JPS60191553A - ラインスキヤン光学イメ−ジングシステム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ｌ」匹１」 この発明は、一般的には、ファクシミリ装置のような、
電気−光学文書読取システムに関する。

より特定的には、この発明は、ラインスキャン光学イメ
ージングシステムにおける像平面光レベル分布を制御す
るためのマスクに関する。さらに特定的には、この発明
はラインスキャン光学イメージングシステムによって読
取られるべきテキストのラインの照射を制御プるための
直線のストリップのマスクに関する。

多くの電気−光学文書読取装置において、光は印刷され
た文書のライン上に向けられ、かつ単位面積の色彩また
は黒さに従って、光は印刷された文書のラインの各単位
面積から反射される。反射された光は、通常球面状のレ
ンズシステムを含む光学システムを介して電気装置に送
られ、そこでは、反射された光は電気信号に変換され、
これらの電気信号は離れた位置で文書を再生するために
用いられる。そのような電気装置の典型的なものは、レ
ンズの背後に配置された光電センサであり、このセンナ
は、文書上の印刷のラインの各単位面積から反射された
光を電気信号に変換する。成る好ましい光電装置は、１
列に配列された多数の小さな感光素子を有する集積回路
チップを含んでおり、各々の素子は印刷物の各ラインの
単位面積から光を受取る。

先行技術において、スキャンされているテキストのライ
ンを照射づるために種々の光源が用いられている。した
がって、米国特許第４，２２０゜９７８号において、上
ｉｉｕのものに類似づる電気−光学文書リークは、白熱
ランプ、けい光ランプまたは発光ダイＡ−ドのいずれか
を照射源として用いてもよいということを教示している
。

すべての先行技術のシステムにおいて、反射光を電気信
号に変換する電気装置の像平面に実質的に均一な光分布
を提供するための手段が含まれな【プればならない。電
気装置の像平面にこの均一な分布をもたら寸ために、レ
ンズシステムのｃｏｓ　’。

ドロップオフ（ｄｒｏｐ　−Ｏｆｒ　）を補償づるよう
に、その両端においてより明るい、目標の平面（すなわ
ち文書）における光分布が提供されなければならない。

さらに、テキストのラインを照ｍ−するためにけい光チ
ューブを用いるシステムにおいて、チューブの長さに沿
った光強度出力は、概略的には正弦波のパターンである
。すなわち、チューブの両端よりもチューブの長さの中
央においてより多くの光が出力される。したがって、も
しも印刷されたテキストのラインがけい光チューブに対
して平行に配置されていたならば、ラインのいずれかの
端部における単語よりもラインの中央におりる単語によ
り多くの光が当たるであろう。結果として、黒／白の含
有量がデキストのライン全体に沿って同一であると仮定
すると、テキストのラインの両端にお【プるポイントか
らよりもデ４：ストのラインの中央におけるポイントか
らより多くの光が反射されるであろう。電気装置は、反
射された光の量に基づいて、スキ１７ンラインに沿った
黒および白の領域を検出するので、スキャンラインを照
射するために訂ｉＪＥされていない［プい光デユープ出
力を用いること（、土、電気装謂にＪ３りる各素子の光
感Ｌσがテキストのラインに関してぞのイずｌ置に適合
されるということを要求するであろう。そのような適合
は、実現覆るには非常に費用がかかるので、ｉ熱変換装
置への入力に実質的に均一な光分イｈをもたら４ための
種々の手法が提案されている。

米国特許第４，２２０，９７８号において教示されてい
るシステムの一実施例において、２つの白熱ランプが、
光を文書の方に向（プる光のガイドの後方の開口に接近
して配置されている。これらのランプは、ランプｈ臼う
の光線のいくつかが文書に直接当たり、かつそのいくつ
がが光のガイドの側壁および頂部おにび底部の平面から
の反射を介して文書に当たり、このため、文書に到達す
る光の全体が文書を横切って所望の光強度の分布を有覆
るように、すなわち文書の両端においてより明るいよう
に、−走間隔離れて配置されている。この実施例におい
て、文書から反射された光は１、光のガイドを介して、
そしてその後レンズを介°して光電センサ上に戻される
。このシステムの欠点は実際、光の刀イドが要求され、
システムの費用を増大させるということである。さらに
、要求された光のガイドの長さのために、このシステム
は比較的大きい。

