JPS60201900A - Laminating device for printed substrate - Google Patents

Laminating device for printed substrate

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JPS60201900A
JPS60201900A JP59056150A JP5615084A JPS60201900A JP S60201900 A JPS60201900 A JP S60201900A JP 59056150 A JP59056150 A JP 59056150A JP 5615084 A JP5615084 A JP 5615084A JP S60201900 A JPS60201900 A JP S60201900A
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Japan
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substrate
printed circuit
feeding
resist film
laminating
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正二 田中
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明はプリント板の製造に用いる装置に関し、特にプ
リント板の基板の表面にドライフィルム状のフォトレジ
ストあるいは保護フィルム等をラミネートするプリント
基板ラミネート装置に関するものである。
Detailed Description of the Invention: Technical Field of the Invention The present invention relates to an apparatus used for manufacturing printed circuit boards, and more particularly to a printed circuit board laminating apparatus for laminating dry film photoresist, protective film, etc. on the surface of a printed board substrate. It is.

なお本明細書では、プリント板の基板を「プリント基板
」あるいは単に「基板」と略記し、またドライフィルム
状のフォトレジストあるいは保護フィルム等のフィルム
部材を一括して「フォトレジストフィルム」あるいは「
レジストフィルム」と略記する。
In this specification, the substrate of a printed board is abbreviated as a "printed board" or simply "substrate," and film members such as a dry film photoresist or protective film are collectively referred to as a "photoresist film" or "photoresist film."
Abbreviated as "resist film".

技術の背景 近年のプリント板の製造方法は、銅張板の如き基板の導
体層表面にフォトレジスト層を形成し、フォトリソグラ
フィ技術を用いて配線パターンを形成する方法が主流で
ある。この場合のフォトレジスト層の形成方法としては
、基板表面にドライフィルム状のフォトレジストをラミ
ネートして形成する方法が主に用いられている。
Background of the Technology In recent years, the mainstream method for manufacturing printed circuit boards is to form a photoresist layer on the surface of a conductor layer of a board such as a copper-clad board, and to form a wiring pattern using photolithography technology. In this case, the method of forming the photoresist layer is mainly by laminating a dry film of photoresist on the surface of the substrate.

このようなプリント基板へのレジストフィルムのラミネ
ートは、以前は長尺帯状のレジストフィ□ ルムを基板
の長さに切断した上で1枚ごとに行っていたが、この方
法は非能率的で量産性に欠ける。
In the past, resist film was laminated onto printed circuit boards by cutting a long strip of resist film to the length of the board and then cutting it one by one, but this method was inefficient and hindered mass production. Lacks sex.

そのため、近年、レジストフィルムを切断せずに長尺帯
状のまま連続的にプリント基板にラミネート可能なラミ
ネート装置が開発されている。しかしながら従来のこの
種のラミネート装置には後述するような問題があり、そ
の対策が要望されていた。
Therefore, in recent years, a laminating apparatus has been developed that can continuously laminate a resist film in the form of a long strip onto a printed circuit board without cutting it. However, conventional laminating apparatuses of this type have problems as described below, and countermeasures have been desired.

従来技術と問題点 従来の上記の如きラミネート装置は、プリント基板を送
りローラなどで互いに間隔をおいて連続的に送りながら
長尺帯状のレジストフィルムを連続的に供給してプリン
ト基板の表面にラミネートロールで連続的に熱圧着して
ラミネートするように構成されている。
Prior Art and Problems Conventional laminating equipment as described above laminates the printed circuit board on the surface of the printed circuit board by continuously feeding a long strip of resist film while continuously feeding the printed circuit board with a feed roller or the like at intervals. It is configured to be laminated by continuous thermocompression bonding using rolls.

かかるラミネート装置では、レジストフィルムラミネー
ト後のプリント基板はレジストフィルムによって相互に
連結された状態でラミネート装置から送出され、従って
各基板間においてレジストフィルムを切断して基板を1
枚ずつに分離してやる必要がある。また、プリント基板
には以後の種々の工程で位置合せのために用いられる基
準穴が形成されており、従ってレジストフィルムにはこ
の基板の基準穴を逃げるための逃げ穴を形成してやる必
要がある。
In such a laminating apparatus, the printed circuit boards laminated with resist films are sent out from the laminating apparatus in a state where they are interconnected by the resist film, and the resist film is cut between each board to separate the boards into one piece.
You need to separate each piece. Further, the printed circuit board has reference holes formed therein to be used for alignment in various subsequent steps, and therefore it is necessary to form escape holes in the resist film to escape the reference holes of the substrate.

しかるに従来のラミネート装置はかかるレジストフィル
ムの切断および逃げ穴加工の機能を有しておらず、この
ためラミネート工程後に作業者がナイフ等を用いて手作
業でフィルム切断および逃げ穴加工を行っている。この
ためプリント板製造ラインの省力化あるいは無人化に支
障となっているばかりか、非能率的で生産性が低く、し
かもフィルム切断や逃げ穴加工の不良ならびにレジスト
フィルムや基板の切屑が原因で以後のフォトリソグラフ
ィ工程において不具合が生じやすく、プリント板の品質
不良ひいては歩留り低下という問題がある。− 更に、上記のようなラミネート装置においては前段のプ
リント基板処理部あるいはプリント基板、ストック部か
らラミネート装置に供給されるプリント基板の間隔が重
要な問題となる。例えば、基板間隔が狭すぎるとラミネ
ート後のレジストフィルムの切断がうまく行えず、また
間隔が広すぎると切断後の基板から飛び出しているレジ
ストフィルム端部のめくれあるいは巻きつきが生じやす
くなり、前記のような問題を増大させることになる。
However, conventional laminating equipment does not have the function of cutting the resist film and forming the escape holes, and therefore, after the lamination process, the operator manually cuts the film and forms the escape holes using a knife or the like. . This not only hinders labor-saving or unmanned printed board manufacturing lines, but also inefficiencies and low productivity.Furthermore, defects in film cutting and escape hole machining, as well as chips from resist films and substrates, cause problems in subsequent production. Problems tend to occur in the photolithography process, resulting in poor quality printed boards and lower yields. - Furthermore, in the above-mentioned laminating apparatus, the interval between the printed circuit boards supplied to the laminating apparatus from the preceding printed circuit board processing section or printed circuit board or stock section becomes an important issue. For example, if the spacing between the substrates is too narrow, it will be difficult to cut the resist film after lamination, and if the spacing is too wide, the edges of the resist film protruding from the substrate after cutting will tend to curl up or wrap around. This will increase such problems.

発明の目的 本発明は、上記従来技術に鑑み、プリント基板の一定間
隔給送、ラミネート前のレジストフィルムへの逃げ穴加
工、プリント基板へのレジストフィルムの連続ラミネー
ト、及びラミネート後のレジストフィルムの切断を自動
的に能率良く行うことができ、従ってプリント基板ラミ
ネート工程の自動化及び生産性向上、ならびにプリント
板の品質向上ひいては歩留り向上を実現可能どするプリ
ント基板ラミネート装置を提供することを目的とするも
のである。
Purpose of the Invention In view of the above-mentioned prior art, the present invention provides a method for feeding a printed circuit board at regular intervals, forming escape holes in a resist film before lamination, continuously laminating a resist film on a printed circuit board, and cutting the resist film after lamination. The purpose of the present invention is to provide a printed circuit board laminating device that can automatically and efficiently perform the following steps, thereby automating the printed circuit board laminating process, improving productivity, improving the quality of printed circuit boards, and ultimately improving yield. It is.

発明の構成 本発明によるプリント基板ラミネート装置は、(イ)プ
リント基板を互いに間隔をおいて連続的に送りながら長
尺帯状のフィルム部材を連続的に供給してプリント基板
の表面に連続的にラミネートするラミネート機構、 (ロ)プリント基板供給部から供給されるプリント基板
を互いに一定間隔に揃えて前記ラミネート機構へ給送す
る基板定間隔給送機構と、(ハ)前記フィルム部材にそ
の供繕の途次においてプリント基板の基準穴と対応させ
て逃げ穴を加工する逃げ穴加工機構、及び (ニ)前記ラミネート機構から送出されたラミネート後
のプリント基板及びフィルム部材を連続送りしながら該
フィルム部材をプリント基板の間隙部分において切断す
る切断機構、を具備する構成としたものである。
Structure of the Invention The printed circuit board laminating apparatus according to the present invention includes (a) continuous lamination on the surface of the printed circuit board by continuously feeding the printed circuit boards at intervals and continuously supplying a long strip-shaped film member; (b) a board constant-space feeding mechanism that feeds the printed circuit boards supplied from the printed board supply unit to the laminating mechanism while aligning them at regular intervals; an escape hole processing mechanism that processes escape holes in correspondence with the reference holes of the printed circuit board; and (d) the laminated printed circuit board and film member sent out from the lamination mechanism while continuously feeding the film member. The present invention is configured to include a cutting mechanism that cuts the printed circuit board at the gap portion.

発明の実施例 以下、本発明の実施例につき図面を参照して詳細に説明
する。尚、企図を通じて同一符号は同一部分を示す。
Embodiments of the Invention Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that the same reference numerals indicate the same parts throughout the design.

第1図は本発明によるプリント基板ラミネート装置(以
下単に「ラミネータ」と称する)の−実施例の外観を略
示する斜視図であり、第2図及び第3図はその全体構成
を略示したそれぞれ平面図及び側面図である。これらの
図において符号1はラミネータ全体を示し、ラミネータ
1は基本的にはタイミング合せ部2、ラミネート部3、
及び切断部4から構成されている。また第2図及び第3
図の符号5は図示してない前段のプリント基板処理部あ
るいはプリント基板ストック部からプリント基板Pをラ
ミネータ1へ供給する基板供給部を示す。
FIG. 1 is a perspective view schematically showing the external appearance of an embodiment of the printed circuit board laminating apparatus (hereinafter simply referred to as "laminator") according to the present invention, and FIGS. 2 and 3 schematically show the overall structure thereof. They are a plan view and a side view, respectively. In these figures, reference numeral 1 indicates the entire laminator, and the laminator 1 basically includes a timing adjustment section 2, a laminate section 3,
and a cutting section 4. Also, Figures 2 and 3
Reference numeral 5 in the figure indicates a board supply unit that supplies the printed circuit board P to the laminator 1 from an upstream printed board processing unit or a printed board stock unit (not shown).

