4部 エチレングリコール 5.4部 を混和し、50〜80Åのコロイド分散液とし、n−
プロパノールで希釈して塗布液とした。 これをスピンコートしたのち、60℃、30分間処
理した。膜厚は0.01μmである。 次いで、色素D−10およびクエンチエーQ3−
8(5:2)の色素1%溶液(ジクロロエタン、
ジクロヘキサノン(6:5))からなる記録層を
スピンナーで設層した。 さらに、この記録層上に上記コロイド分散液を
n−ヘキサンで希釈した溶液をスピンナー塗布に
よつて表面層を設層した。膜厚は約0.006μmであ
つた。 以上を試料1とする。 そして、試料1において、表面層のないものを
試料2とする。 さらに、試料1において、表面層の上に、ポリ
ビニルアルコールPVA(クラレ社製205加水分散
率88%)をメタノール−水(1:1)中に1%濃
度にて溶解したものを塗布,設層して、約
0.01μm厚としたものを試料3とする。 以上の試料について、833nm半導体レーザを用
い、集光部強度8mW/10mW、パルス幅100ns
で、所定の媒体速度にて基板裏面側から書き込
み、信号のコントラストを測定した。 また、電子顕微鏡にて、ピツト部での表面層の
破断の有無および表面層の飛散の有無を観察し
た。 結果を表1に示す。 【表】 表1に示される結果から本発明の効果があきら
かである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording method, and particularly to an optical recording method for a heat mode optical recording medium. Prior Art Optical recording media have the characteristic that the recording medium does not deteriorate due to wear since the medium and the writing or reading head are not in contact with each other, and for this reason, research and development of various optical recording media are being carried out. Among such optical recording media, heat mode optical recording media are being actively developed because they do not require development in a dark room. This heat mode optical recording medium is an optical recording medium that uses recording light as heat. One example is a heat mode optical recording medium that uses recording light such as a laser to melt or remove a part of the medium, which is called a pit. There is a pit-forming type in which writing is performed by forming small holes, information is recorded using the bits, and reading is performed by detecting the pits with a readout light. Until now, most of these pit-forming type media, especially those using a semiconductor laser as a light source that can make the device smaller, have a recording layer made of a material mainly composed of Te. However, in recent years, it has become clear that Te-based materials are harmful.
In addition, due to the need for higher sensitivity and lower manufacturing costs, Te
In place of conventional recording media, there are an increasing number of proposals and reports on media that use recording layers made of organic materials mainly containing dyes. For example, for He-Ne lasers, squalirium dye [Unexamined Japanese Patent Publication No. 56-46221 VBJipson
and CRJones, J.Vac.Sci.Technol., 18 (1)105
(1981)] and metal phthalocyanine dyes (Unexamined Japanese Patent Publication No. 1983)
-82094, 57-82095), etc. There is also an example of using metal phthalocyanine dyes for semiconductor lasers (Japanese Patent Application Laid-Open No. 86795/1986). In both of these, the recording layer is made into a thin film by vapor deposition of dye, and there is no major difference from the Te type in terms of medium production. However, the reflectance of the dye-deposited film to the laser is generally small, and the current conventional method of obtaining a readout signal from a change (decrease) in the amount of reflected light due to the pit cannot obtain a large S/N ratio. Can not. In addition, it is possible to use a transparent substrate carrying a recording layer as a medium with a so-called air sandwich structure in which the recording layers are integrated so that they face each other, and write and read data through the substrate without reducing the writing sensitivity. Although it is advantageous in that the recording layer can be protected and the recording density can be increased, such a recording and reproducing method is also difficult to use with a dye-deposited film. This is because a normal transparent resin substrate has a refractive index of a certain value (1.5 for polymethyl methacrylate), and the reflectance through the substrate of the recording layer is, for example, polymethyl methacrylate, relative to the wavelength of the semiconductor laser. This is because the recording layer exhibiting only a low reflectance cannot be detected because the reflectance is approximately 25% or less. Readout S/ of recording layer made of dye deposited film
In order to improve the N ratio, a vapor-deposited reflective film of Al or the like is usually interposed between the substrate and the recording layer. In this case, the vapor-deposited reflective film increases the reflectance and increases the S/
This is to improve the N ratio, and the reflective film is exposed by pit formation, increasing the reflectance, but as a matter of course, recording and reproduction cannot be performed through the substrate. Similarly, JP-A-55-161690 discloses a recording layer consisting of IR-132 dye (manufactured by Kodatsu) and polyvinyl acetate, and JP-A-57-74845 discloses 1,
A recording layer consisting of 1'-diethyl-2,2'-tricarbocyanine iodide and nitrocellulose, and further KYLaw, etal., Appl.Phys.Lett. 39 (9)718
(1981) described media in which a recording layer made of a dye and a resin was formed by a coating method, such as a recording layer made of 3,3'-diethyl-12-acetylthiatetracarbocyanine and polyvinyl acetate. Disclosed. However, these cases also have the same drawback as the dye-deposited film in that a reflective film is required between the substrate and the recording layer, and recording and reproduction cannot be performed from the back side of the substrate. As described above, in order to realize a medium having an organic material-based recording layer that allows recording and reproduction through the substrate, the organic material itself needs to exhibit a high reflectance. However, conventionally, there are very few examples of a single layer of organic material exhibiting high reflectance without laminating a reflective layer. It has been reported that a vapor-deposited film of vanadyl phthalocyanine exhibits a slightly high reflectance [P. Kivits, etal.
