JPS646919B2 - - Google Patents

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JPS646919B2
JPS646919B2 JP59056150A JP5615084A JPS646919B2 JP S646919 B2 JPS646919 B2 JP S646919B2 JP 59056150 A JP59056150 A JP 59056150A JP 5615084 A JP5615084 A JP 5615084A JP S646919 B2 JPS646919 B2 JP S646919B2
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JP
Japan
Prior art keywords
substrate
printed circuit
feeding
laminating
resist film
Prior art date
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Application number
JP59056150A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS60201900A (en
Inventor
Shoji Tanaka
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Priority to CA000476569A priority patent/CA1243417A/en
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Priority to EP85103025A priority patent/EP0157261B1/en
Priority to DE8585103025T priority patent/DE3571309D1/en
Priority to KR1019850001702A priority patent/KR900002373B1/en
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Publication of JPS646919B2 publication Critical patent/JPS646919B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明はプリント板の製造に用いる装置に関
し、特にプリント板の基板の表面にドライフイル
ム状のフオトレジストあるいは保護フイルム等を
ラミネートするプリント基板ラミネート装置に関
するものである。
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an apparatus used for manufacturing printed circuit boards, and more particularly to a printed circuit board laminating apparatus for laminating a dry film-like photoresist or a protective film on the surface of a printed circuit board substrate. It is.

なお本明細書では、プリント板の基板を「プリ
ント基板」あるいは単に「基板」と略記し、また
ドライフイルム状のフオトレジストあるいは保護
フイルム等のフイルム部材を一括して「フオトレ
ジストフイルム」あるいは「レジストフイルム」
と略記する。
In this specification, the substrate of a printed circuit board is abbreviated as a "printed circuit board" or simply "substrate," and dry film photoresist or film members such as a protective film are collectively referred to as a "photoresist film" or "resist film.""Film"
It is abbreviated as

技術の背景 近年のプリント板の製造方法は、銅張板の如き
基板の導体層表面にフオトレジスト層を形成し、
フオトリソグラフイ技術を用いて配線パターンを
形成する方法が主流である。この場合のフオトレ
ジスト層の形成方法としては、基板表面にドライ
フイルム状のフオトレジストをラミネートして形
成する方法が主に用いられている。
Background of the Technology In recent years, the method of manufacturing printed circuit boards involves forming a photoresist layer on the surface of a conductor layer of a board such as a copper-clad board.
The mainstream method is to form wiring patterns using photolithography technology. In this case, the method of forming the photoresist layer is mainly by laminating a dry film photoresist on the surface of the substrate.

このようなプリント基板へのレジストフイルム
のラミネートは、以前は長尺帯状のレジストフイ
ルムを基板の長さに切断した上で1枚ごとに行つ
ていたが、この方法は非能率的で量産性に欠け
る。
Previously, resist film was laminated onto printed circuit boards by cutting a long strip of resist film to the length of the board and then cutting it one by one, but this method was inefficient and difficult to mass-produce. It lacks.

そのため、近年、レジストフイルムを切断せず
に長尺帯状のまま連続的にプリント基板にラミネ
ート可能なラミネート装置が開発されている。し
かしながら従来のこの種のラミネート装置には後
述するような問題があり、その対策が要望されて
いた。
Therefore, in recent years, a laminating apparatus has been developed that can continuously laminate a resist film in the form of a long strip onto a printed circuit board without cutting it. However, conventional laminating apparatuses of this type have problems as described below, and countermeasures have been desired.

従来技術と問題点 従来の上記の如きラミネート装置は、プリント
基板を送りローラなどで互いに間隔をおいて連続
的に送りながら長尺帯状のレジストフイルムを連
続的に供給してプリント基板の表面にラミネート
ロールで連続的に熱圧着してラミネートするよう
に構成されている。
Prior Art and Problems The conventional laminating apparatus as described above laminates the printed circuit board on the surface of the printed circuit board by continuously feeding a long strip of resist film while continuously feeding the printed circuit board with a feed roller or the like at intervals. It is configured to be laminated by continuous thermocompression bonding using rolls.

かかるラミネート装置では、レジストフイルム
ラミネート後のプリント基板はレジストフイルム
によつて相互に連結された状態でラミネート装置
から送出され、従つて各基板間においてレジスト
フイルムを切断して基板を1枚ずつに分離してや
る必要がある。また、プリント基板には以後の
種々の工程で位置合せのために用いられる基準穴
が形成されており、従つてレジストフイルムには
この基板の基準穴を逃げるための逃げ穴を形成し
てやる必要がある。
In such a laminating apparatus, the printed circuit boards after resist film lamination are sent out from the laminating apparatus while being interconnected by the resist film, and the resist film is cut between each board to separate the boards one by one. I need to do it. In addition, the printed circuit board has a reference hole formed therein that will be used for alignment in various subsequent steps, so it is necessary to form an escape hole in the resist film to escape the reference hole of the board. .

しかるに従来のラミネート装置はかかるレジス
トフイルムの切断および逃げ穴加工の機能を有し
ておらず、このためラミネート工程後に作業者が
ナイフ等を用いて手作業でフイルム切断および逃
げ穴加工を行つている。このためプリント板製造
ラインの省力化あるいは無人化に支障となつてい
るばかりか、非能率的で生産性が低く、しかもフ
イルム切断や逃げ穴加工の不良ならびにレジスト
フイルムや基板の切屑が原因で以後のフオトリソ
グラフイ工程において不具合が生じやすく、プリ
ント板の品質不良ひいては歩留り低下という問題
がある。
However, conventional laminating equipment does not have the function of cutting the resist film and forming the escape holes, and therefore, after the lamination process, the operator manually cuts the film and forms the escape holes using a knife or the like. . This not only hinders labor-saving or unmanned printed board manufacturing lines, but also inefficiencies and low productivity.Furthermore, defects in film cutting and clearance hole machining, as well as chips from resist films and circuit boards, cause problems in subsequent production. Problems tend to occur in the photolithography process, resulting in poor quality printed boards and lower yields.

更に、上記のようなラミネート装置においては
前段のプリント基板処理部あるいはプリント基板
ストツク部からラミネート装置に供給されるプリ
ント基板の間隔が重要な問題となる。例えば、基
板間隔が狭すぎるとラミネート後のレジストフイ
ルムの切断がうまく行えず、また間隔が広すぎる
と切断後の基板から飛び出しているレジストフイ
ルム端部のめくれあるいは巻きつきが生じやすく
なり、前記のような問題を増大させることにな
る。
Furthermore, in the above-described laminating apparatus, the interval between printed circuit boards supplied to the laminating apparatus from the preceding printed circuit board processing section or printed circuit board stock section becomes an important issue. For example, if the spacing between the substrates is too narrow, it will be difficult to cut the resist film after lamination, and if the spacing is too wide, the edges of the resist film that protrude from the substrate after cutting will tend to curl or curl. This will increase such problems.

発明の目的 本発明は、上記従来技術に鑑み、プリント基板
の一定間隔給送、ラミネート前のレジストフイル
ムへの逃げ穴加工、プリント基板へのレジストフ
イルムの連続ラミネート、及びラミネート後のレ
ジストフイルムの切断を自動的に能率良く行うこ
とができ、従つてプリント基板ラミネート工程の
自動化及び生産性向上、ならびにプリント板の品
質向上ひいては歩留り向上を実現可能とするプリ
ント基板ラミネート装置を提供することを目的と
するものである。
Purpose of the Invention In view of the above-mentioned prior art, the present invention provides a method for feeding a printed circuit board at regular intervals, forming relief holes in a resist film before lamination, continuously laminating a resist film on a printed circuit board, and cutting the resist film after lamination. The purpose of the present invention is to provide a printed circuit board laminating device that can automatically and efficiently perform the following steps, thereby automating the printed circuit board laminating process, improving productivity, improving the quality of printed circuit boards, and ultimately improving yield. It is something.

発明の構成 本発明によるプリント基板ラミネート装置は、 (イ) プリント基板を互いに間隔をおいて連続的に
送りながら長尺帯状のフイルム部材を連続的に
供給してプリント基板の表面に連続的にラミネ
ートするラミネート機構、 (ロ) プリント基板供給部から供給されるプリント
基板を前記ラミネート機構での基板送り速度よ
り早く送つて基板間を互いに一定間隔に調整し
且つ送り方向に整列させて前記ラミネート機構
へ供給する基板定間隔給送機構、 (ハ) 前記ラミネート機構内を給送中のプリント基
板の基準穴を検出し、該検出された基準穴と対
応させて前記フイルム部材にその供給の途次に
おいて逃げ穴を加工する逃げ穴加工機構、及び (ニ) 前記ラミネート機構から送出されたラミネー
ト後のプリント基板及びフイルム部材を連続送
りしながら該フイルム部材をプリント基板の間
隙部分において切断する切断機構、 を具備する構成としたものである。
Structure of the Invention The printed circuit board laminating apparatus according to the present invention has the following features: (a) While continuously feeding the printed circuit boards at intervals, a long strip-shaped film member is continuously supplied to continuously laminate the surface of the printed circuit board. (b) A laminating mechanism that feeds the printed circuit boards supplied from the printed circuit board supply unit faster than the board feeding speed of the laminating mechanism, adjusts the substrates to each other at a constant interval, and aligns them in the feeding direction to the laminating mechanism. A feeding mechanism for supplying substrates at regular intervals; an escape hole machining mechanism for machining escape holes; and (d) a cutting mechanism that cuts the laminated printed circuit board and film member sent from the laminating mechanism while continuously feeding the film member at the gap between the printed circuit boards. This configuration has the following features.

発明の実施例 以下、本発明の実施例につき図面を参照して詳
細に説明する。尚、全図を通じて同一符号は同一
部分を示す。
Embodiments of the Invention Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that the same reference numerals indicate the same parts throughout the figures.

第1図は本発明によるプリント基板ラミネート
装置(以下単に「ラミネータ」と称する)の一実
施例の外観を略示する斜視図であり、第2図及び
第3図はその全体構成を略示したそれぞれ平面図
及び側面図である。これらの図において符号1は
ラミネータ全体を示し、ラミネータ1は基本的に
はタイミング合せ部2、ラミネート部3、及び切
断部4から構成されている。また第2図及び第3
図の符号5は図示してない前段のプリント基板処
理部あるいはプリント基板ストツク部からプリン
ト基板Pをラミネータ1へ供給する基板供給部を
示す。
FIG. 1 is a perspective view schematically showing the appearance of an embodiment of a printed circuit board laminating apparatus (hereinafter simply referred to as a "laminator") according to the present invention, and FIGS. 2 and 3 schematically show the overall structure thereof. They are a plan view and a side view, respectively. In these figures, the reference numeral 1 indicates the entire laminator, and the laminator 1 basically consists of a timing section 2, a laminating section 3, and a cutting section 4. Also, Figures 2 and 3
Reference numeral 5 in the figure indicates a board supply unit that supplies the printed circuit board P to the laminator 1 from an upstream printed board processing unit or a printed board stock unit (not shown).