まず第2図及び第3図を参照して基板供給部5及びラミ
ネータ1の各部2,3,4.の全体的な構成および作用
を簡単に説明する。基板供給部5は、プーリ6に水平に
巻回された1対の送りベルト7で基板Pを水平送路T(
第3図に一点鎖線で示す)に沿って矢印A方向へ水平状
態にて送り、フリーの支持ローラ8を経てラミネータI
のタイミング合せ部2へ供給するように構成されている
First, referring to FIGS. 2 and 3, the substrate supply section 5 and each section 2, 3, 4 of the laminator 1. The overall structure and operation of the system will be briefly explained. The substrate supply unit 5 transports the substrate P through a horizontal feeding path T (
3) in the direction of arrow A, and passes through free support roller 8 to laminator I.
It is configured such that the signal is supplied to the timing adjustment section 2 of.

ラミネータ1のタイミング合せ部2は、早送りベルト1
1、ストッパ17、ガイドローラ18及び幅寄せローラ
19 (第2図)、クランプ用ローラ21、給送用ロー
ラ22及び23、間隔ピン25等を有する基板定間隔給
送機構を具備しており、基板供給部5から供給された基
板Pを互いに所定の間隙d(例えば2〜3ms+)を隅
てた状態で且つ基板送り方向に正しく向いた状態に整列
させて所定の速度■(例えば0.5〜2mm/分)にて
連続的に次のラミネート部3へ給送する。
The timing adjustment section 2 of the laminator 1 has a fast-feeding belt 1
1. It is equipped with a substrate constant interval feeding mechanism having a stopper 17, a guide roller 18, a width adjusting roller 19 (Fig. 2), a clamping roller 21, feeding rollers 22 and 23, a spacing pin 25, etc. The substrates P supplied from the substrate supply section 5 are aligned with a predetermined gap d (e.g. 2 to 3 ms+) from each other and are oriented correctly in the substrate feeding direction, and are then moved at a predetermined speed (e.g. 0.5 ms). 2 mm/min) to the next laminating section 3.

ラミネート部3は、送りローラ3L32,33.34、
ラミネートロール35、フリーの支持ローラ36、レジ
ストフィルムリール37等を有するラミネート機構と、
グイ・ポンチユニット40等を有する逃げ穴加工機構と
を具備し、前段のタイミング合せ部2から給送された基
板Pをそれらの間隙dを保った状態で定速Vにて連続的
に送ると共に、長尺帯状のレジストフィルムF(第2図
に特にハツチングを付して明示)を基板の送り速度と等
速度で連続的に供給し、且つレジストフィルム−Fに予
め基板Pの基準穴Hp(第2図)と対応する逃げ穴Hf
(第2図)を加工した上で、レジストフィルムFを基板
Pの上下両面に連続的に熱圧着し、そしてラミネート後
の基板PおよびレジストフィルムFを次の切断部4へ送
出する。
The laminating section 3 includes feed rollers 3L32, 33.34,
A laminating mechanism including a laminating roll 35, a free support roller 36, a resist film reel 37, etc.;
It is equipped with an escape hole machining mechanism having a punch unit 40, etc., and continuously feeds the substrate P fed from the timing adjustment section 2 in the previous stage at a constant speed V while maintaining the gap d between them. , a long strip-shaped resist film F (clearly indicated by hatching in FIG. 2) is continuously supplied at a speed equal to the feeding speed of the substrate, and the reference hole Hp ( Figure 2) and the corresponding escape hole Hf
After processing (FIG. 2), a resist film F is continuously thermocompressed onto both upper and lower surfaces of the substrate P, and the laminated substrate P and resist film F are sent to the next cutting section 4.

切断部4は、送りロール51、送りベルト54、カッタ
ー60等を有する切断機構を具備し、ラミネート部3か
ら送出されたラミネート後の基板Pおよびし夛ストフィ
ルムF・を連続的に送りながらレジストフィルムFを基
板Pの間隙部分にて切断して基板Pを1枚ずつに分離し
、図示してない後段の基板処理部あるいは基板ストック
部へ矢印Bで示す如く送出する。
The cutting section 4 is equipped with a cutting mechanism having a feed roll 51, a feed belt 54, a cutter 60, etc., and cuts the resist while continuously feeding the laminated substrate P and the printing resist film F sent out from the laminating section 3. The film F is cut at the gap between the substrates P, and the substrates P are separated one by one and sent as indicated by arrow B to a subsequent substrate processing section or substrate stock section (not shown).

次にラミネータ1の各部2,3.4.につき詳述する。Next, each part 2, 3.4 of the laminator 1. I will explain in detail.

第4図及び第5図はタイミング合せ部2を基板供給部5
、及びラミネート部3の各一部分と共に示すそれぞれ平
面図及び側面図である。タイミング合せ部2の基板定間
隔給送機構は、基板送路T(第5図)に沿って基板供給
部5に近い前段部に設けられた1対の早送りベル)11
を有している。この早送りベルト11はプーリ 12.
13に水平に巻回されており、ベルトまたはチェーンI
4でプーリ13に連結された2段変速モータM1によっ
て駆動されて、後ヰする如く基板Pの高速v1及び低速
V2(但しV<v、<v、である)での2種類の早送り
が可能に構成されている。尚、符号S1、S2、S3は
基板供給部5から早送りベルト11へ供給されて早送り
される基板Pを検出するためのセンサを示し、これらの
センサは図に明示してないがそれぞれ発光素子と受光素
子からなるフォトセンサである。
4 and 5, the timing adjustment section 2 is connected to the substrate supply section 5.
, and a plan view and a side view, respectively, shown together with a portion of the laminate part 3. The substrate constant interval feeding mechanism of the timing adjustment section 2 includes a pair of fast-feeding bells (11) provided at the front stage near the substrate supply section 5 along the substrate feeding path T (FIG. 5).
have. This fast-feeding belt 11 is a pulley 12.
13 horizontally wound around the belt or chain I
Driven by a two-speed variable speed motor M1 connected to a pulley 13 at 4, it is possible to perform two types of rapid forwarding of the board P at high speed v1 and low speed V2 (however, V<v, <v) as shown below. It is composed of Note that symbols S1, S2, and S3 indicate sensors for detecting the substrates P that are fed from the substrate supply section 5 to the fast-feeding belt 11 and are fast-forwarded, and although these sensors are not clearly shown in the figure, they each have light-emitting elements and It is a photosensor consisting of a light receiving element.

また、早送りベルト11はリニアモーフM2によって上
下方向へ昇降可能な支持台15上に装着され、第5図に
実線で示す如(ペル9ト上面が基板送路Tより低くなる
上方位N(初期位置)と、点線11′で示す如くベルト
上面が基板送路Tとほぼ同レベルとなるような上方位置
との間で昇降可能としである。その昇降ストロークは例
えば15〜20mo+である。この早送りベルト11が
初期位置(下方位置)にあるときのその後端の近傍位置
にはストッパ17が配置されている。このストッパ17
は後述する如く早送りベルト11によって早送りされた
基板Pを所定の待機位置に停止させるためのものである
。尚、符号s4、S5は早送りベルト11の初期位置及
び上方位置をそれぞれ検出するためのセンサを示し、こ
れらは前述の如きフォトセンサまたは機械式マイクロス
イッチである。
The fast-feeding belt 11 is mounted on a support base 15 that can be raised and lowered vertically by a linear morph M2, and is placed in the upper direction N (initial position ) and an upper position where the upper surface of the belt is approximately at the same level as the substrate feeding path T as shown by the dotted line 11'.The lifting stroke is, for example, 15 to 20 mo+.This fast-feeding belt A stopper 17 is arranged near the rear end when the stopper 11 is at the initial position (lower position).
As will be described later, this is for stopping the substrate P fast-forwarded by the fast-forwarding belt 11 at a predetermined standby position. Incidentally, reference numerals s4 and S5 indicate sensors for respectively detecting the initial position and the upper position of the fast-feeding belt 11, and these are the aforementioned photosensors or mechanical microswitches.

第4図に示す如く、早送りベルト11の両側方にはそれ
ぞれ固定のガイドローラ18及び基板送路Tと直角な水
平方向(矢印z1、Z2)へ可動な輻寄せローラ19が
配置されている。幅寄せローラ19はエアー等を用いる
シリンダSYIによって駆動され、早送りベルト11上
の待機位置にある基板Pをガイドローラ18に対し押し
付けて基板Pを所定位置に且つ基板給送方向をまっすぐ
向くようにセントする作用をする。尚、バネ2゜はシリ
ンダSYIの基板押し力を調整するためのものである。
As shown in FIG. 4, fixed guide rollers 18 and adjustment rollers 19 movable in the horizontal direction (arrows z1, Z2) perpendicular to the substrate feeding path T are arranged on both sides of the fast-feeding belt 11, respectively. The width adjustment roller 19 is driven by a cylinder SYI using air or the like, and presses the substrate P at the standby position on the fast-feeding belt 11 against the guide roller 18 so that the substrate P is in a predetermined position and faces straight in the substrate feeding direction. It has the effect of cent. Note that the spring 2° is used to adjust the substrate pressing force of the cylinder SYI.

第5図に示すように、早送りベルト11の上方にはそれ
のプーリ13と対向させてクランプ用ローラ21を設け
である。クランプ用ローラ21はバネ21aによって常
に下方に付勢されており、後述するように早送りベル)
11が上昇したときにその上に載っている基板Pをクラ
ンプし、早送りベルト11と協働して基板Pを低速V、
で早送り給送するものである。
As shown in FIG. 5, a clamping roller 21 is provided above the fast-feeding belt 11 and facing the pulley 13 thereof. The clamping roller 21 is always urged downward by a spring 21a, and as described later, a fast forwarding bell)
When the belt 11 rises, it clamps the substrate P placed on it, and works together with the fast-forwarding belt 11 to move the substrate P at a low speed V,
This is a fast feed method.

クランプ用ローラ21の後段つまりラミネート部3側に
は1対の給送ローラ22及び23を配置しである。下側
のローラ22はベルトあるいはチェーン24によってラ
ミネート部3の送りローラ31と同期して常時駆動され
、基板Pを所定速度Vで送ることができる。上側のロー
ラ23はエアーなどを用いるシリンダSY2によって上
下に昇降可能に構成された従動ローラである。この上側
給送ローラ23は通常は上方位置(初期位置)にあり、
早送りベルト11及びクランプ用ローラ21で早送り給
送される基板Pが給送ローラ22゜23間を自由に通過
し得るが、後述するようにこの基板早送りが終了すると
下降して基板Pを下側給送ローラ22との間にクランプ
し、基板Pを定速Vで給送するように構成されている。
A pair of feeding rollers 22 and 23 are arranged downstream of the clamping roller 21, that is, on the side of the laminating section 3. The lower roller 22 is constantly driven by a belt or chain 24 in synchronization with the feed roller 31 of the laminating section 3, and can feed the substrate P at a predetermined speed V. The upper roller 23 is a driven roller that can be moved up and down by a cylinder SY2 using air or the like. This upper feeding roller 23 is normally in the upper position (initial position),
The substrate P rapidly fed by the fast feeding belt 11 and the clamping roller 21 can freely pass between the feeding rollers 22 and 23, but as will be described later, when the substrate fast feeding ends, the substrate P is moved downward. It is configured to be clamped between the feed roller 22 and feed the substrate P at a constant speed V.

