JPS6174890A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

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JPS6174890A
JPS6174890A JP59198299A JP19829984A JPS6174890A JP S6174890 A JPS6174890 A JP S6174890A JP 59198299 A JP59198299 A JP 59198299A JP 19829984 A JP19829984 A JP 19829984A JP S6174890 A JPS6174890 A JP S6174890A
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group
dye
copolymer
layer
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憲良 南波
Shigeru Asami
浅見 茂
Toshiki Aoi
利樹 青井
Kazuo Takahashi
一夫 高橋
Akihiko Kuroiwa
黒岩 顕彦
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Abstract

PURPOSE:To enhance sensitivity and a S/N ratio and to reduce an error rate by improving a surface layer, in an optical recording medium having a surface layer on the recording layer thereof, by forming the surface layer from a first surface layer and the polymer film laminated to said first surface layer. CONSTITUTION:A solid film with high m.p. is provided as a first surface layer to obtain such a property that no pit is formed by light irradiated for a definite time or less but the formation of the pit is generated at a stroke after the sufficient rising in temp. The polymer film laminated to this first surface layer is provided in order to prevent the scattering of the crushed pieces of the first surface layer at the time of the formation of the pit. various kinds of ones can be adapted as the polymer to be used but, from such an aspect that, especially with respect to the first surface layer, a dye is not dissolved by the etching of the first surface layer and not only close adhesiveness but also uniformity are well and coating is easy and viscosity is low, a film of a high-molecular compound soluble in water or a water-alcohol solvent mixture and containing a hydroxyl group is pref.

Description

【発明の詳細な説明】 工 発明の背景 技術分野 本発明は、光記録媒体、特にヒートモードの光記録媒体
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to optical recording media, particularly heat mode optical recording media.

先行技術 光記録媒体は、媒体と書き込みないし読み出しヘッドが
非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化しないという特
徴をもち、このため、種々の光記録媒体の開発研究が行
われている。
Prior art optical recording media have the characteristic that the recording medium does not deteriorate due to wear and tear because the medium and the writing or reading head are not in contact with each other, and for this reason, research and development of various optical recording media are being carried out.

このような光記録媒体のうち、暗室による現像処理が不
要である等の点で、ヒートモード光記録媒体の開発が活
発になっている。
Among such optical recording media, heat mode optical recording media are being actively developed because they do not require development in a dark room.

このヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱として利
用する光記録媒体であり、その1例として、レーザー等
の記録光で媒体の一部を融解、除去等して、ピットと称
される小穴を形成して書き込みを行い、このピットによ
り情報を記録し、このピットを読み出し光で検出して読
み出しを行うピット形成タイプのものがある。
This heat mode optical recording medium is an optical recording medium that uses recording light as heat. One example is a heat mode optical recording medium that uses recording light such as a laser to melt or remove a part of the medium to form a pit. There is a pit-forming type in which writing is performed by forming small holes, information is recorded using the pits, and reading is performed by detecting the pits with a readout light.

このようなビット形成タイプの媒体 特にそのうち、装
置を小型化できる半導体レーザーを光源とするものにお
いては、これまで、Teを上体とする材料を記録層とす
るものが大半をしめている。
Most of these bit-forming type media, especially those using a semiconductor laser as a light source that can make the device smaller, have a recording layer made of a Te-based material.

しかし、近年、Te系材料が有害であること1そしてよ
り高感度化する必要があること。
However, in recent years, Te-based materials have become harmful 1 and there is a need for higher sensitivity.

より51aコストを安価にする必要があることがら、T
e系にかえ、色素を主とした有機材料系の記録層を用い
る媒体についての提案や報告が土曽加している・ 例えば、He−Neレーザー用としては、スクワリリウ
ム色素〔特開昭56−48221号 V。
Since it is necessary to lower the 51a cost, T
There have been many proposals and reports on media that use recording layers made of organic materials, mainly dyes, instead of e-based ones. No. 48221 V.

B、 Jipson  and  C,R,Jones
、  j、Vac、  Sci。
B.Jipson and C.R.Jones
, j, Vac, Sci.

Technol、、、 18 (1) 105 (19
81) )や、金属フタロシアニン色素(特開昭57−
82084号、同57−82095号)などを用いるも
のがある。
Technol, 18 (1) 105 (19
81)) and metal phthalocyanine dyes (Japanese Patent Application Laid-open No. 1983-
82084, 57-82095), etc.

また、金属フタロシアニン色素を半導体レーザー用とし
て使用した例(特開昭56−887!15号)もめる。
An example of using metal phthalocyanine dyes for semiconductor lasers (Japanese Unexamined Patent Publication No. 887/1987) is also discussed.

これらは、いずれも色素を蒸着により記録層薄膜とした
ものであり、媒体製造上、Te系と大差はない。
All of these have a recording layer formed into a thin film by vapor deposition of a dye, and there is no major difference from the Te type in terms of medium production.

しかし、色素蒸着膜のレーザーに対する反射率は一般に
小さく、反射光量のピットによる変化(減少)によって
読み出し信号をうる、現在行われている通常の方式では
、大きなS/N比をうろことができない。
However, the reflectance of a dye-deposited film to a laser is generally small, and the current conventional method of obtaining a readout signal by changing (reducing) the amount of reflected light due to pits cannot achieve a large S/N ratio.

また、記録層を担持した透明基体を、記録層が対向する
ようにして一体化した、いわゆるエアーサンドイッチ構
造の媒体とし、基体をとおして書き込みおよび読み出し
を行うと、書き込み感度を下げずに記録層の保護ができ
、かつ記録密度も大きくなる点で有利であるが、このよ
うな記録再生方式も、色素蒸着膜では不可衡である。
In addition, if a transparent substrate supporting a recording layer is integrated with the recording layers facing each other in a so-called air sandwich structure medium, and writing and reading are performed through the substrate, the recording layer can be layered without reducing the writing sensitivity. However, such a recording/reproducing method is also incompatible with a dye-deposited film.

これは、通常の透明樹脂製基体では、屈折率がある程度
の値をもち(ポリメチルメタクリレートで1 、5) 
、また、表面反射率がある程度大きく(回4%)、記録
層の基体をとおしての反射率が、例えばポリメチルメタ
クリレートでは60%程度以下になるため、低い反射率
しか示さない記録層では検出できないからである。
This is because a normal transparent resin substrate has a refractive index of a certain value (1.5 for polymethyl methacrylate).
In addition, the surface reflectance is relatively high (4%), and the reflectance through the substrate of the recording layer is about 60% or less for polymethyl methacrylate, for example, so it is difficult to detect a recording layer that shows only a low reflectance. Because you can't.

色素蒸着膜からなる記録層の、読み出しのS/N比を向
上させるためには、通常、基体と記録層との間に、A見
等の蒸着反射膜を介在させている。
In order to improve the reading S/N ratio of a recording layer made of a dye-deposited film, a vapor-deposited reflective film such as A-type is usually interposed between the substrate and the recording layer.

この場合、蒸着反射膜は1反射率を上げてS/N比を向
上させるためのものであり、ビyh形成により反射膜か
露出して反射率が増大したり、あるいは場合によっては
1反射膜を除去して反射率を減少させるものであるが、
当然のことながら、基体をとおしての記録再生はできな
い。
In this case, the vapor-deposited reflective film is intended to increase the reflectance by 1 and improve the S/N ratio, and the reflective film is exposed by the formation of biyh and the reflectance increases, or in some cases, the reflective film is This method reduces reflectance by removing
Naturally, recording and reproduction cannot be performed through the substrate.

同様に、特開昭55−181690号には、I R,−
132色素(コダック社製)とポリ酢酸ビニルとからな
る記録層、また、特開昭57−74845号には、1.
1′−ジエチル−2,2’−)リヵルポシアニンイオダ
イドとニトロセルロースとからなる記録層、さらにはに
、Y、Law、 et al、、 Appl、 Phy
s。
Similarly, in JP-A-55-181690, I R, -
132 dye (manufactured by Kodak) and polyvinyl acetate.
A recording layer consisting of 1'-diethyl-2,2'-)licalpocyanine iodide and nitrocellulose, and furthermore, Y, Law, et al., Appl, Phy.
s.

Latt、 39 (9) 718 (1381)には
、3,3′−ジエチル−12−7セチルチアテトラカル
ポシアニンポリ酢酸ビニルとからなる記録層など、色素
と樹脂とからなる記録層を塗布法によって設層した媒体
が開示されている。
Latt, 39 (9) 718 (1381) discloses that a recording layer composed of a dye and a resin, such as a recording layer composed of 3,3'-diethyl-12-7cetylthiatetracarpocyanine polyvinyl acetate, is formed by a coating method. The layered media is disclosed.

しかし、これらの場合にも、基体と記録層との間に反射
Sを必要としており,基体裏面側からの記録再生ができ
ない点で、色素蒸着膜の場合と同様の欠点をもつ。
However, these cases also have the same drawback as the dye-deposited film in that reflection S is required between the substrate and the recording layer, and recording and reproduction cannot be performed from the back side of the substrate.

このように、基体をとおしての記録再生が可能であり.
Te系材料からなる記録層をもつ媒体との互換性を有す
る、有機材料系の記録層をもつ媒体を実現するには、有
機材料自身が大きな反射率を示す必要がある。
In this way, recording and reproduction through the substrate is possible.
In order to realize a medium having a recording layer made of an organic material that is compatible with a medium having a recording layer made of a Te-based material, the organic material itself needs to exhibit a high reflectance.

しかし、従来、反射層を積層せずに、有機材料の単層に
て高い反射率を示す例はきわめて少ない。
However, conventionally, there are very few examples of a single layer of organic material exhibiting high reflectance without laminating a reflective layer.

・わずかに、バナジルフタロシアニンの込着膜が高反射
率を示す旨が報告CP、Kivits、  etal、
、Appl、 Phys、 Part A 2f3 (
2) lot (1981)、特開昭55−87033
号〕されているが、おそらく外信温度が高いためであろ
うと思われるが、書き込み感度が低い。
・It has been reported that the impregnated film of vanadyl phthalocyanine shows slightly high reflectance CP, Kivits, etal,
, Appl, Phys, Part A 2f3 (
2) lot (1981), JP-A-55-87033
However, the writing sensitivity is low, probably due to the high external temperature.

また、チアゾール系やキノリ/系等のシアニン色素やメ
ロシアニン色素が報告〔山本他、第27回 応用物理学
会予稿集 1p−P−9(1980) )されており、
これにもとづく提案が特開昭58−112730号にな
されているが、これら色素は、特に塗膜として設層した
と5に、溶剤に対する溶解度が小さく、また結晶化しや
すく、さらには読み出し光に対してきわめて不安定でた
だちに脱色してしまい、実用に供しえない。
In addition, cyanine dyes and merocyanine dyes such as thiazole-based and quinol-based dyes have been reported [Yamamoto et al., Proceedings of the 27th Japan Society of Applied Physics, 1p-P-9 (1980)].
A proposal based on this was made in JP-A-58-112730, but these dyes have low solubility in solvents, are easily crystallized, and are more sensitive to readout light, especially when applied as a coating. It is extremely unstable and immediately discolors, making it unsuitable for practical use.

このような実状に鑑み、本発明者らは、先に、溶剤に対
する溶解度が高く、結晶化も少なく、かつ熱的に安定で
あって、塗膜の反射率が高いインドレニン系のシアニン
色素を単層膜として用いる旨を提案している(特願昭5
7−134397号、同 57−134170号)。
In view of these circumstances, the present inventors first developed an indolenine-based cyanine dye that has high solubility in solvents, little crystallization, is thermally stable, and has high paint film reflectance. It is proposed to be used as a single layer film (patent application filed in 1973).
No. 7-134397, No. 57-134170).

また、インドレニン系、あるいはチアゾール系、キノリ
ン系、セレナンール系等の他のシアニン色素においても
、長鎖アル午ル基を分子中に導入して、溶解性の改善と
結晶化の防止がはかられることを提案している(特願昭
57−182589号、同 57−177776号等)
In addition, in other cyanine dyes such as indolenine, thiazole, quinoline, and selenanol dyes, long-chain alkyl groups can be introduced into the molecule to improve solubility and prevent crystallization. (Patent Application No. 57-182589, Patent Application No. 57-177776, etc.)
.

さらに、光安定性をまし、特に読み出し光による脱色(
再生劣化)を防止するために、シアニン色素に遷移金属
化合物クエンチャ−を療加する旨の提案を行っている(
特願昭57−1f3B832号、同57−168048
号等)。
Furthermore, it has improved photostability, especially decolorization by readout light (
We have proposed adding a transition metal compound quencher to cyanine dyes to prevent regeneration and deterioration (
Patent application No. 57-1f3B832, No. 57-168048
No. etc.).

さらには、色素とクエンチャ−とのイオン結合体を形成
し、これにより再生劣化をより減少し、かつ安定性を高
める旨の提案も行っている(特願昭5i3−14848
号、同5!3−18878号、同59−13715号)
Furthermore, they have proposed forming an ionic bond between a dye and a quencher to further reduce regeneration deterioration and increase stability (Patent Application No. 5i3-14848
No. 5!3-18878, No. 59-13715)
.

ところで、色素または色素組成物からなる光記録膜は光
照射と同時にピットが形成されてしまい、その後の照射
光は最もエネルギーの集中している中央部で吸収されな
くなる。
By the way, pits are formed in an optical recording film made of a dye or a dye composition at the same time as it is irradiated with light, and the subsequent irradiated light is not absorbed in the central part where the energy is most concentrated.

従って、エネルギーの利用効率か低く感度がある値以上
に向上しない原因となっている。
Therefore, the energy utilization efficiency is low, which is the reason why the sensitivity cannot be improved beyond a certain value.

そこで、木発明者らは、先に、ケイ素系縮合物のコロイ
ド粒子分散液塗膜などの高融点の膜を表面層として設層
して、一定時間の照射光に対してピットを形成しないよ
うにし、十分な温度にまでL昇するのを待って、−気に
ピット形成をおこさせ、感度を向上させる旨を提供して
いる(#願昭59−82386号等)。
Therefore, the inventors first applied a film with a high melting point, such as a coating film of a colloidal particle dispersion of a silicon-based condensate, as a surface layer to prevent the formation of pits when exposed to light for a certain period of time. The method proposes that the sensitivity is improved by waiting for the temperature to rise to a sufficient temperature and causing pit formation (#Application No. 59-82386, etc.).

しかし、このような場合、−気にピット形成かおこる結
果、感度は向上するが、同時に表面層が破砕して飛散り
、 これが他のトラックに飛散してS/N比を低下させ
たり、エラーラードを大きくしたりする不都合が生じる
場合があることか判明した。
However, in such cases, the sensitivity improves as a result of pit formation, but at the same time the surface layer is crushed and scattered, which scatters to other tracks, lowering the S/N ratio and causing errors. It has been found that there may be inconveniences caused by increasing the size of the lard.

II  発明の目的 本発明の目的は、色素または色素組成物からなる記録層
を有する光記録媒体において、その表面層を改良して、
感度が高く、しかもS/N比が高く、かつエラーレート
の少ないものにすることにある。
II. OBJECTS OF THE INVENTION An object of the present invention is to improve the surface layer of an optical recording medium having a recording layer made of a dye or a dye composition.
The objective is to have high sensitivity, high S/N ratio, and low error rate.

■ 発明の開示 このような目的は、下記の本発明によって達成される。■Disclosure of invention Such objects are achieved by the invention described below.