まず第2図及び第3図を参照して基板供給部5
及びラミネータ1の各部2,3,4、の全体的な
構成および作用を簡単に説明する。基板供給部5
は、プーリ6に水平に巻回された1対の送りベル
ト7で基板Pを水平送路T(第3図に一点鎖線で
示す)に沿つて矢印A方向へ水平状態にて送り、
フリーの支持ローラ8を経てラミネータ1のタイ
ミング合せ部2へ供給するように構成されてい
る。
First, with reference to FIGS. 2 and 3, the substrate supply section 5
The overall structure and operation of each part 2, 3, 4 of the laminator 1 will be briefly explained. Substrate supply section 5
The substrate P is sent horizontally in the direction of arrow A along a horizontal feeding path T (indicated by a dashed line in FIG. 3) using a pair of feeding belts 7 wound horizontally around a pulley 6.
It is configured to be supplied to the timing adjustment section 2 of the laminator 1 via a free support roller 8.

ラミネータ1のタイミング合せ部2は、早送り
ベルト11、ストツパ17、ガイドローラ18及
び幅寄せローラ19(第2図)、クランプ用ロー
ラ21、給送用ローラ22及び23、間隔ピン2
5等を有する基板定間隔給送機構を具備してお
り、基板供給部5から供給された基板Pを互いに
所定の間隙d(例えば2〜3mm)を隔てた状態で
且つ基板送り方向に正しく向いた状態に整列させ
て所定の速度V(例えば0.5〜2mm/分)にて連続
的に次のラミネート部3へ給送する。
The timing adjustment section 2 of the laminator 1 includes a fast-feeding belt 11, a stopper 17, a guide roller 18, a width adjusting roller 19 (Fig. 2), a clamping roller 21, feeding rollers 22 and 23, and a spacing pin 2.
The device is equipped with a substrate constant-space feeding mechanism having a substrate feeder 5, etc., and feeds the substrates P supplied from the substrate supply unit 5 with a predetermined gap d (for example, 2 to 3 mm) from each other and correctly orients them in the substrate feeding direction. The sheets are aligned in the same state as they were, and are continuously fed to the next laminating section 3 at a predetermined speed V (for example, 0.5 to 2 mm/min).

ラミネート部3は、送りローラ31,32,3
3,34、ラミネートロール35、フリーの支持
ローラ36、レジストフイルムリール37等を有
するラミネート機構と、ダイ・ポンチユニツト4
0等を有する逃げ穴加工機構とを具備し、前段の
タイミング合せ部2から給送された基板Pをそれ
らの間隙dを保つた状態で定速Vにて連続的に送
ると共に、長尺帯状のレジストフイルムF(第2
図に特にハツチングを付して明示)を基板の送り
速度と等速度で連続的に供給し、且つレジストフ
イルムFに予め基板Pの基準穴Hp(第2図)と対
応する逃げ穴Hf(第2図)を加工した上で、レジ
ストフイルムFを基板Pの上下両面に連続的に熱
圧着し、そしてラミネート後の基板Pおよびレジ
ストフイルムFを次の切断部4へ送出する。
The laminating section 3 has feed rollers 31, 32, 3
3, 34, a laminating mechanism having a laminating roll 35, a free support roller 36, a resist film reel 37, etc., and a die punch unit 4
0, etc., and continuously feeds the substrate P fed from the timing adjustment section 2 in the previous stage at a constant speed V while maintaining the gap d between them, and cuts the substrate P into a long strip shape. resist film F (second
(clearly indicated by hatching in the figure) is continuously supplied at the same speed as the feed speed of the substrate, and the escape hole Hf (the escape hole Hf) corresponding to the reference hole Hp (Fig. 2) of the substrate P is supplied to the resist film F in advance 2), a resist film F is continuously thermocompressed onto both upper and lower surfaces of the substrate P, and the laminated substrate P and resist film F are sent to the next cutting section 4.

切断部4は、送りロール51、送りベルト5
4、カツター60等を有する切断機構を具備し、
ラミネート部3から送出されたラミネート後の基
板PおよびレジストフイルムFを連続的に送りな
がらレジストフイルムFを基板Pの間隙部分にて
切断して基板Pを1枚ずつに分離し、図示してな
い後段の基板処理部あるいは基板ストツク部へ矢
印Bで示す如く送出する。
The cutting section 4 includes a feed roll 51 and a feed belt 5.
4. Equipped with a cutting mechanism having a cutter 60 etc.
While continuously feeding the laminated substrate P and resist film F sent out from the laminating unit 3, the resist film F is cut at the gap between the substrates P to separate the substrates P one by one. The substrate is sent to the subsequent substrate processing section or substrate stock section as shown by arrow B.

次にラミネータ1の各部2,3,4、につき詳
述する。第4図及び第5図はタイミング合せ部2
を基板供給部5及びラミネート部3の各一部分と
共に示すそれぞれ平面図及び側面図である。タイ
ミング合せ部2の基板定間隔給送機構は、基板送
路T(第5図)に沿つて基板供給部5に近い前段
部に設けられた1対の早送りベルト11を有して
いる。この早送りベルト11はプーリ12,13
に水平に巻回されており、ベルトまたはチエーン
14でプーリ13に連結された2段変速モータM
1によつて駆動されて、後述する如く基板Pの高
速v1及び低速v2(但しV<v2<v1である)での2
種類の早送りが可能に構成されている。尚、符号
S1,S2,S3は基板供給部5から早送りベル
ト11へ供給されて早送りされる基板Pを検出す
るためのセンサを示し、これらのセンサは図に明
示していないがそれぞれ発光素子と受光素子から
なるフオトセンサである。
Next, each part 2, 3, 4 of the laminator 1 will be explained in detail. Figures 4 and 5 show timing adjustment section 2.
FIG. 2 is a plan view and a side view, respectively, showing parts of a substrate supply section 5 and a laminate section 3. FIG. The substrate constant interval feeding mechanism of the timing adjustment section 2 has a pair of rapid-feeding belts 11 provided at a front stage near the substrate supply section 5 along the substrate feeding path T (FIG. 5). This fast-feeding belt 11 has pulleys 12 and 13
A two-speed variable speed motor M is wound horizontally around the motor M and is connected to a pulley 13 by a belt or chain 14.
2 at high speed v 1 and low speed v 2 (where V<v 2 <v 1 ) of the substrate P as described below.
It is configured to allow various types of fast forwarding. Note that symbols S1, S2, and S3 indicate sensors for detecting the substrates P that are fed from the substrate supply section 5 to the fast-feeding belt 11 and are fast-forwarded, and although these sensors are not clearly shown in the figure, they each have a light emitting element and It is a photo sensor consisting of a light receiving element.

また、早送りベルト11はリニアモータM2に
よつて上下方向へ昇降可能な支持台15上に装着
され、第5図に実線で示す如くベルト上面が基板
送路Tより低くなる下方位置(初期位置)と、点
線11′で示す如くベルト上面が基板送路Tとほ
ぼ同レベルとなるような上方位置との間で昇降可
能としてある。その昇降ストロークは例えば15〜
20mmである。この早送りベルト11が初期位置
(下方位置)にあるときのその後端の近傍位置に
はストツパ17が配置されている。このストツパ
17は後述する如く早送りベルト11によつて早
送りされた基板Pを所定の待機位置に停止させる
ためのものである。尚、符号S4,S5は早送り
ベルト11の初期位置及び上方位置をそれぞれ検
出するためのセンサを示し、これらは前述の如き
フオトセンサまたは機械式マイクロスイツチであ
る。
The fast-feeding belt 11 is mounted on a support base 15 that can be raised and lowered in the vertical direction by a linear motor M2, and is at a lower position (initial position) where the upper surface of the belt is lower than the substrate feeding path T, as shown by the solid line in FIG. and an upper position where the upper surface of the belt is approximately at the same level as the substrate feeding path T as shown by a dotted line 11'. For example, the lifting stroke is 15~
It is 20mm. A stopper 17 is disposed near the rear end of the fast-feeding belt 11 when it is at its initial position (lower position). This stopper 17 is for stopping the substrate P fast-forwarded by the fast-forwarding belt 11 at a predetermined standby position, as will be described later. Incidentally, reference numerals S4 and S5 indicate sensors for respectively detecting the initial position and the upper position of the fast-feeding belt 11, and these are the aforementioned photo sensors or mechanical microswitches.

第4図に示す如く、早送りベルト11の両側方
にはそれぞれ固定のガイドローラ18及び基板送
路Tと直角な水平方向(矢印Z1,Z2)へ可動
な幅寄せローラ19が配置されている。幅寄せロ
ーラ19はエアー等を用いるシリンダSY1によ
つて駆動され、早送りベルト11上の待機位置に
ある基板Pをガイドローラ18に対し押し付けて
基板Pを所定位置に且つ基板給送方向をまつすぐ
向くようにセツトする作用をする。尚、バネ20
はシリンダSY1の基板押し力を調整するための
ものである。
As shown in FIG. 4, fixed guide rollers 18 and width adjusting rollers 19 movable in the horizontal direction (arrows Z1, Z2) perpendicular to the substrate feeding path T are arranged on both sides of the fast-feeding belt 11, respectively. The width adjusting roller 19 is driven by a cylinder SY1 using air or the like, and presses the substrate P at a standby position on the fast-feeding belt 11 against the guide roller 18 to keep the substrate P in a predetermined position and straighten the substrate feeding direction. It has the effect of setting it so that it is facing the right direction. In addition, spring 20
is for adjusting the board pressing force of cylinder SY1.

第5図に示すように、早送りベルト11の上方
にはそれのプーリ13と対向させてクランプ用ロ
ーラ21を設けてある。クランプ用ローラ21は
バネ21aによつて常に下方に付勢されており、
後述するように早送りベルト11が上昇したとき
にその上に載つている基板Pをクランプし、早送
りベルト11と協働して基板Pを低速v2で早送り
給送するものである。
As shown in FIG. 5, a clamping roller 21 is provided above the fast-feeding belt 11 and facing the pulley 13 thereof. The clamping roller 21 is always urged downward by a spring 21a.
As will be described later, when the fast-feeding belt 11 rises, it clamps the substrate P placed on it, and cooperates with the fast-feeding belt 11 to rapidly feed the substrate P at a low speed v2 .