尚、符号S6、S7、S8は送路Tに沿って早送り給送
あれ弓よ定速給送される基板Pを検出するための前記の
如きフォトセンサを示し、また符号S9は上側給送ロー
ラ23の下方位置を検出するための前記の如きフォトセ
ンサあるいはマイクロスイッチを示す。
Reference numerals S6, S7, and S8 indicate the above-mentioned photosensors for detecting the substrate P that is fed rapidly or at a constant speed along the feeding path T, and S9 indicates the upper feeding roller. 23 shows a photosensor or microswitch as described above for detecting the lower position of 23.

更に、給送ローラ22,23の後段つまりラミネート部
3側には左右2本(第4図参照)の間隔ピン25を設け
である。間隔ピン25は所定の基板間隔dと等しくして
あり、エアー等を用いるシリンダSY3によって上下に
駆動されて基板P間に挿叛自在に構成されている。一方
、シリンダSY3は固定支持台26′の水平ガイドロッ
ド27に装着されたスライダ28に取り付けられ、従っ
て間隔ピン25は第5図に実線で示す給送ローラ22.
23に近い前方位置と点線25′で示す送りローラ31
に近い後方位置との間を基板送路Tと平行に移動自在で
ある。後述するように、間隔ピン25は通常は前方の下
方位置(初期位置)にあり、基板Pの後端が間隔ピン2
5を通過すると第5図に示す如く上昇させられる。そし
て後続の基板Pが早送りベルト11及びクランプ用ロー
ラ21によって早送り給送されると、第4図及び第5図
に点線25′で示す如く後続基板の前端で押されて先行
基板Pの後端に突き当てられる。これにより前後の基板
Pの間隔がdに設定される。その後、間隔ピン25は基
板P間から抜去され、そして支持台26とスライダ28
間に張設された復帰用バネ29によって初期位置へ復帰
させられる。尚、符号SlOはスライダ28つまり間隔
ピン25の後方位置25′を検出するための前記の如き
フォトセンサあるいはマイクロスイッチを示す。
Further, two spacing pins 25 on the left and right (see FIG. 4) are provided at the rear stage of the feeding rollers 22 and 23, that is, on the side of the laminating section 3. The spacing pin 25 is made equal to a predetermined substrate spacing d, and is configured to be inserted between the substrates P by being driven up and down by a cylinder SY3 using air or the like. On the other hand, the cylinder SY3 is attached to a slider 28 attached to a horizontal guide rod 27 of a fixed support 26', so that the spacing pin 25 is connected to the feed roller 22.
Feed roller 31 shown in forward position near 23 and dotted line 25'
It is movable in parallel to the substrate transport path T between the rear position close to As will be described later, the spacing pin 25 is normally located at the lower front position (initial position), and the rear end of the board P is located at the spacing pin 2.
5, it is raised as shown in FIG. When the subsequent substrate P is rapidly fed by the fast-feeding belt 11 and the clamping roller 21, the front end of the succeeding substrate P pushes the trailing substrate P as shown by the dotted line 25' in FIGS. 4 and 5, and the rear end of the preceding substrate P is is confronted with. As a result, the distance between the front and rear substrates P is set to d. After that, the spacing pin 25 is removed from between the substrates P, and the support base 26 and the slider 28
It is returned to the initial position by a return spring 29 stretched therebetween. Incidentally, the reference numeral SlO indicates the above-mentioned photosensor or microswitch for detecting the rear position 25' of the slider 28, that is, the spacing pin 25.

さて以上の如きタイミング合せ部2による基板Pの一定
間隔給送について第6A図から第6に図の工程図及び第
7図のタイムチャートに基づいて詳述する。尚、第6A
図から第6に図には関連部分のみ略示し、第7図にはセ
ンサS1からSIO、モータML M2、及びシリンダ
SYIからSY3の動作のみ示しである。
Now, the constant interval feeding of the substrates P by the timing adjustment section 2 as described above will be explained in detail based on the process diagrams shown in FIGS. 6A to 6 and the time chart shown in FIG. 7. Furthermore, the 6th A
Only related parts are schematically shown in the sixth to fifth figures, and only the operations of the sensors S1 to SIO, the motor ML M2, and the cylinders SYI to SY3 are shown in FIG.

(a)まず第6A図に示すように、始動時には早送りベ
ルl−11、上側給送ローラ23、間隔ピン25はいず
れも初期位置にあるものとする。この状態で供給部5の
送りベルト7で第1番目の基板P1が送られてくると、
基板P1は支持ローラ8を半分以上越えた時点で斜めに
傾いて前端が早送りベルト11上に載る。
(a) First, as shown in FIG. 6A, it is assumed that at the time of starting, the fast-feeding bell l-11, the upper feeding roller 23, and the spacing pin 25 are all in their initial positions. In this state, when the first substrate P1 is sent by the feed belt 7 of the supply section 5,
When the substrate P1 passes over the support roller 8 by more than half, it tilts diagonally and the front end rests on the fast-feeding belt 11.

(bl第6B図に示す如(、基板PLをセンサs1が検
出するとモータM1によって早送りベルト11が高速駆
動され、基板P1は高速v1にて早送りされる。
(As shown in FIG. 6B), when the sensor s1 detects the substrate PL, the motor M1 drives the fast-feeding belt 11 at high speed, and the substrate P1 is fast-forwarded at a high speed v1.

(C)次いで第6C図に示す如く、基板P1の前端をセ
ンサS2が検知すると汚−りMlは低速駆動に切り換え
られ、基板P1は低速v2に減速されてストッパ17に
突き当る。そうするとセンサS3が基板P1を検出し、
モータM1つまり早送りベルト11の駆動が停止し、基
板P1はその位置に待機させられる。同時にまた、セン
サs3の信号により第4図に示す如くシリンダSYIが
作動して幅寄せローラ19を矢印Z1方向へ駆動し、基
板PLをガイドローラ18に押し付けて所定位置及び正
しい向きにセットする。
(C) Next, as shown in FIG. 6C, when the sensor S2 detects the front end of the substrate P1, the dirt M1 is switched to low speed drive, and the substrate P1 is decelerated to a low speed v2 and hits the stopper 17. Then sensor S3 detects substrate P1,
The driving of the motor M1, that is, the fast-feeding belt 11 is stopped, and the substrate P1 is made to stand by at that position. At the same time, as shown in FIG. 4, the cylinder SYI is actuated by the signal from the sensor s3 to drive the width adjustment roller 19 in the direction of arrow Z1, thereby pressing the substrate PL against the guide roller 18 and setting it at a predetermined position and in the correct direction.

Td1更に、センサS3の信号により第6D図に示す如
くモータM2が作動して早送りベル1−11が矢印Y1
で示す如く上方位置へ上昇させられ、基板P1が送路T
上の給送位置にてクランプ用ローラ21でクランプされ
る。尚、早送りベルト11が上方位置に達するとセンサ
s5で検出されてモータM2が停止される。
Td1 Furthermore, the signal from the sensor S3 causes the motor M2 to operate as shown in FIG.
The substrate P1 is raised to the upper position as shown in FIG.
It is clamped by a clamping roller 21 at the upper feeding position. Incidentally, when the fast-feeding belt 11 reaches the upper position, it is detected by the sensor s5 and the motor M2 is stopped.

te1次に同じくセン4J:S5の信号により第6E図
に示す如くモータM1が再び低速駆動され、基板P1は
早送りベルト11及びクランプ用ローラ21により給送
位置から給送用ローラ22,23を通って低速v2で早
送り給送される。
te1 Next, the motor M1 is again driven at a low speed as shown in FIG. 6E by the same signal from the sensor 4J:S5, and the substrate P1 is moved from the feeding position to the feeding rollers 22 and 23 by the fast-feeding belt 11 and the clamping roller 21. It is fed quickly at low speed v2.

fflそして第6F図に示す如く、基板P1の前端をセ
ンサS8が検出するとモータMIつまり早送りベルト1
1の駆動が停止する。同時にまた、シリンダSY2が作
動して上側給送ローラ23が矢印Y3方向へ下降し、基
板P1をクランプしてそれを所定速度■にて給送し始め
る。一方、上側給送ローラ23の下降がセンサS9で検
出され、その信号によりモータM2が逆駆動されて早送
りベルト11は矢印Y2で示す如く下降し、初期位置へ
戻るとこれがセンサS4で検出されてモータM2は停止
する。更にまたセンサS9の信号により第4図に示すよ
うにシリンダSYIが作動して幅寄せローラ19が矢印
Z2方向へ復帰する。
ffl Then, as shown in FIG.
1 stops. At the same time, the cylinder SY2 is actuated and the upper feeding roller 23 descends in the direction of arrow Y3, clamps the substrate P1, and starts feeding it at a predetermined speed (2). On the other hand, the lowering of the upper feeding roller 23 is detected by the sensor S9, and the motor M2 is reversely driven by the signal, and the fast-feeding belt 11 is lowered as shown by the arrow Y2, and when it returns to the initial position, this is detected by the sensor S4. Motor M2 stops. Furthermore, as shown in FIG. 4, the cylinder SYI is actuated by the signal from the sensor S9, and the width adjusting roller 19 returns to the direction of the arrow Z2.

(g1次に第6G図に示すように、給送ローラ22,2
3で定速給送される第1基板P1はラミネート部3の送
りローラ31へ給送され、引き続き定速Vで送られる。
(g1 Next, as shown in Fig. 6G, feed rollers 22, 2
The first substrate P1, which is fed at a constant speed at step 3, is fed to the feed roller 31 of the laminating section 3, and then continues to be fed at a constant speed V.

一方、初期位置へ戻った早送りベルト11には、基板供
給部5から第2番目の基板P2が第6A図から第6C図
を参照して上記(al ilら(C)で説明した如くし
て供給され、高速V、及び低速v2で早送りされ、そし
て幅寄せされて所定位置にて待機する。
On the other hand, the second substrate P2 from the substrate supply section 5 is transferred to the fast-forwarding belt 11 which has returned to the initial position as described in (C) above with reference to FIGS. 6A to 6C. It is supplied, fast-forwarded at high speed V and low speed V2, and then brought to a widthwise position and waits at a predetermined position.