Appl.Phys.Part A 26 (2)101 (1981), Japanese Patent Application Publication No. 1987-
No. 97033], but the writing sensitivity is low, probably due to the high sublimation temperature. In addition, cyanine dyes and merocyanine dyes such as thiazole and quinoline dyes have been reported [Yamamoto et al., Proceedings of the 27th Japan Society of Applied Physics, 1p-P-9 (1980)], and a proposal based on this was published in JP-A-58. −112790
However, these dyes have low solubility in solvents, tend to crystallize, and are extremely unstable to readout light, resulting in immediate decolorization, especially when applied as a coating film, making them impractical. It cannot be offered to In view of these actual circumstances, the present inventors first
It is proposed that indolenine cyanine dyes, which have high solubility in solvents, little crystallization, thermal stability, and high reflectance of paint films, be used as a single layer film (Patent Application No. 1983). −134397, 57−
No. 134170). In addition, long-chain alkyl groups can be introduced into the molecules of other cyanine dyes such as indolenine, thiazole, quinoline, and selenazole to improve solubility and prevent crystallization. (Patent Application No. 57-182589, same)
57-177776, etc.). Furthermore, in order to improve photostability, and especially to prevent decolorization (reproduction deterioration) caused by readout light, we have proposed adding a transition metal compound quencher to cyanine dyes (Japanese Patent Application No. 166832/1983). 57
−168048, etc.) Furthermore, it forms an ionic bond between the dye and the quencher, thereby further reducing regeneration deterioration.
In addition, proposals have been made to improve stability (Patent Application No. 59-14848, Patent Application No. 59-18878, Patent Application No. 59-19715).
issue). By the way, in an optical recording film made of a dye or a dye composition, pits begin to form from the center of the irradiated light at the same time as it is irradiated with light, and in the latter half of the irradiated light pulse, pits are absorbed at the center of the irradiated light where the energy is most concentrated. It disappears. Therefore, the efficiency of energy use is low, which is the reason why the sensitivity cannot be improved beyond a certain value. Therefore, the present inventors have previously proposed that a film with a high melting point, such as a coating film of a colloidal particle dispersion of a silicon-based condensate, be applied as a surface layer (Japanese Patent Application No.
59-62386 etc.). According to this proposal, pits are not formed by irradiating light for a certain period of time, but the temperature rises during that time, and pits are formed all at once after reaching a sufficient temperature, resulting in extremely high sensitivity. However, since such pit formation is performed, there are disadvantages in that the intensity of the writing light is higher than the contrast obtained, and the medium running speed must be lower. In addition, in such a case, under normal conditions, when the pit is formed, the surface layer also breaks or breaks at the same time, and this is scattered to other tracks.
This has the disadvantage of lowering the S/N ratio and increasing the error rate. OBJECT OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an optical recording method using an optical recording medium having a recording layer made of a dye or a dye composition, by improving the surface layer of the medium and achieving high sensitivity.
Moreover, the objective is to have a high S/N ratio and a low error rate. DISCLOSURE OF THE INVENTION These objects are achieved by the invention described below. That is, the present invention has a recording layer made of a dye or a dye composition on a substrate, and on this recording layer,
When performing optical recording by irradiating writing light onto an optical recording medium that has a surface layer of an inorganic film with a higher melting point to form pits, recording is performed on the recording layer until sufficient energy can be absorbed by the surface layer. This is an optical recording method that improves sensitivity by preventing this from occurring, and also forms pits as recesses in a state where the surface layer is not substantially broken to prevent fragments from scattering during recording. Specific Configuration of the Invention The specific configuration of the present invention will be described in detail below. A dye is contained in the recording layer of the optical recording medium used in the present invention. There are no particular restrictions on the dyes used; cyanine,
Any of phthalocyanine-based, naphthalocyanine-based, tetradehydrocholine- or tetradehydrochorol-based dyes, anthraquinone-based, azo-based, triphenylmethane-based, biryllium or thiavirylium chlorine-based dyes can be used. Among these, cyanine dyes are primarily effective in the present invention. Among the cyanine dyes, those represented by the following formula [] are preferred. Formula [] φ−L=ψ (X - ) n In the above formula [], ψ and φ are an indole ring, a thiazole ring, which may be fused with an aromatic ring, such as a benzene ring, a naphthalene ring, a phenanthrene ring, etc. Represents an oxazole ring, selenazole ring, imidazole ring, pyridine ring, etc. These φ and ψ may be the same or different, but are usually the same, and various substituents may be bonded to these rings. In addition,
In φ, the nitrogen atom in the ring has a positive charge, and in ψ, the nitrogen atom in the ring is neutral. The skeleton rings of these φ and ψ are preferably those represented by the following formulas [φ] to [φ]. In addition, in the following, the structure is shown in the form of φ. [φ] [φ] [φ] [φ] [φ] [φ] [φ] [φ] [φ] [φ] [φXI] [φXII] [φ] [φ] [φ] [φ] In these various rings, the group R 1 (R 1 , R 1 ') bonded to the nitrogen atom in the ring (two nitrogen atoms in the imidazole ring) is a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. . In such a ring, the group R 1 bonded to the nitrogen atom,
There is no particular restriction on the number of carbon atoms in R 1 '. Also,