クランプ用ローラ21の後段つまりラミネート
部3側には1対の給送ローラ22及び23を配置
してある。下側のローラ22はベルトあるいはチ
エーン24によつてラミネート部3の送りローラ
31と同期して常時駆動され、基板Pを所定速度
Vで送ることができる。上側のローラ23はエア
ーなどを用いるシリンダSY2によつて上下に昇
降可能に構成された従動ローラである。この上側
給送ローラ23は通常は上方位置(初期位置)に
あり、早送りベルト11及びクランプ用ローラ2
1で早送り給送される基板Pが給送ローラ22,
23間を自由に通過し得るが、後述するようにこ
の基板早送りが終了すると下降して基板Pを下側
給送ローラ22との間にクランプし、基板Pを定
速Vで給送するように構成されている。尚、符号
S6,S7,S8は送路Tに沿つて早送り給送あ
るいは定速給送される基板Pを検出するための前
記の如きフオトセンサを示し、また符号S9は上
側給送ローラ23の下方位置を検出するための前
記の如きフオトセンサあるいはマイクロスイツチ
を示す。
A pair of feeding rollers 22 and 23 are arranged downstream of the clamping roller 21, that is, on the laminating section 3 side. The lower roller 22 is constantly driven by a belt or chain 24 in synchronization with the feed roller 31 of the laminating section 3, and can feed the substrate P at a predetermined speed V. The upper roller 23 is a driven roller that can be moved up and down by a cylinder SY2 using air or the like. This upper feeding roller 23 is normally located at the upper position (initial position), and the fast-feeding belt 11 and the clamping roller 2
1, the substrate P that is rapidly fed is fed by the feeding roller 22,
23, but as will be described later, when this substrate rapid feeding is completed, it descends to clamp the substrate P between the lower feeding roller 22 and feed the substrate P at a constant speed V. It is composed of Incidentally, reference numerals S6, S7, and S8 indicate the above-mentioned photo sensors for detecting the substrate P that is fed rapidly or at a constant speed along the feeding path T, and reference numeral S9 indicates the lower part of the upper feeding roller 23. A photo sensor or micro switch as described above is shown for detecting position.

更に、給送ローラ22,23の後段つまりラミ
ネート部3側には左右2本(第4図参照)の間隔
ピン25を設けてある。間隔ピン25は所定の基
板間隔dと等しくしてあり、エアー等を用いるシ
リンダSY3によつて上下に駆動されて基板P間
に挿抜自在に構成されている。一方、シリンダ
SY3は固定支持台26の水平ガイドロツド27
に装着されたスライダ28に取り付けられ、従つ
て間隔ピン25は第5図に実線で示す給送ローラ
22,23に近い前方位置と点線25′で示す送
りローラ31に近い後方位置との間を基板送路T
と平行に移動自在である。後述するように、間隔
ピン25は通常は前方の下方位置(初期位置)に
あり、基板Pの後端が間隔ピン25を通過すると
第5図に示す如く上昇させられる。そして後続の
基板Pが早送りベルト11及びクランプ用ローラ
21によつて早送り給送されると、第4図及び第
5図に点線25′で示す如く後続基板の前端で押
されて先行基板Pの後端に突き当てられる。これ
により前後の基板Pの間隔がdに設定される。そ
の後、間隔ピン25は基板P間から抜去され、そ
して支持台26とスライダ28間に張設された復
帰用バネ29によつて初期位置へ復帰させられ
る。尚、符号S10はスライダ28つまり間隔ピ
ン25の後方位置25′を検出するための前記の
如きフオトセンサあるいはマイクロスイツチを示
す。
Further, two spacing pins 25 on the left and right (see FIG. 4) are provided at the rear stage of the feeding rollers 22 and 23, that is, on the side of the laminating section 3. The spacing pins 25 are set equal to a predetermined substrate spacing d, and are configured to be freely inserted and removed between the substrates P by being driven up and down by a cylinder SY3 using air or the like. On the other hand, the cylinder
SY3 is the horizontal guide rod 27 of the fixed support base 26
The spacing pin 25 is attached to a slider 28 mounted on the slider 28, so that the spacing pin 25 extends between a forward position near the feed rollers 22, 23, shown in solid lines in FIG. Board feed path T
It can move freely in parallel to the As will be described later, the spacing pin 25 is normally at a lower front position (initial position), and when the rear end of the substrate P passes the spacing pin 25, it is raised as shown in FIG. When the succeeding substrate P is rapidly fed by the fast-feeding belt 11 and the clamping roller 21, the leading substrate P is pushed by the front end of the succeeding substrate as shown by the dotted line 25' in FIGS. 4 and 5. It hits the rear end. As a result, the distance between the front and rear substrates P is set to d. Thereafter, the spacing pin 25 is removed from between the substrates P and returned to the initial position by a return spring 29 stretched between the support base 26 and the slider 28. Incidentally, the reference numeral S10 designates the aforementioned photo sensor or microswitch for detecting the rear position 25' of the slider 28, that is, the spacing pin 25.

さて以上の如きタイミング合せ部2による基板
Pの一定間隔給送について第6A図から第6K図
の工程図及び第7図のタイムチヤートに基づいて
詳述する。尚、第6A図から第6K図には関連部
分のみ略示し、第7図にはセンサS1からS1
0、モータM1,M2、及びシリンダSY1から
SY3の動作のみ示してある。
Now, the constant interval feeding of the substrates P by the timing adjustment section 2 as described above will be explained in detail based on the process diagrams of FIGS. 6A to 6K and the time chart of FIG. 7. 6A to 6K only the relevant parts are schematically shown, and FIG. 7 shows the sensors S1 to S1.
0, from motors M1, M2, and cylinder SY1
Only the operation of SY3 is shown.

(a) まず第6A図に示すように、始動時には早送
りベルト11、上側給送ローラ23、間隔ピン
25はいずれも初期位置にあるものとする。こ
の状態で供給部5の送りベルト7で第1番目の
基板P1が送られてくると、基板P1は支持ロ
ーラ8を半分以上越えた時点で斜めに傾いて前
端が早送りベルト11上り載る。
(a) First, as shown in FIG. 6A, it is assumed that the fast-feeding belt 11, upper feeding roller 23, and spacing pin 25 are all in their initial positions at the time of startup. In this state, when the first substrate P1 is fed by the feed belt 7 of the supply section 5, the substrate P1 tilts diagonally when it passes more than half the support roller 8, and the front end climbs up onto the fast-feeding belt 11.

(b) 第6B図に示す如く、基板P1をセンサS1
が検出するとモータM1によつて早送りベルト
11が高速駆動され、基板P1は高速v1にて早
送りされる。
(b) As shown in Figure 6B, the substrate P1 is connected to the sensor S1.
When detected, the fast-feeding belt 11 is driven at high speed by the motor M1, and the substrate P1 is fast-forwarded at high speed v1 .

(c) 次いで第6C図に示す如く、基板P1の前端
をセンサS2が検知するとモータM1は低速駆
動に切り換えられ、基板P1は低速v2に減速さ
れてストツパ17に突き当る。そうするとセン
サS3が基板P1を検出し、モータM1つまり
早送りベルト11の駆動が停止し、基板P1は
その位置に待機させられる。同時にまた、セン
サS3の信号により第4図に示す如くシリンダ
SY1が作動して幅寄せローラ19を矢印Z1
方向へ駆動し、基板P1をガイドローラ18に
押し付けて所定位置及び正しい向きにセツトす
る。
(c) Next, as shown in FIG. 6C, when the sensor S2 detects the front end of the board P1, the motor M1 is switched to low speed drive, and the board P1 is decelerated to a low speed v2 and hits the stopper 17. Then, the sensor S3 detects the substrate P1, the driving of the motor M1, that is, the fast-forwarding belt 11 is stopped, and the substrate P1 is made to stand by at that position. At the same time, the signal from sensor S3 causes the cylinder to move as shown in FIG.
SY1 operates and moves the width adjusting roller 19 in the direction of arrow Z1
direction, and presses the substrate P1 against the guide rollers 18 to set it in a predetermined position and in the correct orientation.

(d) 更に、センサS3の信号により第6D図に示
す如くモータM2が作動して早送りベルト11
が矢印Y1で示す如く上方位置へ上昇させら
れ、基板P1が送路T上の給送位置にてクラン
プ用ローラ21でクランプされる。尚、早送り
ベルト11が上方位置に達するとセンサS5で
検出されてモータM2が停止される。
(d) Furthermore, the motor M2 is actuated by the signal from the sensor S3 as shown in FIG.
is raised to an upper position as shown by an arrow Y1, and the substrate P1 is clamped by the clamping roller 21 at the feeding position on the feeding path T. Incidentally, when the fast-feeding belt 11 reaches the upper position, it is detected by the sensor S5 and the motor M2 is stopped.

(e) 次に同じくセンサS5の信号により第6E図
に示す如くモータM1が再び低速駆動され、基
板P1は早送りベルト11及びクランプ用ロー
ラ21により給送位置から給送用ローラ22,
23を通つて低速v2で早送り給送される。
(e) Next, the motor M1 is again driven at a low speed as shown in FIG. 6E by the signal from the sensor S5, and the substrate P1 is moved from the feeding position to the feeding roller 22,
23 at a low speed v2 .

(f) そして第6F図に示す如く、基板P1の前端
をセンサS8が検出するとモータM1つまり早
送りベルト11の駆動が停止する。同時にま
た、シリンダSY2が作動して上側給送ローラ
23が矢印Y3方向へ下降し、基板P1をクラ
ンプしてそれを所定速度Vにて給送し始める。
一方、上側給送ローラ23の下降がセンサS9
で検出され、その信号によりモータM2が逆駆
動されて早送りベルト11は矢印Y2で示す如
く下降し、初期位置へ戻るとこれがセンサS4
で検出されてモータM2は停止する。更にまた
センサS9の信号により第4図に示すようにシ
リンダSY1が作動して幅寄せローラ19が矢
印Z2方向へ復帰する。
(f) Then, as shown in FIG. 6F, when the sensor S8 detects the front end of the substrate P1, the drive of the motor M1, that is, the fast-feeding belt 11 is stopped. At the same time, the cylinder SY2 is actuated and the upper feeding roller 23 descends in the direction of the arrow Y3, clamps the substrate P1, and starts feeding it at a predetermined speed V.
On the other hand, the lowering of the upper feeding roller 23 is detected by the sensor S9.
The motor M2 is reversely driven by the signal, and the fast-forwarding belt 11 is lowered as shown by the arrow Y2, and when it returns to the initial position, it is detected by the sensor S4.
is detected and motor M2 is stopped. Furthermore, as shown in FIG. 4, the cylinder SY1 is actuated by the signal from the sensor S9, and the width adjusting roller 19 returns to the direction of the arrow Z2.