すなわち本発明は、基体上に、直接または下地層を介し
て色素または色素組成物からなる記録層を有し、この記
録層上に表面層を有する光記録媒体において、表面層が
、第1表面層と、この第1表面層上に積層した高分子I
Qとからなることを特徴とする光記録媒体である。
That is, the present invention provides an optical recording medium that has a recording layer made of a dye or a dye composition on a substrate directly or via an underlayer, and a surface layer on this recording layer, in which the surface layer is formed on a first surface. layer, and a polymer I laminated on the first surface layer.
This is an optical recording medium characterized by comprising:

■ 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。■Specific structure of the invention Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be explained in detail.

本発明の光記録媒体の記録層中には色濃が含nされる。The recording layer of the optical recording medium of the present invention contains a deep color.

用いる色素には特に制限はなく シアニン系6 フタロ
シアニン系、ナフタロシアニン系、テトラデヒドロコリ
ンないしテトラデヒドコココール系、ア/トラキノン系
、アゾ系、トリフェニルメタン系、ビリリウムないしチ
アビリリウム塩素系等の色素はいずれも使用可能である
There are no particular restrictions on the dyes used.Cyanine-based 6 Phthalocyanine-based, naphthalocyanine-based, tetradehydrocholine or tetradehyde cococol-based, a/traquinone-based, azo-based, triphenylmethane-based, biryllium or thiavirylium chlorine-based dyes, etc. Both can be used.

このような中で、本発明による効果が大きいのは、第1
にシアニン色素である。
Under these circumstances, the main effect of the present invention is the first one.
It is a cyanine dye.

シアニン色濃の中では下記式(1)で示されるものか!
J’fましい。
Among the cyanine colors, is it expressed by the following formula (1)?
J'f is adorable.

式〔I〕 Φ−L=’!’   (X−)よ トー記式CI)において、重およびΦは、芳香族環1例
えばベンゼン; ナフタレン環、フェナジルン環等が縮
合してもよいインドール環 チアゾール環、オキサゾー
ル環、セレナゾール邸 イミダゾール;、ピリジン環等
をあられす。
Formula [I] Φ-L='! ' (X-) In the notation CI), heavy and Φ represent an aromatic ring 1 such as benzene; an indole ring to which a naphthalene ring, a phenazirine ring, etc. may be fused; a thiazole ring, an oxazole ring, a selenazole ring; an imidazole; Hail pyridine rings etc.

これらΦおよび重は、同一でも異なっていてもよいが 
通常は同一のものであり、これらの環には、種々の置換
基が結合していてもよい。
These Φ and weight may be the same or different, but
They are usually the same, and various substituents may be bonded to these rings.

なお、Φは、環中の窒素原子が十電荷をもち、重は、環
中の窒素原子が中性のものである。
Note that Φ means that the nitrogen atom in the ring has ten charges, and heavy means that the nitrogen atom in the ring is neutral.

これらのΦおよびψの骨格環としては、下記式〔Φ工〕
〜〔Φ双〕で示されるものであることが好ましい。
As the skeletal rings of these Φ and ψ, the following formula [Φ]
It is preferable that it is represented by ~[Φdouble].

なお、下記においては、構造はΦの形で示される。In addition, in the following, the structure is shown in the form of Φ.

(R4L 〔Φ剃)            (R4)Q〔Φ潤〕 このような各種環において、環中の窒素原子(イミダゾ
ール環では2 (itの窒素原子)に結合する基R+ 
 (R+  、R+  ′)は、置換または非置換のア
ルキル基またはアリール基である。
(R4L [Φshaved) (R4)Q [ΦJun] In these various rings, the group R+ bonded to the nitrogen atom in the ring (in the case of an imidazole ring, the
(R+, R+') is a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group.

このような環中の、窒素原子に結合する基R,,R,′
の炭素原子数には、特に制限はない。 また、この基が
さらに置換基を有するものである場合、置換基としては
、スルホン酸基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキ
ルアミド基、アルキルスルホンアミド基、アルコキシカ
ルボニル基、アルキルアミ7基、アルキルカル八モイル
基、アルキルスルファモイル基、水酸基、カルボキシ基
、ハロゲン原子等いずれであってもよい。
Groups R,,R,′ bonded to the nitrogen atom in such a ring
There is no particular restriction on the number of carbon atoms in . In addition, when this group further has a substituent, examples of the substituent include a sulfonic acid group, an alkylcarbonyloxy group, an alkylamido group, an alkylsulfonamide group, an alkoxycarbonyl group, an alkylami7 group, and an alkylcaroctamoyl group. It may be any of a group, an alkylsulfamoyl group, a hydroxyl group, a carboxy group, a halogen atom, etc.

なお、後述のmが0である場合、Φ中の窒素原子に結合
する基R1は、置換アルキルまたはアリール基であり、
かつ−電荷をもつ。
In addition, when m described below is 0, the group R1 bonded to the nitrogen atom in Φ is a substituted alkyl or aryl group,
and - has an electric charge.

さらに、Φおよびψの環が、縮合ないし非縮合のインド
ール環(式〔Φ工〕〜〔ΦIV))である場合、その3
位には、2つの置換基R2。
Furthermore, when the rings Φ and ψ are fused or non-fused indole rings (formulas [Φ] to [ΦIV)], the 3
At the position, two substituents R2.

R3が結合することが好ましい。 この場合、3位に結
合する2つの置換基R2,R3としては、アルキル基ま
たはアリール基であることが好ましい。 そして、これ
らのうちでは、炭素原子a1または2、特に1の非置換
アルキル基であることが好ましい。
Preferably, R3 is bonded. In this case, the two substituents R2 and R3 bonded to the 3-position are preferably an alkyl group or an aryl group. Among these, unsubstituted alkyl groups having 1 or 2 carbon atoms, particularly 1 carbon atom, are preferred.

一方、Φおよび!で表わされる環中の所定の位置には、
さらに他の置換基R4が結合していてもよい。 このよ
うな置換基としては、アルキル基、アリール基、複素環
残基、/\ロゲン原子、アルコキシ基、アリーロキシ基
、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルカルボニ
ル基、アリールカルボニル基、アルキルオキシカルボニ
ル基、アリーロキシカルボニル基、アルキルカルボニル
オキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アルキルアミ
ド基、アリールアミド基、アルキルカル モイル基,アルキルアミノ基、アリールアミノ甚,カル
ボン酸基、アルキルスルホニルリールスルホニル基、ア
ルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、
アルキルスルファモイル基,アリールスルファモイル基
、シアノ基、ニトロ基等、種々の置換基であってよい。
On the other hand, Φ and! At a given position in the ring represented by
Furthermore, another substituent R4 may be bonded. Such substituents include alkyl groups, aryl groups, heterocyclic residues, /\rogen atoms, alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, alkylcarbonyl groups, arylcarbonyl groups, alkyloxycarbonyl groups, and arylcarbonyl groups. Roxycarbonyl group, alkylcarbonyloxy group, arylcarbonyloxy group, alkylamide group, arylamide group, alkylcarmoyl group, alkylamino group, arylamino group, carboxylic acid group, alkylsulfonyl sulfonyl group, alkylsulfonamide group, arylsulfonamide group,
Various substituents may be used, such as an alkylsulfamoyl group, an arylsulfamoyl group, a cyano group, and a nitro group.

そして、これらの置換基の数(p,q.r。and the number of these substituents (p, q.r.

s,t)は、通常、Oまたは1〜4程度とされる。 な
お、p,q,r,s,tが2以上であるとき、複数のR
4は互いに異なるものであってよい。
s, t) are usually O or about 1 to 4. In addition, when p, q, r, s, and t are 2 or more, multiple R
4 may be different from each other.

なお、これらのうちでは、式〔Φ工〕〜〔Φ■〕の縮合
ないし非縮合のインドール環を有するものが好ましい。
Among these, those having a fused or non-fused indole ring of the formulas [Φ] to [Φ■] are preferred.

これらは溶剤に対する溶解度,塗膜性、安定性にすぐれ
、きわめて高い反射率を示し、読み出しのS/N非がき
わめて高くなるのである。
These have excellent solubility in solvents, coating properties, and stability, exhibit extremely high reflectance, and have extremely high readout S/N ratios.

他方、Lは、モノ、ジ、トリまたはテトラカルボシアニ
ン色素を形成するための連結基を表わすが、特に式(L
I)〜〔L■〕のいずれかであることが好ましい。
On the other hand, L represents a linking group for forming a mono-, di-, tri- or tetracarbocyanine dye;
Any one of I) to [L■] is preferable.

式(LI) CH=CH−CH=CH−C=CH−CH=CH−CH
式(LIX)      C ここ(こ、Yは、水素原子または1価の基を表わす。 
この場合、]価の基としては、メチルノ、(等の低級ア
ルキル基、メトキシ基等の低級アルコキシ基、ジメチル
アミノ基、ジフェニルアミノ基 メチルフェニルアミノ
基、モルホリノ基 イミグツリジン基、エトキシカルボ
ニルピペラジン基などのジ置換アミン基、アセトキシX
Qのアルキルカルポニルオ午シ基、メチルチオ)。(等
のフルキルチオ基、シアノ基、ニトロノ、(、Br、C
!;L等のハロゲン原子などであることが好ましい。
Formula (LI) CH=CH-CH=CH-C=CH-CH=CH-CH
Formula (LIX) C where (Y represents a hydrogen atom or a monovalent group.
In this case, examples of the valent group include lower alkyl groups such as methyl, lower alkoxy groups such as methoxy, dimethylamino, diphenylamino, methylphenylamino, morpholino, imigthuridine, ethoxycarbonylpiperazine, etc. Disubstituted amine group, acetoxy
Q's alkylcarbonyl group, methylthio). Furkylthio group, cyano group, nitrono, (, Br, C
! ; It is preferably a halogen atom such as L.

なお、これら式(LI)〜〔L■〕の中では、トリカル
ボシアニン連結基、特に式%式% さらに、X−は陰イオンであり、その好ましい例とじて
は、 I”、Br−0Ci04−、BF4−。
In addition, in these formulas (LI) to [L■], tricarbocyanine linking groups, especially formula % formula %, and X- are anions, and preferable examples thereof include I", Br-0Ci04 -, BF4-.

CH3−c>、SO:3− 、CfL−C)−SO3−
等を挙げることができる。
CH3-c>, SO:3-, CfL-C)-SO3-
etc. can be mentioned.

なお、mは0または1であるが1mがOであるときには
、通常、ΦのR1が一電荷をもち、分子内用となる。
Note that when m is 0 or 1 but 1m is O, R1 of Φ usually has one charge and is used within the molecule.

次に、本発明のシアニン色素の具体例を挙げるが、本発
明はこれらのみに限定されるものではない。
Next, specific examples of the cyanine dye of the present invention will be given, but the present invention is not limited to these.

L1迷  免−j    現し−ヱエ′       
lL−」LDl     (ΦI )      CH
3CH3D2     (ΦI)      CH3C
H3D3     (ΦI)      C2H40H
CH3D4   (411)   ((CH2)350
3 :     CH3(CH2)3 503   N
a” D5     (ΦII)      CH3CH3D
6      (Φ口11    ((CH2)  3
  SO3二        CH3(CH2)3 5
03   Na” D 7     (ODI)      CH2CH2
0HCH3D8    (41[11)     (C
H2)2 0COCH3CH3D9     (Φm)
     (C)(2) 20COCH,CH。
L1 confusion ME-j Appearance-E'
lL-”LDl (ΦI) CH
3CH3D2 (ΦI) CH3C
H3D3 (ΦI) C2H40H
CH3D4 (411) ((CH2)350
3: CH3(CH2)3 503 N
a” D5 (ΦII) CH3CH3D
6 (Φmouth 11 ((CH2) 3
SO32 CH3(CH2)3 5
03 Na” D 7 (ODI) CH2CH2
0HCH3D8 (41[11) (C
H2) 2 0COCH3CH3D9 (Φm)
(C) (2) 20COCH, CH.

Dlo   〔Φm )      CH3CH3D1
1    (Φm )      CH3CH3D12
   (ΦI)    Cl8H37CH3013(Φ
I)      CaHq             
 CH30+5  〔ΦI)     C8H,60C
OCH5CH30+5   (ΦI)     C7H
,4CH,、OHCH3=  RL  旦−Y    
   又  −X−−(LII) H丁 −(L[)         HC又04−    C
LDI)         HI     Br−CL
、)         H− −(L[)         Hc全04−    C
LH〕        H−−CLU’J      
   Hc誌04CL11〕        HBr −[LDl)   −N  (C8H5)2    1
    C又04−    (LU)        
HCl0a(LIII)   −N  (C6H5)2
    1    C又04−    CLII)  
       HI−(Lll)         H
C又04(LOI)   −N(C6H5)2    
1    C又04−    (Lll)      
   HI奴亙轡 ミニ!  lL工1工′     
    LLLIユ 1より1B 〔Φ■)   C8
H17CH3−017(OI[I)   C8H,CH
3−D19  (4+III]   C7H14COO
C2H5CH3−020(ΦflI)   C4H,C
H3−021(O[]   C,8H,□      
    CH’t    −D22 〔Φ01)   
C,H9CH3−D23 〔ΦI)    CHCOO
CH3CH3−D24 〔Φr)   C8H,60C
OCH3CH3−D25 〔ΦI)、   C8H17
C2H5−D26 〔Φ工〕  C7H15C2H5−
−D 27  (’D n )    CHCOOCH
3CH3−D28 〔ΦII )    CHCHOC
OCH3CH3D29 〔Φ11 )   C+ 7H
35CH3−↓エ        Y      又 
−X−(LII)          H0文04(L
 II )            H−〔LIII)
  −N  N−COOC2H51(LLI)    
      HEF4(LIII)     −N(C
6H5)2   1  Cl0a(LII)     
     HC免0II(Lll)         
 HCfL04(LII)           H1
(LII[)     −N  (Cs  H5)2 
  1    I〔L■〕H工 (L II )          HI(Lll) 
         HCl0a〔Lrfl)  −N 
 N−COOC2H51r〔L■〕 −N  N−CO
OC2H51C文O4色人掬 ミニvH上′     
     1LユJユD30 〔ΦH)    CHC
OOCH3C2H5D31 〔9m)  C7H,CH
20HCH3D32  (Φ01)   C7H,4C
H20COC2H5CH3D33 (ΦII[)   
C17H34COOC2H5CH3D34 〔ΦIn)
   C,。H2S           CH3D3
5 〔ΦIII )   C7H15C2H5D36 
 〔Φ■〕    CH3CHsD37  〔ΦTV)
     CH3CH3D38  〔ΦIV)    
 C4Hq、                 CH
3D39   (OTV)   (CH2)2 0CO
CR3CH3D40   (OV)    C2H5−
4−D41  〔ΦV)     CH3−4−D42
  〔Φ■)     C2H5−D43  〔ΦVl
)    C2H5−5−D44  〔ΦV[)   
 C2H55−D45  〔ΦVT)    C2H5
5−LL   ↓−Y    −1−x− −”     (LII)        HClO4
−CL■〕       HClO4 −(LII)        HI (LIn)   −N(C6H5)2  1     
I−(LI        HI     I−(LL
)        Hr −(LII)        HI −(LSI)        HCfL04=    
 (LSI)        H0文04−     
(Lll)        HIGH3(Lll)  
      HrCH3(Lll)        H
1(LIT)        HBr C1(LOI)   −N(C8H5)2  1   
  BrOCH3(Lll)      H(:I(3
C6H,So。
Dlo [Φm] CH3CH3D1
1 (Φm) CH3CH3D12
(ΦI) Cl8H37CH3013 (Φ
I) CaHq
CH30+5 [ΦI] C8H, 60C
OCH5CH30+5 (ΦI) C7H
,4CH,,OHCH3=RL dan-Y
-X--(LII) H-(L[) HC-04-C
LDI) HI Br-CL
, ) H- -(L[) Hc all 04- C
LH] H--CLU'J
Hc magazine 04CL11] HBr −[LDl) −N (C8H5)2 1
Cmata04- (LU)
HCl0a(LIII) -N (C6H5)2
1 Cmata04-CLII)
HI-(Lll) H
Cmata 04 (LOI) -N (C6H5)2
1 Cmata04- (Lll)
HI slave story mini! LL engineering 1 engineering'
LLLI Yu 1 to 1B [Φ■) C8
H17CH3-017(OI[I) C8H,CH
3-D19 (4+III) C7H14COO
C2H5CH3-020 (ΦflI) C4H,C
H3-021(O[] C,8H,□
CH't -D22 [Φ01]
C, H9CH3-D23 [ΦI] CHCOO
CH3CH3-D24 [Φr] C8H, 60C
OCH3CH3-D25 [ΦI), C8H17
C2H5-D26 [Φ work] C7H15C2H5-
-D 27 ('D n ) CHCOOCH
3CH3-D28 [ΦII) CHCHOC
OCH3CH3D29 [Φ11] C+ 7H
35CH3-↓E Y again
-X- (LII) H0 sentence 04 (L
II) H-[LIII)
-N N-COOC2H51 (LLI)
HEF4(LIII)-N(C
6H5) 2 1 Cl0a (LII)
HC exemption 0II (Lll)
HCfL04(LII) H1
(LII[) -N (Cs H5)2
1 I [L ■] H engineering (L II ) HI (Lll)
HCl0a [Lrfl) -N
N-COOC2H51r [L■] -N N-CO
OC2H51C text O4 Ikijinki Mini vH top'
1L YuJyuD30 [ΦH] CHC
OOCH3C2H5D31 [9m] C7H,CH
20HCH3D32 (Φ01) C7H, 4C
H20COC2H5CH3D33 (ΦII[)
C17H34COOC2H5CH3D34 [ΦIn]
C. H2S CH3D3
5 [ΦIII) C7H15C2H5D36
[Φ■] CH3CHsD37 [ΦTV]
CH3CH3D38 [ΦIV]
C4Hq, CH
3D39 (OTV) (CH2)2 0CO
CR3CH3D40 (OV) C2H5-
4-D41 [ΦV] CH3-4-D42
[Φ■) C2H5-D43 [ΦVl
) C2H5-5-D44 [ΦV[)
C2H55-D45 [ΦVT] C2H5
5-LL ↓-Y -1-x- -” (LII) HClO4
-CL■] HClO4 -(LII) HI (LIn) -N(C6H5)2 1
I-(LI HI I-(LL
) Hr −(LII) HI −(LSI) HCfL04=
(LSI) H0 sentence 04-
(Lll) HIGH3 (Lll)
HrCH3(Lll) H
1(LIT) HBr C1(LOI) -N(C8H5)2 1
BrOCH3(Lll) H(:I(3
C6H, So.