(hlそして第6H図に示す如く、第1基板P1の後端
がセンサS6を通過するとモータM2が作動し、前記(
d)において説明した第6D図の場合と同様に早送りベ
ルト11が上昇して第2基板P2はクランプ用ローラ2
1でクランプされる。
(hl and as shown in FIG. 6H, when the rear end of the first substrate P1 passes the sensor S6, the motor M2 is activated and the (
As in the case of FIG. 6D described in d), the fast-feeding belt 11 rises and the second substrate P2 is moved to the clamping roller 2.
Clamped at 1.

(11次に第61図に示すように、第1基板P1の後端
がセンサS7を通過するとシリンダSY3が作動し、間
隔ピン25が矢印Y5方向へ上昇して基板P1.22間
に挿入される。これと同時にシリンダSY2が作動し、
上側給送口・−ラ23が矢印Y4で示す如く初期位置に
上昇復帰する。同時にまたモータM1が低速駆動され、
第2基板P2が早送りベルト11及びクランプ用ローラ
21によって低速v2で早送り給送される。
(11) Next, as shown in FIG. 61, when the rear end of the first substrate P1 passes the sensor S7, the cylinder SY3 is actuated, and the spacing pin 25 is raised in the direction of arrow Y5 and inserted between the substrates P1 and 22. At the same time, cylinder SY2 operates,
The upper feed port/-ra 23 returns to the initial position as shown by arrow Y4. At the same time, motor M1 is driven at low speed again.
The second substrate P2 is rapidly fed by the fast-feeding belt 11 and the clamping roller 21 at a low speed v2.

0)そして第6J図に示すように、早送り給送される第
2基板P2は前端で間隔ピン25を押しな′がら定速給
送されている第1基板P1を追走しくV2 >v) 、
間隔ピン25を介して第1基板PlO後端に突き当たる
。これにより第1基FiPIと第2基板P2との間隙d
が所定値に設定される。
0) Then, as shown in Fig. 6J, the second substrate P2, which is being fed in rapid traverse, follows the first substrate P1, which is being fed at a constant speed, while pushing the spacing pin 25 at the front end (V2 > v) ,
It abuts against the rear end of the first substrate PlO via the spacing pin 25. As a result, the gap d between the first base FiPI and the second substrate P2
is set to a predetermined value.

(k)間隔ピン25がその後方位置に達するとこれがセ
ンサSlOで検出され、第6に図に示す如くシリンダS
Y2が作動して上側給送ローラ23が矢印Y3方向へ下
降し、第2基板P2をクランプする。同時にまたシリン
ダSY3が作動して間隔ピン25を基板P1.22間か
ら矢印Y6方向へ抜去する。これにより基板P1及びP
2は定速Vにて互いに所定間隔dを保った状態で連続給
送される。一方、下方へ抜去された間隔ビン25は復帰
用バネ29によって矢印X2で示す如く前方の初期位置
(点線で示す)に復帰する。同時にまた上側給送ローラ
23の下降がセンサS9によって検出され、前述したよ
うに早送りベルト11はモータM2により初期位置へ下
降復帰する。
(k) When the spacing pin 25 reaches its rear position, this is detected by the sensor SlO, and the cylinder S
Y2 is activated, and the upper feeding roller 23 descends in the direction of arrow Y3 to clamp the second substrate P2. At the same time, the cylinder SY3 operates again to remove the spacing pin 25 from between the substrates P1 and P22 in the direction of the arrow Y6. As a result, the substrates P1 and P
2 are continuously fed at a constant speed V while maintaining a predetermined distance d from each other. On the other hand, the spacing bin 25 that has been pulled out downward is returned to the initial position (indicated by the dotted line) in the front direction by the return spring 29 as shown by the arrow X2. At the same time, the lowering of the upper feeding roller 23 is also detected by the sensor S9, and as described above, the fast-feeding belt 11 is lowered and returned to the initial position by the motor M2.

+11以後は、第3番目の基板P3(第6に図)以下の
各基板について上記(g)から(klで説明した第2基
板P2の場合と同様の工程が反復される。尚、第7図か
らも明らかなように、センサS8は第1番目の基板P1
の検出にしか使用されない。
After +11, the same steps as in the case of the second substrate P2 explained in (g) to (kl) are repeated for each substrate after the third substrate P3 (FIG. 6). As is clear from the figure, the sensor S8 is connected to the first substrate P1.
It is only used for detection.

このようにして、基板供給部5から供給された基板Pは
、供給時の基板間隔にバラツキがあっても、タイミング
合せ部2において互いに所定の間隔で整列させられて連
続的にラミネート部3へ給送されることになる。
In this way, the substrates P supplied from the substrate supply section 5 are aligned at predetermined intervals in the timing alignment section 2 and are continuously transferred to the laminate section 3 even if there are variations in the substrate spacing at the time of supply. It will be shipped.

次に、第8図はラミネート部3の要部拡大側面図である
。ラミネート部3のラミネート機構は、基板送路Tに沿
ってほぼ等間隔で配置され且つ図示してない駆動機構に
より互いに同期して定常回転駆動されている送りローラ
31.32,33.34及びラミネートロール35を有
し、これにより前段のタイミング合せ部2から給送され
た基板Pはそれらの間隔dを保ちながら矢印方向へ定速
■にてラミネートロール35を経て連続的に送られる。
Next, FIG. 8 is an enlarged side view of the main part of the laminate section 3. As shown in FIG. The laminating mechanism of the laminating unit 3 includes feed rollers 31, 32, 33, 34 and a laminate, which are arranged at approximately equal intervals along the substrate feed path T and are constantly rotated in synchronization with each other by a drive mechanism (not shown). It has a roll 35, whereby the substrates P fed from the timing adjustment section 2 in the previous stage are continuously fed through the laminating roll 35 in the direction of the arrow at a constant speed 2 while maintaining the distance d between them.

尚、ラミネート方式として常圧方式と真空方式があり、
本発明はどちらの方式でも用いることができるが、図示
例は真空方式の場合であり、両端の送りローラ31及び
34が気密を保つためのシールロールを兼ねている。
There are two types of lamination methods: normal pressure method and vacuum method.
Although the present invention can be used in either method, the illustrated example is a vacuum method, in which the feed rollers 31 and 34 at both ends also serve as seal rolls to maintain airtightness.

また、第3図に示すように、基板送路Tの上下にそれぞ
れレジストフィルムリール37が設けられ、これにロー
ル状のレジストフィルムFが装填されている。レジスト
フィルムFはこれら上下のリール37から引き出され、
長尺帯状のまま第8図に示す如くガイドローラ38を経
て基板Pの送り速度Vと同速度でラミネートロール35
へ供給され、基板Pの上面及び下面にそれぞれ連続的に
熱圧着される。
Further, as shown in FIG. 3, resist film reels 37 are provided above and below the substrate feeding path T, and a roll-shaped resist film F is loaded onto these reels. The resist film F is pulled out from these upper and lower reels 37,
As shown in FIG. 8, the long strip is passed through the guide roller 38 and transferred to the laminating roll 35 at the same speed as the feeding speed V of the substrate P.
and are continuously thermocompression bonded to the upper and lower surfaces of the substrate P, respectively.

尚、第9図に横断面で示す如く、レジストフィルムFは
上下両面に例えばポリエチレンなどの薄い保護膜Faを
被着させてロール状に巻かれており、リール37から引
き出す際に片面の保護膜Faが剥離手段(図示せず)に
よって剥離され、第1θ図に横断面で示す如く保護膜が
剥離された面において基板Pにラミネートされる。また
、レジストフィルムFの幅は一般に基板Pの幅より狭く
、第2図及び第1O図から明らかなようにレジストフィ
ルムFは基板Pの導体パターンが形成されない両側辺部
を残して中央部分にラミネートされる。
As shown in cross section in FIG. 9, the resist film F is wound into a roll with a thin protective film Fa made of polyethylene or the like applied to both upper and lower surfaces, and when pulled out from the reel 37, the protective film on one side is removed. Fa is peeled off by a peeling means (not shown) and laminated onto the substrate P on the surface from which the protective film has been peeled off, as shown in cross section in FIG. 1θ. In addition, the width of the resist film F is generally narrower than the width of the substrate P, and as is clear from FIG. 2 and FIG. be done.

後述するーレジストフィルム切断工程では、゛このレジ
ストフィルムFがラミネートされていない基板側辺部に
おいて基板間隔dをフォトセンサで検出してフィルム切
断を行う。
In the resist film cutting step, which will be described later, the film is cut by detecting the substrate spacing d using a photosensor at the side of the substrate where the resist film F is not laminated.

更に、ラミネート部40の逃げ穴加工機構は、基板送路
Tのラミネートロール35に至る途中位置に配置された
発光素子48aと受光素子48bからなる基板Pの基準
穴Hpを検出するためのフォトセンサSll、及びレジ
ストフィルムリール37(第3図)とラミネートロール
35との間のレジストフィルム供給路中に配置されてい
て基板Pの基準穴H9を逃げるための逃げ六Hfを加工
するためのグイ・ポンチユニット40を有している。
Furthermore, the escape hole processing mechanism of the laminating section 40 includes a photo sensor for detecting the reference hole Hp of the substrate P, which is composed of a light emitting element 48a and a light receiving element 48b, and is arranged at a position on the way to the laminating roll 35 on the substrate feeding path T. Sll, and a guide for processing a relief hole Hf that is arranged in the resist film supply path between the resist film reel 37 (FIG. 3) and the laminate roll 35 and escapes the reference hole H9 of the substrate P. It has a punch unit 40.

尚、図示実施例では第2図及び第4図に示すように基板
Pの左右両側辺部に基準穴H,が形成されており、従っ
て基準大検出用センサSllは基板送りTの左右両側゛
に2組配置してあり、またグイポンチユニット40は左
右両側にそれぞれ上下2台ずつ計4台設けであるが、図
には片側の1組のセンサSll及び2台のグイ・ポンチ
ユニット40だけ示しである。
In the illustrated embodiment, as shown in FIGS. 2 and 4, reference holes H are formed on both left and right sides of the substrate P, and therefore, the reference large detection sensor Sll is located on both left and right sides of the substrate feed T. There are two sets of Gouy Punch units 40 on both the left and right sides, two on the top and two on the top and a total of four, but the figure shows only one set of sensor Sll and two Gouy Punch units 40 on one side. This is an indication.