光のガイドに対づ−る必要性を取除くために、（プい光
チューブを利用する種々のシステムがｊ足案されている
。りい光光源を利用する公知の１へての先行技術のシス
テムにＪ″３いて、照割→ノ゛ブシステムおよびイメー
ジングリブシステムは、光源から文書へのほとんどの直
接経路と同一の平面内には存在しない。それゆえに、像
平面にｄ月ノる均一な光分布を得るために修正されるこ
れらのシステムにおいて、２つの光経路が存在覆る。し
たがって、第１の選択は、けい光チューブからの光出力
が文書に到達する前にこの光出力を修正することである
。第２の選択は、文書と、レンズまたは電気検出装置と
の間で反射された光のパターンを修正することである。

米国特許第’＋、２２０，９７８．Ｍにおいて、単。

−のりい光球が不透明なコーティングによって適切にマ
スクされてその中央よりもその両端に８５いてより多く
の光を出力させるシステムが開示されている。不透明な
コーティングを使用することによって、球から離れた位
置における光強度は、文書のスキャンライン上で適当な
分布を有づる。このシステムにおいて、この球は、光を
文書に向【プる光のガイドの隣に配置される。文書から
反射された光は、光のガイドを介して戻らないが、光の
ガイドの外側に配置された経路に沿って伝わる。

したがって、光のガイドは、光のガイドよりも上に配置
された軸の上の文書から適切な光学装置および光電ピッ
クアップ機構へ光が反射されるような、文書に対する角
度で配置されている。このシステムは、スキャンライン
に沿って適切な光強度を与えることによって問題を解決
するが、それは、けい光チューブが不透明なマスクで適
切にコーティングされることを要求する。ざらに、この
システムは、システムの１法をより大きくするとともに
その費用が加わる光のガイドの使用を必要とする。

先行技術において、けい光チューブを利用するが光のガ
イドを必要としないシステムが知られている。そのよう
なシステムにおいて、【ノい光デユー１は、スキ１シン
されるテキストのラインに対して平行におよびそのライ
ンよりも上に配置され、さらに文書に非常に接近して配
置されている。したがって、チューブからの光は、鋭角
的に下方に伝わりスキャンラインを照射する。レンズは
、スキャンラインと同じ高さで文書から離れて配置され
る。このレンズは、反射された光を、レンズの背後に配
置されたｃｃＤセンυのアレイの上に集光する。このシ
ステムにおいて、（プい光チューブの非線形の光強度出
力は、２つの方法のうちの一方によって補償される。

第１の方法において、アパーチャの長さにわたってその
寸法を変える開口部を有づるライン状のアパーチャが用
いられている。したがって、アパーチャの開口部はその
中央においては狭くかつｊ−パーチャの両端に向って移
動するにつれて広くなる。このアパーチャは、文書上の
スキャンラインとレンズとの間の反射光経路に配置され
ている。

したがって、この可変サイズのアパーチャは、目標平面
（すなわち、文書のスキャンライン）にお１プる各ポイ
ン１〜からレンズに入ってくる光の量を制御する。

この第１の方法は、２つの主要な不利益を被っている。

このアパーチャは、スキャンラインの軸に直角な軸に治
って正確に位置決めされなければならない。もしも正し
く位置決めされなければ、光のレベルは所望のようには
ならないであろう。

第２の欠点は、覆われたレンズのアパーチャの影、−に
よるイメージングシステムの変調転送の減少である。

第２の方法は、フィルタの長さを横切って密度を変える
、写真技術によって製造された連続的なト〜ングレース
ケールグラディエントフィルタを利用している。第１の
方法と同様に、このラインフィル４夕は、レンズと目標
平面との間に位置決めされ、ここで、それは目標平面上
の各ポイントからレンズに入る光の量を制御する。

第２の方法にもまた、２つの大きな欠点がある。

可変密度フィルタは、写真乳剤による光の散乱のために
、イメージングシステムの変調転送に減少を引起こす。

第２の大きな欠点は、連続的なトーングレースケースグ
ラディ］ニントフィルりの高づきる費用である。

この発明の全体的な目的は、ラインスキャン光学イメー
ジングシステムにお（づる像平面光レベル分布を制御す
るための改良された′ｌＡ置を提供することによって先
行技術の上述の欠点を克服覆ることである。