OCH3(Lll)        HBrリ(ト)乞
」  L−」工′シー」ユ LL   LD48〔ΦV
T)   C2H5−−(LIV)D47 〔ΦVl)
   C2H3−−(Lll)D48〔ΦVT)   
C2H5−−(LI)D43〔ΦV[)   C,、H
5−−(L11’:1050(OVI)   02H5
−−(LV)D51〔ΦV[)   C2H3−−(L
V’)D52〔Φ■)   (:2H5−−(LVI)
D53 〔Φ■)   (CH)OCOCH3−−CL
田〕D54〔ΦVl)   CH2CH20H−5−C
I  (LII)D55〔Φ劃  C2H5−−CLI
I)p56〔ΦIX)   C,、H5−−(Lu)D
57〔ΦIX)   C2H5−−(LIII)D58
〔ΦIXI   C2H,、〜  −CLm)D59 
〔ΦX)   C2H5−−(Lll〕D60 (Φ別
  CH2CH20H−−(Lll)Y       
  交     X I      Br HBr )(Br C)(3Br HL     Br HI     Br I      Br −N (Cs Hs ) 2     L   aH3
c8H4so3HCH3C6H4S03 HBr HBr OCH31工 HI HBr j(ト)乞」  L−」土′      幻−」ユ 紅
D6I 〔Φ店)    C2H5−−D62  (O
XI[)   CCH2) 30COCH3−−D63
 〔Φ雇)   C2H5−− D64 (Φ雇)   CH2CH2CH25o3H−
−D85  (Φ雇)   C2H5−−D8B 〔Φ
W)    C2H5−−D67 〔Φ双”J    
C2H5−−D68 〔ΦV[)   C8H17−4
−CH5D63 〔Φ”    Cl8H3□    
      〜    −D70 〔Φ”)    C
3H1?           −−D71  (Φ■
)   C8H17−5−C文D72 〔ΦVT)  
 C,8H3□        −5−CfLD73 
〔ΦV’l)   C8H,7(5二g3旧D74 〔
Φ■)   C8H,7−5−0CH3D75 〔ΦV
l:l   C8H,7−5−CLL        
Y        l   工(L [1)     
  HI 〔 〔L■〕     H■ (LIII)  −N (C8H5)2   1   
C見04(LOI)  −N(C6H5)2   1 
   I〔LL)      HBr 〔LL)      HBr (L II)      H1 (L(II)    N(CeHs)2   L   
 Br〔LL)      HC免04 (Lm)   −N (C6H5)2   1   C
9,Oa〔LL)      HI (Lll)      HI (Ll      −11 (Lm)   −N(C6H5)2   1    B
rリ(ト)  乞Δ  L工」土′ −1」上  b−
D78  〔Φ” )   C18H37s−c立D7
7  〔Φv+〕   C8H,7−D78  〔Φ五
”    C8H17−D79  〔ΦV’l〕  C
,8H37−5−C文D80  〔ΦVT)   Cl
8H3□    −5−C立D81   〔Φ■)  
  C8H1□     −DBP  〔ΦVT’l 
   C8H,□     −D83  〔Φ■〕  
 C3H1□     −D84   〔Φ■〕   
C3H1□     −r)85   ((りVI[〕
〕C,8H3□−D86 〔Φ■)    C+3H2
7−D87  〔Φ■〕C13H27− D88   〔Φ■)    C8H,。     −
−D89  〔Φ■〕   C3H1□     −D
90  〔Φ■〕   Cl8H3□     −−L
    工      立   X (LIII)   −N (C8H5)2    L 
    Br(L II )        H (L II )      HC:H2O2)14SO
3(LLI)     H0文C6H4S03(LV)
      HI     I(LVT)      
HI     B r(LV[[]      −■ (LIn)   −N (C[l H5)2   1 
    Br(L tl )      HcH3c6
H,5o3(LIII      HB r (LII)      HEr (LIII)     OCH31I (L H)      HcH3c6H,so3山 乞
Δ L−」上′     紅−肛且D91  〔Φ■)
   C8H17−−DBP  〔Φ■)   Cl8
H37−−D93  〔Φ創  C3H1□     
     −−D94  〔Φ■)   c8H,□ 
         −−D95  〔Φ刈〕   C8
H17−D36〔Φに〕C13H27−5− D37  〔Φ皿)   C8H,□        
  −−D98  〔9店)    Cl8H3□  
         −D99   ”〔Φm〕   C
8H17−Dloo   (Φ””    C8H17
−DIQI   (Φ””    C8H17−D10
2   (Φ■’J    Ca上17       
    −0103   (Φ贋’l    C8H,
。           −D104   (ΦI:]
   CHCHOCOCH3CH3−[1105(ΦI
)   CH,、CH20HCH3。
OCH3 (Lll) HBr re(t)beg"L-"English"YU LL LD48 [ΦV
T) C2H5--(LIV)D47 [ΦVl)
C2H3--(Lll)D48[ΦVT]
C2H5--(LI)D43[ΦV[) C,,H
5--(L11': 1050 (OVI) 02H5
--(LV)D51[ΦV[) C2H3--(L
V')D52[Φ■) (:2H5--(LVI)
D53 [Φ■) (CH)OCOCH3--CL
〕D54〔ΦVl) CH2CH20H-5-C
I (LII) D55 [Φ劃 C2H5--CLI
I) p56 [ΦIX) C,, H5--(Lu)D
57 [ΦIX) C2H5--(LIII)D58
[ΦIXI C2H,,~-CLm)D59
[ΦX) C2H5--(Lll]D60 (by Φ CH2CH20H--(Lll)Y
Cross
c8H4so3HCH3C6H4S03 HBr HBr OCH31 工HI HBr j(t)beg"L-"earth'phantom-" Yu Beni D6I [Φ store] C2H5--D62 (O
XI[) CCH2) 30COCH3--D63
[Φ employment] C2H5-- D64 (Φ employment) CH2CH2CH25o3H-
-D85 (Φ employment) C2H5--D8B [Φ
W) C2H5--D67 [Φtwin”J
C2H5--D68 [ΦV[) C8H17-4
-CH5D63 [Φ” Cl8H3□
~ −D70 [Φ”) C
3H1? --D71 (Φ■
) C8H17-5-C sentence D72 [ΦVT)
C,8H3□ -5-CfLD73
[ΦV'l) C8H, 7 (52g3 old D74 [
Φ■) C8H, 7-5-0CH3D75 [ΦV
l:l C8H,7-5-CLL
Y l engineering (L [1)
HI [ [L■] H■ (LIII) -N (C8H5)2 1
C-view 04 (LOI) -N (C6H5)2 1
I[LL] HBr [LL) HBr (L II) H1 (L(II) N(CeHs)2 L
Br [LL] HC immunity 04 (Lm) -N (C6H5)2 1 C
9, Oa [LL) HI (Lll) HI (Ll -11 (Lm) -N(C6H5)2 1 B
r ri (g) beg Δ L ``earth''-1'' b-
D78 [Φ”) C18H37s-c standing D7
7 [Φv+] C8H, 7-D78 [Φ5” C8H17-D79 [ΦV'l] C
, 8H37-5-C sentence D80 [ΦVT) Cl
8H3□ -5-C standing D81 [Φ■)
C8H1□ -DBP [ΦVT'l
C8H, □ −D83 [Φ■]
C3H1□ -D84 [Φ■]
C3H1□ -r)85 ((riVI[]
]C, 8H3□-D86 [Φ■) C+3H2
7-D87 [Φ■] C13H27- D88 [Φ■) C8H,. −
-D89 [Φ■] C3H1□ -D
90 [Φ■] Cl8H3□ --L
Construction X (LIII) -N (C8H5)2 L
Br(L II ) H (L II ) HC:H2O2)14SO
3 (LLI) H0 sentence C6H4S03 (LV)
HI I (LVT)
HI B r(LV[[] -■ (LIn) -N (C[l H5)2 1
Br(L tl ) HcH3c6
H, 5o3 (LIII HB r (LII) HEr (LIII) OCH31I (L H) HcH3c6H, so3 mountain begging Δ L-"upper' red-anal and D91 [Φ■)
C8H17--DBP [Φ■) Cl8
H37--D93 [ΦC3H1□
--D94 [Φ■) c8H, □
--D95 [Φ cut] C8
H17-D36 [Φ] C13H27-5- D37 [Φ plate] C8H, □
--D98 [9 stores] Cl8H3□
-D99 ” [Φm] C
8H17-Dloo (Φ””C8H17
-DIQI (Φ”” C8H17-D10
2 (Φ■'J Ca upper 17
-0103 (Φfake'l C8H,
. -D104 (ΦI:]
CHCHOCOCH3CH3-[1105(ΦI
) CH,, CH20HCH3.

LL     工    M    X〔LL)   
  H0H3C:6H4SO3(Lm)  −N’(C
5Hs ) 2 1   cH3c6H4so3(Ll
l)     HBr (L II)     HH 0文 〔LL)     Hr (LIII)  −N(C6H5)2 1     B
rCLDI)  −N (C8H6)2 1     
Br(LII)     HBr (LII’3     HBr (LII)     HBr (LII)     HBr (LII)     HBr (L 11 )     HC交04 −(LII)     HBr 匹1漫  免よ浬   1上−n′     m工玉主
    −1土D+07    〔ΦI)     C
H3CH3−0108(ΦIII)     CH3C
H3−D109    (ΦVD     C2H5−
6−C立0110    CΦV[)     C8H
176−C10+++    (Φ1〕    C2H
5−−DI12   (ΦVl )    CH3CH
3−DII3    (ΦVT)     CH3CH
3−L          Y        文  
     X〔LW)H−C又o4 (LW)      H−cioa (LIII)  N((:61(5)、、    I 
   C交04(LIT)      H−C立04 CLVN)      H−CICl 0a(L  N((:6)15)20    C立04
(Lll’l      H−0文04さらに、本発明
による効果が大きいのは、第2にフタロシアニン色素で
ある。
LL Engineering M X [LL]
H0H3C:6H4SO3(Lm) -N'(C
5Hs) 2 1 cH3c6H4so3(Ll
l) HBr (L II) HH 0 sentences [LL) Hr (LIII) -N(C6H5)2 1 B
rCLDI) -N (C8H6)2 1
Br (LII) HBr (LII'3 HBr (LII) HBr (LII) HBr (LII) HBr (L 11) HC cross 04 - (LII) HBr 1 man Menyoho 1 upper - n' m Kodama master - 1 Sat D+07 [ΦI) C
H3CH3-0108 (ΦIII) CH3C
H3-D109 (ΦVD C2H5-
6-C 0110 CΦV[) C8H
176-C10+++ (Φ1) C2H
5--DI12 (ΦVl) CH3CH
3-DII3 (ΦVT) CH3CH
3-L Y sentence
X [LW) H-C or o4 (LW) H-cioa (LIII) N((:61(5),, I
C intersection 04 (LIT) H-C standing 04 CLVN) H-CICl 0a (L N ((:6)15) 20 C standing 04
(Lll'l H-0 文04 Furthermore, the second thing that is most effective according to the present invention is phthalocyanine dye.

用いるフタロシアニンには、特に制限はなく、中心原子
としては、Cu、Fe、Co。
There are no particular restrictions on the phthalocyanine used, and examples of the central atom include Cu, Fe, and Co.

N、In、Ga、AM、InCM、InBr。N, In, Ga, AM, InCM, InBr.

InI 、GaCu、GaBr、GaI。InI, GaCu, GaBr, GaI.

AMCM、A1Br、Ti、TiO,Si。AMCM, A1Br, Ti, TiO, Si.

Ge、H,R2、Pb、Vo、Mn、Sn等が可能であ
る。
Ge, H, R2, Pb, Vo, Mn, Sn, etc. are possible.

また、フタロシアニンのベンゼン環には、直接または適
当な連結基を介して、−OH、ハロゲy、−COOH,
NH2、−Cocl、−COOR′、−0COR′ (
ただし、R′は各種アルキルないしアリール等)、 −5o2c!;L、−3O3H1−CONH2。
In addition, the benzene ring of phthalocyanine has -OH, halogen, -COOH,
NH2, -Cocl, -COOR', -0COR' (
However, R' is various alkyl or aryl), -5o2c! ;L, -3O3H1-CONH2.

−CN、−NO2、−5CN、−5H1−CH2C9,
等の種々の置換基が結合したものであってよい。
-CN, -NO2, -5CN, -5H1-CH2C9,
It may be combined with various substituents such as.

次に、本発明の光吸収色素の具体例を挙げるが、本発明
はこれらのみに限定されるものではない。
Next, specific examples of the light-absorbing dye of the present invention will be given, but the present invention is not limited to these.

このような色素は、大有機化学(朝食書店)含窒素複素
環化合物I432ページ等に記載された方法に準じて容
易に合成することができる。
Such dyes can be easily synthesized according to the method described in Nitrogen-Containing Heterocyclic Compounds I, page 432, Dai Organic Chemistry (Breakfast Shoten).