If this group further has a substituent,
Examples of substituents include sulfonic acid groups, alkylcarbonyloxy groups, alkylamide groups, alkylsulfonamide groups, alkoxycarbonyl groups, alkylamino groups, alkylcarbamoyl groups, alkylsulfamoyl groups, hydroxyl groups, carboxy groups, halogen atoms, etc. It may be. In addition, when m described later is 0, the group R 1 bonded to the nitrogen atom in φ is a substituted alkyl or aryl group and has a negative charge. Furthermore, when the rings φ and ψ are fused or non-fused indole rings (formulas [φ] to [φ]), two substituents R 2 and R 3 may be bonded to the 3-position. preferable. In this case, the two substituents R 2 and R 3 bonded to the 3-position are preferably an alkyl group or an aryl group. and,
Among these, unsubstituted alkyl groups having 1 or 2 carbon atoms, particularly 1, are preferred. On the other hand, another substituent R 4 may be bonded to a predetermined position in the ring represented by φ and ψ. Such substituents include alkyl groups,
Aryl group, heterocyclic residue, halogen atom, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, alkylcarbonyl group, arylcarbonyl group, alkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylcarbonyloxy group, arylcarbonyloxy group , alkylamido group, arylamide group, alkylcarbamoyl group, arylcarbamoyl group, alkylamino group, arylamino group, alboxylic acid group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, alkylsulfonamide group, arylsulfonamide group,
It may be a variety of substituents such as an alkylsulfamoyl group, an arylsulfamoyl group, a cyano group, and a nitro group. Then, the number of these substituents (p, q, r,
s, t) are usually 0 or about 1 to 4. Note that when p, q, r, s, and t are 2 or more, the plurality of R 4 may be different from each other. Furthermore, among these, the formula [φ] ~ [φ
It is preferable to have a fused or non-fused indole ring. These are the solubility in the solvent,
It has excellent coating properties and stability, exhibits an extremely high reflectance, and has an extremely high readout S/N ratio. On the other hand, L represents a linking group for forming a mono-, di-, tri- or tetracarbocyanine dye, and is particularly preferably one of formulas [L] to [L]. Formula [L] Formula [L] Formula [L] Formula [L] Formula [L] Formula [L] Formula [L] Formula [L] Formula [L] Here, Y represents a hydrogen atom or a monovalent group. In this case, monovalent groups include lower alkyl groups such as methyl groups, lower alkoxy groups such as methoxy groups, dimethylamino groups, diphenylamino groups, methylphenylamino groups, morpholino groups, imidazolidine groups, and ethoxycarbonylpiperazine groups. Preferable examples include di-substituted amino groups such as, alkylcarbonyloxy groups such as acetoxy groups, alkylthio groups such as methylthio groups, cyano groups, nitro groups, and halogen atoms such as Br and Cl. In addition, in these formulas [L] to [L],
Tricarbocyanine linking group, especially formula [L], [L
] is preferred. Furthermore, - is an anion, and preferable examples thereof include - , Br - , ClO 4 - , BF 4 - , [Formula] [Formula], and the like. Note that m is 0 or 1, but when m is 0, R 1 of φ usually has a − charge and becomes an inner salt. Next, specific examples of the cyanine dye of the present invention will be given, but the present invention is not limited to these. [Table] [Table] [Table] [Table] [Table] [Table] Furthermore, the effect of the present invention is the second one.
It is a phthalocyanine dye. There are no particular restrictions on the phthalocyanine used.
Central atoms include Cu, Fe, Co, N, In, Ga,
Al, InCl, InBr, InI, GaCl, GaBr, GaI,
AlCl, AlBr, Ti, TiO, Si, Ge, H, H 2 , Pb,
Vo, Mn, Sn, etc. are possible. In addition, -OH, halogen,
-COOH, NH2 , -CoCl, -COOR', -OCOR' (where R' is various alkyl or aryl, etc.), -SO2Cl , -SO3H , -CONH2 , -CN, -NO2 , It may be bonded with various substituents such as -SCN, -SH, -CH2Cl , etc. Next, specific examples of the light-absorbing dye of the present invention will be given, but the present invention is not limited to these. Such dyes can be easily synthesized according to the method described in Nitrogen-Containing Heterocyclic Compounds, page 432, Dai Organic Chemistry (Asakura Shoten). That is, first, the corresponding φ′−CH 3 (φ′ is the above φ
represents the ring corresponding to . ) with excess R 1 I (R 1 is an alkyl group or an aryl group),
R 1 is introduced into the nitrogen atom in φ' to obtain φ-CH 3 I - . Next, this may be subjected to dehydration condensation with an unsaturated dialdehyde, unsaturated hydroxyaldehyde, pentadiene diallyl, isophorone, etc. using an alkali catalyst such as piperidine or trialkylamine, or acetic anhydride. Such a dye can also form a recording layer alone. Alternatively, a recording layer is formed together with resin. The resin used is preferably a self-oxidizing resin or a thermoplastic resin. The self-oxidizing resin contained in the recording layer undergoes oxidative decomposition when the temperature rises.
Among these, nitrocellulose is particularly suitable. Further, the thermoplastic resin is softened by increasing the temperature of the dye that has absorbed the recording light, and various known thermoplastic resins can be used as the thermoplastic resin. Among these, thermoplastic resins that can be particularly preferably used include the following. Polyolefin polyethylene, polypropylene, poly4-methylpentene-1, etc. Polyolefin copolymers such as ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-acrylic ester copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-propylene copolymer, ethylene-butene-1 copolymer,
Ethylene-maleic anhydride copolymer, ethylene propylene terpolymer (EPT), etc. In this case, the polymerization ratio of the comonomers can be arbitrary. Vinyl chloride copolymer, for example, vinyl acetate-vinyl chloride copolymer,
Vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-maleic anhydride copolymer, copolymer of acrylic acid ester or methacrylic acid ester and vinyl chloride, acrylonitrile-vinyl chloride copolymer, vinyl chloride ether copolymer,