(g) 次に第6G図に示すように、給送ローラ2
2,23で定速給送される第1基板P1はラミ
ネート部3の送りローラ31へ給送され、引き
続き定速Vで送られる。一方、初期位置へ戻つ
た早送りベルト11には、基板供給部5から第
2番目の基板P2が第6A図から第6C図を参
照して上記(a)から(c)で説明した如くして供給さ
れ、高速v1及び低速v2で早送りされ、そして幅
寄せされて所定位置にて待機する。
(g) Next, as shown in Fig. 6G, feed roller 2
The first substrate P1 fed at a constant speed in steps 2 and 23 is fed to the feed roller 31 of the laminating section 3, and then continues to be fed at a constant speed V. On the other hand, the second substrate P2 from the substrate supply section 5 is transferred to the fast-forwarding belt 11 which has returned to the initial position as described in (a) to (c) above with reference to FIGS. 6A to 6C. It is supplied, fast-forwarded at high speed v 1 and low speed v 2 , and then brought to the width and then waiting at a predetermined position.

(h) そして第6H図に示す如く、第1基板P1の
後端がセンサS6を通過するとモータM2が作
動し、前記(d)において説明した第6D図の場合
と同様に早送りベルト11が上昇して第2基板
P2はクランプ用ローラ21でクランプされ
る。
(h) Then, as shown in Fig. 6H, when the rear end of the first substrate P1 passes the sensor S6, the motor M2 is activated, and the fast-forwarding belt 11 is raised as in the case of Fig. 6D explained in (d) above. The second substrate P2 is then clamped by the clamping rollers 21.

(i) 次に第6I図に示すように、第1基板P1の
後端がセンサS7を通過するとシリンダSY3
が作動し、間隔ピン25が矢印Y5方向へ上昇
して基板P1,P2間に挿入される。これと同
時にシリンダSY2が作動し、上側給送ローラ
23が矢印Y4で示す如く初期位置に上昇復帰
する。同時にまたモータM1が低速駆動され、
第2基板P2が早送りベルト11及びクランプ
用ローラ21によつて低速v2で早送り給送され
る。
(i) Next, as shown in Fig. 6I, when the rear end of the first substrate P1 passes the sensor S7, the cylinder SY3
is activated, and the spacing pin 25 rises in the direction of arrow Y5 and is inserted between the substrates P1 and P2. At the same time, the cylinder SY2 operates, and the upper feeding roller 23 ascends back to the initial position as shown by arrow Y4. At the same time, motor M1 is driven at low speed again.
The second substrate P2 is rapidly fed by the fast-feeding belt 11 and the clamping roller 21 at a low speed v2 .

(j) そして第6J図に示すように、早送り給送さ
れる第2基板P2は前端で間隔ピン25を押し
ながら定速給送されている第1基板P1を追走
し(v2>V)、間隔ピン25を介して第1基板
P1の後端に突き当たる。これにより第1基板
P1と第2基板P2との間隙dが所定値に設定
される。
(j) Then, as shown in Fig. 6J, the second substrate P2, which is being fed rapidly, follows the first substrate P1, which is being fed at a constant speed, while pushing the spacing pin 25 at its front end (v 2 > V ), butts against the rear end of the first substrate P1 via the spacing pin 25. Thereby, the gap d between the first substrate P1 and the second substrate P2 is set to a predetermined value.

(k) 間隔ピン25がその後方位置に達するとこれ
がセンサS10で検出され、第6K図に示す如
くシリンダSY2が作動して上側給送ローラ2
3が矢印Y3方向へ下降し、第2基板P2をク
ランプする。同時にまたシリンダSY3が作動
して間隔ピン25を基板P1,P2間から矢印
Y6方向へ抜去する。これにより基板P1及び
P2は定速Vにて互いに所定間隔dを保つた状
態で連続給送される。一方、下方へ抜去された
間隔ピン25は復帰用バネ29によつて矢印X
2で示す如く前方の初期位置(点線で示す)に
復帰する。同時にまた上側給送ローラ23の下
降がセンサS9によつて検出され、前述したよ
うに早送りベルト11はモータM2により初期
位置へ下降復帰する。
(k) When the spacing pin 25 reaches its rear position, this is detected by the sensor S10, and the cylinder SY2 is actuated as shown in FIG.
3 descends in the direction of arrow Y3 and clamps the second substrate P2. At the same time, the cylinder SY3 operates again to remove the spacing pin 25 from between the substrates P1 and P2 in the direction of arrow Y6. As a result, the substrates P1 and P2 are continuously fed at a constant speed V while maintaining a predetermined distance d from each other. On the other hand, the spacing pin 25 that has been removed downward is moved by the arrow X by the return spring 29.
As shown in 2, it returns to the initial position in front (indicated by the dotted line). At the same time, the lowering of the upper feeding roller 23 is also detected by the sensor S9, and as described above, the fast feed belt 11 is lowered and returned to the initial position by the motor M2.

(l) 以後は、第3番目の基板P3(第6K図)以
下の各基板について上記(g)から(k)で説明した第
2基板P2の場合と同様の工程が反復される。
尚、第7図からも明らかなように、センサS8
は第1番目の基板P1の検出にしか使用されな
い。
(l) Thereafter, the same steps as in the case of the second substrate P2 explained in the above (g) to (k) are repeated for the third substrate P3 (FIG. 6K) and subsequent substrates.
Furthermore, as is clear from FIG. 7, the sensor S8
is used only to detect the first substrate P1.

このようにして、基板供給部5から供給された
基板Pは、供給時の基板間隔にバラツキがあつて
も、タイミング合せ部2において互いに所定の間
隔で整列させられて連続的にラミネート部3へ給
送されることになる。
In this way, the substrates P supplied from the substrate supply section 5 are aligned at a predetermined interval with each other in the timing alignment section 2 and are continuously transferred to the laminate section 3 even if there are variations in the substrate spacing at the time of supply. It will be shipped.

次に、第8図はラミネート部3の要部拡大側面
図である。ラミネート部3のラミネート機構は、
基板送路Tに沿つてほぼ等間隔で配置され且つ図
示してない駆動機構により互いに同期して定常回
転駆動されている送りローラ31,32,33,
34及びラミネートロール35を有し、これによ
り前段のタイミング合せ部2から給送された基板
Pはこれらの間隔dを保ちながら矢印方向へ定速
Vにてラミネートロール35を経て連続的に送ら
れる。尚、ラミネート方式として常圧方式と真空
方式があり、本発明はどちらの方式でも用いるこ
とができるが、図示例は真空方式の場合であり、
両端の送りローラ31及び34が気密を保つため
のシールロールを兼ねている。
Next, FIG. 8 is an enlarged side view of the main part of the laminate section 3. As shown in FIG. The laminating mechanism of the laminating part 3 is
Feed rollers 31, 32, 33, which are arranged at approximately equal intervals along the substrate feed path T and are constantly rotated in synchronization with each other by a drive mechanism (not shown).
34 and a laminating roll 35, whereby the substrate P fed from the timing adjustment section 2 in the previous stage is continuously sent through the laminating roll 35 in the direction of the arrow at a constant speed V while maintaining the interval d between them. . Note that there are two types of lamination methods: a normal pressure method and a vacuum method, and the present invention can be used with either method, but the illustrated example is a vacuum method.
The feed rollers 31 and 34 at both ends also serve as seal rolls to maintain airtightness.

また、第3図に示すように、基板送路Tの上下
にそれぞれレジストフイルムリール37が設けら
れ、これにロール状のレジストフイルムFが装填
されている。レジストフイルムFはこれら上下の
リール37から引き出され、長尺帯状のまま第8
図に示す如くガイドローラ38を経て基板Pの送
り速度Vと同速度でラミネートロール35へ供給
され、基板Pの上面及び下面にそれぞれ連続的に
熱圧着される。
Further, as shown in FIG. 3, resist film reels 37 are provided above and below the substrate feeding path T, and a roll-shaped resist film F is loaded onto these reels. The resist film F is pulled out from these upper and lower reels 37 and transferred to the eighth film in the form of a long strip.
As shown in the figure, it is supplied to the laminate roll 35 via a guide roller 38 at the same speed as the feed speed V of the substrate P, and is continuously bonded to the upper and lower surfaces of the substrate P by thermocompression.

尚、第9図に横断面で示す如く、レジストフイ
ルムFは上下両面に例えばポリエチレンなどの薄
い保護膜Faを被着させてロール状に巻かれてお
り、リール37から引き出す際に片面の保護膜
Faが剥離手段(図示せず)によつて剥離され、
第10図に横断面で示す如く保護膜が剥離された
面において基板Pにラミネートされる。また、レ
ジストフイルムFの幅は一般に基板Pの幅より狭
く、第2図及び第10図から明らかなようにレジ
ストフイルムFは基板Pの導体パターンが形成さ
れない両側辺部を残して中央部分にラミネートさ
れる。後述するレジストフイルム切断工程では、
このレジストフイルムFがラミネートされていな
い基板側辺部において基板間隔dをフオトセンサ
で検出してフイルム切断を行う。
As shown in the cross section in FIG. 9, the resist film F is wound into a roll with a thin protective film Fa made of polyethylene or the like coated on both upper and lower surfaces, and when pulled out from the reel 37, the protective film on one side is removed.
Fa is peeled off by a peeling means (not shown),
As shown in cross section in FIG. 10, the surface from which the protective film has been removed is laminated onto the substrate P. In addition, the width of the resist film F is generally narrower than the width of the substrate P, and as is clear from FIGS. 2 and 10, the resist film F is laminated to the central portion of the substrate P, leaving both sides where the conductor pattern is not formed. be done. In the resist film cutting process described later,
A photo sensor detects the substrate spacing d at the side of the substrate where the resist film F is not laminated, and the film is cut.

更に、ラミネート部40の逃げ穴加工機構は、
基板送路Tのラミネートロール35に至る途中位
置に配置された発光素子48aと受光素子48b
からなる基板Pの基準穴Hpを検出するためのフ
オトセンサS11、及びレジストフイルムリール
37(第3図)とラミネートロール35との間の
レジストフイルム供給路中に配置されていて基板
Pの基準穴Hpを逃げるための逃げ穴Hfを加工す
るためのダイ・ポンチユニツト40を有してい
る。尚、図示実施例では第2図及び第4図に示す
ように基板Pの左右両側辺部に基準穴Hpが形成
されており、従つて基準穴検出用センサS11は
基板送路Tの左右両側に2組配置してあり、また
ダイ・ポンチユニツト40は左右両側にそれぞれ
上下2台ずつ計4台設けてあるが、図には片側の
1組のセンサS11及び2台のダイ・ポンチユニ
ツト40だけ示してある。
Furthermore, the escape hole machining mechanism of the laminate portion 40 is as follows:
A light emitting element 48a and a light receiving element 48b are arranged on the way to the laminating roll 35 on the substrate feeding path T.
A photo sensor S11 for detecting the reference hole Hp of the substrate P, which is arranged in the resist film supply path between the resist film reel 37 (FIG. 3) and the laminating roll 35, and a photo sensor S11 for detecting the reference hole Hp of the substrate P. It has a die punch unit 40 for machining an escape hole Hf for escaping. In the illustrated embodiment, reference holes Hp are formed on both left and right sides of the substrate P, as shown in FIGS. There are two sets of die punch units 40 on the left and right sides, two on the top and two on the top and a total of four die punch units 40, but the figure shows one set of sensors S11 on one side and two die punch units 40. only is shown.