すなわち、まず対応するΦ′−CH,(Φ′は前記Φに
対応する環を表わす。)を、過剰のR,I (R1はア
ルキル基またはアリール基)とともに加熱して、R,を
Φ′中の窒素原子に導入してΦ−CH3I−を得る。 
次いで、これを、不飽和ジアルデヒド、不飽和ヒドロキ
シアルデヒド、ペンタジェンシアルまたはイソホロンな
どと、ピペリジン、トリアルキルアミンなどアルカリ触
媒または無水酢酸等を用いて脱水照合すればよい。
That is, first, the corresponding Φ'-CH, (Φ' represents the ring corresponding to Φ) is heated with excess R, I (R1 is an alkyl group or an aryl group), and R, becomes Φ' to obtain Φ-CH3I-.
Next, this may be dehydrated with an unsaturated dialdehyde, unsaturated hydroxyaldehyde, pentagonal or isophorone using an alkali catalyst such as piperidine or trialkylamine, or acetic anhydride.

このような色素は、単独で記録層を形成することもでき
る。
Such a dye can also form a recording layer alone.

あるいは樹脂とともに記録層を形成する。Alternatively, a recording layer is formed together with resin.

用いる樹脂とじては、自己酸化性のもの、あるいは熱可
塑性樹脂が好適である。
The resin used is preferably a self-oxidizing resin or a thermoplastic resin.

記録層に含有される自己酸化性の樹脂は、昇温したとき
、酸化的な分解を生じるものであるが、これらのうち、
特にニトロセルロースが好適である。
The self-oxidizing resin contained in the recording layer causes oxidative decomposition when the temperature rises, but among these,
Particularly suitable is nitrocellulose.

また、熱可塑性樹脂は、記録光を吸収した色素の昇温に
より軟化するものであり、熱可塑性樹脂としては、公知
の種々のものを用いることかできる。
Further, the thermoplastic resin is softened by increasing the temperature of the dye that has absorbed the recording light, and various known thermoplastic resins can be used as the thermoplastic resin.

これらのうち、特に好適に用いることができる熱可塑性
樹脂には、以下のようなものがある。
Among these, thermoplastic resins that can be particularly preferably used include the following.

1)ポリオレフィン ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ4−メチルペンテ
ン−1など。
1) Polyolefin polyethylene, polypropylene, poly4-methylpentene-1, etc.

11)ポリオレフィン共重合体 例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ア
クリル酸エステル共重合体、エチレン−アクリル酸共重
合体、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテ
ン−1共重合体、エチレン−無水マレイン酸共重合体、
エチレンプロピレンターポリマー(EPT)など。
11) Polyolefin copolymers such as ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-acrylic acid ester copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-propylene copolymer, ethylene-butene-1 copolymer, ethylene -maleic anhydride copolymer,
such as ethylene propylene terpolymer (EPT).

この場合、コモノマーの重合比は任意のものとすること
ができる。
In this case, the polymerization ratio of the comonomers can be arbitrary.

1ii)塩化ビニル共重合体 例えば、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−無水マレイン
醜共重合体、アクリル酸エステルないしメタアクリル酸
エステルと塩化ビニルとの共重合体、アクリロニトリル
−塩化ビニル共重合体、塩化ビニルエーテル共重合体、
エチレンないしプロピレン−塩化ビニル共重合体、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニルをグラフトi合
したものなど。
1ii) Vinyl chloride copolymer, for example, vinyl acetate-vinyl chloride copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-maleic anhydride ugly copolymer, acrylic ester or methacrylic ester and vinyl chloride copolymer, acrylonitrile-vinyl chloride copolymer, vinyl chloride ether copolymer,
Ethylene or propylene-vinyl chloride copolymers, ethylene-vinyl acetate copolymers grafted with vinyl chloride, etc.

この場合、共重合比は任意のものとすることができる。In this case, the copolymerization ratio can be arbitrary.

1マ)塩化ビニリデン共重合体 塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン
−塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニリ
デン−ブタジェン−ハロゲン化ビニル共重合体など。
1) Vinylidene chloride copolymer Vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer, vinylidene chloride-vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, vinylidene chloride-butadiene-vinyl halide copolymer, etc.

この場合、共重合比は、任意のものとすることができる
In this case, the copolymerization ratio can be arbitrary.

マ)ポリスチレン マi)スチレン共重合体 例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合体(AS樹
脂)、スチレン−アクリロニトリル−ブタジェン共重合
体(ABS樹脂)、スナレンー無水マレイン酸共重合体
(SMA樹脂)、スチレン−アクリル酸エステル−アク
リルアミド共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体(
SBR) 、スチレン−塩化ビニリデン共重合体、スチ
レン−メチルメタアクリレート共重合体など。
m) Polystyrene m) Styrene copolymer such as styrene-acrylonitrile copolymer (AS resin), styrene-acrylonitrile-butadiene copolymer (ABS resin), Sunalene-maleic anhydride copolymer (SMA resin), styrene-acrylonitrile copolymer (AS resin), Acrylic acid ester-acrylamide copolymer, styrene-butadiene copolymer (
SBR), styrene-vinylidene chloride copolymer, styrene-methyl methacrylate copolymer, etc.

この場合、共重合比は任意のものとすることができる。In this case, the copolymerization ratio can be arbitrary.

マ目)スチレン型重合体 例えば、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、2
,5−ジクロルスチレン、α。
M) Styrene type polymers such as α-methylstyrene, p-methylstyrene, 2
, 5-dichlorostyrene, α.

β−ビニルナフタレン、α−ビニルピリジン、アセナフ
テン、ビニルアントラセンなど、あるいはこれらの共重
合体、例えば、α−メチルスチレンとメタクリル酸エス
テルとの共重合体。
β-vinylnaphthalene, α-vinylpyridine, acenaphthene, vinylanthracene, etc., or copolymers thereof, such as copolymers of α-methylstyrene and methacrylic acid ester.

マ1ii)クマロン−インデン樹脂 クマロン−インデン−スチレンの共重合体。m1ii) Coumarone-indene resin Coumarone-indene-styrene copolymer.

ix)テルペン樹脂ないしピコライト 例えば、α−ピネンから得られるリモネンの重合体であ
るテルペン樹脂や、β−ピネンから得られるピコライト
ix) Terpene resin or picolite For example, terpene resin which is a polymer of limonene obtained from α-pinene, or picolite obtained from β-pinene.

X)アクリル樹脂 特に下記式で示される原子団を含むものが好ましい。X) Acrylic resin Particularly preferred are those containing an atomic group represented by the following formula.

式        R10 CH−C− C−OR20 上記式において、R10は、水素原子またはアルキル基
を表わし、R20は、置換または非置換のアルキル基を
表わす、 この場合、上記式において、R10は、水素
原子または炭素原子数1〜4の低級アルキル基、特に水
素原子またはメチル基であることが好ましい。
Formula R10 CH-C- C-OR20 In the above formula, R10 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R20 represents a substituted or unsubstituted alkyl group. In this case, in the above formula, R10 represents a hydrogen atom or an alkyl group. A lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, particularly a hydrogen atom or a methyl group, is preferred.

また、R2Oは、置換、非置換いずれのアルキル基であ
ってもよいが、アルキル基の炭素原子数は1〜8である
ことが好ましく、また、R20が置換アルキル基である
ときには、アルキル基を置換する置換基は、水酸基、ハ
ロゲン原子またはアミ7基(特に、ジアルキルアミノ基
)であることが好ましい。
Further, R2O may be a substituted or unsubstituted alkyl group, but the alkyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms, and when R20 is a substituted alkyl group, the alkyl group The substituent to be substituted is preferably a hydroxyl group, a halogen atom, or an amide group (particularly a dialkylamino group).

このような上記式で示される原子団は、他のくりかえし
原子団とともに、共重合体を形成して各種アクリル樹脂
を構成してもよいが、通常は、上記式で示される原子団
の1種または2種以上をくりかえし単位とする単独正合
体または共重合体を形成してアクリル樹脂を構成するこ
とになる。
The atomic group represented by the above formula may form a copolymer with other repeating atomic groups to constitute various acrylic resins, but usually one type of atomic group represented by the above formula is used. Alternatively, an acrylic resin is formed by forming a homopolymer or copolymer having two or more repeating units.

xi)ポリアクリロニトリル xii)アクリロニトリル共重合体 例えば、アクリロニトリル−酢酸ビニル共重合体、アク
リロニトリル−塩化ビニル共重合体、アクリロニトリル
−スチレン共重合体、アクリロニトリル−塩化ビニリデ
ン共重合体、アクリロニトリル−ビニルピリジン共重合
体、アクリロニトリル−メタクリル酸メチル共重合体、
アクリロニトリルーブタジエシ共重合体、アクリロニト
リル−アクリル酸ブチル共重合体など。
xi) Polyacrylonitrile xii) Acrylonitrile copolymer, for example, acrylonitrile-vinyl acetate copolymer, acrylonitrile-vinyl chloride copolymer, acrylonitrile-styrene copolymer, acrylonitrile-vinylidene chloride copolymer, acrylonitrile-vinylpyridine copolymer , acrylonitrile-methyl methacrylate copolymer,
Acrylonitrile-butyl ester copolymer, acrylonitrile-butyl acrylate copolymer, etc.

この場合、共重合比は任意のものとすることができる。In this case, the copolymerization ratio can be arbitrary.

xiii)ダイアセトンアクリルアミドポリマー7クリ
ロニトリルにアセトンを作用させたダイアセトンアクリ
ルアミドポリマー。
xiii) Diacetone acrylamide polymer 7 A diacetone acrylamide polymer obtained by reacting acetone with crylonitrile.

!1マ)ポリ酢酸ビニル Xマ)酢酸ビニル共重合体 例えば、アクリル酸エステル、ビニルエーテル、エチレ
ン、塩化ビニル等との共重合体など。
! 1) Polyvinyl acetate X) Vinyl acetate copolymers, such as copolymers with acrylic esters, vinyl ethers, ethylene, vinyl chloride, etc.

共重合比は任意のものであってよい。The copolymerization ratio may be arbitrary.

xvi)ポリビニルエーテル 例えば、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルエチル
エーテル、ポリビニルブチルエーテルなど。
xvi) Polyvinyl ethers such as polyvinyl methyl ether, polyvinyl ethyl ether, polyvinyl butyl ether, etc.

Xマ白)ポリアミド この場合、ポリアミドとしては、ナイロン6、ナイロン
6−6、ナイロン6−10、ナイロン6−12.ナイロ
ン9、ナイロン11、ナイロン12.ナイロン13等の
通常のホモナイロンの他、ナイロン6/6−676−1
0、ナイロン6/6−6/12、ナイロン67ロー67
11等の重合体や、場合によっては変性ナイロンであっ
てもよい・xvi目)ポリエステル 例えば、シュウ酩、コハク酸、マレイン耐、アジピン酸
、七/へステン酸等の脂肪族二塩基酸、あるいはイソフ
タル酸、テレフタル酸などの芳香族二塩基酸などの各種
二塩基酸と、エチレングリコール、テトラメチレングリ
コール、ヘキサメチレングリコール等のグリコール類と
の縮合物や、共縮合物が好適である。
X-marker) Polyamide In this case, the polyamides include nylon 6, nylon 6-6, nylon 6-10, nylon 6-12. Nylon 9, Nylon 11, Nylon 12. In addition to normal homonylon such as nylon 13, nylon 6/6-676-1
0, nylon 6/6-6/12, nylon 67 low 67
Polyesters such as 11 or modified nylon may be used depending on the case. (xvi) Polyesters, such as aliphatic dibasic acids such as oxalic acid, succinic acid, maleic acid, adipic acid, hepta-hestonic acid, etc. Condensates and co-condensates of various dibasic acids such as aromatic dibasic acids such as isophthalic acid and terephthalic acid and glycols such as ethylene glycol, tetramethylene glycol and hexamethylene glycol are suitable.

そして、これらのうちでは、特に脂肪族二塩基酸とグリ
コール類との縮合物や、グリコール類と脂肪族二塩基酸
との共縮合物は、特に好適である。
Among these, condensates of aliphatic dibasic acids and glycols and cocondensates of glycols and aliphatic dibasic acids are particularly suitable.

さらに、例えば、無水フタル酸とグリセリンとの縮合物
であるグリプタル樹脂を、脂肪機、天然樹脂等でエステ
ル化変性した変性グリプタル樹脂等も好適に使用される
Furthermore, for example, a modified gliptal resin, which is a condensation product of phthalic anhydride and glycerin, is esterified and modified with a fatty acid, a natural resin, etc., and the like.

xlx) ポリビニルアセタール系樹脂ポリビニルアル
コールを、アセタール化して得られるポリビニルホルマ
ール、ポリビニルアセタール系樹脂はいずれも好適に使
用される。
xlx) Polyvinyl acetal resin Both polyvinyl formal and polyvinyl acetal resin obtained by acetalizing polyvinyl alcohol are preferably used.

この場合、ポリビニルアセタール系樹脂のアセタール化
度は任意のものとすることができる。
In this case, the degree of acetalization of the polyvinyl acetal resin can be arbitrary.

xi)ポリウレタン樹脂 ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹脂。xi) Polyurethane resin Thermoplastic polyurethane resin with urethane bonds.

特に、グリコール類とジインシアナート類との縮合によ
って得られるポリウレタン樹脂、とりわけ、アルキレン
グリコールとフルキレンジインシアナートとの縮合によ
って得られるポリウレタン樹脂が好適である。
Particularly suitable are polyurethane resins obtained by condensation of glycols and diincyanates, particularly polyurethane resins obtained by condensation of alkylene glycol and fullylene diincyanate.

xxi)ポリエーテル スチレンホルマリン樹脂、環状アセタールの開環重合物
、ポリエチレンオキサイドおよびグリコール、ポリプロ
ピレンオキサイドおよびグリコール、プロピレンオキサ
イド−エチレンオキサイト共重合体、ポリフェニレンオ
キサイドなど。
xxi) Polyether styrene formalin resin, ring-opening polymer of cyclic acetal, polyethylene oxide and glycol, polypropylene oxide and glycol, propylene oxide-ethylene oxide copolymer, polyphenylene oxide, etc.

xxii)セルロース誘導体 例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、エチ
ルセルロース、アセチルブチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース。
xxii) Cellulose derivatives such as nitrocellulose, acetylcellulose, ethylcellulose, acetylbutylcellulose, hydroxyethylcellulose.

ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、エ
チルヒドロキシエチルセルロースなど、セルロースめ各
種エステル、エーテルないしこれらの混合体。
Various cellulose esters, ethers, or mixtures thereof, such as hydroxypropyl cellulose, methyl cellulose, and ethyl hydroxyethyl cellulose.

xxiii)ポリカーボネート 例えば、ポリジオキシジフェニルメタンカーホネー)、
ジオキシジフェニルプロパンカーポネート等の各種ポリ
カーボネート。
xxiii) polycarbonates such as polydioxydiphenylmethane carbonate),
Various polycarbonates such as dioxydiphenylpropane carbonate.

xxii)アイオノマー メタクリル酸、アクリル酸などのNa。xxii) Ionomer Na such as methacrylic acid and acrylic acid.

Li、Zn、Mg塩など。Li, Zn, Mg salts, etc.

0マ)ケトン樹脂 例えば、シクロヘキサノンやアセトフェノン等の環状ケ
トンとホルムアルデヒドとの縮合物。
0ma) Ketone resin For example, a condensate of a cyclic ketone such as cyclohexanone or acetophenone and formaldehyde.

xxvi)キシレン樹脂 例えば、m−キシレンまたはメシチレンとホルマリンと
の縮合物、あるいはその変性体。
xxvi) Xylene resin, for example, a condensate of m-xylene or mesitylene with formalin, or a modified product thereof.