グイ・ポンチユニット40は、第8図に断面で示すよう
に、連続供給されるレジストフィルムFをはさんで対向
するダイ41及びポンチ42を有する。ポンチ42はエ
アー等を用いるシリンダ43のピストンロッド44に連
結され、後述する如くセンサSllが基準穴Hpを検出
するとその信号に基づいてシリンダ43が作動してポン
チ42が矢印aで示す如くダイ41に向って駆動され、
レジストフィルムFを打ち抜いて逃げ穴Hfを加工する
。そしてグイ41側に設けられたセンサS12が、ポン
チ42がレジストフィルムFを突き破りダイ41に達し
たことを検知すると、シリンダ43が逆作動され、ポン
チ42が矢印すで示す如くダイ41及びレジストフィル
ムFから引き抜かれる。符号47はこのポンチ引抜きの
ためのストリッパを示す。尚、センサS12の光路は、
ダイ41の一部に貫通孔あるいは切欠を設ければ確保で
きる。レジストフィルムFの抜きカスはダイ41に設け
た収容部45に収容され、従って基板Pの表面や装置内
部の汚染を防止できる。尚、かかる逃げ穴打抜きの際、
レジストフィルムFは定速■で連続供給されているので
、グイ・ポンチユニット40はレジストフィルムFと共
に矢印Cで示す如く初期位置から符号40′で示す打抜
き終了位置へ移動可能なように構成されている。すなわ
ち、ポンチ42がダイ41に挿入されている間はレジス
トフィルムFにより引張られて打抜き終了位置40′付
近に達し、シリンダ43が逆作動されてポンチ42がダ
イ41及びレジストフィルムFから引き抜かれると復帰
用バネ46によってグイ・ポンチユニット40は矢印d
で示す如く初期位置へ復帰する。
As shown in cross section in FIG. 8, the gouy punch unit 40 has a die 41 and a punch 42 facing each other with a continuously supplied resist film F in between. The punch 42 is connected to a piston rod 44 of a cylinder 43 using air or the like, and as described later, when a sensor Sll detects the reference hole Hp, the cylinder 43 is actuated based on the signal, and the punch 42 moves the die 41 as shown by arrow a. is driven towards
The resist film F is punched out to form escape holes Hf. When the sensor S12 provided on the gouer 41 side detects that the punch 42 has broken through the resist film F and reached the die 41, the cylinder 43 is reversely operated and the punch 42 moves between the die 41 and the resist film as shown by the arrow. Pulled out from F. Reference numeral 47 indicates a stripper for pulling out this punch. Note that the optical path of the sensor S12 is
This can be ensured by providing a through hole or notch in a part of the die 41. The scraps of the resist film F are accommodated in a housing section 45 provided in the die 41, thereby preventing contamination of the surface of the substrate P and the inside of the device. In addition, when punching such escape holes,
Since the resist film F is continuously fed at a constant speed, the goo-punch unit 40 is configured to be movable together with the resist film F from the initial position as indicated by arrow C to the punching end position indicated by reference numeral 40'. There is. That is, while the punch 42 is inserted into the die 41, it is pulled by the resist film F and reaches near the punching end position 40', and when the cylinder 43 is reversely operated and the punch 42 is pulled out from the die 41 and the resist film F. The return spring 46 causes the gouy punch unit 40 to move in the direction of arrow d.
It returns to the initial position as shown in .

図示例の場合、基準大検出用センサ311及びグイ・ポ
ンチユニット40はそれぞれのラミネートロール35か
らの距離!1及び氾2が相等しく(z+ =Jz )な
るように配置されている。そしてセンサSllが基板P
の基準穴Hpを検出するのと同時にグイ・ポンチユニッ
ト40がレジストフィルムFに逃げ穴Hfを加工するよ
うに構成されている。これにより逃げ穴Hf はセンサ
Sllで検出された基準穴Hpに対しラミネートロール
35から等距離位置に加工され、従って第8図に示すよ
うにラミネートロール35の位置へ送られてきたときに
これらの穴Hp 、Hfは正確に重ね合わされることに
なる。このようなセンサSll及びグイ・ポンチユニ・
ノド40の配置構成によれば、基板Pおよびレジストフ
ィルムFの送り速度Vを変えても基準穴Hpと逃げ六H
fとの相対位置は変わらず、何んら調整を必要とするこ
となく常に正確な重ね合わせが得られる。
In the illustrated example, the reference size detection sensor 311 and the Gui Punch unit 40 are located at a distance from each laminating roll 35! 1 and 2 are arranged so that they are equal (z+ = Jz). And the sensor Sll is connected to the substrate P.
The Goo punch unit 40 is configured to form an escape hole Hf in the resist film F at the same time as detecting the reference hole Hp. As a result, the escape hole Hf is machined at a position equidistant from the laminating roll 35 with respect to the reference hole Hp detected by the sensor Sll, and therefore, when it is sent to the position of the laminating roll 35 as shown in FIG. The holes Hp and Hf will be accurately overlapped. Such a sensor Sll and Gui Punch Uni.
According to the arrangement of the groove 40, even if the feeding speed V of the substrate P and the resist film F is changed, the reference hole Hp and the relief hole Hp can be maintained.
The relative position with f does not change, and accurate overlay can always be obtained without any adjustment.

一方、センサSll及びグイ・ポンチユニ・ノド40の
距離β1.12を相異なる如く構成することも可能であ
る。但し、この場合は2. >It2となるように構成
し、そしてセンサSllが基準穴Hpを検出してから両
距離の差(Ill−It2)ならびに基板及びレジスト
フィルムの送り速度Vによって決る一定時間(j!+ 
lz )/Vtにグイ・ポンチユニット40が逃げ穴加
工を行うように構成すれば良い。これは例えば、第11
図にブロック図で示す如く逃げ穴加工機構の制御回路4
9に基板及びレジストフィルムの送り速度Vに比例する
数のパルスを発生するパルス発生器ならびにパルスカウ
ンタを設けておき、センサSllからの基準穴検出信号
入力後、時間Cj+ l−z ) /Vに相当する一部
パルス数をカウントした後にグイ・ポンチユニット40
の駆動信号を出力する如く構成するなどして可能である
On the other hand, it is also possible to configure the distance β1.12 between the sensor Sll and the guide punch unit throat 40 to be different. However, in this case 2. >It2, and a certain period of time (j!+) determined by the difference between both distances (Ill-It2) and the feeding speed V of the substrate and resist film after the sensor Sll detects the reference hole Hp.
It is sufficient if the configuration is such that the gouging punch unit 40 performs the escape hole machining at )/Vt. This is, for example, the 11th
As shown in the block diagram in the figure, the control circuit 4 of the escape hole machining mechanism
9 is provided with a pulse generator and a pulse counter that generate a number of pulses proportional to the feeding speed V of the substrate and the resist film, and after inputting the reference hole detection signal from the sensor Sll, at the time Cj+l-z)/V. After counting the corresponding partial number of pulses, the Gui Punch unit 40
This is possible by configuring the drive signal to output a drive signal.

以上のように、ラミネート部3においては加工機構によ
りラミネート前のレジストフィルムFの逃げ穴加工を、
またラミネート機構により基板Pへのレジストフィルム
Fのラミネートを自動的に能率良く且つ良好に行うこと
ができる。
As described above, in the laminating section 3, the machining mechanism processes the relief holes in the resist film F before lamination.
Furthermore, the lamination mechanism allows the resist film F to be laminated onto the substrate P automatically and efficiently and satisfactorily.

ラミネート後の基板PはレジストフィルムFにより所定
間隔dで相互接続された状態で後段送りローラ34及び
支持ローラ36を経て次の切断部4へ送られる。
The laminated substrates P are interconnected by a resist film F at a predetermined interval d and are sent to the next cutting section 4 via a rear feed roller 34 and a support roller 36.

次に第12図は切断部4の構成を示す斜視図であり、第
13図、第14図、第15図はその要部詳細図である。
Next, FIG. 12 is a perspective view showing the configuration of the cutting section 4, and FIGS. 13, 14, and 15 are detailed views of the main parts thereof.

第3図及び第12図から明らかなように、切断部4にお
いては基板送路Tに沿って前段に送りローラ51が設け
られ、後段にはプーリ52,53 (特に第3図に明示
)に水平に巻回された2本の送りベルト54が設けられ
、そのプーリ52の上側には従動ローラ55 (第12
図では1つのみ図示)が設けられている。送りローラ5
1及び送りヘルド54は、ラミネート部3から送出され
たレジストフィルムFで相互連結された状態の基板Pの
列(以下これを「基板列」と称する)をラミネート部3
の基板送り速度■と実質上同速度で矢印B方向へ連続送
りできるように構成されている。すなわち、第12図及
び第13図に示すように、送りベルト54のブーIJ 
52は主軸MSに連結され、この主軸MSは主モータM
3によりウオームギアWを介して矢印N1方向へ回転さ
れて送りヘルド55を同方向へ駆動する。一方、送りロ
ーラ51は、主軸MSのスプロケットSPIと下側送り
ローラ51のスプロケット5P2(第12図)間に掛け
られたチェーンCHIによって駆動される。この場合、
スプロケットSPI及びSF3の歯数を後者の方が多く
 (SPI<5P2)\ なるようにして、送りローラ
ー51及び送りベルト54の周速がそれぞれ定速度Vお
よびそれよりわずかに速いv” (v<v’)となるよ
うにしである。かかる構成の利点については後述する。
As is clear from FIGS. 3 and 12, in the cutting section 4, a feed roller 51 is provided at the front stage along the substrate feeding path T, and pulleys 52, 53 (particularly clearly shown in FIG. 3) are provided at the rear stage. Two horizontally wound feed belts 54 are provided, and a driven roller 55 (12th
(Only one is shown in the figure). feed roller 5
1 and the feed heald 54 transfer the rows of substrates P (hereinafter referred to as "substrate rows") interconnected by the resist films F sent out from the laminate section 3 to the laminate section 3.
The structure is such that the substrate can be continuously fed in the direction of arrow B at substantially the same speed as the substrate feeding speed . That is, as shown in FIGS. 12 and 13, the feed belt 54 is
52 is connected to a main shaft MS, and this main shaft MS is connected to a main motor M.
3, it is rotated in the direction of arrow N1 via the worm gear W, thereby driving the feed heald 55 in the same direction. On the other hand, the feed roller 51 is driven by a chain CHI suspended between the sprocket SPI of the main shaft MS and the sprocket 5P2 (FIG. 12) of the lower feed roller 51. in this case,
The number of teeth of the sprockets SPI and SF3 is set so that the latter has a larger number of teeth (SPI<5P2)\, so that the circumferential speeds of the feed roller 51 and the feed belt 54 are constant speed V and slightly faster v''(v<v').The advantages of such a configuration will be described later.