この発明の他の目的は、ラインスキャン光学イメージン
グシステムにおける光レベル分布を制御するための反復
可能なおよび安価な装防を提供することである。

さらに、この発明の他の目的は、光源から出力された光
強度を修正するためのマスクを提供することである。

さらに、この発明の他の目的は、【プい光ナユーブの長
さに沿った不均一な先出力を補償しかつスキャンライン
の軸に垂直な軸に正確に配列される必要のないけい光チ
ュー４マスクを提供することである。

さらに、この発明の他の目的は、イメージングシステム
の変調転送を減少しない、ラインスキャン光学イメージ
ングシステムにおける光レベル分布を制御づるためのマ
スクを提供することである。

さらに、この１明の他の目的は、ラインスキャンイメー
ジングシステムにおける光レベル分布を制御するための
安価かつ小形のシステムを提供することである。

さらに、この発明の他の目的は、ラインスキャン光学イ
メージングシステムのレンズを介する伝送に先行して反
射された光のｃｏｓ　’　ドロップオフを補償Ｊる（プ
い光チューブマスクを提供することである。

この発明のこれらのおよび他の目的、特徴および長所は
、図面を参照して読むことによって、好ましい実施例の
以下の詳細な説明からより明白となるであろう。

発明の概要 この発明に従うと、ラインスキトン光学イメージングシ
ステムにおいて像平面光レベル分布を制御するための線
形のストリップのマスクが提供されている。

好ましい実施例において、マスクは、乳剤でコーティン
グされたマイラのストリップ上に製造されている。マイ
ラ、のストリップ上に記録された写真像は、黒の部分と
透明な部分とが交互に並ふパターンである。黒の部分の
パターンは、イメージングシステムに所望の光レベル分
布を与えるように選択されている。

好ましい実施例は、透明なマイラ上にマスクパターンを
作るために写真技術を利用しているが、当業者は、透明
なマイラ上に黒のライン４２の所望のパターンを施すた
めに種々の印刷または他の手法が利用されてもよいとい
うことを評価するであろう。したがって、インバク１−
、シルクスクリーン、リソグラフィツク、レーザまたは
他の印刷技術を用いて、マイラまたは他の形式の透明な
または色の簿いすＩストレート−にには所望のパターン
のライン４２が印刷されｉｎ　％いという光学的な理由
は存在しない、３ 好Ｊ、シい実施例において、システムを照射づるのに（
）い光ランプを利用づるラインスキャン光学シメーシン
クシステムにｄ５い−Ｃ均一に照射された像平面を光学
づるためにマスクが利用されている。

この応用にｄ５いで、このマスクは中火領域において黒
のライン（または部分）の密度がより太き（かつマスク
の両端に近づくにつれて黒のラインの密度が減少するに
うに製造されている。このマスクの効果は目標フィール
ドの中央にお１プる光のレベルを制限づることである。

けい光チューブによって出力された光の強度は、チュー
ブの中心にお・　いて最も人きくかつチューブの両端に
近づくにつれて減少覆るので、このマスクは、チューブ
の長さにγｔ）って不均一な光出力を補償するように機
能し、このため、光レベルのカイロは、その両端にむい
てより明るいマスクの照射されていない側部上において
得ることができる。ぞの後、照Ｑ・ｊラインがレンズシ
ステムを介して通過覆るときに、ｃｏｓ　’　ドロップ
オフによって、その両端に４３いて明るさがさらに低下
する。イの結末、システムの電気検出装置において均一
な像平面照Ｑ’ｌラインが得られる。

好ましい実施例の説明 第１図は、この発明がその中で機能づる全体的な状況を
描いている。システム１０は、供給ローラ１２を駆動し
で、胱取られ−Ｃいる文書１７′ｌを図示された方向に
徐々に前進させるモータ（図示せず）を含んでいる。こ
のモータは、１度に１つのスキャンライン位置だ（）文
書を前進させるように制御されてもよく、または連続的
にり内を８７＋進さＵてもＪ：い。後者の場合には、読
取は進行中に実行される。