KXマ11)石油樹脂 C5系、C9系、C3−C9共重合系、ジシクロペンタ
ジェン系、あるいは、これらの共重合体ないし変性体な
ど。
KXma11) Petroleum resins C5 type, C9 type, C3-C9 copolymer type, dicyclopentadiene type, or copolymers or modified products thereof.

!Iマ目l)上記1)〜xxマロ)の2種以上のブレン
ド体、またはその他の熱可塑性樹脂とのブレンド体。
! Item I) A blend of two or more of the above 1) to xx malo), or a blend with other thermoplastic resins.

なお、自己酸化性または熱可塑性の樹脂の分子量等は種
々のものであってよい。
Note that the self-oxidizing or thermoplastic resin may have various molecular weights.

このような自己醸化性化合物または熱可塑性樹脂樹脂と
、前記の色素とは、通常、重量比で1対0.1〜100
の広範な量比にて設層される。
Such a self-breathing compound or thermoplastic resin and the above-mentioned dye are usually in a weight ratio of 1:0.1 to 100.
The layers will be laid in a wide range of quantity ratios.

このような記録層中には、さらに、クエンチャ−が含有
されることが好ましい。
Preferably, such a recording layer further contains a quencher.

これにより、再生劣化が減少し、耐光性が向上する。This reduces reproduction deterioration and improves light resistance.

クエンチャ−としては、種々のものを用いることができ
るが、特に、色素が励起して一重項酸素が生じたとき、
−重項酸素から電子移動ないしエネルギー移動をうけて
励起状態となり、自ら基底状態にもどるとともに、−重
項酸素を三重項状態に変換する一重項酸素クエンチャー
であることが好ましい。
Various quenchers can be used, but especially when the dye is excited and singlet oxygen is generated,
- It is preferably a singlet oxygen quencher that undergoes electron transfer or energy transfer from doublet oxygen to become excited, returns to the ground state by itself, and - converts doublet oxygen to a triplet state.

一重項酸素クエンチャーとしても、種々のものを用いる
ことができるが、特に、耐性劣化が減少すること、そし
て色素との相溶性が良好であることなどから、遷移金属
キレート化合物であることが好ましい、 この場合、中
心金属としては、Ni 、Co、Cu、Mn、Pd、P
t等が好ましく、特に下記の化合物が好適である。
Various singlet oxygen quenchers can be used, but transition metal chelate compounds are particularly preferred because they reduce resistance deterioration and have good compatibility with dyes. , In this case, the central metals include Ni, Co, Cu, Mn, Pd, P
t and the like are preferred, and the following compounds are particularly preferred.

■) アセチルアセトナートキレート系QL−I  N
1(II)アセチルアセトナートQ、l−2Cu(II
)アセチルアセトナートQl−3Mn(m)アセチルア
セトナートQl−4Co(II)アセチルアセトナート
2) 下記式で示されるビスジチオ−α−ジケ1ン系 ここに、R−Rは、置換ないし非置 換のアルキル基またはアリール基を表わし、Mは、Ni
、Co、Cu、Pd、PL等の遷移金属原子を表わす。
■) Acetylacetonate chelate QL-I N
1(II) Acetylacetonate Q, l-2Cu(II
) Acetylacetonato Ql-3Mn (m) Acetylacetonato Ql-4Co (II) Acetylacetonate 2) Bisdithio-α-dikene system represented by the following formula, where R-R is a substituted or unsubstituted represents an alkyl group or an aryl group, M is Ni
, represents a transition metal atom such as Co, Cu, Pd, PL, etc.

この場合1Mは一電荷をもち、4級アンモニウムイオン
等のカチオン(Cat)と塩を形成してもよい。
In this case, 1M has a single charge and may form a salt with a cation (Cat) such as a quaternary ammonium ion.

なお、以下の記載において、phはフェニル基、φハ1
,4−フェニレン基、φ′は1.2−フェニレン基、b
enzは環上にてとなりあう基が互いに結合して縮合ベ
ンゼン環を形成することを表わすものである。
In addition, in the following description, ph is a phenyl group, φha1
, 4-phenylene group, φ' is 1,2-phenylene group, b
enz represents that adjacent groups on the ring are bonded to each other to form a condensed benzene ring.

9 −  セ〜 R1R2R3 Q2−1    ph        ph     
  phQ 2−2    CH3COCH3COCH
3C0Q 2−3  1N(C2H5)2p h   
  l((:2H5Q 2−4   φN(CH3)2
P h     φN(CH3)Q25    ph 
       ph       ph口′11 R’    M    Cat ph      Ni      − CH5C:ONi      − )’ph     Ni     − 2p h    N l     − P h    N iN ” (C4H9)43) 下
記式で示されるビスフェニルジチオール系 ここに、HないしR8は、水素またはメチル基、エチル
基などのアルキル基、C1などのハロゲン原子、あるい
はジメチルアミノ基、ジエチルアミン基などの7ミノ基
を表わし、Mは、Ni、Co、Cu、Pd、Pt等の遷
移金属原子を表わす。
9 - Se~ R1R2R3 Q2-1 ph ph
phQ 2-2 CH3COCH3COCH
3C0Q 2-3 1N(C2H5)2p h
l((:2H5Q 2-4 φN(CH3)2
P h φN(CH3)Q25 ph
ph phmouth'11 R' M Cat ph Ni - CH5C:ONi - )'ph Ni - 2ph N l - Ph N iN '' (C4H9)43) Bisphenyldithiol system represented by the following formula, where H or R8 represents hydrogen or an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group, a halogen atom such as C1, or a 7-mino group such as a dimethylamino group or a diethylamine group, and M represents an alkyl group such as Ni, Co, Cu, Pd, or Pt. Represents a transition metal atom.

また、上記構造のMは一電荷をもって、4級アンモニウ
ムイオン等のカチオン(Cat)と塩を形成してもよく
、さらにはMの上下には、さらに他の配位子が結合して
もよい。
Furthermore, M in the above structure has a single charge and may form a salt with a cation (Cat) such as a quaternary ammonium ion, and further, other ligands may be bonded above and below M. .

このようなものとしては、下記のものがある。Examples of this include the following:

R5R6R7R8 Q3−I     HHHH Q3−2    HCH3HH Q3〜3H0文     0文     HQ3−4 
   CH3HHCH3 Q3−5    CH3CH3CH3CH3Q3−6 
   H0文     HHQ3−7    C又  
 C交     C交     C文Q3−8    
 HC立     C立     C見Q3−9   
 HHHH Q3−10    HCH3CH3H M      Ca  t Nf    N÷ (C2Hs ) 4Ni    N
”  (n−C4H9)4Ni    N÷ (n−C
4H9)4Ni   N”  (CH3)3C16H3
3Ni    N÷ (n−C4H9)4Ni    
N”  (n−C4Hg)4Ni    N”  (n
−C4H9)4Ni    N◆ (n−C4H9)4
Co    N÷ (n−CaR9)4Co    N
”  (n−C4R9) 4R5R8R?    R8 Q3−11    HCH3CH3H Q3−12    HCH3CH3H Q3−13   0文    0文     CI  
    C立Q3−+4    HC交     0文
     CIQ3−15    HN(CH3)2 
    HHQ3−16    HN(CH3) 2 
  N(CH3) 2   HQ3−17    HN
(C:H3)  2   CH3HQ3−18    
HN(CH3)2    HHQ3−19    HN
(CH3)  2    0文     HQ3−20
    HN(CH3)2     HHM     
 Ca  t Ni    N÷ (n−C4H9)4NiN+(CH
3)3c 18H33 Ni    N中 (CH3)3016H33NI  
 N +(CH3)3C18H33Ni    N”(
n−C4H9)4 N i    N”  (n−C7Hts) 4NiN
十(C8H17)(C2H5)3Ni        
  − Ni    N”(n−C4H9)4 Ni   N÷ (C6H6)(CH3)3この他、′
特開昭50−45027号や特願昭58−163080
号に記載したものなど。
R5R6R7R8 Q3-I HHHH Q3-2 HCH3HH Q3~3H0 sentences 0 sentences HQ3-4
CH3HHCH3 Q3-5 CH3CH3CH3CH3Q3-6
H0 sentence HHQ3-7 C again
C communication C communication C sentence Q3-8
HC standing C standing C looking Q3-9
HHHH Q3-10 HCH3CH3H M Cat Nf N÷ (C2Hs) 4Ni N
” (n-C4H9)4Ni N÷ (n-C
4H9) 4Ni N” (CH3)3C16H3
3Ni N÷ (n-C4H9)4Ni
N” (n-C4Hg)4Ni N” (n
-C4H9)4Ni N◆ (n-C4H9)4
Co N÷ (n-CaR9)4Co N
” (n-C4R9) 4R5R8R? R8 Q3-11 HCH3CH3H Q3-12 HCH3CH3H Q3-13 0 sentences 0 sentences CI
C standing Q3-+4 HC crossing 0 sentences CIQ3-15 HN(CH3)2
HHQ3-16 HN(CH3) 2
N(CH3) 2 HQ3-17 HN
(C:H3) 2 CH3HQ3-18
HN(CH3)2 HHQ3-19 HN
(CH3) 2 0 sentences HQ3-20
HN(CH3)2 HHM
Cat Ni N÷ (n-C4H9)4NiN+(CH
3) 3c 18H33 Ni N medium (CH3) 3016H33NI
N + (CH3)3C18H33Ni N”(
n-C4H9) 4 N i N” (n-C7Hts) 4NiN
10 (C8H17) (C2H5)3Ni
- Ni N" (n-C4H9)4 Ni N÷ (C6H6) (CH3)3 In addition,'
Japanese Patent Application Laid-Open No. 50-45027 and Patent Application No. 163080-1982
such as those listed in the issue.

4) 下記式で示されるジチオカルへミン酸キレート系 S /゛・1.パ\ (R9) 2 N−CM  G−N(RlO) 2S ここに、R9およびR10はアルキル基を表わす。4) Dithiocarhemic acid chelate system represented by the following formula S /゛・1. Pa\ (R9) 2 N-CM GN (RlO) 2S Here, R9 and R10 represent an alkyl group.

また、MはNi、Co、Cu、Pd、PL等の遷移金属
を表わす。
Further, M represents a transition metal such as Ni, Co, Cu, Pd, PL, etc.

5) 下記式で示されるもの ここに、Mは、遷移金属原子を表わし、Q】は。5) What is shown by the following formula Here, M represents a transition metal atom, and Q] is.

−C=( 畷1=、 を表わし、Catは、カチオンを表わす。−C=( Nawate 1=, and Cat represents a cation.

M   隻−Cat Q5−I   N i    Q’2  2016H3
3N” (CH3)3Q5−2   N i    Q
12   2G(C4H8)4N”Q 5−3   C
OQ +2   20(04H8)4N÷Q 5−4 
  Cu    Q 12   2C((:4H9)、
N”Q 5−5   P d    Q 12   2
0(C2H8)4N”この他、特願昭58−12565
4号に記載したもの。
M ship-Cat Q5-I N i Q'2 2016H3
3N” (CH3)3Q5-2 N i Q
12 2G(C4H8)4N"Q 5-3 C
OQ +2 20 (04H8) 4N÷Q 5-4
Cu Q 12 2C ((:4H9),
N”Q 5-5 P d Q 12 2
0(C2H8)4N” and others, patent application 1984-12565
What is stated in No. 4.

6) 下記式で示されるもの m:に、 ま遷移金原子を表わし、  L RおよびRは、それぞれCN、COR”414    
     15  1B COOR、C0NR、RまたはsO2R17を表わし。
6) In the following formula m: represents a transition gold atom, L R and R are CN and COR"414, respectively.
15 1B Represents COOR, CONR, R or sO2R17.

RないしR17は、それぞれ水素原子または置換もしく
は非置換のアルキル基もしくはアリール基を表わし。
R to R17 each represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group.

Q2は、5員または6負環を形成するのに必要な原子群
を表わし、 Catは、カチオンを表わし、 nは1または2である。
Q2 represents an atomic group necessary to form a 5-membered or 6-membered negative ring, Cat represents a cation, and n is 1 or 2.

M            A Q 6− I      N i       5Q6
−2NiS Q6−4     Ni       C(CN)2Q
6−5     Ni       C(CN)  2
at 2  (n−C4R9) 4  N 2Cn−C16H33(CH33)  N)Na 2 〔(n−C4R9)4 N〕 2  ((n−C1oH2、O(C:R2)3)(CH
3)3N)2(n−CH(CH)   N) 1633     3.3 この他、特願昭58−127074号に記載したもの。
M A Q 6- I N i 5Q6
-2NiS Q6-4 Ni C(CN)2Q
6-5 NiC(CN) 2
at 2 (n-C4R9) 4 N 2Cn-C16H33 (CH33) N) Na 2 [(n-C4R9)4 N] 2 ((n-C1oH2, O(C:R2)3) (CH
3)3N)2(n-CH(CH)N) 1633 3.3 In addition, those described in Japanese Patent Application No. 127074/1982.

7) 下記式で示される化合物 ここに、Mは遷移金属原子を表わし、 Catは、カチオンを表わし、 nは1または2である。7) Compound represented by the following formula Here, M represents a transition metal atom, Cat represents a cation; n is 1 or 2.

M       Ca t Q 7− I    N i    2 ((n−c4
H3)3s)Q 7−2   N i2 (n−c、6
H33(C:H3)3N )この他、特願昭58−12
7075号に記載したもの。
M Cat Q 7- I N i 2 ((n-c4
H3) 3s) Q 7-2 N i2 (n-c, 6
H33(C:H3)3N) In addition, patent application 1986-12
As described in No. 7075.

8) ビスフェニルチオール系 Q8−INi−ビス(オクチルフェニル)サルファイド 9) 下記式で示されるチオカテコールキレート系 ここに、Mは、Ni 、Co、Cu、Pd、Pt等の遷
移金属原子を表わす。
8) Bisphenylthiol system Q8-INi-bis(octylphenyl) sulfide 9) Thiocatechol chelate system represented by the following formula, where M represents a transition metal atom such as Ni, Co, Cu, Pd, or Pt.

また、Mは一電荷をもち、カチオン (Cat)と塩を
形成してもよく、ベンゼン環は置換基を有していてもよ
い。
Further, M has a single charge and may form a salt with a cation (Cat), and the benzene ring may have a substituent.

性−Cat Q9−I   Ni   N”(C4H!])410)
 下記式で示される化合物 ここに、R18は、1価の基を表わし、見は、0〜6で
あり、 Mは、遷移金属原子を表わし、 Catは、カチオンを表わす。
Sex-Cat Q9-I Ni N” (C4H!])410)
In the compound represented by the following formula, R18 represents a monovalent group and has a value of 0 to 6, M represents a transition metal atom, and Cat represents a cation.

M    R181Cat Q 101   N r  HON(n−CaHg)4
Q 10−2   N iCH31N(n−C4H9)
4特願昭58−143531号に記載したもの。
M R181Cat Q 101 N r HON (n-CaHg)4
Q 10-2 N iCH31N (n-C4H9)
4 What is described in Japanese Patent Application No. 143531/1982.

11)  下記の両式で示される化合物ここに、上記式
において、 R、R、Rおよびn23は、それぞれの水素原子または
1価の基を表わし、 R、R、RおよびR27は、水素原子または1価の基を
表わすが、 24  25   25  2B RとR、RとR、R26とR27 は、互いに結合して6員環を形成してもよい。
11) Compounds represented by the following formulas: In the above formula, R, R, R and n23 each represent a hydrogen atom or a monovalent group, and R, R, R and R27 represent a hydrogen atom or Although it represents a monovalent group, 24 25 25 2B R and R, R and R, R26 and R27 may be bonded to each other to form a 6-membered ring.