Ethylene or propylene-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer with vinyl chloride graft polymerized, etc. In this case, the copolymerization ratio can be arbitrary. Vinylidene chloride copolymer Vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer, vinylidene chloride-vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, vinylidene chloride-butadiene-vinyl halide copolymer, etc. In this case, the copolymerization ratio can be arbitrary. Polystyrene Styrene copolymer For example, styrene-acrylonitrile copolymer (AS resin), styrene-acrylonitrile-
Butadiene copolymer (ABS resin), styrene-
Maleic anhydride copolymer (SMA resin), styrene-acrylic acid ester-acrylamide copolymer, styrene-butadiene copolymer (SBR), styrene-vinylidene chloride copolymer,
Styrene-methyl methacrylate copolymer, etc. In this case, the copolymerization ratio can be arbitrary. Styrenic polymers such as α-methylstyrene, p-methylstyrene, 2,5-dichlorostyrene, α,β-
Vinylnaphthalene, α-vinylpyridine, acenaphthene, vinylanthracene, etc., or copolymers thereof, such as copolymers of α-methylstyrene and methacrylic acid ester. Chroman-indene resin A copolymer of coumaron-indene-styrene. Terpene resin or picolite For example, terpene resin which is a polymer of limonene obtained from α-pinene, or picolite obtained from β-pinene. Acrylic resin In particular, those containing an atomic group represented by the following formula are preferred. formula In the above formula, R 10 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 20 represents a substituted or unsubstituted alkyl group. In this case, in the above formula,
R 10 is preferably a hydrogen atom or a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, particularly a hydrogen atom or a methyl group. Further, R 20 may be a substituted or unsubstituted alkyl group, but the alkyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms, and when R 20 is a substituted alkyl group, the alkyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms. The substituent for the group is preferably a hydroxyl group, a halogen atom, or an amino group (particularly a dialkylamino group). The atomic group represented by the above formula may form a copolymer with other repeating atomic groups to constitute various acrylic resins, but usually one type of atomic group represented by the above formula is used. Alternatively, an acrylic resin is formed by forming a homopolymer or copolymer having two or more repeating units. Polyacrylonitrile Acrylonitrile copolymer For example, acrylonitrile-vinyl acetate copolymer, acrylonitrile-vinyl chloride copolymer, acrylonitrile-styrene copolymer, acrylonitrile-vinylidene chloride copolymer, acrylonitrile-vinylpyridine copolymer, acrylonitrile-methacrylate acid methyl copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer,
Acrylonitrile-butyl acrylate copolymer, etc. In this case, the copolymerization ratio can be arbitrary. Diacetone acrylamide polymer Diacetone acrylamide polymer made by acetone acting on acrylonitrile. Polyvinyl acetate Vinyl acetate copolymer For example, a copolymer with acrylic acid ester, vinyl ether, ethylene, vinyl chloride, etc. The copolymerization ratio may be arbitrary. Polyvinyl ether For example, polyvinyl methyl ether, polyvinylethyl ether, polyvinyl butyl ether, etc. Polyamide In this case, polyamides include nylon 6, nylon 6-6, nylon 6-10, nylon 6-12, nylon 9, nylon 11, nylon
In addition to regular homonylon such as 12 and nylon 13,
Nylon 6/6-6/6-10, Nylon 6/6
-6/12, nylon 6/6-6/11, or modified nylon in some cases. Polyesters such as oxalic acid, succinic acid, maleic acid,
Various dibasic acids such as aliphatic dibasic salts such as adipic acid and sebastenic acid, or aromatic dibasic acids such as isophthalic acid and terephthalic acid, ethylene glycol, tetramethylene glycol,
Condensates and co-condensates with glycols such as hexamethylene glycol are suitable. Among these, condensates of aliphatic dibasic acids and glycols and cocondensates of glycols and aliphatic dibasic acids are particularly suitable. Furthermore, for example, glyptal resin, which is a condensate of phthalic anhydride and glycerin, can be used as a fatty acid,
Modified glyptal resins that are esterified with natural resins and the like are also preferably used. Polyvinyl acetal resin Both polyvinyl formal and polyvinyl acetal resin obtained by acetalizing polyvinyl alcohol are preferably used. In this case, the degree of acetalization of the polyvinyl acetal resin can be arbitrary. Polyurethane resin A thermoplastic polyurethane resin with urethane bonds. Particularly suitable are polyurethane resins obtained by condensation of glycols and diisocyanates, particularly polyurethane resins obtained by condensation of alkylene glycol and alkylene diisocyanate. Polyether Styrene-formalin resin, ring-opening polymer of cyclic acetal, polyethylene oxide and glycol, polypropylene oxide and glycol, propylene oxide-ethylene oxide copolymer, polyphenylene oxide, etc. Cellulose derivatives such as nitrocellulose, acetylcellulose, ethylcellulose, acetylbutylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydroxypropylcellulose, methylcellulose,
Various esters and ethers of cellulose, such as ethylhydroxyethylcellulose, and mixtures thereof. Polycarbonate For example, various polycarbonates such as polydioxydiphenylmethane carbonate and dioxydiphenylpropane carbonate. Ionomers Na, Li, methacrylic acid, acrylic acid, etc.
Zn, Mg salt, etc. Ketone resin For example, a condensate of a cyclic ketone such as cyclohexanone or acetophenone and formaldehyde. Xylene resin For example, a condensate of m-xylene or mesitylene and formalin, or a modified product thereof. Petroleum resins C5 type, C9 type, C5 - C9 copolymer type, dicyclopentadiene type, or copolymers or modified products thereof. A blend of two or more of the above or a blend with other thermoplastic resins. Note that the self-oxidizing or thermoplastic resin may have various molecular weights. Such an autooxidizing compound or thermoplastic resin and the above-mentioned dye are usually in a weight ratio of 1:1.