また、送りローラ51と送りベルト54の間にはこれら
両者によって連続送りされる基板列の基板Pの間隙dを
検出するためのセンサS13と、基板列のレジストフィ
ルムFを間隙dの部分で切断するためのカッター60を
設けである。センサ313は第15図に示す如く発光素
子66aと受光素子66bから成るフォトセンサであり
、基板列送路Tの片側に寄せて配置され、前述したよう
に基板PのレジストフィルムFがラミネートされ −て
いない側辺部において基板間隙dを検出するようにしで
ある。
Further, between the feed roller 51 and the feed belt 54, there is a sensor S13 for detecting the gap d of the substrates P of the substrate row continuously fed by these two, and a sensor S13 for cutting the resist film F of the substrate row at the gap d. A cutter 60 is provided for this purpose. The sensor 313 is a photo sensor consisting of a light emitting element 66a and a light receiving element 66b, as shown in FIG. The substrate gap d is detected at the side where the substrate is not exposed.

カッター60は、第12図に示すように、基板Pの幅よ
りも長くて基板列送りTの上方を基板列送り方向Bと直
角に延在する如く配置されたカンタ−ベース61を有す
る。カッターベース61は両端を支持板62で支持され
、これらのカッターベース支持板62は基板列送路Tの
両側に設けられたガイドレール(図示せず)に沿って基
板列送り方向Bと平行な方向(第12図の矢印X3、X
4)へ往復移動可能である。
As shown in FIG. 12, the cutter 60 has a canter base 61 that is longer than the width of the substrate P and is disposed so as to extend above the substrate row feed T at right angles to the substrate row feed direction B. The cutter base 61 is supported at both ends by support plates 62, and these cutter base support plates 62 extend parallel to the substrate row feeding direction B along guide rails (not shown) provided on both sides of the substrate row feeding path T. Direction (arrows X3 and X in Figure 12)
It is possible to move back and forth to 4).

カッターベース61にはカッター支持板63が図示して
ないガイドレールに沿ってその長手方向、つまり基板列
送り方向Bと直角な水平方向(第12図の矢印Z3、Z
4)へ往復移動可能に設けられている。カッター支持板
63には、カッターホルダ64がシリンダSY4によっ
て上下方向(第15図の矢印Y7、Y8)へ昇降可能に
設けられ、このホルダ64にカミソリ刃状のカンタ−ブ
レード65が保持されている。シリンダSY4によって
カンタ−ホルダ64を矢印Y7、Y8へ昇降させること
により、カッターブレード65は基板列上面より高い初
期位置と、基板列上面からる突出する切断位置(第15
図)との間で昇降させられる。
A cutter support plate 63 is attached to the cutter base 61 along a guide rail (not shown) in its longitudinal direction, that is, in a horizontal direction perpendicular to the board row feeding direction B (arrows Z3 and Z in FIG. 12).
4) so that it can be moved back and forth. A cutter holder 64 is provided on the cutter support plate 63 so as to be movable up and down in the vertical direction (arrows Y7 and Y8 in FIG. 15) by a cylinder SY4, and a razor-shaped canter blade 65 is held in this holder 64. . By raising and lowering the canter holder 64 in the directions of arrows Y7 and Y8 using the cylinder SY4, the cutter blade 65 is moved between an initial position higher than the top surface of the substrate row and a cutting position (15th
(Figure).

また、カッターベース61には、カッター支持板63つ
まりカッ−ターブレード65を矢印Z3、X4方向へ駆
動するための可逆[−タM5及びチェーンCH6が設け
られている。チェーンcH6ハカソターヘース61の両
端に設けられたスプロケ7)に巻回され、両端末がカッ
ター支持板63に結合されている。モータM5は片側の
カッターベース支持板62上に設けられ、チェーンCH
6の片方のスプロケットに連結されている。従ってカッ
ター支持板63は、モータM5が正回転することにより
第12図に示す初期位置がら基板列の上方を矢印X3方
向へ反対側の切断終了位置まで移動し、またモータM5
の逆回転によって切断終了位置から矢印X4方向へ移動
して初期位置へ戻る。尚、符号S14.515(第12
図)は、’117ター支持板63のそれぞれ初期位置及
び切断終了位置を検出するためのフォトセンサあるいは
マイクロスイッチを示す。
Further, the cutter base 61 is provided with a reversible motor M5 and a chain CH6 for driving the cutter support plate 63, that is, the cutter blade 65 in the directions of arrows Z3 and X4. The chain cH6 is wound around a sprocket 7) provided at both ends of a thin blade hese 61, and both ends are connected to a cutter support plate 63. The motor M5 is provided on the cutter base support plate 62 on one side, and is connected to the chain CH.
It is connected to one sprocket of 6. Therefore, the cutter support plate 63 moves from the initial position shown in FIG. 12 in the direction of arrow
By the reverse rotation of , it moves from the cutting end position in the direction of arrow X4 and returns to the initial position. In addition, the code S14.515 (12th
Fig. 1) shows a photosensor or a microswitch for detecting the initial position and cutting end position of the '117 tar support plate 63, respectively.

更に、カッターベース61は次のような駆動機構によっ
て矢印X3、X4方向へ往復駆動される。
Further, the cutter base 61 is reciprocated in the directions of arrows X3 and X4 by the following drive mechanism.

すなわち、第12図に示す如く基板列送路Tの両側にお
いて2本のチェーンCH5がそれぞれ4つのスプロケッ
トに側方がら見て短形状に巻回され、各チェーンCH5
の両端末が各カッターベース支持板62の前後端に結合
されている。各チェーンCH5の4つのスプロケットの
うちの1つは共通の第2副軸AS2に連結され、この第
2副軸As2は2本のチェーンCH4によって第1副軸
AS1の両端のスプロケットSP6に連結されている(
特に第13図、第14図に明示)。この第1副軸ASI
にはまた2組のスプロケットSP4、SF3及びマグネ
ットクラッチMCI、MC2が設けられ、第13図に明
示する如く第1スプロケツトSP4はチェーンCH2に
よって主軸MSのスプロケットSP3に連結され、また
第2スプロケツトSP5はチェーンCH3によって副モ
ータM4の出力軸に連結されている。マグネットクラッ
チMCI、MC2は電磁石によってそれぞれスプロケッ
トSP4、SF3と第1副軸ASIとの結合及び切離し
を行うものであり、通常は両クラッチMCI、MC2が
いずれもrOFF (オフ)」の状態にあってスプロケ
ットSP4、SF3はいずれもフリーの状態にある。こ
の状態では第1副軸ASIはモータM3、M4のいずれ
によっても駆動されず、従ってカッターベース61は駆
動されずに送りローラ51側へ片寄った初期位置に停止
している。そして、第1クラッチMCIがrON(オン
)」になると、第1副軸ASIがスプロケットSP4に
結合され、チェーンCH2を介して主軸MS (つまり
主モータM3)によってそれと同方向N1へ正回転駆動
される。従って第12図から明らかな如くチェーンCH
4、第2副軸AS2、チェーンCH5を介してカッター
ベース61は基板列送り方向と同方向(矢印X3)へ駆
動される。尚、このカッターベース61の矢印X3方向
への駆動速度は基板送り速度■と同速度である。
That is, as shown in FIG. 12, two chains CH5 are each wound around four sprockets on both sides of the substrate row feeding path T in a rectangular shape when viewed from the side, and each chain CH5
Both ends of the cutter base support plate 62 are connected to the front and rear ends of each cutter base support plate 62. One of the four sprockets of each chain CH5 is connected to a common second subshaft AS2, and this second subshaft As2 is connected to sprockets SP6 at both ends of the first subshaft AS1 by two chains CH4. ing(
(Especially clearly shown in Figures 13 and 14). This first sub-axis ASI
is also provided with two sets of sprockets SP4, SF3 and magnetic clutches MCI, MC2, and as shown in FIG. 13, the first sprocket SP4 is connected to the sprocket SP3 of the main shaft MS by a chain CH2, and the second sprocket SP5 is It is connected to the output shaft of the sub motor M4 by a chain CH3. Magnetic clutches MCI and MC2 use electromagnets to connect and disconnect sprockets SP4 and SF3 with the first sub-shaft ASI, respectively, and normally both clutches MCI and MC2 are in the rOFF (off) state. Both sprockets SP4 and SF3 are in a free state. In this state, the first sub-shaft ASI is not driven by either of the motors M3 and M4, and therefore the cutter base 61 is not driven and is stopped at an initial position biased towards the feed roller 51 side. Then, when the first clutch MCI becomes rON (on), the first sub-shaft ASI is coupled to the sprocket SP4, and is driven to rotate forward in the same direction N1 by the main shaft MS (that is, the main motor M3) via the chain CH2. Ru. Therefore, as is clear from Fig. 12, the chain CH
4. The cutter base 61 is driven in the same direction as the substrate row feeding direction (arrow X3) via the second sub-shaft AS2 and the chain CH5. Note that the driving speed of the cutter base 61 in the direction of arrow X3 is the same as the substrate feeding speed (2).

また、第1クラッチMCIがrOFFJ、第2クラッチ
MC2が「ON」になると、第1副軸As1はスプロケ
ソ)SF3から切り師されて他方のスプロケットSP5
に結合され、チェーンCH3を介し副モータM4によっ
て主軸MSの回転方向N1とは逆の方向N2へ逆回転駆
動されることになる。従って第12図に示すようにチェ
ーンCH4、第2副軸AS2、チェーンCH5も逆方向
へ駆動されることになり、力、ターベース61は矢印X
4方向へ駆動されて初期位置へ戻される。尚、符号31
6(第12図)はカッターベース支持板62つまりカッ
ターベース61の初期位置を検出するためのフォトセン
サあるいはマイクロスイ・ノチを示す。
Also, when the first clutch MCI is turned OFFJ and the second clutch MC2 is turned ON, the first sub-shaft As1 is shifted from the sprocket SF3 to the other sprocket SP5.
The rotation direction N1 of the main shaft MS is reversely rotated by the auxiliary motor M4 through the chain CH3 in a direction N2 opposite to the rotation direction N1 of the main shaft MS. Therefore, as shown in FIG. 12, the chain CH4, second sub-shaft AS2, and chain CH5 are also driven in the opposite direction, and the force and turbine base 61 are
It is driven in four directions and returned to its initial position. In addition, code 31
6 (FIG. 12) shows a photo sensor or microswivel notch for detecting the initial position of the cutter base support plate 62, that is, the cutter base 61.