また、Mは、遷移金属原子を表わす。Moreover, M represents a transition metal atom.

fR−亡 亡 Qll−1(r)n−CH49Hn −C4H9Q 1
1−2  CI 〕C2H3C:00  C2H5CO
OC2H3(:0n123一旦24  旦25  旦2
6 旦27  。
fR-Death Qll-1(r)n-CH49Hn -C4H9Q 1
1-2 CI ]C2H3C:00 C2H5CO
OC2H3(:0n123 once 24 once 25 once 2
6 Dan 27.

HHHHHNi C2H5COOHHHHNi この他、特願昭58−145294号に記載したもの。HHHHHNi C2H5COOHHHHNi In addition, those described in Japanese Patent Application No. 58-145294.

12)  下記式で示される化合物 ここに、Mは、Pt、NiまたはPdを表わし、XI 
 、X2 、X3 、X4は、それぞれ0またはSを表
わす。
12) A compound represented by the following formula, where M represents Pt, Ni or Pd, and XI
, X2, X3, and X4 each represent 0 or S.

性−X」−■ xi l1 Q12−I   Ni   OO00 Q12−2   Ni   S   S   S   
Sこの他、特願昭58−145295号に記載したもの
Sex-X”-■ xi l1 Q12-I Ni OO00 Q12-2 Ni S S S
S In addition, those described in Japanese Patent Application No. 58-145295.

13)  下記式で示される化合物 ここに、R31は、置換もしくは非置換のアルキル基ま
たはアリール基であり、 R、R、RおよびR35は、水素原子 または1価の基を表わすが、R32とR33、R33と
R34、R34とR35は、互いに結合して6員環を形
成してもよい。
13) Compound represented by the following formula, where R31 is a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group, R, R, R and R35 represent a hydrogen atom or a monovalent group, but R32 and R33 , R33 and R34, and R34 and R35 may be bonded to each other to form a 6-membered ring.

また、Mは、遷移金属原子を表わす。Moreover, M represents a transition metal atom.

RRRRM Q 13 1 11C4H9HHHHFl+Q13−2
  C6H3HHC2H3HN1Q13−3  nC4
H9HHbenz    Niこの他、特願昭58−1
51928号に記載したもの。
RRRRM Q 13 1 11C4H9HHHHFl+Q13-2
C6H3HHC2H3HN1Q13-3 nC4
H9HHbenz Ni and others, patent application 1984-1
As described in No. 51928.

14)  下記両式で示される化合物 R、R、RおよびR44は、それぞれ 水素原子または1価の基を表わすが、 RとR、RとR、RとRは、 互いに結合して6員環を形成してもよい。14) Compounds represented by both formulas below R, R, R and R44 are each Represents a hydrogen atom or a monovalent group, R and R, R and R, R and R are They may be combined with each other to form a 6-membered ring.

また、RおよびR46は、水素原子または1価の基を表
わす。
Further, R and R46 represent a hydrogen atom or a monovalent group.

さらに、Mは、遷移金属原子を表わす。Furthermore, M represents a transition metal atom.

Q14−IHHHHH−N1 Qla−2HHCHOCOHH−Ni この他、特願昭58−151929号に記載したもの。Q14-IHHHHHH-N1 Qla-2HHCHOCOHH-Ni In addition, those described in Japanese Patent Application No. 58-151929.

15〕  下記式で示される化合物 、51 ここに、R、R、R、R、R。15] Compound represented by the following formula , 51 Here, R, R, R, R, R.

R、R、およびR58は、それぞれ、水素原子または1
価の基を表わすが、 RとR、RとR、RとR, R,!l:R,RとRおよびR57とR58は互いに結
合して6員環を形成してもよい6Xは、ハロゲンを表わ
す。
R, R, and R58 are each a hydrogen atom or 1
Representing a valence group, R and R, R and R, R and R, R,! 1:R, R and R, and R57 and R58 may be bonded to each other to form a 6-membered ring. 6X represents a halogen.

Mは、遷移金属原子を表わす。M represents a transition metal atom.

R51R52R5354 R Q15−I    HncHHH 4S Q10−2   HHnc4H80GOHR55R56
R57R58R59X   MHHHHHC立  N1 HHHHHCJJNi この他、特願昭58−153392号に記載したもの。
R51R52R5354 R Q15-I HncHHH 4S Q10-2 HHnc4H80GOHR55R56
R57R58R59X MHHHHC Stand N1 HHHHHCJJNi In addition, those described in Japanese Patent Application No. 153392/1982.

+6)  下記式で示されるサリチルアルデヒドオキシ
ム系 、81 ここに、RおよびR81は、アルキル基を表わし、Mは
、Ni、Co、Cu、Pd。
+6) Salicylaldehyde oxime system represented by the following formula, 81 Here, R and R81 represent an alkyl group, and M is Ni, Co, Cu, Pd.

PL等の遷移金属原子を表わす。Represents a transition metal atom such as PL.

Q l 6−]  1−C3R71−C3R7N iQ
 l 6−2  (OH)  CH(CH2)1.CH
3N iQ 16−3  (CH)  CH((J2)
1、C)I3C。
Q l 6-] 1-C3R71-C3R7N iQ
l 6-2 (OH) CH(CH2)1. CH
3N iQ 16-3 (CH) CH((J2)
1, C) I3C.

Q l 6−4  (OH)  CH(CH2)1.C
:H3C。
Q l 6-4 (OH) CH(CH2)1. C
:H3C.

Q16−5  C6R5C6R5N1 Q16−8  C6R5C(3R5C。Q16-5 C6R5C6R5N1 Q16-8 C6R5C (3R5C.

Q16−7   Ca  R5C6R5CuQ  1 
6−8   NHCa  Hs    NHCa  H
s    N  1Q16−!3  0HOHNi 17)  下記式で示されるチオビスフェルレートキレ
ート系 ここに、Mは前記と同じであり、R65およびR66は
、アルキル基を表わす、 また、Mは一電荷をもち、カ
チオン(Cat)と塩とを形成していてもよい。
Q16-7 Ca R5C6R5CuQ 1
6-8 NHCa Hs NHCa H
s N 1Q16-! 3 0HOHNi 17) Thiobisferrate chelate system represented by the following formula, where M is the same as above, R65 and R66 represent an alkyl group, and M has a single charge and is a cation (Cat). It may also form a salt.

Q l 7−1  t−CHN i  N”R3(C:
4H9)Q 17−2  t−CHCON”R3(C:
4H9)Q17−3  t−CHNi   − 18)  下記式で示される亜ホスホン酸キレート系 ここに1Mは前記と同じであり、R71およびR72は
、アルキル基、水酸基等の置換基を表わす。
Q l 7-1 t-CHN i N”R3(C:
4H9) Q 17-2 t-CHCON”R3(C:
4H9) Q17-3 t-CHNi - 18) Phosphonous acid chelate system represented by the following formula, where 1M is the same as above, and R71 and R72 represent a substituent such as an alkyl group or a hydroxyl group.

RR¥ Q 18−1  3−t−C: H、5−t−C4H9
,6−OHXi19)  下記各式で示される化合物 ここに、R、R、RおよびR84は、水素原子または1
価の基を表わすが、 RとR、RとR、RとRは、互 いに結合して、6員環を形成してもよい。
RR¥ Q 18-1 3-t-C: H, 5-t-C4H9
, 6-OHXi19) Compounds represented by the following formulas, where R, R, R and R84 are hydrogen atoms or 1
Although it represents a valent group, R and R, R and R, and R and R may be bonded to each other to form a 6-membered ring.

R85およびR88は、それぞれ、水素原子または置換
もしくは非置換のアルキル基もしくはアリール基を表わ
す。
R85 and R88 each represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group.

R86は、水素原子、水故基または置換もしくは非置換
のアルキル基もしくはアリール基を表わす。
R86 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group.

R87は、置換または非置換のアルキル基またはアリー
ル基を表わす。
R87 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group.

Zは、5員または6員の環を形成するのに必要な非金属
原子群を表わす。
Z represents a group of nonmetallic atoms necessary to form a 5- or 6-membered ring.

Mは、遷移金属原子を表わす。M represents a transition metal atom.

RRR” R818283 Q1!3−I    HOHHH Q19−2    HOHtc4 Hq   HQ19
−2    tC4Hq   OHHOHRZM nc5HHH−Ni ncgHlg    H−Ni CH30H−Ni この他、特願昭58−153393号に記載したもの。
RRR” R818283 Q1!3-I HOHHH Q19-2 HOHtc4 Hq HQ19
-2 tC4Hq OHHOHRZM nc5HHH-Ni ncgHlg H-Ni CH30H-Ni In addition, those described in Japanese Patent Application No. 58-153393.

20)  下記式で示される化合物 ここに、R91およびR32は、それぞれ、水素原子、
置換または非置換のアルキル基、アリール基、アシル基
、N−アルキルカルバモイル基、N−7リールカル八モ
イル基、N−フルキルスルファモイル基、N−アリール
スルファモイル基、アルコキシカルボニル ロキシカルボニル基を表わし、 Mは、遷移金属原子を表わす。
20) Compound represented by the following formula, where R91 and R32 are each a hydrogen atom,
Substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, acyl group, N-alkylcarbamoyl group, N-7 arylcarbamoyl group, N-furkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, alkoxycarbonylroxycarbonyl group M represents a transition metal atom.

Q201   n C4 Hg  C R3     
 N iQ2(12   C R3    CH3 0
−φ−NHCONiこの他、特願昭58−155359
号に記載したもの。
Q201 n C4 Hg C R3
N iQ2(12 C R3 CH3 0
-φ-NHCONi and others, patent application No. 58-155359
What is listed in the issue.

この他、他のクエンチャ−としては、下記のうなものが
ある。
In addition, other quenchers include the following.

1)ベンゾエート系 Q 21−1  既存化学物質3−3040 (チヌビ
ン−120(チバガイギー社製)〕 2)ヒンダードアミン系 Q 22−1  既存化学物質5−3732(SANO
LIS−770 (三共製 薬社製)〕 これら各クエンチャ−は、色素1モルあたり0、01−
12モル、特に0.05〜1.2モル程度含有される。
1) Benzoate Q 21-1 Existing chemical 3-3040 (Tinuvin-120 (manufactured by Ciba Geigy)) 2) Hindered amine Q 22-1 Existing chemical 5-3732 (SANO
LIS-770 (manufactured by Sankyo Pharmaceutical Co., Ltd.) Each of these quenchers contains 0,01-
It is contained in an amount of about 12 moles, particularly about 0.05 to 1.2 moles.

なお、クエンチャ−の極大吸収波長は、用いる色素の極
大吸収波長以上であることが好ましい。
Note that the maximum absorption wavelength of the quencher is preferably greater than or equal to the maximum absorption wavelength of the dye used.

これにより、再生および劣化はきわめて小さくなる。This results in extremely low regeneration and deterioration.

この場合、両者の差はOか、350nm以下であること
が好ましい。
In this case, the difference between the two is preferably 0 or 350 nm or less.

なお、装置を小型化するためには、書き込みおよび読み
出しの光源として、好ましくは750.780.830
nmの半導体レーザーあるいは633nmのHe−NE
レーザー等オニ用いることが好ましいので、−1項酸素
クエンチャーの吸収極大波長は680nm以上、特に6
80〜1500、より一層好ましくは、800〜150
0nmにあることが好ましい。
In order to miniaturize the device, it is preferable to use 750.780.830 as a light source for writing and reading.
nm semiconductor laser or 633 nm He-NE
Since it is preferable to use a laser or the like, the maximum absorption wavelength of the -1 term oxygen quencher is 680 nm or more, especially 680 nm or more.
80-1500, even more preferably 800-150
Preferably, it is 0 nm.

さらに、読み出し光の波長における用いる色素(2種以
上用いるときにはその実効値)および−1項酸素クエン
チャーの吸収係数をそれぞれεDおよびεQとしたとき
、εD/εQは3以上であることが好ましい。
Further, εD/εQ is preferably 3 or more, where εD and εQ are the absorption coefficients of the dye used (the effective value when two or more types are used) and the -1 term oxygen quencher at the wavelength of the readout light, respectively.

なお、色素を2種以上併用して用いることには、色素の
吸収極大波長とεDとは、1度に応じた相加平均実効値
である。
In addition, when using two or more types of dyes in combination, the maximum absorption wavelength of the dye and εD are an arithmetic average effective value corresponding to 1 degree.

このような値となることにより、読み出し光の照射時の
クエンチャ−の励起がきわめて小さくなり、−主項酸素
による再生劣化はきわめて小さくなる。
With such a value, the excitation of the quencher during irradiation with the readout light becomes extremely small, and the deterioration of regeneration due to -main term oxygen becomes extremely small.

さらに、クエンチャ−は、色素とイオン結合体を形成し
てもよい。
Furthermore, the quencher may form an ionic bond with the dye.

クエンチャ−色素イオン結合体としては、特願昭59−
14848号に記載したものを用いてもよい。
As a quencher-dye ion conjugate, patent application No. 59-
Those described in No. 14848 may also be used.

ただ、より好適に用いることのできるのは、特願昭59
−18878号、同59−19715号に記載したシア
ニン色素カチオンとクエンチャ−アニオンとの結合体で
ある。
However, what can be used more suitably is the patent application filed in 1983.
It is a conjugate of a cyanine dye cation and a quencher anion described in No. 18878 and No. 59-19715.

用いるシアニン色素カチオンとしては、上記したものの
カチオン体いずれであってもよい。
The cyanine dye cation used may be any of the cations listed above.

また、クエンチャ−アニオンは、上記3)、5)、6)
、7)、9)、10)、17)のうちのいずれのアニオ
ン体であってもよい。
In addition, the quencher anion is 3), 5), and 6) above.
, 7), 9), 10), and 17).

以下にその具体例をあげる。A specific example is given below.

なお、下記において、Dlは対応するDのカチオン、ま
た、Q−は対応するクエンチャ−のアニオンである。
In addition, in the following, Dl is the corresponding cation of D, and Q- is the corresponding anion of quencher.