ランプ回路（図示せず）は、けい光チューブ１６に電力
を供給づる。好ましい実施例において、シルバニア（Ｓ
　Ｖｌｖａｎｉａ　）　６０　°アパーヂレ（）い光デ
ユープが利用されている。これらのチューブは、それら
の内部表面の３００６上にＣプい光物質の〕−ティング
を有しているだけである。結果として、内部的に発生し
た光は、チューブの残りのコーティングされていない表
面から放出される。

当業者は、６０°アパーチヤ型の代わりに標準的なりい
光デユープが利用され得るということを評価づるであろ
うつぞのような場合には、各々のチューブ１６の一部分
のまわりにハウジングが設けられて各々のチューブの外
部表面の一部ノ）１１ら伝送された光を文書に到達させ
る。

第１図に示されているように、チューブ１６は、チュー
ブ１６のアパーチ１１から出る光が、スキャンされてい
る文書１４のラインを照射するように配置されている。

マスク１８の構造は以下に詳細に議論されるひあろう。

さしあたり、マスク１８は、文書１４のスキャンライン
の全体の幅が所望の分布で照射されるように、【ノい光
チューブ１６の長さに沿って不均一な光出力を補償する
ということだけを言っておくことにする。さらに、マス
ク１８は、反射された光がイメージングレンズ２８を介
して通過Ｊるときの、ｃｏｓ　’　ドロップオフを補償
する。

当業者は、この発明は文書１４の幅全体を同時にスキャ
ンするが、デキストの各々のラインの小さな垂直部分だ
けが１回のスキャン動作でスキャンされるということを
評価するであろう。したがって、文書１４は垂直に動か
されて各スキャン動作に対してそれを位置決めしな（プ
ればならない。

典型的には、スキャンされる垂直距離は、各スキャンラ
インに対してほぼ０．００５インチである。

けい光チューブ１６からの光は、文書１４のスキャンラ
インを照射し、かつスキ！・ンされている文書１４のラ
インの黒／白含有間に比例して文書１４から反射される
。文書１４のスキャンラインから反射された光は、破線
で示されＩＣ経路に従う。

したがって、反射された光はミラー２２の表面２０に当
たり、さらにミラー２６の平坦な表面２４上へはね返り
、さらにミラー２２の半語４表面２０の上に再度戻され
、さらにミラー２６の表面？。

４上へ反射されて戻され、さらにその後、示された軸に
沿つ（進みか゛つレンズシステム２ε３によって受取ら
れる。りｒましい実施例において、レンズシスア１．．
２　Ｂ　ｉｔ、ミラー２２および２６を介して文書１１
のスキトンラインかｌう反身・１されｌζ光を受取るよ
うに装着されｌζ１１（面状の、収差のないレンズシス
テム２　Ｂ−？：’ある。

ミラー２２ｄ３よぴ２６は、接着材３２を介してフレー
ム３０に装着されている。ミラー２２および２６　＋、
、、ｌ、１９　Ｅ３３４＋　１１月３日に高置Ｉされた
、係属中の米国性γ［出願連続１＠５’１８，５５３に
ｄ３いて開示され−Ｃいる装置を用いて、要求される折
返された反剣舒路を実現づろＪ：うに適当に整列され−
Ｃいる。

レンズシステム２８の背後には、スキャンされている文
書１／Ｉのラインの各単位面積から反射された光を一電
気俵号に変換づる光電センサ３４が配置されている。Ｑ
７ましい実施例において、光電センサ３　／Ｉ　１．；
、ｔ、１列に配置された多数の光電変換素子を有づるＣ
　Ｃｌ）イメージセンサ゛３４てあり１．斧々の素子は
、各７７の文書１４のスキャンラインの単位面積から反
射された光を受取る。