以上のような切断部4における基板列のレジストフィル
ムFの切断は次のように行われる。前段のラミネート部
3から送り出された基板列が送りローラ51及び送りヘ
ルド54によって定速度■で送られ、第15図に示すよ
うに基板Pの間隙dがセンサS13の位置にくると、セ
ンサS13が先行基板Pの後端を検出し、シリンダSY
4が作動してカッターブレード65が矢印Y7で示す如
く切断位置へ下降する。これと同時にモータM5が作動
してカッター支持板63が矢印Z3方向へ駆動される。
The cutting of the resist film F of the substrate array in the cutting section 4 as described above is performed as follows. The row of substrates sent out from the laminating section 3 in the previous stage is sent at a constant speed ■ by the feed roller 51 and the feed heald 54, and when the gap d between the substrates P reaches the position of the sensor S13 as shown in FIG. 15, the sensor S13 detects the rear end of the preceding board P, and the cylinder SY
4 is activated, and the cutter blade 65 descends to the cutting position as shown by arrow Y7. At the same time, motor M5 is activated to drive cutter support plate 63 in the direction of arrow Z3.

更に、カンタ−ブレード65の下降と同特に第1クラッ
チMCIが「ON」になり、カッターベース61は主モ
ータM3により矢印X3方向へ定速■で駆動される。こ
の結果、カンタ−ブレード65は第15図に示す如く基
板列と同速度Vで同方向X3へ移動しながら基板Pの間
隙d内を矢印Z3(第12図)の方向へ基板列を横断し
くカンタ−ブレード65の実際の軌跡は第2図に点線で
示す如く基板列送り方向Bに対し斜めになる)、上下の
レジストフィルムFを間隙dのほぼ中心線に沿って切断
する。尚、この場合に先行の基板Pは送りベルト54に
よって送られ、後続の基板Pは送りローラ51によって
送られているが、前述したように送りベルト54の送り
速度v′が送りローラ51の送り速度Vよりわずかに速
いので、両基板Pを連結しているレジストフィルムFに
わずかながらテンションが作用し、良好な切断が可能で
ある。
Further, when the canter blade 65 is lowered, the first clutch MCI is turned ON, and the cutter base 61 is driven by the main motor M3 in the direction of the arrow X3 at a constant speed (3). As a result, the canter blade 65 moves in the same direction X3 at the same speed V as the substrate row, as shown in FIG. The actual locus of the canter blade 65 is oblique to the substrate array feeding direction B as shown by the dotted line in FIG. 2), and cuts the upper and lower resist films F approximately along the center line of the gap d. In this case, the preceding substrate P is sent by the feed belt 54, and the following substrate P is sent by the feed roller 51, but as described above, the feed speed v' of the feed belt 54 is higher than the feed speed of the feed roller 51. Since the speed is slightly faster than the speed V, a slight tension acts on the resist film F connecting both substrates P, and good cutting is possible.

切断終了後、カッターブレード65が切断終了位置(第
2図に符号65′で示す)に達すると、これがセンサ5
15で検出され、カッター駆動用モータM5が停止して
カッター支持板63が停止し、同時に第1クラッチMC
IがrOFFJになってカッターベース61が停止し、
更にまたシリンダSY4が進動して力・ツタ−ブレード
65力(矢印Y8で示す如く初期位置へ引き上げられる
。しかる後、モータM5が逆転して力・ツタ−支持板6
3が矢印Z4で示す如く初期位置へ復帰し、センサ31
4で検出されて停止する。同時にまた第2クラッチMC
2が「ON」になり、力・ツタ−ベース61は副モータ
M4によって初期位置へ戻され、センサS16で検出さ
れて停止する。
After cutting, when the cutter blade 65 reaches the cutting end position (indicated by reference numeral 65' in FIG. 2), the sensor 5
15, the cutter drive motor M5 stops, the cutter support plate 63 stops, and at the same time, the first clutch MC
I becomes rOFFJ and the cutter base 61 stops,
Furthermore, the cylinder SY4 moves forward and is pulled up to the initial position as shown by the arrow Y8.Then, the motor M5 is reversed to increase the force and the vine support plate 6.
3 returns to the initial position as shown by arrow Z4, and sensor 31
It is detected and stopped at 4. At the same time, the second clutch MC
2 is turned "ON", the force/cutter base 61 is returned to the initial position by the auxiliary motor M4, is detected by the sensor S16, and is stopped.

一方、レジストフィルムFが切断されて基板列から分離
された基板Pは、送りベル)544こより前述の如く基
板列送り速度Vよりも少し速し)速度v′で基板列との
間隔を除々に広げながら矢印B方向へ送られ、図示して
ない次の基板処理部あるいは基板ストック部へと送出さ
れる。
On the other hand, the substrate P, which has been separated from the substrate row by cutting the resist film F, is moved by the feeding bell (544) at a speed slightly higher than the substrate row feed speed V' (as described above) to gradually increase the distance from the substrate row. The substrate is spread out and sent in the direction of arrow B, and sent to the next substrate processing section or substrate stock section (not shown).

以上の如く、切断部4はラミネート後のレジストフィル
ムFの切断を自動的に能率良く、しかも基板P及びレジ
ストフィルムFに有害な損傷を与えることなく良好に行
うことができる。
As described above, the cutting section 4 can automatically and efficiently cut the resist film F after lamination, without causing harmful damage to the substrate P and the resist film F.

次に第16図は切断部の第2実施i斜視図であり、第1
7図はその要部詳細図である。この切断部4Aの基本的
な構成及び作用は前述の切断部4とほぼ同様であり、単
に力・ツタ−70の構成及び作用が前述のカッター60
と一部相違するだけである。すなわち、ラミネート部3
からの基板列は送りローラ51及び送りベルト54によ
って第1実施例と同様に送られ、その間隙dはセンサS
13によって検出される。また力・7ター70も前述の
カッター60のものとほぼ同様のカッターベース71及
びカックーベース支持板72を有しており、カッターベ
ース71は力・ツタ−60のものと全く同様の駆動機構
によって矢印X3、X4方向へ往復駆動される。従って
以下では力・ツタ−70とカックーロ0との相違点につ
いてのみ説明する。
Next, FIG. 16 is a perspective view of the second embodiment of the cutting section, and FIG.
Figure 7 is a detailed diagram of the main part. The basic structure and operation of this cutting section 4A are almost the same as those of the above-mentioned cutting section 4, and the structure and operation of the force/tutter 70 are simply the same as those of the above-mentioned cutter 60.
There are only some differences. That is, the laminate part 3
The row of substrates from
13. Further, the force/cutter 70 has a cutter base 71 and a cuckoo base support plate 72 that are almost the same as those of the cutter 60 described above, and the cutter base 71 is driven by the arrow arrow by the drive mechanism completely similar to that of the force/cutter 60. It is driven back and forth in the X3 and X4 directions. Therefore, only the differences between Chikara Tsuta-70 and Kakuro 0 will be explained below.

カッター70のカッターベース71には左右1対のカッ
ター支持板73が固定されており、これらのカッター支
持板73にそれぞれ力・ツタ−ホルダ74がエアー等を
用いるシリンダSY5によって上下方向(第1T図の矢
印Y7、Y8)へ昇降可能に設けられ、これらのホルダ
74に図示の如くレジストフィルムFの幅よりも長いカ
ッターブレード75が断熱材を介して操持されてし)る
。カンタ−ブレード75の上部には例えばニクロム線ヒ
ータなどのヒータ76が装着され、カンタ−ブレード7
5の刃先部分が所要温度(例えば70〜80℃)に加熱
されるようにしである。尚、力・ノ夛−ブレード75は
加熱しなくても切断に支障ないが、加熱すれば切断が極
めて容易となる。また、ヒータをカンクーブレード′I
5に装着せずに、大形のカンタ−ホルダを用いてヒータ
番その中Gこ内蔵させても良い。カンタ−ブレード75
は、シリシダSY5を作動させて力・7ターホルダ74
を昇降させることにより初期位置と切断位置(第17図
)との間で昇降させられる。尚、符号S17、SI8は
力・7ターブレード75のそれぞれ初期位置および切断
位置を検出するためのフォトセンサあるいは÷イクロス
イッチを示す。
A pair of left and right cutter support plates 73 are fixed to the cutter base 71 of the cutter 70, and a force/cutter holder 74 is attached to each of these cutter support plates 73 in the vertical direction (Fig. 1T) by a cylinder SY5 using air or the like. As shown in the figure, a cutter blade 75 longer than the width of the resist film F is operated by these holders 74 through a heat insulating material. A heater 76 such as a nichrome wire heater is attached to the upper part of the canter blade 75.
The blade edge portion of No. 5 is heated to a required temperature (for example, 70 to 80°C). It should be noted that although there is no problem in cutting even if the force/nozzle blade 75 is not heated, cutting becomes extremely easy if heated. In addition, the heater can be connected to Kanku Blade'I.
Instead of attaching it to the heater number 5, a large canter holder may be used to incorporate the heater number G therein. canter blade 75
is to operate the cylinder SY5 and apply force/7ter holder 74.
It is raised and lowered between the initial position and the cutting position (FIG. 17) by raising and lowering. Incidentally, symbols S17 and SI8 indicate photosensors or microswitches for detecting the initial position and cutting position of the force/7 turbine blade 75, respectively.

上記の如き構成により、センサS13が基板列dを検出
すると、シリ′ンダSY5が作動してカンタ−プレーV
75が矢印Y7方向へ下降し、これと同時にカッター6
0の場合と同様に第1クラッチMC’lがrON’Jに
なってカッターブレード71は主モータM3により定速
Vにて矢印文3方向へ駆動される。この結果、カッター
ブレニド75は第17図め如く基板列と同速度■にて同
方向X3へ移動しながら基板Pの間隙d内を矢印Y7方
向へ下降し、上下のレジストフィルムF゛を間隙dのほ
ぼi心位−にて加熱切断する。尚、7’f% 7”7”
(第17図)iよりツタ−ブレード75用の多ソション
を示す。i断が終了すると、センサS18によ゛ってシ
リンダSY5が進動してカッターブレード75は契印Y
8方向へ引き上げられ、’113 )Of (n ’l
 ”=復帰する。そうするとセンサS17によってカッ
ター60の場合と同様に第1クラッチMCIが「OFF
」、第2クラツチMcz、i<roNJとなり、力・じ
夕゛−ペース71が副モータM4により矢印X4方向へ
駆動されて初期位置へ復帰し、センサS16で検出され
て停止する。
With the above-described configuration, when the sensor S13 detects the substrate row d, the cylinder SY5 is activated and the canterplane V is activated.
75 descends in the direction of arrow Y7, and at the same time cutter 6
As in the case of 0, the first clutch MC'l becomes rON'J, and the cutter blade 71 is driven by the main motor M3 at a constant speed V in the direction indicated by the arrow. As a result, the cutter blade 75 moves in the same direction X3 at the same speed as the substrate row as shown in FIG. Cut by heating at approximately center i of d. In addition, 7'f% 7"7"
(FIG. 17) A multi-solution for the vine blade 75 is shown from i. When cutting is completed, the cylinder SY5 is moved by the sensor S18, and the cutter blade 75 is moved to the mark Y.
'113 )Of (n 'l
” = return. Then, the sensor S17 causes the first clutch MCI to turn OFF as in the case of the cutter 60.
'', the second clutch Mcz,i<roNJ, and the force/judge pace 71 is driven in the direction of arrow X4 by the auxiliary motor M4, returns to the initial position, is detected by the sensor S16, and stops.