ダイ・ポンチユニツト40は、第8図に断面で
示すように、連続供給されるレジストフイルムF
をはさんで対向するダイ41及びポンチ42を有
する。ポンチ42はエアー等を用いるシリンダ4
3のピストンロツド44に連結され、後述する如
くセンサS11が基準穴Hpを検出するとその信
号に基づいてシリンダ43が作動してポンチ42
が矢印aで示す如くダイ41に向つて駆動され、
レジストフイルムFを打ち抜いて逃げ穴Hfを加
工する。そしてダイ41側に設けられたセンサS
12が、ポンチ42がレジストフイルムFを突き
破りダイ41に達したことを検知すると、シリン
ダ43が逆作動され、ポンチ42が矢印bで示す
如くダイ41及びレジストフイルムFから引き抜
かれる。符号47はこのポンチ引抜きのためのス
トリツパを示す。尚、センサS12の光路は、ダ
イ41の一部に貫通孔あるいは切欠を設ければ確
保できる。レジストフイルムFの抜きカスはダイ
41に設けた収容部45に収容され、従つて基板
Pの表面や装置内部の汚染を防止できる。尚、か
かる逃げ穴打抜きの際、レジストフイルムFは定
速Vで連続供給されているので、ダイ・ポンチユ
ニツト40はレジストフイルムFと共に矢印cで
示す如く初期位置から符号40′で示す打抜き終
了位置へ移動可能なように構成されている。すな
わち、ポンチ42がダイ41に挿入されている間
はレジストフイルムFにより引張られて打抜き終
了位置40′付近に達し、シリンダ43が逆作動
されてポンチ42がダイ41及びレジストフイル
ムFから引き抜かれると復帰用バネ46によつて
ダイ・ポンチユニツト40は矢印dで示す如く初
期位置へ復帰する。
The die punch unit 40, as shown in cross section in FIG.
It has a die 41 and a punch 42 that face each other with the die 41 and the punch 42 facing each other. The punch 42 is a cylinder 4 that uses air or the like.
As will be described later, when the sensor S11 detects the reference hole Hp, the cylinder 43 is actuated based on the signal and the punch 42 is connected to the piston rod 44 of the punch 42.
is driven toward the die 41 as shown by arrow a,
Punch out resist film F and process escape hole Hf. And a sensor S provided on the die 41 side
When the punch 12 detects that the punch 42 has penetrated the resist film F and reached the die 41, the cylinder 43 is reversely operated and the punch 42 is pulled out from the die 41 and the resist film F as shown by arrow b. Reference numeral 47 indicates a stripper for pulling out this punch. Note that the optical path of the sensor S12 can be secured by providing a through hole or a notch in a part of the die 41. The scraps of the resist film F are accommodated in the accommodating portion 45 provided in the die 41, thereby preventing contamination of the surface of the substrate P and the inside of the apparatus. During punching of escape holes, since the resist film F is continuously fed at a constant speed V, the die punch unit 40 moves the resist film F from its initial position as indicated by arrow c to the punching end position indicated by reference numeral 40'. It is configured so that it can be moved to. That is, while the punch 42 is inserted into the die 41, it is pulled by the resist film F and reaches near the punching end position 40', and when the cylinder 43 is reversely operated and the punch 42 is pulled out from the die 41 and the resist film F. The return spring 46 causes the die punch unit 40 to return to its initial position as shown by arrow d.

図示例の場合、基準穴検出用センサS11及び
ダイ・ポンチユニツト40はそれぞれのラミネー
トロール35からの距離l1及びl2が相等しく(l1
=l2)なるように配置されている。そしてセンサ
S11が基板Pの基準穴Hpを検出するのと同時
にダイ・ポンチユニツト40がレジストフイルム
Fに逃げ穴Hfを加工するように構成されている。
これにより逃げ穴HfはセンサS11で検出され
た基準穴Hpに対しラミネートロール35から等
距離位置に加工され、従つて第8図に示すように
ラミネートロール35の位置へ送られてきたとき
にこれらの穴Hp,Hfは正確に重ね合わされるこ
とになる。このようなセンサS11及びダイ・ポ
ンチユニツト40の配置構成によれば、基板Pお
よびレジストフイルムFの送り速度Vを変えても
基準穴Tpと逃げ穴Hfとの相対位置は変わらず、
何んら調整を必要とすることなく常に正確な重ね
合わせが得られる。
In the illustrated example, the distances l 1 and l 2 from the respective laminating rolls 35 of the reference hole detection sensor S11 and the die punch unit 40 are equal (l 1
= l 2 ). The die punch unit 40 is configured to form an escape hole Hf in the resist film F at the same time as the sensor S11 detects the reference hole Hp of the substrate P.
As a result, the escape hole Hf is machined at a position equidistant from the laminating roll 35 with respect to the reference hole Hp detected by the sensor S11, and therefore, as shown in FIG. The holes Hp and Hf will be accurately overlapped. According to such an arrangement of the sensor S11 and the die/punch unit 40, even if the feed speed V of the substrate P and the resist film F is changed, the relative position between the reference hole Tp and the relief hole Hf remains unchanged.
Accurate overlay is always obtained without the need for any adjustments.

一方、センサS11及びダイ・ポンチユニツト
40の距離l1,l2を相異なる如く構成することも
可能である。但し、この場合はl1>l2となるよう
に構成し、そしてセンサS11が基準穴Hpを検
出してから両距離の差(l1−l2)ならびに基板及
びレジストフイルムの送り速度Vによつて決る一
定時間(l1−l2)/V後にダイ・ポンチユニツト
40が逃げ穴加工を行うように構成すれば良い。
これは例えば、第11図にブロツク図で示す如く
逃げ穴加工機構の制御回路49に基板及びレジス
トフイルムの送り速度Vに比例する数のパルスを
発生するパルス発生器ならびにパルスカウンタを
設けておき、センサS11からの基準穴検出信号
入力後、時間(l1−l2)/Vに相当する一定パル
ス数をカウントした後にダイ・ポンチユニツト4
0の駆動信号を出力する如く構成するなどして可
能である。
On the other hand, it is also possible to configure the distances l 1 and l 2 between the sensor S11 and the die punch unit 40 to be different. However, in this case, the configuration is such that l 1 > l 2 , and after the sensor S11 detects the reference hole Hp, the difference between the two distances (l 1 −l 2 ) and the feeding speed V of the substrate and resist film are determined. Therefore, the die punch unit 40 may be configured to perform the escape hole processing after a predetermined period of time (l 1 -l 2 )/V.
For example, as shown in the block diagram of FIG. 11, the control circuit 49 of the escape hole processing mechanism is provided with a pulse generator and a pulse counter that generate a number of pulses proportional to the feeding speed V of the substrate and resist film. After inputting the reference hole detection signal from the sensor S11, the die punch unit 4 counts a certain number of pulses corresponding to time (l 1 - l 2 )/V.
This is possible by configuring it to output a drive signal of 0.

以上のように、ラミネート部3においては加工
機構によりラミネート前のレジストフイルムFの
逃げ穴加工を、またラミネート機構により基板P
へのレジストフイルムFのラミネートを自動的に
能率良く且つ良好に行うことができる。
As described above, in the laminating section 3, the processing mechanism processes the relief holes in the resist film F before lamination, and the laminating mechanism processes the substrate P.
The resist film F can be laminated automatically and efficiently and satisfactorily.

ラミネート後の基板PはレジストフイルムFに
より所定間隔dで相互接続された状態で後段送り
ローラ34及び支持ローラ36を経て次の切断部
4へ送られる。
The laminated substrates P are interconnected by resist films F at predetermined intervals d and are sent to the next cutting section 4 via a rear feed roller 34 and a support roller 36.

次に第12図は切断部4の構成を示す斜視図で
あり、第13図、第14図、第15図はその要部
詳細図である。第3図及び第12図から明らかな
ように、切断部4においては基板送路Tに沿つて
前段に送りローラ51が設けられ、後段にはプー
リ52,53(特に第3図に明示)に水平に巻回
された2本の送りベルト54が設けられ、そのプ
ーリ52の上側には従動ローラ55(第12図で
は1つのみ図示)が設けられている。送りローラ
51及び送りベルト54は、ラミネート部3から
送出されたレジストフイルムFで相互連結された
状態の基板Pの列(以下これを「基板列」と称す
る)をラミネート部3の基板送り速度Vと実質上
同速度で矢印B方向へ連続送りできるように構成
されている。すなわち、第12図及び第13図に
示すように、送りベルト54のプーリ52は主軸
MSに連結され、この主軸MSは主モータM3に
よりウオームギアWを介して矢印N1方向へ回転
されて送りベルト55を同方向へ駆動する。一
方、送りローラ51は、主軸MSのスプロケツト
SP1と下側送りローラ51のスプロケツトSP2
(第12図)間に掛けられたチエーンCH1によ
つて駆動される。この場合、スプロケツトSP1
及びSP2の歯数を後者の方が多く(SP1<SP
2)なるようにして、送りローラ51及び送りベ
ルト54の周速がそれぞれ定速度Vおよびそれよ
りわずかに速いV′(V<V′)となるようにしてあ
る。かかる構成の利点については後述する。
Next, FIG. 12 is a perspective view showing the configuration of the cutting section 4, and FIGS. 13, 14, and 15 are detailed views of the main parts thereof. As is clear from FIGS. 3 and 12, in the cutting section 4, a feed roller 51 is provided at the front stage along the substrate feeding path T, and pulleys 52 and 53 (particularly clearly shown in FIG. 3) are provided at the rear stage. Two horizontally wound feed belts 54 are provided, and a driven roller 55 (only one is shown in FIG. 12) is provided above the pulley 52. The feed roller 51 and the feed belt 54 move a row of substrates P (hereinafter referred to as a "substrate row") interconnected by the resist film F sent out from the laminate section 3 at a substrate feed speed V of the laminate section 3. The structure is such that it can be continuously fed in the direction of arrow B at substantially the same speed as . That is, as shown in FIGS. 12 and 13, the pulley 52 of the feed belt 54 is connected to the main shaft.
The main shaft MS is rotated in the direction of arrow N1 by the main motor M3 via the worm gear W, and drives the feed belt 55 in the same direction. On the other hand, the feed roller 51 is connected to the sprocket of the main shaft MS.
SP1 and sprocket SP2 of lower feed roller 51
(Fig. 12) It is driven by a chain CH1 interposed therebetween. In this case, sprocket SP1
and SP2 have more teeth in the latter (SP1<SP
2) The peripheral speeds of the feed roller 51 and the feed belt 54 are respectively set to a constant speed V and a slightly higher speed V'(V<V'). The advantages of such a configuration will be discussed later.