Layers are laid in a wide range of ratios from 0.1 to 100. Preferably, such a recording layer further contains a quencher. This reduces reproduction deterioration and improves light resistance. Various types of quenchers can be used, but in particular, when the dye is excited and singlet oxygen is generated, it undergoes electron transfer or energy transfer from the singlet oxygen and becomes excited, returning to the ground state by itself. In addition, it is preferably a singlet oxygen quencher that converts singlet oxygen into a triplet state. Although various singlet oxygen quenchers can be used, transition metal chelate compounds are particularly preferred because they reduce acidic deterioration and have good compatibility with dyes. In this case, the central metals are Ni,
Co, Cu, Mn, Pd, Pt, etc. are preferred, and the following compounds are particularly preferred. 1 Acetylacetonate chelate system Q1-1 Ni () acetylacetonate Q1-2 Cu () acetylacetonate Q1-3 Mn () acetylacetonate Q1-4 Co () acetylacetonate 2 Bisdithio- represented by the following formula α-diketone system Here, R 1 to R 4 represent a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group, and M is Ni,
Represents transition metal atoms such as Co, Cu, Pd, and Pt. In this case, M has a negative charge and may form a salt with a cation (Cat) such as a quaternary ammonium ion. In addition, in the following description, Ph is a phenyl group,
φ represents a 1,4-phenylene group, φ' represents a 1,2-phenylene group, and benz represents that adjacent groups on the ring are bonded to each other to form a condensed benzene ring. [Table] 3 Bisphenyldithiol system represented by the following formula Here, R 5 to R 8 are hydrogen or methyl group,
It represents an alkyl group such as an ethyl group, a halogen atom such as Cl, or an amino group such as a dimethylamino group or a diethylamino group, and M represents a transition metal atom such as Ni, Co, Cu, Pd, or Pt. In addition, M in the above structure has a negative charge and may form a salt with a cation (Cat) such as a quaternary ammonium ion, and furthermore, other ligands may be bonded above and below M. Good too. Examples of this include the following: [Table] [Table] In addition, JP-A No. 50-45027 and Patent Application No. 58-
Such as those described in No. 163080. 4 Dithiocarbamate chelate system represented by the following formula Here, R 9 and R 10 represent an alkyl group. Further, M represents a transition metal such as Ni, Co, Cu, Pd, or Pt. Q4-1R 9 , R 10 /C 4 H 9 M/Ni 5 Represented by the following formula Here, M represents a transition metal atom, Q 1 represents [Formula] or [Formula], and Cat represents a cation. [Table] Other items described in Japanese Patent Application No. 58-125654. 6 What is shown by the following formula Here, M represents a transition gold atom, A represents S, C< R11 R12 or CQ2 , and R11 and R12 are CN, COR13 , respectively.
COOR 14 , CONR 15 , R 16 or SO 2 R 17 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group, and Q 2 represents a 5- or 6-membered ring . represents the atomic group necessary to form , Cat represents a cation, and n is 1 or 2. [Table] [Table] Other items described in Japanese Patent Application No. 127074/1982. 7 Compound represented by the following formula Here, M represents a transition metal atom, Cat represents a cation, and n is 1 or 2. M
Cat Q7−1 Ni
2 [(n-C 4 H 9 ) 3 N] Q7-2 Ni
2 [n-C 16 H 33 (CH 3 ) 3 N] In addition, those described in Japanese Patent Application No. 58-127075. 8 Bisphenylthiol system Q8-1 Ni-bis(octyl phenyl) sulfide 9 Thiocatechol chelate system represented by the following formula Here, M represents a transition metal atom such as Ni, Co, Cu, Pd, Pt, etc. Further, M has a negative charge and may form a salt with a cation (Cat), and the benzene ring may have a substituent. M Cat Q9−1 Ni N + (C 4 H 9 ) 4 10 Compound represented by the following formula Here, R 18 represents a monovalent group, l is 0 to 6, M represents a transition metal atom, and Cat represents a cation. M R 18 l Cat Q10-1 Ni H 0 N (n-C 4 H 9 ) 4 Q10-2 Ni CH 3 1 N (n-C 4 H 9 ) 4 Described in Japanese Patent Application No. 143531/1982. 11 Compounds represented by both formulas below Here, in the above formula, R 20 , R 21 , R 22 and R 23 each represent a hydrogen atom or a monovalent group, and R 24 , R 25 , R 26 and R 27 represent a hydrogen atom or a monovalent group. R 24 and R 25 , R 25 and R 26 , and R 26 and R 27 may be bonded to each other to form a 6-membered ring. Moreover, M represents a transition metal atom. [Table] Other items described in Japanese Patent Application No. 145294/1982. 12 Compound represented by the following formula Here, M represents Pt, Ni or Pd,
X 1 , X 2 , X 3 and X 4 each represent O or S. M X 1 X 2 X 3 13 Compound represented by the following formula Here, R 31 is a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group, and R 32 , R 33 , R 34 and R 35 represent a hydrogen atom or a monovalent group, but R 32 and R 33 , R33 and R34 , R34
and R 35 may be combined with each other to form a 6-membered ring. Moreover, M represents a transition metal atom. [Table] Other items described in Japanese Patent Application No. 151928/1982. 14 Compounds represented by both formulas below R 41 , R 41 , R 43 and R 44 each represent a hydrogen atom or a monovalent group, but R 41 and R 42 , R 42 and R 43 , R 43 and R 44 are bonded to each other and have six members. It may form a ring. Moreover, R 45 and R 46 represent a hydrogen atom or a monovalent group. Furthermore, M represents a transition metal atom. [Table] Other items described in Japanese Patent Application No. 151929/1982. 15 Compound represented by the following formula Here, R 51 , R 52 .R 53 , R 54 , R 55 , R 56 , R 57 ,
and R 58 each represent a hydrogen atom or a monovalent group, R 51 and R 52 , R 52 and R 53 , R 53 and R 54 , R 55 and R 56 ,
R 56 and R 57 and R 57 and R 58 may be bonded to each other to form a 6-membered ring. X represents halogen. M represents a transition metal atom. [Table] Other items described in Japanese Patent Application No. 153392/1982. 16 Salicylaldehyde oxime system represented by the following formula Here, R 60 and R 61 represent an alkyl group, and M represents a transition metal atom such as Ni, Co, Cu, Pd, or Pt. [Table] 17 Thiobisphenolate chelate system represented by the following formula Here, M is the same as above, R 65 and
R 66 represents an alkyl group. Further, M has a negative charge and may form a salt with a cation (Cat). [Table] 18 Phosphonous acid chelate system represented by the following formula Here, M is the same as above, R 71 and
R 72 represents a substituent such as an alkyl group or a hydroxyl group. R 71 , R 72 M Q18-1 3-t-C 4 H 9 , 5-t-C 4 H 9 , 6-
OH Ni 19 Compounds represented by the following formulas Here, R 81 , R 82 , R 83 and R 84 represent a hydrogen atom or a monovalent group, but R 81 and R 82 , R 82 and R 83 , R 83 and R 84 are bonded to each other. , may form a 6-membered ring. R 85 and R 88 each represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. R 86 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. R 87 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. Z represents a group of nonmetallic atoms necessary to form a 5- or 6-membered ring. M represents a transition metal atom. [Table] Other items described in Japanese Patent Application No. 153393/1982. 20 Compound represented by the following formula Here, R 91 and R 92 are each a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an aryl group, an acyl group, an N-alkylcarbamoyl group, and an N-alkylcarbamoyl group.