第２図は、イメージセン′ＩＪ３４によ−）て受取られ
た反身］光を画像信号に変換するために用いられる典型
的な素子を示している。ＣＣＩ）　、イメージセンリー
３４は、制御セクション（図示ゼｆ）において発生プる
複数のクロック信号を利用Ｊる。（ごンザドライバ３６
は、これらのタロツク信号をセンサ３４にとって適切な
電圧に変換づる。△Ｇ　Ｃ回路３８は、文書１４の色彩
ｄ３よひ密度の差ａ３　、Ｊ：び（プい光デユープ１６
の輝度にＪ５１〕る変動に列しＣも、センサ３４によっ
て出力された画像信号をほぼ一定に維持覆る。最も光を
反射し−（いる領域は白であり、これらの領域に対する
出力が一定であるように動作づ−るものどづる。

ＣＣｌ）イメージセン→ノ３／Ｉは、人力光の強Ｉ良に
比例したアナログ信号を出力Ｊる。ディジタル像゛４０
はアナログ信号を、白に対しては１″および黒に対して
はＯ゛という２進値信号に変換で−る。

第２図の変換サブシステムの説明は、スキャンされてい
る文１１／ｌのラインから反則された光をディジタル像
に変操ツるための１つの手法を単に例示づるものである
ということに注意Ｊべきである。それゆえに、当業者は
、他の多くの手法が利用可０ヒであるということを評価
するであろう。

既に議論したように、好ましい実施例“において利用さ
れる１ノい光チ１−７１６は、標準的な６００アバーチ
１７型である。第３図は、それらの長さに冶・）だ各地
点にＪ３いてチューブ１６ににつて出力される光の強電
を概略的に示している。図示されるように、光出力は各
チューブの長さの中央において最ム高く、チューブ１６
の両端に向って降１；する。各チューブ１６によって出
力される光強度のパターンはほぼ正弦波状である。

スキャンされている文書１４のラインの幅全体に沿って
一所望の照射を与えるために、この発明は、【プい光チ
ューブ１Ｇの不均一な先出ツノおよびイメージセンレン
文２８のＧＯ５’　ドロップオフを補償するマスク１８
（第４図）を提供する。第１図に。

示されるように、マスク１８は、各々のチューブ１６の
表面に対して接線方向の位置に（図示されｒいない手段
によって）機械的に保持され、かつ各チューブ１６のア
パーチャａ３よび長さを完全に横切って延びている。マ
スク１８は照射源（チューブ１６）と目標平面（文書１
４）との間に配置されかつレンズシステム２８と目標平
面との間に配置されていないので、システム１０の変調
転送は影響を受Ｅノない。

マスク１８（第４図）は、写真技術関係の当業者にとっ
て周知の手法を用いて乳剤コーティングされた透明なマ
イラのストリップ十に写真技術的に製造される。マイラ
のストリップ上に記録された写真像は、黒の部分および
透明な部分が交Ｌ７に配置されたパターンであり、黒の
部分はライン４２のような形状で形成されている。

マイラのス］−リップのマスク１８上の黒のライン４２
のパターンは、各けい光チューブ１６から放出された光
の各部分が文書１４に到達することを妨げることによっ
て所望の光レベルの分布をもたらすように選択されてい
る。当業者は、マスク１８上の黒のライン４２の分布を
決定するときに化１道しなりればなら４工いいくつかの
要因が存在するということを評価するであろう。これら
の要因は以下のものを含んでいるニ ー（このりｆましい実施例においてはけい光チューブ１
６である）照射源の極性のパターン；−レンズシステム
２８による像平面の光レベルのドロップオフ；および 一透明なマイラの透過率。

当業とはまた、特定のイメージングシステムに刻し℃こ
れらの３つの要因が計算されまたは測定され１りるとい
うことを評価するであろう。一連の周知の数学的Ｘｔ　
ｎが、所望の像平面の分布を生じるために必要とされる
黒のライン４２の分布を算出づる１こめに用いることが
できる。したがって、最初の削詐は、マスク１８を伴な
わない像平面の光の分布を痺出覆る。第２の計算は、所
望の最終的な像平面の光分イ１を生じるために要求され
るであろう目標平面の光分布を算出する。最終的な計詐
は、要求される目標平面の分布を生じるために必要とさ
れる黒のう、イン４２の分イ１１を算出する。

当業者はさらに、これらの計算が、照＃１）ＩｉＩｉｉ
ｉの形式、利用されるレンズシステム２８の形式、ＣＯ
Ｄイメージセンサ３４の感度、光の反射の角度およびイ
メージングシステムの構成要素の間隔などのにうな要因
に依存しているということを評価づるであろう。