D”          qニー− 5D I          D ÷   I    
   Q−3−85D2           D  
ゝ   I       Q−3−15SD3D”IQ
−3−15 SD4           D”    10   
    Q−3−3SDS            D
  ÷   10      9−3−15SD6  
         D+    17       Q
−3−8SD7           D  ÷   
2I       Q−3−85D8        
    D  “   11       Q−3−8
509D”8Q−3−8 SDIOD”    8        Q−3−2S
DI+D亭9Q−3−15 SnI2           D”   106  
     Q−3−15S  D  I3      
     D  “   10       Q−3−
15SDI4          D+    5  
     Q−3−15SDI5          
D”    10       Q−3−7s  D 
le           o  +   22   
    Q−3−155D 17          
 D+   105       Q−3−183D 
 18           D  “   7   
    Q−3−17SDI9         0”
    20       Q−3−185D20  
        D”    l       Q−3
−ISD2+          D”    l  
     Q−3−25D22          D
”    I       Q−3−ISSD23  
        D”    l       Q−3
−175D24          D”    10
      Q−3−75D25          
D”   106      Q−3−83D26  
        D  +  108      Q−
3−75D27         D  +  106
      Q−3−2SD28          
D”   108      Q−3−ISSD29 
         D  ÷   5Q−3−85D3
0         D”    5      Q−
3−25D31          D”    5 
      Q−3−750320”    5   
    Q−3−1850340”      I  
         Q−3−85D35       
  D”    I      Q−3−35D36 
         D  令   to      Q
−3−ISD37          D”    1
7      Q−17−15D :18      
    D”    +1     9−1O−ISD
39          D”   2I      
Q−7−25040D”    9       Q−
10−1SD41            D”   
+06       Q−6−LSD42      
     D”    5        Q−3−3
3D43           D”    42  
     Q−3−83D44           
D”   109       (13−8SI)45
           D”    70      
 Q−3−8S D 48           D 
 4 110       Q−3−8SD47   
       D”    70       Q−3
−+5SD48           D  ÷   
42       Q−3−17SD49      
     D”    43       Q−3−7
S 050          0”    91  
     Q−3−85D 51          
 D”   111       Q−3−85D52
          D  ÷  +12      
 Q−3−2SD53D”113Q〜3−8 SD54           D  ÷   70 
      Q−2−3このような吸収特性をもつクエ
ンチャ−は、用いる光源および色素に応じ、適宜選択し
て使用される。
D"q knee-5D I D ÷ I
Q-3-85D2 D
ゝ I Q-3-15SD3D”IQ
-3-15 SD4 D" 10
Q-3-3SDS D
÷ 10 9-3-15SD6
D+ 17 Q
-3-8SD7 D ÷
2I Q-3-85D8
D “ 11 Q-3-8
509D"8Q-3-8 SDIOD" 8 Q-3-2S
DI+D-tei 9Q-3-15 SnI2 D” 106
Q-3-15S DI3
D “ 10 Q-3-
15SDI4 D+ 5
Q-3-15SDI5
D” 10 Q-3-7s D
le o + 22
Q-3-155D 17
D+ 105 Q-3-183D
18 D “ 7
Q-3-17SDI9 0”
20 Q-3-185D20
D”l Q-3
-ISD2+ D"l
Q-3-25D22 D
” I Q-3-ISSD23
D”l Q-3
-175D24 D" 10
Q-3-75D25
D” 106 Q-3-83D26
D + 108 Q-
3-75D27 D+106
Q-3-2SD28
D” 108 Q-3-ISSD29
D ÷ 5Q-3-85D3
0 D" 5 Q-
3-25D31 D” 5
Q-3-750320" 5
Q-3-1850340” I
Q-3-85D35
D"I Q-3-35D36
D order to Q
-3-ISD37 D" 1
7 Q-17-15D: 18
D” +1 9-1O-ISD
39 D” 2I
Q-7-25040D” 9 Q-
10-1SD41D”
+06 Q-6-LSD42
D” 5 Q-3-3
3D43 D” 42
Q-3-83D44
D” 109 (13-8SI) 45
D" 70
Q-3-8S D 48 D
4 110 Q-3-8SD47
D” 70 Q-3
-+5SD48 D ÷
42 Q-3-17SD49
D” 43 Q-3-7
S 050 0" 91
Q-3-85D 51
D” 111 Q-3-85D52
D ÷ +12
Q-3-2SD53D"113Q~3-8 SD54 D ÷ 70
Q-2-3 A quencher having such absorption characteristics is appropriately selected and used depending on the light source and dye used.

このような記録層を設層するには、一般に常法に従い塗
設すればよい。
In order to form such a recording layer, it is generally necessary to apply it by coating according to a conventional method.

そして、記録層の厚さは、通常、0.03〜2gm程度
とされる。 あるいは色素とクエンチャ−のみで記録層
を形成するとくには、蒸着、スパッタリング等によって
もよい。
The thickness of the recording layer is usually about 0.03 to 2 gm. Alternatively, when forming a recording layer using only a dye and a quencher, vapor deposition, sputtering, etc. may be used.

記録層の厚みは、0.04〜0.124tm、特に0.
05〜0.08gmであることが好ましい。
The thickness of the recording layer is 0.04 to 0.124 tm, especially 0.04 to 0.124 tm.
It is preferable that it is 05-0.08 gm.

0.04gm、特に0.03gm以下では吸収量反射量
とも小さく書き込み感度、再生感度とも大きく取ること
ができない。
At 0.04 gm, particularly 0.03 gm or less, both the absorption amount and the reflection amount are small, and neither the writing sensitivity nor the reproduction sensitivity can be made large.

0.12ILm以上では、プリグループが埋没してしま
い、トラッキング信号を得ることが困難となる。 また
、ビー2ト形成が容易でなき、占き込み感度が低下する
If it is 0.12 ILm or more, the pre-group will be buried, making it difficult to obtain a tracking signal. Furthermore, it is not easy to form two beats, and the guessing sensitivity is reduced.

なお、ごのような記録層には、この他、他の色素や、他
のポリマーないしオリゴマー、各種可塑剤、界面活性剤
、帯電防止剤、滑剤、難燃剤、安定剤1分散剤、酸化防
止剤、そして架橋剤等が含有されていてもよい。
In addition, the recording layer may contain other pigments, other polymers or oligomers, various plasticizers, surfactants, antistatic agents, lubricants, flame retardants, stabilizers, dispersants, and antioxidants. A crosslinking agent, a crosslinking agent, etc. may be contained.

このような記録層を設層するには、基体上に、所定の溶
媒を用いて塗布、乾燥すればよし旭 。
To form such a recording layer, it is sufficient to coat the substrate with a prescribed solvent and dry it.

なお、塗布に用いる溶媒としては、例えばメチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等
のケトン系、酢酸ブチル、酢酸エチル、カルピトールア
セテート カルピトールアセテート等のエステル系、メチルセロソ
ルブ、メチルセロソルブ等のエーテル系,ないしトルエ
ン、キシレン等の芳香族系、ジクロロエタン等のハロゲ
ン化アルキル系、アルコール系などを用いればよい。
Examples of solvents used for coating include ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone, esters such as butyl acetate, ethyl acetate, carpitol acetate, ethers such as methyl cellosolve, and methyl cellosolve. Aromatic systems such as toluene and xylene, halogenated alkyl systems such as dichloroethane, alcohol systems, and the like may be used.

このような記録層を設層する基体は樹脂製である。The substrate on which such a recording layer is provided is made of resin.

樹脂の材質としては、種々のものが回旋である。Various resin materials are convoluted.

ただ、このような樹脂中、特に上記したような各種塗布
用の溶媒、特にケトン系、エステル系、ハロゲン化アル
キル等におかされやすく、本発明の下地層による効果が
特に大きいのは、アクリル樹脂またはポリカーボネート
樹脂である。
However, among such resins, acrylic resins are particularly susceptible to the various coating solvents mentioned above, especially ketones, esters, alkyl halides, etc., and the effect of the base layer of the present invention is particularly large. Or polycarbonate resin.

そして、これらでは、書き込みおよび読み出し光に対し
、実質的に透明であるので、書き込みおよび読み出しを
基体裏面側から行うことができ、感度、S/N比等の点
で有利であり、またホコリ対策等の実装上の点でも有利
である。
Since these are substantially transparent to writing and reading light, writing and reading can be performed from the back side of the substrate, which is advantageous in terms of sensitivity, S/N ratio, etc., and is also effective against dust. It is also advantageous in terms of implementation.

さらに、成形性も良好であるので、トラ−、キング用の
溝の形成も容易である。
Furthermore, since the moldability is good, grooves for trackers and kings can be easily formed.

アクリル樹脂としては、ポリメチルメタクリレート等、
炭素原子数1〜8の鎖状ないし環状のアルキル基をもつ
メタクリル酸エステルを主体とするコポリマーないしホ
モポリマーが好ましい。
Acrylic resins include polymethyl methacrylate, etc.
A copolymer or homopolymer mainly composed of a methacrylic acid ester having a chain or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferred.

また、ポリカーボネート樹脂としては、ビスフェノール
Aタイプが好ましい。
Furthermore, as the polycarbonate resin, bisphenol A type is preferred.

そして、これらアクリル樹脂またはポリカーボネート樹
脂は、射出成形によって形成されたものであるとき、本
発明の下地層の効果はより大きなものとなる。
When these acrylic resins or polycarbonate resins are formed by injection molding, the effect of the base layer of the present invention becomes even greater.

なお、これらアクリル樹脂またはポリカーボネート樹脂
の数平均重合度は、8oo〜6000程度であることが
好ましい。
In addition, it is preferable that the number average degree of polymerization of these acrylic resins or polycarbonate resins is about 8oo to 6000.

記録層上に設層される表面層は、第1表面層と、この第
1表面層上に積層される高分子膜とからなる。
The surface layer provided on the recording layer consists of a first surface layer and a polymer film laminated on the first surface layer.

第1表面層は、高融点で硬度の高い膜であればよい。The first surface layer may be a film having a high melting point and high hardness.

従って、各種酸化物系、窒化物系、炭化物系等の無機物
質、例えば酸化ケイ素1m化チタン、酸化アルミニウム
、酸化マグネシウム、酸化ジルコン、窒化ケイ素、炭化
ケイ素等の気相被着膜であってもよい。
Therefore, even if it is a vapor-phase deposited film of various oxide-based, nitride-based, carbide-based, and other inorganic substances, such as silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, silicon nitride, and silicon carbide, good.

あるいは、いわゆる架橋剤として知られるキレート化合
物等から形成される酸化ケ仁り酸化チタン、酸ジルコン
、酸化アルミニウム等から主として形成される加水分解
塗膜であってもよい。
Alternatively, it may be a hydrolyzed coating film mainly formed from oxidized titanium oxide, acid zirconium, aluminum oxide, etc. formed from a chelate compound known as a so-called crosslinking agent.

ただ、これらの中で、もっとも有用なのは、ケイ素系縮
合物のコロイド粒子分散液の塗膜である。
However, among these, the most useful is a coating film of a colloidal particle dispersion of a silicon-based condensate.

ケイ素系縮合物のコロイド粒子は、ハロゲン化ケイ素、
特に四塩化ケイ素、ないしアルキルケイ酸、特に四低級
アルキル(メチル、エチル)ケイ酸の加水分解縮合物が
好適である。
The colloidal particles of the silicon-based condensate are silicon halides,
Particularly suitable are silicon tetrachloride or a hydrolyzed condensate of alkyl silicic acid, particularly tetralower alkyl (methyl, ethyl) silicic acid.

そして、コロイド粒子径は、30〜100人、特に50
〜80人程度とされる。
And the colloid particle size is 30 to 100, especially 50
~80 people.

また、分散媒としては、アルコール、特に1個の脂肪族
アルコール、あるいは酢酸アルキル、あるいはこれらと
芳香族炭化水素との混合a媒等が用いられる。
Further, as the dispersion medium, an alcohol, particularly one aliphatic alcohol, an alkyl acetate, or a mixed a-medium of these and an aromatic hydrocarbon is used.

また、加水分解のためには、必要に応じ鉱酸が添加され
る。
Moreover, for hydrolysis, a mineral acid is added as necessary.

そして、必要に応じエチレングリコール等の安定剤や界
面活性剤等が添加される。
Then, a stabilizer such as ethylene glycol, a surfactant, etc. are added as necessary.

このようなコロイド粒子分散液の1例としては、特公昭
31−8533号に記載された四塩化ケイ素(Si0文
4)と1価の脂肪族アルコールとを酢酸アルキルエステ
ル中に溶解させたものがある。
An example of such a colloidal particle dispersion is the one described in Japanese Patent Publication No. 31-8533 in which silicon tetrachloride (Si0 Bun 4) and a monohydric aliphatic alcohol are dissolved in acetic acetate alkyl ester. be.

また、特公昭3B−4740号に記載された四アルキル
ケイ酸と1価の脂肪族アルコール、酢酸アルキルおよび
鉱酸よりなる溶液に、1〜20wt%のエチレングリコ
ールを添加したものでもよい。
Alternatively, 1 to 20 wt % of ethylene glycol may be added to a solution of tetraalkyl silicic acid, monovalent aliphatic alcohol, alkyl acetate, and mineral acid described in Japanese Patent Publication No. 3B-4740.

さらには、特公昭45−35435号に記載された四低
級アルキルケイ酸のアルコール溶液でもよ)戸〇 このような場合、使用する1価の脂肪族アルコールとし
ては、メチルアルコール、エチルアルコール、変性アル
コール、インプロピルアルコール、ブチルアルコールあ
るいはそれらの混合 )勿 、 酢酸アルキルとしては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
アミル、酢酸ブチルあるいはこれらの混合物を用い。
Furthermore, an alcoholic solution of tetra-lower alkyl silicic acid described in Japanese Patent Publication No. 45-35435 may also be used. , inpropyl alcohol, butyl alcohol, or a mixture thereof) Of course, as the alkyl acetate, methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, butyl acetate, or a mixture thereof is used.

W、酸としては、塩酸、硫酸の水溶液等で、普通工業的
に用いられているものを用いればよい。
As W and the acid, those commonly used in industry, such as aqueous solutions of hydrochloric acid and sulfuric acid, may be used.

なお、これらの分散液の塗布は、常法に従い、スピンナ
ーコート等の塗布にすればよい。
Incidentally, these dispersions may be applied by spinner coating or the like according to a conventional method.

この場合、希釈溶媒としては、例えば炭化水素系とアル
コール系との混合溶媒がある。
In this case, the diluting solvent includes, for example, a mixed solvent of a hydrocarbon type and an alcohol type.

そして、乾燥は、40〜80℃にて、20分〜2時間程
度行えばよい。
Then, drying may be performed at 40 to 80°C for about 20 minutes to 2 hours.

このようにして形成される塗膜は、水酸基を含む酸化ケ
イ素塗膜である。
The coating film thus formed is a silicon oxide coating film containing hydroxyl groups.

以上の第1表面層の厚さは、0.005〜0.05pm
である。 特に好ましくは、0.008〜0.012弘
mであることが好ましい。
The thickness of the above first surface layer is 0.005 to 0.05 pm.
It is. Particularly preferably, it is 0.008 to 0.012 hirom.

第1表面層か、0.003舊m未満であれば、光記録媒
体としての書き込み読み出しの感度向上の効果が得られ
ない。
If the thickness of the first surface layer is less than 0.003 mm, the effect of improving the writing and reading sensitivity of the optical recording medium cannot be obtained.

第1表面層が0.03ALmを超えると、光記録媒体と
しての書き込み読み出しの感度は、かえって、低下して
しまう。
When the first surface layer exceeds 0.03 ALm, the writing/reading sensitivity of the optical recording medium is rather reduced.

色素組成物からなる光記録膜は光照射と同時にピットが
形成されてしまい、その後の照射光は最もエネルギーの
集中している中央部で吸収されなくなる。 従ってエネ
ルギーの利用効率が低く、感度がある値以上向上しない
原因となっている。
In an optical recording film made of a dye composition, pits are formed at the same time as the film is irradiated with light, and the subsequent irradiated light is no longer absorbed in the central portion where the energy is most concentrated. Therefore, the energy use efficiency is low, which is the reason why the sensitivity cannot be improved beyond a certain value.

本発明では、第1表面層として高融点の固い膜を設ける
ことにより、一定時間以下の照射光に対してピットを形
成しないようにし、十分な温度にまで上昇するのを待っ
て、−気にピット形成が起こるようにするものである。
In the present invention, by providing a hard film with a high melting point as the first surface layer, pits are not formed when exposed to light for a certain period of time or less, and after waiting for the temperature to rise to a sufficient level, - This allows pit formation to occur.

このような第1表面層上に積層される高分子膜は、ピン
ト形成に際して、第1表面層の破砕片の飛散を防止する
ためのものである。
The polymer film laminated on the first surface layer is for preventing fragments of the first surface layer from scattering when forming a focus.

用いる高分子としては種々のものが適用できるが、特に
第1表面層に対し、第1表面層を侵して色素を溶解しな
いこと、密着性のよいこと、均一性のよいこと、塗布し
易いこと、低粘度であること等の点で、水または水−ア
ルコール混合溶媒に可溶で、かつ水酸基を含有する高分
子化合物の塗膜からなるものが好ましい。
A variety of polymers can be used, but especially for the first surface layer, the polymer must not invade the first surface layer and dissolve the dye, have good adhesion, have good uniformity, and be easy to apply. From the viewpoint of low viscosity, it is preferable to use a coating film of a polymer compound that is soluble in water or a water-alcohol mixed solvent and contains a hydroxyl group.