- represents an arylcarbamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, alkoxycarbonyl group or aryloxycarbonyl group, and M represents a transition metal atom. R 91 , R 92 M Q20-1 nC 4 H 9 CH 3 Ni Q20-2 CH 3 CH 3 O-φ-NHCO Ni In addition, those described in Japanese Patent Application No. 58-155359. In addition, other quenchers include the following. 21 Benzoate Q21-1 Existing chemical substance 3-3040 [Tinuvin-
120 (manufactured by Ciba Geigy)] 22 Hindered amine type Q22-1 Existing chemical substance 5-3732 [SANOLIS-770 (manufactured by Sankyo Pharmaceutical Co., Ltd.)] Each of these quenchers is
It is contained in an amount of about 0.01 to 12 moles, particularly about 0.05 to 1.2 moles. Note that the maximum absorption wavelength of the quencher is preferably greater than or equal to the maximum absorption wavelength of the dye used. This results in extremely low regeneration and deterioration. In this case, the difference between the two is preferably 0 or 350 nm or less. In order to miniaturize the device, it is preferable to use a 750,
780, 830nm semiconductor laser or 633nm
Since it is preferable to use a He-NE laser, etc., the maximum absorption wavelength of the singlet oxygen quencher is
The wavelength is preferably 680 nm or more, particularly 680 to 1500 nm, even more preferably 800 to 1500 nm. Furthermore, the absorption coefficients of the dye used (or its effective value when two or more types are used) and the singlet oxygen quencher at the wavelength of the readout light are εD, respectively.
and εQ, εD/εQ is preferably 3 or more. Note that when two or more types of dyes are used in combination, the absorption maximum wavelength and εD of the dyes are an arithmetic mean effective value depending on the concentration. With such a value, the excitation of the quencher during irradiation with readout light becomes extremely small, and the deterioration of regeneration due to singlet oxygen becomes extremely small. Additionally, the quencher may form an ionic conjugate with the dye. As the quencher dye ion conjugate, those described in Japanese Patent Application No. 59-14848 may be used. However, what can be more preferably used are the combinations of cyanine dye cations and quencher anions described in Japanese Patent Application Nos. 59-18878 and 59-19715. The cyanine dye cation used may be any of the cations listed above. In addition, the quencher anion is 3) above,
It may be any anion form among 5), 6), 7), 9), 10), and 17). A specific example is given below. In addition, in the following, D + is the corresponding cation of D, and Q - is the corresponding anion of the quencher. [Table] [Table] A quencher having such absorption characteristics is appropriately selected and used depending on the light source and dye used. In order to install such a recording layer, it is generally necessary to apply the coating according to a conventional method. The thickness of the recording layer is usually about 0.03 to 2 μm. Alternatively, when forming a recording layer using only a dye and a quencher, vapor deposition, sputtering, etc. may be used. The thickness of the recording layer is 0.04~0.12μm, especially 0.05~
Preferably, it is 0.08 μm. At 0.04 μm, particularly 0.03 μm or less, both absorption and reflection amount are small, and neither write sensitivity nor playback sensitivity can be increased. If it is 0.12 μm or more, the pre-group will be buried, making it difficult to obtain a tracking signal. Furthermore, it is not easy to form bits, and writing sensitivity decreases. In addition, such a recording layer may contain other dyes, other polymers or oligomers, various plasticizers, surfactants, antistatic agents, lubricants, flame retardants, stabilizers, dispersants, and antioxidants. , and may also contain a crosslinking agent and the like. To deposit such a recording layer, on the substrate,
What is necessary is just to apply|coat using a predetermined solvent and to dry. Examples of solvents used for coating include ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone, esters such as butyl acetate, ethyl acetate, carbitol acetate, and butyl carbitol acetate, and ethers such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve. , aromatic systems such as toluene and xylene, halogenated alkyl systems such as dichloroethane, and alcohol systems. The substrate on which such a recording layer is provided is made of resin. Various materials are possible for the resin. However, in such resins, especially solvents for various coatings such as those mentioned above, especially ketone-based, ester-based,
Acrylic resins or polycarbonate resins are easily affected by alkyl halides and the like, and the effect of the underlayer of the present invention is particularly large. Since these are substantially transparent to writing and reading light, writing and reading can be performed from the back side of the substrate.