後述のすべての要因を説明することの複雑さのために、
マスク１８上の黒のライン４２の分布を決定しまたは改
善するために！！験的な方法がより容易に利用される。

したがって、第１図に示された好ましい実施例において
、ＣＣｌ）イメージセンサ３４の各素子の出力を測定す
るためにオシ目スコープが用いられた。各センサ３４の
素子からの均一な出力が得られるまで、すべての白のラ
インはスキ１ｒンされかつライン４２の間隔は調節され
た。当業者は、黒のライン７１２の最適な最終パターン
が極めて容易に得られかつセン１ノ３４　（１３よびセ
ンサ３４の出力を受信する検出回路（第２図）。

の許容誤差に依存するということを評価するであろう。

光学システムを用いるための最適マスクパターンが一旦
得られると、黒のライン４２の最適分布を伴ったマスタ
マスクが描かれる。このマスクは写真技術的に１７元さ
れ、さらに乳剤でコーティングされたマイラの薄板上に
露出される。この薄板はその後、スミ−リップに切断さ
れてイメージングシステム１０を形成する。第４図は、
第１図のシステムにおいて利用されるマスク１８の一部
分を拡大した大きさで示している１、マスク１８のパタ
ーンにおける横方向のライン４４は、使用している光学
システム１０においてマスク１Ｂを光学的に整列するた
めに設けられており、かつ文書１４のスキシンラインに
到達覆る先の分布には目立った影萱を与えることはない
。

第１図は、この発明のイメージングシステムの好ましい
実施例において用いられる要素の現実の空間的な関係を
示している。この発明の好ましい実施例において、２つ
の１５インチの長さメ鴫、６０°のアパーチＩｌのけい
光チューブ１６が、スキＶンされている文書１４を照射
するために用いられる。この好ましい実施例にＪ３いて
利用されるマスク１８のパターンは第４図にｉ１′３い
て示されている。現実に、マスク１８の長さは、各ヂコ
ーブ１６の長さと同じである。各々のマスク１ε３は、
黒のライン４２の密度がその中央の領域でより大きくな
るように製造され、マスク１８の両端に近づくにつれて
黒のライン４２の密度は対象的に減少づる。このマスク
１８のパターンの効果は、パターンの両端にお【づるよ
りもその中央においてより多くの光の伝送を制限すると
いうことである。子の結果、文書１４に到達する光の強
電は文書１４のスキャンラインの縁においてより明るく
なる。

マスク１８の好ましい実施例は、文書１４を照射するた
めに２つのけい光チ１−ブを用いるシステムにおいて利
用されているが、当業者は、同様のマスク１８の構造が
、他の形式の光源に対して、および１つのまたは２つ以
上の光源を有するシステムにおいて利用されてもよいと
いうことを評価。

するであろう。さらに、異なるパターンのライン／１２
を右する同し形式のマスク１８は、他の形式のイメージ
ング、写真、またはそれについては、ｆｌｉ制御された
照的を必要とするどのようなシステムまたは装置におい
て要求されるどのような所望の分イＦをも得るために用
いられてもよい。

この発明の々７Ｊ、しい実施例を示しかつ説明したが、
当業者は、この発明の精神から離れることなく、形式お
よび詳細において種々の省略、交換おＪ、び変化がなさ
れ得るということを認識するであろう。でれゆえに、こ
の発明の範囲は特許請求の範囲において示されたように
のみ限定される。