このようにして第2実施例4大の場合も第i実施例4と
同様に自−的且つ良好なレジストフィルム切断を行うこ
とができる。
In this manner, the resist film can be cut automatically and in a good manner in the case of the fourth embodiment of the second embodiment as well as in the fourth embodiment of the i-th embodiment.

以上のラミネータは以下のような利点を有する。The above laminator has the following advantages.

(イ)まず、タイミング合せ部において基板定間隔給送
機構が基板Pを所定の間隔で且つ基板送り方向を正しく
向いた状態に整列させてラミネート部へ連続給送するこ
とができ、従ってラミネート部における長尺帯状レジス
トフィルムの連続ラミネートならびに切断部におけるレ
ジストフィルム切断を能率良く且つ良好に行うことがで
きる。
(B) First, in the timing adjustment section, the substrate fixed interval feeding mechanism can align the substrates P at predetermined intervals and with the substrate feeding direction correctly facing, and continuously feed them to the laminate section. Continuous lamination of a long strip-shaped resist film and cutting of the resist film at the cutting section can be performed efficiently and favorably.

(ロ)また、ラミネート部においてはラミネート機構が
基板へのレジストフィルムの連続ラミネートを行うと共
に、ラミネートに先立って逃げ穴加工機構がレジストフ
ィルム基板の基準穴に対応させて逃げ穴を形成すること
ができ、従ってラミネート工程後における手作業による
逃げ穴加工が不要となる。しかも、逃げ穴加工機構は逃
げ穴を能率良く且つ良好に加工でき、また逃げ穴加工時
の切屑による基板や装置の汚染が生ずることもない。
(b) In addition, in the laminating section, the laminating mechanism continuously laminates the resist film onto the substrate, and prior to lamination, the relief hole processing mechanism forms relief holes corresponding to the reference holes of the resist film substrate. This eliminates the need for manual hole machining after the lamination process. In addition, the escape hole machining mechanism can efficiently and satisfactorily process escape holes, and there is no possibility of contamination of the substrate or equipment by chips during the escape hole machining process.

(ハ)更に、切断部において切断機構によりラミネート
後の基板列のレジストフィルムを基板間隙部分において
能率良く且つ良好に切断でき、従って手作業による切断
が不要となる。
(c) Furthermore, the resist film of the laminated substrate array can be efficiently and favorably cut in the gap between the substrates by the cutting mechanism in the cutting section, thus eliminating the need for manual cutting.

発明の効果 以上の如く、本発明によれば、プリント基板の一定間隔
給送、ラミ不−1へ前のレジストフィルムへの逃げ穴加
工、プリント基板へのレジストフィルムの連続ラミネー
ト、及びラミネート後のレジストフィルムの切断を自動
的に能率良く且つ良好に行うことのできるラミネート装
置が実現され、従ってプリント基板ラミネート工程の自
動化、生産性向上、ならびにプリント板の品質向上ひい
ては歩留り向上を実現でき、その技術的ならびに経済的
効果は著大である。
Effects of the Invention As described above, according to the present invention, it is possible to feed printed circuit boards at regular intervals, to form escape holes in the resist film before laminating the printed circuit board, to continuously laminate the resist film to the printed circuit board, and to laminate the resist film after lamination. A laminating device that can automatically cut resist films efficiently and efficiently has been realized, and this technology has enabled automation of the printed circuit board lamination process, improved productivity, improved quality of printed circuit boards, and improved yield. The commercial and economic effects are significant.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明によるプリントx板ラミネートの装置の
一実施例の外観略示斜視図、第2図及び第3図はラミネ
ート装置の全体構成を略示するそれぞれ平面図及び側面
図、第4図及び第5図はラミネート装置のタイミング合
せ部のそれぞれ平面図及び側面図、第6A図から第6に
図および第7図はタイミング合せ部におけるプリント基
板の一定間隔給送のそれぞれ工程図及びタイムチャート
、第8図はラミネート装置のラミネート部の要部を示す
一部断面側面図、第9図はレジストフィルムの横断図面
、第10図はラミネート後のプリント裁板及びレジスト
フィルムの横断図面、第11図は逃げ穴加工機構の制御
系のブロック回、第12図はラミネート装置の切断部の
第1実施例の構成を示す斜視図、第13図、第14図及
び第15図は第12図の切断部の要部詳細図、第16図
は切断部の第2実施例の構成を示す斜視図、第17図は
第16図の切断部の要部詳細図である。 1・・・プリント基板ラミネート装置、2・・・タイミ
ング合せ部、3・・・ラミネート部、4.4A・・・切
断部、5・・・基板供給部、7・−送りベルト、11・
・・早送りヘルド、17・・・ストッパ、21・・・ク
ランプ用ローラ、22.23・・・給送ローラ、25・
・・間隔ビン31.32,33.34・・・送りローラ
、35・・・ラミネートロール、37・・・レジストフ
ィルムリール、40・・・ダイ・ポンチユニット、41
・・・ダイ、42・・・ポンチ、43・・・シリンダ、
51・・・送りローラ、54・・・送りベルト、60.
70・・・カッター、61.71・・・カッターベース
、65.75・・・カッター、76・・・ヒータ、P・
・・プリント基板、Hp・・・基準穴、F・・・レジス
トフィルム、Hf・・・逃げ穴、T・・・基板または基
板列送路、51〜51B・・・センサ、Ml〜+15・
・・モータ、SYI〜SY5・・・シリンダ。 特許出願人 富士通株式会社 特許出願人代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士 西 舘 和 之 、弁理士内田幸男 弁理士 山 口 昭 之 第6A図 第6B図 第60図 第6D図 l 第6E図 l 第6F図 第6G図 23 第6H図 第61図 第6J図 3 第6に図 第13図 513 第17図 76 13
FIG. 1 is a perspective view schematically showing the external appearance of an embodiment of a printed x board laminating apparatus according to the present invention, FIGS. 2 and 3 are a plan view and a side view, respectively, schematically showing the overall structure of the laminating apparatus, and FIG. Figures 6 and 5 are plan and side views, respectively, of the timing adjustment section of the laminating apparatus, and Figures 6A to 6 and 7 are process diagrams and timing diagrams of feeding printed circuit boards at regular intervals in the timing adjustment section, respectively. Chart, FIG. 8 is a partially sectional side view showing the main parts of the laminating section of the laminating device, FIG. 9 is a cross-sectional view of the resist film, FIG. 10 is a cross-sectional view of the printed cutting board and resist film after lamination, and FIG. FIG. 11 is a block diagram of the control system of the clearance hole machining mechanism, FIG. 12 is a perspective view showing the configuration of the first embodiment of the cutting section of the laminating device, and FIGS. 13, 14, and 15 are FIG. FIG. 16 is a perspective view showing the configuration of a second embodiment of the cutting section, and FIG. 17 is a detailed view of the main portion of the cutting section in FIG. 16. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Printed circuit board laminating device, 2... Timing alignment section, 3... Laminating section, 4.4A... Cutting section, 5... Board supply section, 7.-Feeding belt, 11.
... Rapid feed heald, 17... Stopper, 21... Clamping roller, 22.23... Feeding roller, 25.
... Spacing bins 31.32, 33.34... Feed roller, 35... Laminating roll, 37... Resist film reel, 40... Die/punch unit, 41
...Die, 42...Punch, 43...Cylinder,
51... Feed roller, 54... Feed belt, 60.
70... Cutter, 61.71... Cutter base, 65.75... Cutter, 76... Heater, P.
...Printed circuit board, Hp...reference hole, F...resist film, Hf...relief hole, T...board or board row feed path, 51~51B...sensor, Ml~+15・
...Motor, SYI~SY5...Cylinder. Patent applicant Fujitsu Limited Patent applicant Representative Patent attorney Akira Aoki Patent attorney Kazuyuki Nishidate Patent attorney Yukio Uchida Patent attorney Akira Yamaguchi Figure 6A Figure 6B Figure 60 Figure 6D Figure 6E Figure 1 Fig. 6F Fig. 6G Fig. 23 Fig. 6H Fig. 61 Fig. 6J Fig. 3 Fig. 6 Fig. 13 Fig. 513 Fig. 17 Fig. 76 13

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、 プリント基板の表面にフィルム部材をラミネート
するプリント基板ラミネート装置であって、(イ)プリ
ント基板を互いに間隔をおいて連続的に送りながら長尺
帯状のフィルム部材を連続的に供給してプリント基板の
表面に連続的にラミネートするラミネート機構、 (ロ)プリント基板供給部から供給されるプリント基板
を互いに一定間隔に揃えて前記ラミネート機構へ給送す
る基板定間隔給送機構と、(ハ)前記フィルム部材にそ
の供給の途次においてプリント基板の基準穴と対応させ
て逃げ穴を加工する逃げ穴加工機構、及び (ニ)前記ラミネート機構から送出されたラミネート後
のプリント基板及びフィルム部材を連続送りしながら該
フィルム部材をプリント基板の間隙部分において切断す
る切断機構、を具備することを特徴とするプリント基板
ラミネート装置。
[Claims] 1. A printed circuit board laminating device that laminates a film member on the surface of a printed circuit board, comprising: (a) continuously feeding a long strip-shaped film member while continuously feeding the printed circuit board at intervals; a laminating mechanism that continuously laminates the printed circuit boards on the surface of the printed circuit board by supplying the printed circuit boards at regular intervals; (c) an escape hole machining mechanism for machining escape holes in the film member in correspondence with the reference holes of the printed circuit board while the film member is being supplied; and (d) a laminated print sent out from the lamination mechanism. A printed circuit board laminating apparatus comprising a cutting mechanism that cuts the film member at a gap between the printed circuit boards while continuously feeding the board and the film member.
JP59056150A 1984-03-16 1984-03-26 Laminating device for printed substrate Granted JPS60201900A (en)

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DE8585103025T DE3571309D1 (en) 1984-03-16 1985-03-15 Printed circuit board laminating apparatus
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