This is advantageous in terms of sensitivity, S/N ratio, etc., and is also advantageous in terms of implementation, such as dust countermeasures. Furthermore, since the moldability is good, it is easy to form tracking grooves. The acrylic resin is preferably a copolymer or homopolymer mainly composed of a methacrylic acid ester having a chain or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, such as polymethyl methacrylate. Furthermore, as the polycarbonate resin, bisphenol A type is preferred. When these acrylic resins or polycarbonate resins are formed by injection molding, the effect of the base layer of the present invention becomes even greater. Note that the number average degree of polymerization of these acrylic resins or polycarbonate resins is preferably about 800 to 6,000. The surface layer formed on the recording layer may be a film having a higher melting point than the recording layer and further a higher hardness than the recording layer. Therefore, vapor-phase deposited films of various oxide-based, nitride-based, and carbide-based inorganic substances, such as silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, silicon nitride, and silicon carbide, may be used. Good too. Alternatively, it may be a hydrolyzed coating film mainly formed from silicon oxide, titanium oxide, acid zirconium, aluminum oxide, etc. formed from a chelate compound known as a so-called crosslinking agent. However, among these, the most active is the coating film of the colloidal particle dispersion of the silicon-based condensate. The colloidal particles of the silicon-based condensate are preferably silicon halides, particularly silicon tetrachloride, or hydrolyzed condensates of alkyl silicic acids, especially tetra-lower alkyl (methyl, ethyl) silicic acids. And the colloidal particle diameter is 30~100Å, especially
It is said to be about 50 to 80 Å. Further, as the fractional medium, an alcohol, particularly one aliphatic alcohol, an alkyl acetate, or a mixed solvent of these and an aromatic hydrocarbon is used. Moreover, for hydrolysis, a mineral acid is added as necessary. Then, a stabilizer such as ethylene glycol, a surfactant, etc. are added as necessary. An example of such a colloidal particle dispersion is one in which silicon tetrachloride (SiCl 4 ) and a monohydric aliphatic alcohol are dissolved in acetic acid alkyl ester, which is described in Japanese Patent Publication No. 6533/1983. . Alternatively, 1 to 20 wt% of ethylene glycol may be added to a solution of tetraalkyl silicic acid, monovalent aliphatic alcohol, alkyl acetate, and mineral acid described in Japanese Patent Publication No. 36-4740. Furthermore, an alcoholic solution of tetra-lower alkylsilicic acid described in Japanese Patent Publication No. 45-35435 may also be used. In such cases, monohydric aliphatic alcohols to be used include methyl alcohol, ethyl alcohol, denatured alcohol, isopropyl alcohol, butyl alcohol, or mixtures thereof, and alkyl acetates include methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, and acetic acid. Butyl or a mixture thereof may be used, and as the mineral acid, an aqueous solution of hydrochloric acid or sulfuric acid, which is commonly used in industry, may be used. In addition, these dispersions are applied according to the conventional method.
It may be applied with a spinner coat or the like. In this case, the diluting solvent includes, for example, a mixed solvent of a hydrocarbon type and an alcohol type. Then, drying may be performed at 40 to 80°C for about 20 minutes to 2 hours. The coating film thus formed is a silicon oxide coating film containing hydroxyl groups. The thickness of the above first surface layer is 0.005 to 0.03 μm. Particularly preferably, it is 0.08 to 0.12 μm. If the first surface layer is less than 0.003 μm, the effect of improving writing and reading sensitivity as an optical recording medium cannot be obtained. When the first surface layer exceeds 0.03 μm, the writing/reading sensitivity of the optical recording medium deteriorates.
It will drop. In an optical recording film made of a dye composition, pits are formed at the same time as the film is irradiated with light, and the subsequent irradiated light is no longer absorbed at the center where the energy is most concentrated. Therefore, the energy utilization efficiency is low, which is the reason why the sensitivity cannot be improved beyond a certain value. The surface layer of the present invention is a hard film with a high melting point, and is designed to prevent the formation of pits in response to irradiated light within a certain period of time. Even when forming a surface layer with a high melting point, by adjusting the intensity, pulse width, rotation speed, etc. of the writing light, the surface layer can be formed in a substantially continuous state and without substantially breaking. A recess will be formed. Therefore, while maintaining high sensitivity, a decrease in the S/N ratio and an increase in the error rate due to the scattering of fragments of the surface layer are prevented. Note that such writing conditions can be easily determined experimentally. Note that the fact that the surface layer is substantially continuous and unbroken means that the occurrence of pinholes that can be ignored with respect to the pit diameter is allowed. Moreover, such a surface layer may be a composite laminated film. Furthermore, a polymer film may be laminated as an upper layer on such a surface layer. The formation of such a polymer film also prevents the surface layer from breaking. Various polymers can be used, but in particular, the polymer should not invade the surface layer mentioned above and dissolve the dye, should have good adhesion, good uniformity, good coatability, and low viscosity. For these reasons, it is preferable to use a coating film of a polymer compound that is soluble in water or a water-alcohol mixed solvent and contains a hydroxyl group. In this case, being soluble in water or a water-alcohol mixed solvent means that it is soluble in water or a water-alcohol mixed solvent as described below by about 1% or more. Such a polymer compound may be a polysaccharide such as gum arabic, alginic acid, or gum tragacanth, but cellulose derivatives and vinyl alcohol unit-containing resins as described below are particularly suitable. 1 Cellulose derivatives Nitrorelulose, acetylcellulose, ethylcellulose, acetylbutylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydroxypropylcellulose, methylcellulose, ethylhydroxyethylcellulose, etc. In this case, the hydroxyl group per repeating unit is
It is preferable that the average content is 1 or more. 2 Vinyl alcohol unit-containing resin A complete or partial hydrolyzate of polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, ethylene-vinyl acetate copolymer, etc. In this case, the vinyl alcohol unit is 70 mol%
As mentioned above, the content is preferably 80 mol% or more. Note that there is no particular restriction on the number average molecular weight of such a polymer compound. Such a polymer compound is usually dissolved in a water-alcohol mixed solvent and applied as a layer. In this case, the alcohol is methanol,
Ethanol, propanol, butanol, etc. alone or in combination are suitable. The mixing ratio of water and alcohol is about 1:0.5 to 3. Although water can be used alone as the coating solvent, a water-alcohol mixed solvent is superior in terms of coating properties on resin substrates. When applying such a protective layer, a crosslinking agent can be added to the coating solution to crosslink the polymer compound in the coating film. At this time, solvent resistance, water resistance, and heat resistance are improved, and the stability of the recording layer is improved. In this case, a surfactant, an antifoaming agent, an antistatic agent, etc. may be added to the coating liquid in order to prevent pinholes from forming, completely defoaming, and lower the viscosity. The crosslinking agent used is preferably an organic compound or chelate of titanium, zirconium, or aluminum, or an aldehyde, oxycarboxylic acid, or methylol-containing oligomer. Such a polymer membrane preferably has a thickness of 0.002 to 0.8 μm, more preferably 0.005 to 0.5 μm. If it is less than 0.002μm, there is no effective scattering prevention.