この場合、水または氷−アルコール混合溶媒に可溶であ
るとは、水あるいは後述のような水−アルコール混合溶
媒に1%程度以上溶解するものであればよい。
In this case, being soluble in water or an ice-alcohol mixed solvent means that it is soluble in water or a water-alcohol mixed solvent as described below by about 1% or more.

このような高分子化合物としては、アラビアゴム、アル
ギン酸、トラガントガム等の多糖類であってもよいが、
特に下記のようなセルロース誘導体や、ビニルアルコー
ル単位含有樹脂が好適である。
Such polymeric compounds may be polysaccharides such as gum arabic, alginic acid, gum tragacanth, etc.
In particular, cellulose derivatives and vinyl alcohol unit-containing resins as shown below are suitable.

1)セルロース誘導体 ニトロレルロース、アセチルセルロース、エチルセルロ
ース、アセチルブチルセルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、ヒドロ午ジプロピルセルロース、メチルセル
ロース、エチルヒドロキシエチルセルロースなど。
1) Cellulose derivatives nitrorelulose, acetylcellulose, ethylcellulose, acetylbutylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydrodipropylcellulose, methylcellulose, ethylhydroxyethylcellulose, etc.

この場合、水酸基は、くりかえし単位あたり、平均1以
上含有されることが好ましい。
In this case, it is preferable that one or more hydroxyl groups are contained on average per repeating unit.

2)ビニルアルコール単位含有樹脂 ポリビニルアルコール。2) Resin containing vinyl alcohol units polyvinyl alcohol.

ポリ酢酸ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体などの
完全ないし部分加水分解物。
Complete or partial hydrolysates of polyvinyl acetate, ethylene-vinyl acetate copolymers, etc.

この場合、ビニルアルコール単位は、70モル%以上、
好ましくは、80モル%以上含有されるものが好ましい
In this case, the vinyl alcohol unit is 70 mol% or more,
Preferably, the content is 80 mol% or more.

なお、このような高分子化合物の数平均分子量について
は、特に制限はない。
Note that there is no particular restriction on the number average molecular weight of such a polymer compound.

このような高分子化合物は、通常、水−アルコール混合
溶媒に溶解されて塗布設層される。
Such a polymer compound is usually dissolved in a water-alcohol mixed solvent and applied as a layer.

この場合、アルコールとしては、メタノール、エタノー
ル、プロパツール、ブタノール等の単独または複合系が
好適である。 そして、水とアルコールとの混合比は、
l:0.5〜3程度とする。
In this case, the alcohol is preferably methanol, ethanol, propatool, butanol, etc. alone or in combination. The mixing ratio of water and alcohol is
l: About 0.5 to 3.

なお、塗布溶媒としては、水を単独で用いることもでき
るが、樹脂製の基体に対する塗布性の点では、水−アル
コール混合溶媒がすぐれている。
Although water can be used alone as the coating solvent, a water-alcohol mixed solvent is superior in terms of coating properties on resin substrates.

このような層の塗設に際しては、塗布液中に架橋剤を添
加して、塗膜中の高分子化合物を架橋することもできる
When coating such a layer, a crosslinking agent may be added to the coating solution to crosslink the polymer compound in the coating film.

このとき、耐溶剤性、耐水性、耐熱性が改良され、記録
層の安定性が向上する。
At this time, solvent resistance, water resistance, and heat resistance are improved, and the stability of the recording layer is improved.

この場合、塗布液中には、ピンホールの発生を防止し、
脱泡を完全に行い、しかも粘度を下げるために、界面活
性剤、消泡剤、帯電防止剤等を添加してもよい。
In this case, prevent pinholes from forming in the coating solution.
A surfactant, an antifoaming agent, an antistatic agent, etc. may be added in order to completely defoam and lower the viscosity.

用いる架橋剤としては、チタン、ジルコニウムもしくは
アルミニウムの有機化合物もしくはキレート化物、ある
いは、アルデヒド、オキシカルボン酸またはメチロール
含有オリゴマーであることが好ましい。
The crosslinking agent used is preferably an organic compound or chelate of titanium, zirconium, or aluminum, or an aldehyde, oxycarboxylic acid, or methylol-containing oligomer.

このような高分子膜は0.002〜0.8濤m、より好
ましくは0.005〜0.5牌mの厚さとすることが好
ましい。
Such a polymer film preferably has a thickness of 0.002 to 0.8 m, more preferably 0.005 to 0.5 m.

0.002gm未満では飛散防止の実(動がなく、0 
、8 gmをこえるど逆に感度が減少するからである。
If it is less than 0.002 gm, it will be difficult to prevent scattering (no movement, 0
, 8 gm, the sensitivity decreases on the contrary.

さらに本発明の表面層を有する記録層は、基体とに直接
形成されてもよく、あるいは下地層を介して設層されて
もよい。
Furthermore, the recording layer having the surface layer of the present invention may be formed directly on the substrate, or may be provided via an underlayer.

下地層としては、公知の種々のものであってよいが、す
でに述べた第1表面層ないし高分子膜と全く同様にして
作製されたものであることか好ましい。
The base layer may be of various known types, but it is preferable that it be produced in exactly the same manner as the first surface layer or polymer film described above.

下地層の厚みは0.005〜0.05ルmである。 特
に0.008〜0.03牌mであることが好ましい。
The thickness of the base layer is 0.005 to 0.05 m. In particular, it is preferably 0.008 to 0.03 m.

下地層が9.005ルm未満となると、基体への耐溶剤
性付与効果および耐熱性付与効果が不充分である。  
0.05gmを超えると、感度が低下する。
When the thickness of the underlayer is less than 9.005 lm, the effect of imparting solvent resistance and heat resistance to the substrate is insufficient.
If it exceeds 0.05 gm, sensitivity decreases.

以上のような下地層を設置することによって、光記録媒
体としての感度がさらにあがり、S/N比がさらに向上
する。
By providing the underlayer as described above, the sensitivity as an optical recording medium is further increased and the S/N ratio is further improved.

下地層上には、通常直接記録層が設層されるものである
が、必要に応じ場合によっては、下地層と記録層との間
に、他の中間層を設層することもできる。
Usually, a recording layer is directly formed on the underlayer, but if necessary, another intermediate layer may be formed between the underlayer and the recording layer.

同様に表面層上に、さらに各種最上層保護層、ハーフミ
ラ一層などを設けることもできる。 ただし反射層は積
層しないことか望ましい。
Similarly, various uppermost protective layers, a half-mirror layer, etc. can be further provided on the surface layer. However, it is preferable that the reflective layer is not laminated.

本発明の媒体は、このような基体の一面上に下地層を介
して、上記の記録層を有するものであっても・よく、そ
の両面に下地層を介して記録層を有するものであっても
よい。
The medium of the present invention may/may have the above-mentioned recording layer on one side of such a substrate with an underlayer interposed therebetween, or may have recording layers on both sides thereof with an underlayer interposed therebetween. Good too.

また基体の一面上に下地層を介して記録層を塗設したも
のを2つ用い、それらを記録層が向かいあうようにして
、所定の間隙をもって対向させ、それを密閉し、ホコリ
やキズがつかないようにすることもできる。
In addition, two recording layers are coated on one surface of the substrate with an underlayer interposed between them, and the recording layers are placed facing each other with a predetermined gap between them, and the substrate is sealed to prevent dust and scratches. You can also choose not to have one.

なお、記録層には反射層を積層しないことが好ましい。Note that it is preferable that no reflective layer be laminated on the recording layer.

■ 発明の具体的作用 本発明の媒体は、走行ないし回転下において、記録光を
パルス状に照射する。
(2) Specific Effects of the Invention The medium of the present invention is irradiated with recording light in pulses while running or rotating.

このとき、記録層中の色素の発熱により、自己酸化性の
樹脂が分解するか、あるいは熱可塑性樹脂や色素が融解
し、ビットが形成される。
At this time, the heat generated by the dye in the recording layer decomposes the self-oxidizing resin or melts the thermoplastic resin and the dye, forming bits.

この場合、書き込みは気体裏面側から行うことか好まし
い。
In this case, it is preferable to write from the gas back side.

特に、トリないしテトラカルボシアニン色素を用いると
きには、750.780.830nm波長の記録半導体
レーザーダイオードなどを用いたとき、きわめて良好な
書き込みを行うことができる。
In particular, when a tri- or tetracarbocyanine dye is used, extremely good writing can be achieved when a recording semiconductor laser diode with a wavelength of 750.780.830 nm is used.

また、フタロンアニン色素を用いるときには、730〜
760r+m、波長の記録半導体レーザータイオードな
どを用いたときに、非常に良好な書き込みを行うことが
できる。
In addition, when using phthalonanine dye, 730~
When using a recording semiconductor laser diode with a wavelength of 760 r+m, very good writing can be performed.

このようにして形成されたピットは、やはり媒体の走行
ないし回転下、上記の波長の読み出し光の反射光ないし
透過光、特に反射光を検出することにより読み出される
The pits thus formed are read out by detecting reflected or transmitted light, especially reflected light, of the readout light of the above wavelength while the medium is running or rotating.

この場合、読み出し光は、やはり基体裏面側から照射し
て、その反射光電検知するようにすることか好ましい。
In this case, it is preferable that the readout light is irradiated from the back side of the substrate and its reflected photoelectric detection is performed.

なお、記録層に熱可塑性樹脂を用いるときには、一旦記
録層に形成したピットを光ないし熱で消去し、再書き込
みを行うこともできる。
Note that when a thermoplastic resin is used for the recording layer, the pits once formed in the recording layer can be erased with light or heat and then rewritten.

また、記録ないし読み出し光としては、He−Neレー
ザー等を用いることもできる。
Furthermore, a He--Ne laser or the like can also be used as the recording or reading light.

■ 発明の具体的効果 本発明は色素または色素組成物からなる記録層に、第1
表面層と高分子膜からなる表面層を有するので、光記録
媒体としての、書き込みの感度が向上する。
■Specific Effects of the Invention The present invention provides a recording layer made of a dye or a dye composition with a first dye.
Since it has a surface layer made of a surface layer and a polymer film, the writing sensitivity as an optical recording medium is improved.

そして、高分子膜により、ビット形成の際の第1表面層
の飛散が防止されるので、S/N比が向上し、エラーレ
ートが減少する。
The polymer film prevents the first surface layer from scattering during bit formation, improving the S/N ratio and reducing the error rate.

■ 発明の具体的実施例 以下、本発明の実施例を挙げ、本発明をさらに詳細に説
明する。
(2) Specific Examples of the Invention The present invention will be described in more detail below with reference to Examples.

実施例 基体直径30cmのPMMA (MF I = 2)射
出成形基板に、 四エチル塩酸     4.2部 エチルアルコール    43部 酢酸エチル       42部 儂塩酸        5.4部 エチレングリコール  5.4部 を混和し、50〜804のコロイド分散液とし、n−プ
ロパツールで希釈して塗布液とした。
Example 4.2 parts of tetraethyl hydrochloric acid 43 parts of ethyl alcohol 42 parts of ethyl acetate 5.4 parts of 5.4 parts of ethylene glycol were mixed into a PMMA (MFI = 2) injection molded substrate having a diameter of 30 cm. A colloidal dispersion of No. 804 was prepared and diluted with n-propertool to prepare a coating liquid.

これをスピンコードしたのち、60℃、30分間処理し
た。 膜厚はO、OL pmである。
After spin-coding this, it was processed at 60°C for 30 minutes. The film thickness is O, OL pm.

次いで、色素D−10およびクエンチェーQ3−8 (
5: 2)の色素1%溶液(ジクロロエタン、ジグロヘ
キサノン(6: 5) )からなる記録層をスピンナー
で設層した。
Then, dye D-10 and quencher Q3-8 (
A recording layer consisting of a 1% dye solution (dichloroethane, diglohexanone (6:5)) of 5:2) was formed using a spinner.

yらに、この記録層上に上記コロイド分散液をn−へキ
サンで九釈した溶液をスピンナー塗!riによって第1
表面層を設層した。 膜厚は約0006ルのであった。
Then, on this recording layer, a solution obtained by diluting the above colloidal dispersion with n-hexane was applied using a spinner! 1st by ri
A surface layer was applied. The film thickness was about 0.006 mm.

さらに、この上に、ポリビニルアルコールPVA(クラ
レ社製205、加水分解率88%)を、メタノール−水
(1: l)中に1%濃度にて溶解したものを塗布、設
層して高分子膜とした。 膜厚的0.01牌lであった
Furthermore, a layer of polyvinyl alcohol PVA (205 manufactured by Kuraray Co., Ltd., hydrolysis rate 88%) dissolved in methanol-water (1:l) at a concentration of 1% was applied on top of this to form a polymer layer. It was made into a film. The film thickness was 0.01 tile.

以上を試料1とする。The above is designated as sample 1.

試料1と同様な条件で色素にD2を用いクエンチャ−Q
3−8と5=2の組成の記録層を用いた。 表面層、下
地層は試料1と同様である。
Quencher-Q using D2 as the dye under the same conditions as Sample 1
Recording layers with compositions of 3-8 and 5=2 were used. The surface layer and base layer are the same as Sample 1.

以上を試料2とする。The above is designated as sample 2.

さらに、試料1においてPVAを、エチレン−酢酸ビニ
ルを重合体の完全加水分解物EVA(クラレ社製エバー
ルEP−Fエチレン含有率32モル%)にかえたものを
試料3とする。
Furthermore, Sample 3 is obtained by replacing PVA in Sample 1 with EVA, a completely hydrolyzed polymer (EVAL EP-F manufactured by Kuraray Co., Ltd., ethylene content: 32 mol %) in place of ethylene-vinyl acetate.

また、色素D” l、クエンチャ−Q−3−8との結合
体SDIからなる記録層としたものを試料4とする。
Sample 4 is a recording layer composed of SDI, a combination of dye D''l and quencher Q-3-8.

そして、試料1において、高分子膜および表面層のない
ものを試料5.6とする。
Sample 5.6 is Sample 1 without the polymer film and surface layer.

以上の試料について、830nmでの基板裏面側からの
反射率を測定した。
For the above samples, the reflectance from the back side of the substrate at 830 nm was measured.

また、830nm半導体レーザーを用い、集光部出力1
0mWで、基板裏面側から書き込み、反射レベル比(消
光比)2が得られる最小パルス幅(ns)の逆数を感度
としてΔIll定した。
In addition, using an 830 nm semiconductor laser, the condensing part output 1
Writing was performed from the back side of the substrate at 0 mW, and ΔIll was determined as the reciprocal of the minimum pulse width (ns) at which a reflection level ratio (extinction ratio) of 2 was obtained as the sensitivity.

さらに、ヒユーレットバラカード社製のスペクトラムア
ナライザーにて、バンド巾30KHzでのC/N比を測
定した。
Furthermore, the C/N ratio at a band width of 30 KHz was measured using a spectrum analyzer manufactured by Hewlett-Baracard.

さらに、電子顕微鏡により、表面層破砕片の有無を観察
した。 エラーレートを測定した。
Furthermore, the presence or absence of surface layer fragments was observed using an electron microscope. The error rate was measured.

結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

人工に示される結果から本発明の効果があきらかである
The effects of the present invention are clear from the artificial results.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基体上に、直接または下地層を介して色素または
色素組成物からなる記録層を有し、この記録層上に表面
層を有する光記録媒体において、表面層が、第1表面層
と、この第1表面層上に積層した高分子膜とからなるこ
とを特徴とする光記録媒体。
(1) In an optical recording medium that has a recording layer made of a dye or a dye composition on a substrate directly or via an underlayer, and a surface layer on this recording layer, the surface layer is the first surface layer. , and a polymer film laminated on the first surface layer.
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