また、送りローラ51と送りベルト54の間に
はこれら両者によつて連続送りされる基板列の基
板Pの間隙dを検出するためのセンサS13と、
基板列のレジストフイルムFを間隙dの部分で切
断するためのカツター60を設けてある。センサ
S13は第15図に示す如く発光素子66aと受
光素子66bから成るフオトセンサであり、基板
列送路Tの片側に寄せて配置され、前述したよう
に基板PのレジストフイルムFがラミネートされ
ていない側辺部において基板間隙dを検出するよ
うにしてある。
Further, a sensor S13 is provided between the feed roller 51 and the feed belt 54 for detecting the gap d between the substrates P in the row of substrates that are continuously fed by these two;
A cutter 60 is provided for cutting the resist film F of the substrate row at the gap d. The sensor S13 is a photo sensor consisting of a light emitting element 66a and a light receiving element 66b, as shown in FIG. The substrate gap d is detected at the side portions.

カツター60は、第12図に示すように、基板
Pの幅よりも長くて基板列送路Tの上方を基板列
送り方向Bと直角に延在する如く配置されたカツ
ターベース61を有する。カツターベース61は
両端を支持板62で支持され、これらのカツター
ベース支持板62は基板列送路Tの両側に設けら
れたガイドレール(図示せず)に沿つて基板列送
り方向Bと平行な方向(第12図の矢印X3,X
4)へ往復移動可能である。
As shown in FIG. 12, the cutter 60 has a cutter base 61 that is longer than the width of the substrate P and is arranged to extend above the substrate row feeding path T at right angles to the substrate row feeding direction B. The cutter base 61 is supported at both ends by support plates 62, and these cutter base support plates 62 move in the substrate row feeding direction B along guide rails (not shown) provided on both sides of the substrate row feeding path T. Parallel direction (arrows X3 and X in Figure 12)
It is possible to move back and forth to 4).

カツターベース61にはカツター支持板63が
図示してないガイドレールに沿つてその長手方
向、つまり基板列送り方向Bと直角な水平方向
(第12図の矢印Z3,Z4)へ往復移動可能に
設けられている。カツター支持板63には、カツ
ターホルダ64がシリンダSY4によつて上下方
向(第15図の矢印Y7,Y8)へ昇降可能に設
けられ、このホルダ64にカミソリ刃状のカツタ
ーブレード65が保持されている。シリンダSY
4によつてカツターホルダ64を矢印Y7,Y8
へ昇降させることにより、カツターブレード65
は基板列上面より高い初期位置と、基板列下面か
らる突出する切断位置(第15図)との間で昇降
させられる。
On the cutter base 61, a cutter support plate 63 is movable back and forth along a guide rail (not shown) in its longitudinal direction, that is, in a horizontal direction perpendicular to the board row feeding direction B (arrows Z3 and Z4 in FIG. 12). It is provided. A cutter holder 64 is provided on the cutter support plate 63 so as to be movable up and down in the vertical direction (arrows Y7 and Y8 in FIG. 15) by a cylinder SY4, and a razor-shaped cutter blade 65 is held in this holder 64. There is. cylinder SY
4, move the cutter holder 64 to arrows Y7 and Y8.
By raising and lowering the cutter blade 65
is raised and lowered between an initial position higher than the top surface of the substrate row and a cutting position protruding from the bottom surface of the substrate row (FIG. 15).

また、カツターベース61には、カツター支持
板63つまりカツターブレード65を矢印Z3,
Z4方向へ駆動するための可逆モータM5及びチ
エーンCH6が設けられている。チエーンCH6
はカツターベース61の両端に設けられたスプロ
ケツトに巻回され、両端末がカツター支持板63
に結合されている。モータM5は片側のカツター
ベース支持板62上に設けられ、チエーンCH6
の片方のスプロケツトに連結されている。従つて
カツター支持板63は、モータM5が正回転する
ことにより第12図に示す初期位置から基板列の
上方を矢印Z3方向へ反対側の切断終了位置まで
移動し、またモータM5の逆回転によつて切断終
了位置から矢印Z4方向へ移動して初期位置へ戻
る。尚、符号S14,S15(第12図)はカツ
ター支持板63のそれぞれ初期位置及び切断終了
位置を検出するためのフオトセンサあるいはマイ
クロスイツチを示す。
Further, a cutter support plate 63, that is, a cutter blade 65 is attached to the cutter base 61 as indicated by the arrow Z3,
A reversible motor M5 and a chain CH6 are provided for driving in the Z4 direction. Chain CH6
is wound around sprockets provided at both ends of the cutter base 61, and both ends are attached to the cutter support plate 63.
is combined with The motor M5 is installed on the cutter base support plate 62 on one side, and the motor M5 is connected to the chain CH6.
It is connected to one of the sprockets. Therefore, the cutter support plate 63 moves from the initial position shown in FIG. 12 above the substrate array in the direction of arrow Z3 to the cutting end position on the opposite side due to the forward rotation of the motor M5, and also due to the reverse rotation of the motor M5. Therefore, it moves from the cutting end position in the direction of arrow Z4 and returns to the initial position. Note that reference numerals S14 and S15 (FIG. 12) indicate photo sensors or microswitches for detecting the initial position and cutting end position of the cutter support plate 63, respectively.

更に、カツターベース61は次のような駆動機
構によつて矢印X3,X4方向へ往復駆動され
る。すなわち、第12図に示す如く基板列送路T
の両側において2本のチエーンCH5がそれぞれ
4つのスプロケツトに側方から見て短形状に巻回
され、各チエーンCH5の両端末が各カツターベ
ース支持板62の前後端に結合されている。各チ
エーンCH5の4つのスプロケツトのうちの1つ
は共通の第2副軸AS2に連結され、この第2副
軸AS2は2本のチエーンCH4によつて第1副軸
AS1の両端のスプロケツトSP6に連結されてい
る(特に第13図、第14図に明示)。この第1
副軸AS1にはまた2組のスプロケツトSP4,
SP5及びマグネツトクラツチMC1,MC2が設
けられ、第13図に明示する如く第1スプロケツ
トSP4はチエーンCH2によつて主軸MSのスプ
ロケツトSP3に連結され、また第2スプロケツ
トSP5はチエーンCH3によつて副モータM4の
出力軸に連結されている。マグネツトクラツチ
MC1,MC2は電磁石によつてそれぞれスプロ
ケツトSP4,SP5と第1副軸AS1との結合及
び切離しを行うものであり、通常は両クラツチ
MC1,MC2がいずれも「OFF(オフ)」の状態
にあつてスプロケツトSP4,SP5はいずれもフ
リーの状態にある。この状態では第1副軸AS1
はモータM3,M4のいずれによつても駆動され
ず、従つてカツターベース61は駆動されずに送
りローラ51側へ片寄つた初期位置に停止してい
る。そして、第1クラツチMC1が「ON(オン)」
になると、第1副軸AS1がスプロケツトSP4に
結合され、チエーンCH2を介して主軸MS(つま
り主モータM3)によつてそれと同方向N1へ正
回転駆動される。従つて第12図から明らかな如
くチエーンCH4、第2副軸AS2、チエーンCH
5を介してカツターベース61は基板列送り方向
と同方向(矢印X3)へ駆動される。尚、このカ
ツターベース61の矢印X3方向への駆動速度は
基板送り速度Vと同速度である。また、第1クラ
ツチMC1が「OFF」、第2クラツチMC2が
「ON」になると、第1副軸AS1はスプロケツト
SP4から切り離されて他方のスプロケツトSP5
に結合され、チエーンCH3を介し副モータM4
によつて主軸MSの回転方向N1とは逆の方向N
2へ逆回転駆動されることになる。従つて第12
図に示すようにチエーンCH4、第2副軸AS2、
チエーンCH5も逆方向へ駆動されることにな
り、カツターベース61は矢印X4方向へ駆動さ
れて初期位置へ戻される。尚、符号S16(第1
2図)はカツターベース支持板62つまりカツタ
ーベース61の初期位置を検出するためのフオト
センサあるいはマイクロスイツチを示す。
Furthermore, the cutter base 61 is reciprocated in the directions of arrows X3 and X4 by the following drive mechanism. That is, as shown in FIG.
Two chains CH5 are each wound around four sprockets in a rectangular shape when viewed from the side, and both ends of each chain CH5 are connected to the front and rear ends of each cutter base support plate 62. One of the four sprockets of each chain CH5 is connected to a common second subshaft AS2, and this second subshaft AS2 is connected to the first subshaft by two chains CH4.
It is connected to sprocket SP6 at both ends of AS1 (especially shown in Figures 13 and 14). This first
There are also two sets of sprockets SP4 on the subshaft AS1,
SP5 and magnetic clutches MC1 and MC2 are provided, and as clearly shown in FIG. 13, the first sprocket SP4 is connected to the sprocket SP3 of the main shaft MS by a chain CH2, and the second sprocket SP5 is connected to a subsprocket SP3 by a chain CH3. It is connected to the output shaft of motor M4. magnetic clutch
MC1 and MC2 connect and disconnect sprockets SP4 and SP5, respectively, and the first sub-shaft AS1 using electromagnets, and normally both clutches are connected to each other.
Both MC1 and MC2 are in the "OFF" state, and sprockets SP4 and SP5 are both in a free state. In this state, the first sub-shaft AS1
is not driven by either the motors M3 or M4, and therefore the cutter base 61 is not driven and is stopped at an initial position biased towards the feed roller 51 side. Then, the first clutch MC1 is “ON”
Then, the first sub-shaft AS1 is connected to the sprocket SP4, and is driven to rotate forward in the same direction N1 by the main shaft MS (that is, the main motor M3) via the chain CH2. Therefore, as is clear from Fig. 12, chain CH4, second sub-shaft AS2, and chain CH
5, the cutter base 61 is driven in the same direction as the substrate row feeding direction (arrow X3). Note that the driving speed of the cutter base 61 in the direction of arrow X3 is the same as the substrate feeding speed V. Also, when the first clutch MC1 is turned "OFF" and the second clutch MC2 is "ON", the first subshaft AS1 is turned to the sprocket.
Disconnect from SP4 and connect the other sprocket SP5
auxiliary motor M4 through chain CH3.
, the rotation direction N1 of the main shaft MS is opposite to the rotation direction N1.
2, it will be rotated in the opposite direction. Therefore, the 12th
As shown in the figure, chain CH4, second sub-shaft AS2,
Chain CH5 is also driven in the opposite direction, and cutter base 61 is driven in the direction of arrow X4 and returned to the initial position. In addition, the code S16 (first
FIG. 2) shows a photo sensor or micro switch for detecting the initial position of the cutter base support plate 62, that is, the cutter base 61.