This is because the sensitivity decreases when it exceeds 0.8 μm. Furthermore, the recording layer having the surface layer of the present invention may be formed directly on the substrate, or may be provided via an underlayer. The underlayer may be of various known types, but it is preferably one that is produced in exactly the same manner as the first surface layer or polymer film described above. The thickness of the base layer is 0.005 to 0.05 μm. especially
It is preferably 0.008 to 0.03 μm. When the thickness of the underlayer is less than 0.005 μm, the effect of imparting solvent resistance and heat resistance to the substrate is insufficient. If it exceeds 0.05 μm, sensitivity decreases. By installing the base layer as described above,
The sensitivity as an optical recording medium has further increased, resulting in improved S/N
The ratio will further improve. A recording layer is usually provided directly on the underlayer, but if necessary, another intermediate layer may be provided between the underlayer and the recording layer. . Similarly, various uppermost protective layers, half mirror layers, reflective layers, etc. can also be provided on the surface layer. The medium of the present invention may have the above-mentioned recording layer on one side of such a substrate with an underlayer interposed therebetween, or may have recording layers on both sides thereof with an underlayer interposed therebetween. good. Also, two recording layers are coated on one surface of the substrate with an underlayer interposed therebetween, and these are placed so that the recording layers face each other with a predetermined gap between them.
It can also be sealed to prevent dust and scratches. In the recording method of the present invention, recording light is irradiated onto the medium in a pulsed manner while the medium is traveling or rotating. At this time, due to the heat generated by the dye in the recording layer, the self-oxidizing resin decomposes or the thermoplastic resin and the dye melt, forming pits. In this case, writing is preferably performed from the back side of the substrate. In particular, when a tri- or tetracarbocyanine dye is used, extremely good writing can be achieved when a recording semiconductor laser diode with a wavelength of 750, 780, or 830 nm is used. Also, when using phthalocyanine dyes,
Very good writing can be performed when using a recording semiconductor laser diode with a wavelength of 730 to 760 nm. The pits thus formed are read out by detecting reflected or transmitted light, especially reflected light, of the readout light of the above wavelength while the medium is running or rotating. In this case, it is preferable that the readout light is irradiated from the back side of the substrate and the reflected light is detected. Note that when a recording layer or a thermoplastic resin is used, pits once formed in the recording layer can be erased with light or heat and rewritten. In addition, He-
Ne laser etc. can also be used. In such a case, according to the present invention, pits are formed without substantially breaking the surface layer. FIG. 1 shows a cross-sectional view of the formed pit. In such a case, as described above, when forming a normal high melting point surface layer, the writing conditions are adjusted. In other words, the light intensity is slightly lowered,
In addition, the speed at which the irradiation light passes through the recording medium may be increased. At this time, high-speed recording can be performed at the same time. Furthermore, a polymer film may be formed on the surface layer to prevent the surface layer from breaking at the pit portion. Specific Effects of the Invention The present invention uses an optical recording medium having a surface layer with a high melting point in the recording layer made of a dye or a dye composition, and forms pits in such a manner that the surface layer does not break. , the intensity of the writing light to obtain the same contrast is reduced, and the medium running speed can be increased. By forming the polymer film and setting the writing conditions, breakage of the surface layer during pit formation and accompanying scattering can be prevented, so the S/N ratio is improved and the error rate is reduced. Specific Examples of the Invention Hereinafter, the present invention will be explained in further detail by giving examples of the present invention. Example Tetraethyl hydrochloric acid 4.2 parts Ethyl alcohol 43 parts Ethyl acetate 42 parts Concentrated hydrochloric acid 5.4 parts Ethylene glycol 5.4 parts were mixed into a PMMA (MFI=2) injection molded substrate with a base diameter of 30 cm to form a colloidal dispersion of 50 to 80 Å. , n-
It was diluted with propanol to prepare a coating solution. This was spin-coated and then treated at 60°C for 30 minutes. The film thickness is 0.01 μm. Then dye D-10 and quencher Q3-
8 (5:2) 1% solution of dye (dichloroethane,
A recording layer made of dichlorohexanone (6:5) was formed using a spinner. Furthermore, a surface layer was formed on this recording layer by applying a solution prepared by diluting the colloidal dispersion liquid with n-hexane using a spinner. The film thickness was approximately 0.006 μm. The above is designated as sample 1. Sample 1 without a surface layer is designated as sample 2. Furthermore, in Sample 1, a solution of polyvinyl alcohol PVA (Kuraray 205 hydrodispersity 88%) dissolved in methanol-water (1:1) at a concentration of 1% was applied onto the surface layer. and about
Sample 3 has a thickness of 0.01 μm. For the above samples, an 833nm semiconductor laser was used, the focusing part intensity was 8mW/10mW, and the pulse width was 100ns.
Then, writing was performed from the back side of the substrate at a predetermined medium speed, and the contrast of the signal was measured. In addition, the presence or absence of breakage of the surface layer at the pit portion and the presence or absence of scattering of the surface layer were observed using an electron microscope. The results are shown in Table 1. [Table] From the results shown in Table 1, the effects of the present invention are clear.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に従い形成されるピツトを説明
するための断面図である。
FIG. 1 is a sectional view for explaining a pit formed according to the present invention.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 基体上に、色素または色素組成物からなる記
録層を有し、この記録層上に、それより高融点の
無機膜の表面層を有する光記録媒体に、書き込み
光を照射してビツトを形成して光記録を行うにあ
たり、 前記表面層により十分なエネルギーを吸収でき
るまで記録層への記録が行われないようにして感
度を向上させるとともに、 ピツトを、表面層が実質的に破断しない状態に
て凹部として形成して記録時の破砕片の飛び散り
を防止する光記録方法。
[Claims] 1. Writing light is applied to an optical recording medium that has a recording layer made of a dye or a dye composition on a substrate, and a surface layer of an inorganic film having a higher melting point on the recording layer. When performing optical recording by forming bits by irradiation, the sensitivity is improved by preventing recording on the recording layer until sufficient energy can be absorbed by the surface layer, and the pits are An optical recording method that prevents fragments from scattering during recording by forming concave portions in a state where they do not break.
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