【図面の簡単な説明】

第１図は、光のレベルの分布を制御するためのマスクを
用いるラインスキャン光学イメージングシステムの側面
図である。 第２図は、イメージセンサににって受取られた反射光を
画１１（ニ号に変換する典型的な素子を示すブロック図
である。 第３図は、けい光デユープの長さに沿った°光強度出力
を概略的に示す図である。 第４図は、第１図のラインスキャン光学イメージングシ
ステムにお（プる（］い〉Ｋ光しｌ＼ル分イｌを制御す
るために用いられろマスクの一部分を示づ正面図である
。 図にａ−３いて、１０はイメージングシス−テム、１２
は供給ローラ、１／ｌは文書、１Ｇは１゛ノい光ヂコー
ブ、１８はマスク、２２．２６はミラー、２８はレンズ
システム、３２【Ｊ接着拐、３／′ｌは光電センサ、３
６はＣＣＤセンセンサイバ、３８　ｔ、ｌ△ＧＣ回路、
４０はディジタイザ、４２は黒のラインを示１゜ 図面の浄書（内容に変更なし］ −ｆψ２ Ａイ４（１ｆ丁ｒ、？ −ｆψ３ ｆ−洩慶 手続補正内（方式） 昭和６０年４月１６日 特許庁長ｇｆ！！ １、事件の表示 ２、発明の名称 ラインスキャン光学イメージングシステム３、補正をす
る者 事件との関係　特許出願人 住　所　アメリカ合衆国、ミシガン州、デトロイトバロ
ース・ブレイス（番地なし） 名　称　バロース・コーポレーション 代表者　ポペット・ジョーンズ ４、代理人 住　所　大阪市北区天神橋２丁目３番９号　八千代第一
ビル６、補正の対象 図面全図 ７、補正の内容 製果で描いた図面全図を別紙のとおり補充致します。な
お内容についての変更はありまゼん。 以上