以上のような切断部4における基板列のレジス
トフイルムFの切断は次のように行われる。前段
のラミネート部3から送り出された基板列が送り
ローラ51及び送りベルト54によつて定速度V
で送られ、第15図に示すように基板Pの間隙d
がセンサS13の位置にくると、センサS13が
先行基板Pの後端を検出し、シリンダSY4が作
動してカツターブレード65が矢印Y7で示す如
く切断位置へ下降する。これと同時にモータM5
が作動してカツター支持板63が矢印Z3方向へ
駆動される。更に、カツターブレード65の下降
と同時に第1クラツチMC1が「ON」になり、
カツターベース61は主モータM3により矢印X
3方向へ定速Vで駆動される。この結果、カツタ
ーブレード65は第15図に示す如く基板列と同
速度Vで同方向X3へ移動しながら基板Pの間隙
d内を矢印Z3(第12図)の方向へ基板列を横
断し(カツターブレード65の実際の軌跡は第2
図に点線で示す如く基板列送り方向Bに対し斜め
になる)、上下のレジストフイルムFを間隙dの
ほぼ中心線に沿つて切断する。尚、この場合に先
行の基板Pは送りベルト54によつて送られ、後
続の基板Pは送りローラ51によつて送られてい
るが、前述したように送りベルト54の送り速度
V′が送りローラ51の送り速度Vよりわずかに
速いので、両基板Pを連結しているレジストフイ
ルムFにわずかながらテンシヨンが作用し、良好
な切断が可能である。
The cutting of the resist film F of the substrate array in the cutting section 4 as described above is performed as follows. The row of substrates sent out from the laminating section 3 in the previous stage is kept at a constant speed V by the feed roller 51 and the feed belt 54.
As shown in FIG.
When the cutter blade 65 reaches the position of the sensor S13, the sensor S13 detects the rear end of the preceding substrate P, the cylinder SY4 is activated, and the cutter blade 65 is lowered to the cutting position as shown by the arrow Y7. At the same time, motor M5
is activated, and the cutter support plate 63 is driven in the direction of arrow Z3. Furthermore, at the same time as the cutter blade 65 descends, the first clutch MC1 turns "ON".
The cutter base 61 is moved by the arrow X by the main motor M3.
It is driven at a constant speed V in three directions. As a result, the cutter blade 65 moves in the same direction X3 at the same speed V as the substrate row, as shown in FIG. (The actual trajectory of the cutter blade 65 is
The upper and lower resist films F are cut approximately along the center line of the gap d (obliquely with respect to the substrate row feeding direction B as shown by the dotted line in the figure). In this case, the preceding substrate P is sent by the feeding belt 54, and the following substrate P is sent by the feeding roller 51, but as described above, the feeding speed of the feeding belt 54 is
Since V' is slightly faster than the feed speed V of the feed roller 51, a slight tension acts on the resist film F connecting both substrates P, allowing for good cutting.

切断終了後、カツターブレード65が切断終了
位置(第2図に符号65′で示す)に達すると、
これがセンサS15で検出され、カツター駆動用
モータM5が停止してカツター支持板63が停止
し、同時に第1クラツチMC1が「OFF」になつ
てカツターベース61が停止し、更にまたシリン
ダSY4が逆動してカツターブレード65が矢印
Y8で示す如く初期位置へ引き上げられる。しか
る後、モータM5が逆転してカツター支持板63
が矢印Z4で示す如く初期位置へ復帰し、センサ
S14で検出されて停止する。同時にまた第2ク
ラツチMC2が「ON」になり、カツターベース
61は副モータM4によつて初期位置へ戻され、
センサS16で検出されて停止する。
After cutting, when the cutter blade 65 reaches the cutting end position (indicated by reference numeral 65' in FIG. 2),
This is detected by the sensor S15, the cutter drive motor M5 stops, the cutter support plate 63 stops, and at the same time, the first clutch MC1 is turned OFF, the cutter base 61 stops, and the cylinder SY4 is reversed again. The cutter blade 65 is pulled up to the initial position as shown by arrow Y8. After that, the motor M5 reverses and the cutter support plate 63
returns to the initial position as shown by arrow Z4, is detected by sensor S14, and stops. At the same time, the second clutch MC2 is turned ON again, and the cutter base 61 is returned to the initial position by the auxiliary motor M4.
It is detected by sensor S16 and stopped.

一方、レジストフイルムFが切断されて基板列
から分離された基板Pは、送りベルト54により
前述の如く基板列送り速度Vよりも少し速い速度
V′で基板列との間隔を除々に広げながら矢印B
方向へ送られ、図示してない次の基板処理部ある
いは基板ストツク部へと送出される。
On the other hand, the substrate P, which has been separated from the substrate row by cutting the resist film F, is moved by the feed belt 54 at a speed slightly higher than the substrate row feeding speed V, as described above.
Arrow B while gradually increasing the distance from the board row at V'.
direction, and is delivered to the next substrate processing section or substrate stock section (not shown).

以上の如く、切断部4はラミネート後のレジス
トフイルムFの切断を自動的に能率良く、しかも
基板P及びレジストフイルムFに有害な損傷を与
えることなく良好に行うことができる。
As described above, the cutting section 4 can automatically and efficiently cut the resist film F after lamination without causing harmful damage to the substrate P and the resist film F.

次に第16図は切断部の第2実施例の斜視図で
あり、第17図はその要部詳細図である。この切
断部4Aの基本的な構成及び作用は前述の切断部
4とほぼ同様であり、単にカツター70の構成及
び作用が前述のカツター60と一部相違するだけ
である。すなわち、ラミネート部3からの基板列
は送りローラ51及び送りベルト54によつて第
1実施例と同様に送られ、その間隙dはセンサS
13によつて検出される。またカツター70も前
述のカツター60のものとほぼ同様のカツターベ
ース71及びカツターベース支持板72を有して
おり、カツターベース71はカツター60のもの
と全く同様の駆動機構によつて矢印X3,X4方
向へ往復駆動される。従つて以下ではカツター7
0とカツター60との相違点についてのみ説明す
る。
Next, FIG. 16 is a perspective view of a second embodiment of the cutting section, and FIG. 17 is a detailed view of the main part thereof. The basic structure and operation of this cutting section 4A are almost the same as those of the above-mentioned cutting section 4, and only the structure and operation of the cutter 70 are partially different from the above-mentioned cutter 60. That is, the substrate array from the laminating section 3 is sent by the feed roller 51 and the feed belt 54 in the same way as in the first embodiment, and the gap d is the sensor S.
13. The cutter 70 also has a cutter base 71 and a cutter base support plate 72 that are almost the same as those of the cutter 60 described above, and the cutter base 71 is driven by the arrow arrow by a drive mechanism that is exactly the same as that of the cutter 60. It is driven back and forth in the X3 and X4 directions. Therefore, below, cutter 7
Only the differences between the cutter 60 and the cutter 60 will be explained.

カツター70のカツターベース71には左右1
対のカツター支持板73が固定されており、これ
らのカツター支持板73にそれぞれカツターホル
ダ74がエアー等を用いるシリンダSY5によつ
て上下方向(第17図の矢印Y7,Y8)へ昇降
可能に設けられ、これらのホルダ74に図示の如
くレジストフイルムFの幅よりも長いカツターブ
レード75が断熱材を介して保持されている。カ
ツターブレード75の上部には例えばニクロム線
ヒータなどのヒータ76が装着され、カツターブ
レード75の刃先部分が所要温度(例えば70〜80
℃)に加熱されるようにしてある。尚、カツター
ブレード75は加熱しなくても切断に支障ない
が、加熱すれば切断が極めて容易となる。また、
ヒータをカツターブレード75に装着せずに、大
形のカツターホルダを用いてヒータをその中に内
蔵させても良い。カツターブレード75は、シリ
ンダSY5を作動させてカツターホルダ74を昇
降させることにより初期位置と切断位置(第17
図)との間で昇降させられる。尚、符号S17,
S18はカツターブレード75のそれぞれ初期位
置および切断位置を検出するためのフオトセンサ
あるいはマイクロスイツチを示す。
The cutter base 71 of the cutter 70 has one left and right one.
A pair of cutter support plates 73 are fixed, and a cutter holder 74 is provided on each of these cutter support plates 73 so as to be movable up and down in the vertical direction (arrows Y7 and Y8 in FIG. 17) by a cylinder SY5 using air or the like. As shown in the figure, a cutter blade 75 longer than the width of the resist film F is held in these holders 74 via a heat insulating material. A heater 76 such as a nichrome wire heater is attached to the upper part of the cutter blade 75, and the cutting edge portion of the cutter blade 75 is heated to a required temperature (for example, 70 to 80°C).
℃). Although the cutter blade 75 can be cut without heating, cutting becomes extremely easy if the cutter blade 75 is heated. Also,
Instead of attaching the heater to the cutter blade 75, a large cutter holder may be used and the heater may be housed therein. The cutter blade 75 is moved between the initial position and the cutting position (the 17th
(Figure). In addition, the code S17,
S18 indicates a photo sensor or a micro switch for detecting the initial position and cutting position of the cutter blade 75, respectively.

上記の如き構成により、センサS13が基板列
の基板間隙dを検出すると、シリンダSY5が作
動してカツターブレード75が矢印Y7方向へ下
降し、これと同時にカツター60の場合と同様に
第1クラツチMC1が「ON」になつてカツター
ベース71は主モータM3により定速Vにて矢印
X3方向へ駆動される。この結果、カツターブレ
ード75は第17図の如く基板列と同速度Vにて
同方向X3へ移動しながら基板Pの間隙d内を矢
印Y7方向へ下降し、上下のレジストフイルムF
を間隙dのほぼ中心位置にて加熱切断する。尚、
符号77(第17図)はカツターブレード75用
のクツシヨンを示す。切断が終了すると、センサ
S18によつてシリンダSY5が逆動してカツタ
ーブレード75は矢印Y8方向へ引き上げられ、
初期位置へ復帰する。そうするとセンサS17に
よつてカツター60の場合と同様に第1クラツチ
MC1が「OFF」、第2クラツチMC2が「ON」
となり、カツターベース71が副モータM4によ
り矢印X4方向へ駆動されて初期位置へ復帰し、
センサS16で検出されて停止する。
With the above configuration, when the sensor S13 detects the substrate gap d between the substrate rows, the cylinder SY5 is actuated to lower the cutter blade 75 in the direction of the arrow Y7, and at the same time, the first clutch When MC1 is turned ON, the cutter base 71 is driven at a constant speed V by the main motor M3 in the direction of arrow X3. As a result, the cutter blade 75 moves in the same direction X3 at the same speed V as the row of substrates as shown in FIG.
is heated and cut approximately at the center of the gap d. still,
Reference numeral 77 (FIG. 17) designates a cushion for the cutter blade 75. When cutting is completed, the cylinder SY5 is moved backward by the sensor S18, and the cutter blade 75 is pulled up in the direction of the arrow Y8.
Return to initial position. Then, the first clutch is activated by the sensor S17 as in the case of the cutter 60.
MC1 is "OFF", second clutch MC2 is "ON"
Then, the cutter base 71 is driven in the direction of arrow X4 by the auxiliary motor M4 and returns to the initial position.
It is detected by sensor S16 and stopped.

このようにして第2実施例4Aの場合も第1実
施例4と同様に自動的且つ良好なレジストフイル
ム切断を行うことができる。
In this way, in the case of the second embodiment 4A, as in the first embodiment 4, the resist film can be cut automatically and in a good manner.

以上のラミネータは以下のような利点を有す
る。
The above laminator has the following advantages.

(イ) まず、タイミング合せ部において基板定間隔
給送機構が基板Pを所定の間隔で且つ基板送り
方向を正しく向いた状態に整列させてラミネー
ト部へ連続給送することができ、従つてラミネ
ート部における長尺帯状レジストフイルムの連
続ラミネートならびに切断部におけるレジスト
フイルム切断を能率良く且つ良好に行うことが
できる。
(b) First, in the timing adjustment section, the substrate fixed interval feeding mechanism can align the substrates P at predetermined intervals and with the substrate feeding direction correctly facing, and continuously feed them to the laminate section. Continuous lamination of the long strip-shaped resist film at the section and cutting of the resist film at the cutting section can be performed efficiently and favorably.

(ロ) また、ラミネート部においてはラミネート機
構が基板へのレジストフイルムの連続ラミネー
トを行うと共に、ラミネートに先立つて逃げ穴
加工機構がレジストフイルム基板の基準穴に対
応させて逃げ穴を形成することができ、従つて
ラミネート工程後における手作業による逃げ穴
加工が不要となる。しかも、逃げ穴加工機構は
逃げ穴を能率良く且つ良好に加工でき、また逃
げ穴加工時の切屑による基板や装置の汚染が生
ずることもない。
(b) In addition, in the laminating section, the laminating mechanism continuously laminates the resist film onto the substrate, and prior to lamination, the relief hole processing mechanism forms relief holes corresponding to the reference holes of the resist film substrate. This eliminates the need for manual hole machining after the lamination process. In addition, the escape hole machining mechanism can efficiently and satisfactorily process escape holes, and there is no possibility of contamination of the substrate or equipment by chips during the escape hole machining process.

(ハ) 更に、切断部において切断機構によりラミネ
ート後の基板列のレジストフイルムを基板間隙
部分において能率良く且つ良好に切断でき、従
つて手作業による切断が不要となる。
(c) Furthermore, the resist film of the laminated substrate array can be efficiently and favorably cut in the gap between the substrates by the cutting mechanism in the cutting section, and manual cutting is therefore unnecessary.

発明の効果 以上の如く、本発明によれば、プリント基板の
一定間隔給送、ラミネート前のレジストフイルム
への逃げ穴加工、プリント基板へのレジストフイ
ルムの連続ラミネート、及びラミネート後のレジ
ストフイルムの切断を自動的に能率良く且つ良好
に行うことのできるラミネート装置が実現され、
従つてプリント基板ラミネート工程の自動化、生
産性向上、ならびにプリント板の品質向上ひいて
は歩留り向上を実現でき、その技術的ならびに経
済的効果は著大である。
Effects of the Invention As described above, according to the present invention, it is possible to feed a printed circuit board at regular intervals, to form escape holes in a resist film before lamination, to continuously laminate a resist film to a printed circuit board, and to cut the resist film after lamination. A laminating device that can automatically and efficiently perform this has been realized,
Therefore, it is possible to automate the printed circuit board lamination process, improve productivity, improve the quality of printed circuit boards, and improve yield, which has significant technical and economical effects.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明によるプリント基板ラミネート
の装置の一実施例の外観略示斜視図、第2図及び
第3図はラミネート装置の全体構成を略示するそ
れぞれ平面図及び側面図、第4図及び第5図はラ
ミネート装置のタイミング合せ部のそれぞれ平面
図及び側面図、第6A図から第6K図および第7
図はタイミング合せ部におけるプリント基板の一
定間隔給送のそれぞれ工程図及びタイムチヤー
ト、第8図はラミネート装置のラミネート部の要
部を示す一部断面側面図、第9図はレジストフイ
ルムの横断図面、第10図はラミネート後のプリ
ント基板及びレジストフイルムの横断図面、第1
1図は逃げ穴加工機構の制御系のブロツク図、第
12図はラミネート装置の切断部の第1実施例の
構成を示す斜視図、第13図、第14図及び第1
5図は第12図の切断部の要部詳細図、第16図
は切断部の第2実施例の構成を示す斜視図、第1
7図は第16図の切断部の要部詳細図である。 1……プリント基板ラミネート装置、2……タ
イミング合せ部、3……ラミネート部、4,4A
……切断部、5……基板供給部、7……送りベル
ト、11……早送りベルト、17……ストツパ、
21……クランプ用ローラ、22,23……給送
ローラ、25……間隔ピン、31,32,33,
34……送りローラ、35……ラミネートロー
ル、37……レジストフイルムリール、40……
ダイ・ポンチユニツト、41……ダイ、42……
ポンチ、43……シリンダ、51……送りロー
ラ、54……送りベルト、60,70……カツタ
ー、61,71……カツターベース、65,75
……カツター、76……ヒータ、P……プリント
基板、Hp……基準穴、F……レジストフイルム、
Hf……逃げ穴、T……基板または基板列送路、
S1〜S18……センサ、M1〜M5……モー
タ、SY1〜SY5……シリンダ。
FIG. 1 is a perspective view schematically showing the external appearance of an embodiment of a printed circuit board laminating apparatus according to the present invention, FIGS. 2 and 3 are a plan view and a side view, respectively, schematically showing the overall structure of the laminating apparatus, and FIG. 4 and Fig. 5 are respectively a plan view and a side view of the timing adjustment section of the laminating apparatus, Fig. 6A to Fig. 6K, and Fig. 7.
The figures are a process diagram and a time chart for feeding printed circuit boards at regular intervals in the timing alignment section, Figure 8 is a partially cross-sectional side view showing the main parts of the laminating unit of the laminating device, and Figure 9 is a cross-sectional view of the resist film. , FIG. 10 is a cross-sectional view of the printed circuit board and resist film after lamination, No. 1
Figure 1 is a block diagram of the control system of the relief hole machining mechanism, Figure 12 is a perspective view showing the configuration of the first embodiment of the cutting section of the laminating device, Figures 13, 14, and 1.
5 is a detailed view of the main parts of the cutting section in FIG. 12, FIG. 16 is a perspective view showing the configuration of the second embodiment of the cutting section, and FIG.
FIG. 7 is a detailed view of the main part of the cutting section in FIG. 16. 1...Printed circuit board laminating device, 2...Timing unit, 3...Laminating unit, 4, 4A
... Cutting section, 5 ... Substrate supply section, 7 ... Feed belt, 11 ... Rapid feed belt, 17 ... Stopper,
21... Clamping roller, 22, 23... Feeding roller, 25... Spacing pin, 31, 32, 33,
34...Feed roller, 35...Lamination roll, 37...Resist film reel, 40...
Die punch unit, 41...Die, 42...
Punch, 43... Cylinder, 51... Feed roller, 54... Feed belt, 60, 70... Cutter, 61, 71... Cutter base, 65, 75
... cutter, 76 ... heater, P ... printed circuit board, Hp ... reference hole, F ... resist film,
Hf...Escape hole, T...Board or board row feed path,
S1-S18...Sensor, M1-M5...Motor, SY1-SY5...Cylinder.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 プリント基板の表面にフイルム部材をラミネ
ートするプリント基板ラミネート装置であつて、 (イ) プリント基板を互いに間隔をおいて連続的に
送りながら長尺帯状のフイルム部材を連続的に
供給してプリント基板の表面に連続的にラミネ
ートするラミネート機構、 (ロ) プリント基板供給部から供給されるプリント
基板を前記ラミネート機構での基板送り速度よ
り早く送つて基板間を互いに一定間隔に調整し
且つ送り方向に整列させて前記ラミネート機構
へ供給する基板定間隔給送機構、 (ハ) 前記ラミネート機構内を給送中のプリント基
板の基準穴を検出し、該検出された基準穴と対
応させて前記フイルム部材にその供給の途次に
おいて逃げ穴を加工する逃げ穴加工機構、及び (ニ) 前記ラミネート機構から送出されたラミネー
ト後のプリント基板及びフイルム部材を連続送
りしながら該フイルム部材をプリント基板の間
隙部分において切断する切断機構、 を具備することを特徴とするプリント基板ラミネ
ート装置。
[Scope of Claims] 1. A printed circuit board laminating device for laminating a film member on the surface of a printed circuit board, comprising: (a) continuously feeding a long belt-shaped film member while continuously feeding the printed circuit boards at intervals; (b) a laminating mechanism that continuously laminates the printed circuit boards on the surface of the printed circuit boards by supplying the printed circuit boards to the substrate; a fixed interval feeding mechanism for adjusting and aligning substrates in the feeding direction to the laminating mechanism; (c) detecting a reference hole in a printed circuit board being fed through the laminating mechanism; (d) an escape hole processing mechanism for forming an escape hole in the film member while the film member is being fed; A printed circuit board laminating apparatus comprising: a cutting mechanism that cuts the printed circuit board at a gap portion of the printed circuit board.
JP59056150A 1984-03-16 1984-03-26 Laminating device for printed substrate Granted JPS60201900A (en)

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US06/711,635 US4680079A (en) 1984-03-16 1985-03-14 Printed circuit board laminating apparatus
EP85103025A EP0157261B1 (en) 1984-03-16 1985-03-15 Printed circuit board laminating apparatus
DE8585103025T DE3571309D1 (en) 1984-03-16 1985-03-15 Printed circuit board laminating apparatus
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