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１ン　印刷された文ｍのラインを照射するための手段
   と、前記印刷物のラインから反射された光を電気信号に
   変換するための手段とを備えたラインスキャン光学イメ
   ージングシステムであって、前記照射手段と前記文書と
   の間に位置決めされ、前記印刷物のラインを横切る光の
   レベルの分布を制御覆るためのマスク手段を備えた、ラ
   インスキャン光学イメージングシステム。 （２）　前記マスク手段は、乳剤でコーティングされた
   透明な材料のストリップから製造された直線のストリッ
   プのマスクである、特許請求の範囲第１項記載のイメー
   ジングシステム。 （３）　前記乳剤は、前記透明なストリップの良さに沿
   って黒の部分および透明な部分が交互に並ぶパターンを
   記録するように写真技術によって処理されている、特許
   請求の範囲第２項記載のイメージングシステム。 くべ〉　前記パターンは、前記照射手段からの光の部分
   が印刷物のラインに到達することを妨げるように選択さ
   れ、これによって、印刷物のう、インは、黒の部分およ
   び透明な部分が交互に並ぶパターンに依存する選択され
   た分イ［で照射される、特許請求の範囲第３項記載のイ
   メージングシステム。 （５）　前記照射手段は、けい光ブコーブの光源を含み
   、前記マスク手段は、前記【Ｊい光チューブからの光が
   前記印刷された文書の前記ラインに到達づることを部分
   的に妨げる、特許請求の範囲第１項記載のイメージング
   システム。 （６）　前記マスク手段は、前記＋ｊい光チ１−ブの長
   手方向の軸と平行に配置された透明な材料のストリップ
   を含み、前記ストリップの部分は不透明にコーティング
   されてけい光ヂ゛：ｌ−ブから放出される光が前記印刷
   された文書のラインに到達することを部分的に妨げるパ
   ターンを特徴とする特許請求の範囲第５項記載のイメー
   ジングシステム。 （７）　前記パターンは、前記ストリップの長手方向の
   軸に対して垂直な、複数の不透明な一定間隔離れたライ
   ンを含み、前記ラインの密度は、光出力が最も大きい、
   前記けい光チューブに沿った地点に隣接して最も大きく
   、前記ラインの密度は、光出力が最も小さい、前記けい
   光チューブに沿った地点においてより低い、特許請求の
   範囲第６項記載のイメージングシステム。 （８）　前記ストリップは、写真乳剤によってコーディ
   ングされ、かつ前記ラインは、写真技術によって生じる
   、特許請求の範囲第７項記載のイメージングシステム。 （９）　前記パターンは、前記ストリップの長手方向の
   軸に対して垂直な、複数の不透明な一定間隔離れたライ
   ンを含み、前記ラインの密度は、前記りい光チューブの
   中央に隣接する地点で最も大きくかつ前記デユープの両
   端に隣接する、ストリップに沿った地点に近づくにつれ
   てその密度は減少づる、特許請求の範囲第６項記載のイ
   メージングシステム。 （１０）　前記ストリップは、前記けい光デユープの表
   面に対して接線方向に位置決めされる、特許請求の範囲
   第９項記載のイメージングシステム。 （１１）　前記けい光チューブはアパーブ１７を有しか
   つ前記マスク手段は前記けい光チューブの長さ全体に沿
   ったアパーチャ全体を覆う、特許請求の範囲第９項記載
   のイメージングシステム。 （１２）　照射源からの像平面の光レベル分布を制御す
   るためのマスクであって、前記マスクは透明なサブスト
   レートを含み、前記サブストレートは複数の不透明なラ
   インでコーティングされ、前記ラインの密度は、像平面
   に到達する光のｍを減少することが望まれている像平面
   に隣接する領域において増大する、マスク。 （１３）　前記サブストレー１〜は、写真乳剤によって
   コーティングされ、かつ前記ラインは、最初に前記コー
   ティングされたストリップ上に所望のラインの分布に対
   応するパターンを放射しかｐその後前記乳剤を現象する
   ことによって製造される、特許請求の範囲第１２項記載
   のマスク。 （１４）　前記照射源はけい光チューブであり、かつ前
   記マスクはストリップ状であり、前記複数の不透明なラ
   インは前記ストリップの長手方向の軸に対しＣ垂直に延
   びており、前記ストリップは前記けい光チューブおよび
   前記像平面に対して平行にかつ前記【プい光チューブお
   よび前記像平面の間に位置決めされ、前記ラインの密度
   は、前記けい光チューブの中央に隣接した領域で最も大
   きくかつ前記ス］・リップの両端に近づくにつれて減少
   する、特許請求の範囲第１２項記載のマスク。 （１５）　文書のラインをスキャンするためのラインス
   キャン光学イメージングシステムであって、 前記文書の前記ラインを照射覆るだめの手段と、前記文
   書のラインから反射された光を伝送するためのミラ一手
   段と、 前記ミラ一手段によって伝送された焦点の合った光を受
   取るためのレンズ手段と、 前記焦点の合った光を複数の電気信号に変換するための
   光−光学手段と、 前記照射手段と前記文書のラインとの間に位置決めされ
   、前記照射手段からの光出力の部分が前記文書のライン
   に到達することを妨げるマスク手段とを備えた、ライン
   スキャン光学イメージングシステム。 （１６）　前記照射手段は少なくとも１つの【ノい光チ
   ューブを含み、がっ 前記マスク手段は、前記１ノい光デユープとａ記文書と
   の間に位置決めされた直線のストリップのマスクであり
   、前記ストリップのマスクは、サブストレートの長手方
   向の軸に対して垂直に延びた一定間隔離れた複数の不透
   明な領域によってコーティングされた透明なサブストー
   レートを含む、特許請求の範囲第１５項記載のラインス
   キトンイメージングシステム。 （１７）　前記不透明な領域の各々はラインであり、前
   記ラインの密度は、前記けい光チューブの中央に近い領
   域で最も大きくかつ前記直線のストリップのマスクの両
   端に近づくにつれて密度が減少覆る、特許請求の範囲第
   １６項記載のラインスキャンイメージングシステム。 （１８）　前記照射手段は、前記りい光チューブを２本
   含み、前記チューブの各々は、アパーヂＶタイプであり
   、前記けい光チューブの各々のアパーチャ領域は、それ
   に隣接する前記ストリップマスクの一方を有する、特許
   請求の範囲第１７項記載のラインスキャンイメージング
   システム。 （１９）　前記ミラ一手段は、折返されたミラー型であ
   り、前記光−光学手段は、直線状に配列された多数の光
   電変換素子を含み、各々の素子は、前記文書のラインの
   単位面積から焦点が合った光を受取る、特許請求の範囲
   第１８項記載のラインスキャンイメージングシステム。 （２０）　照射源の出力を変更するためのマスクであっ
   て、前記マスクは、複数の不透明なラインでコーティン
   グされた透明なサブストレートを含み、前記不透明なラ
   インは前記照射源による光出力の部分を遮る、照射源の
   出力を変更するＩＣめのマスク。