JPS6018636B2 - 多重式にド−ブ剤を加えた且つ予定された形状の単結晶の連続製造法及びそのための装置 - Google Patents

多重式にド−ブ剤を加えた且つ予定された形状の単結晶の連続製造法及びそのための装置

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JPS6018636B2
JPS6018636B2 JP1170877A JP1170877A JPS6018636B2 JP S6018636 B2 JPS6018636 B2 JP S6018636B2 JP 1170877 A JP1170877 A JP 1170877A JP 1170877 A JP1170877 A JP 1170877A JP S6018636 B2 JPS6018636 B2 JP S6018636B2
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    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/08Downward pulling
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/10Crucibles or containers for supporting the melt
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は垂下液滴法により、多重式にドープ剤を加えた
(mのti−doped)即ちマルチドープ法による且
つ予定された形状の単結晶の連続製造法及び装置に関す
るものであり、特顔昭51−94073号(日本特許第
9741叫号)の出願に対する追加の出願に係る。
本出願人の出願に係る英国特許出願第33100/76
号(英国特許1548×3号)の発明は、【aー1つ又
はそれ以上の毛管孔を有するダィを底部に備えたルッボ
に単結晶製造用物質を装入し、この際毛管孔の軸はルッ
ボの軸に平行であり、毛管の各々は作業温度及び圧力で
単結晶製造用の溶融物質が毛管に保有される高さよりも
大であるか又はそれに等しい高さを有するものとし、‘
W該菱入物質をその融点よりも高い温度に加熱して毛管
の下端に垂下液滴を形成させ、‘cー適当に配向された
予じめ成形した結晶核を垂下液瓶と接触させ、d談結晶
核を下向きに移動させ、この際単位時間当りの単結晶製
造葉物質の袋入量を単結晶の形で引抜かれる物質の量と
常に実質的に等しくなるような速度で単結晶製造用物質
をルッボに供給しながら前記の移動を行い、そして{e
ー得られる単結晶を選定した時間間隔で取出すことから
なる予定された形状の単結晶の連続製造法に関する。
しもまた前記英国特許出願の発明は、1つ又はそれ以上
の毛管孔(但しこれの軸はルツボの軸に平行であり、毛
管の各々は作業温度及び圧力において単結晶製造用の溶
融物質が毛管中に保有される高さよりも大であるか又は
それに等しい高さを有する)を有するダィを底部に備え
たルッポ【aーと、ルツポを包囲する加熱装置‘b’と
、ルツボより上方に配置された単結晶製造用原料の供V
給装置{cーと、冷却装置を備え且つ形成した単結晶を
通過せしめ得る底部孔、作業用雰囲気を構成するガスを
循環せしめ得る孔及び加熱系を通過せしめ得る孔を有す
る、ルッボ及び単結晶製造用物質の供給装置を包囲する
容器‘d’と、予じめ成形した単結晶核を支持する核支
持系【e’と、核支持系を上向き方向及び下向き方向に
移動させ且つそれをその軸のまわりに回転させ得る装置
‘f}と、形成した単結晶の引抜き速度を単結晶製造用
物質の供給速度に関連させて調節する装置■とからなる
予定された形状の単結晶の連続製造用装置にも関する。
単結晶製造用に供給した原料の組成が単結晶製造中に同
一のま)であるならば、得られる単結晶はその全長に亘
つて同一の組成を有するものである。
本発明の1つの目的は単結晶の全長に亘つて相異なる組
成を有する単結晶を得ることにある。
本発明によると、単結晶製造用原料の組成を、単結晶の
製造工程中に変化させるものである。この単結晶製造用
原料の組成を変化させることは、本発明によるとルッボ
原料を同時に又は連続的に供給する2つ又はそれ以上の
貯蔵器よりなる多重式供給装置を用いることにより行う
。それ故本発明によると、(aー作業温度及び圧力で溶
融状態の単結晶製造用原料が毛管中に保有される高さよ
りも大であるか又はそれに等しい高さをもつ毛管路を底
部に有するルッ中に単結晶製造用原料を装入し、この際
原料の組成は予定された且つ調節可能な要領で変化させ
るものとし、‘b}該袋入物質をその融点よりも高い温
度に加熱して毛管の下端に垂下液滴を形成させ、{c}
適当に配向された予じめ成形した結晶核を毛管路の底部
に形成された垂下液滴と接触させ、‘d}該結晶核を下
向きに引抜き、この際単位時間当りの単結晶製造用原料
の供給量を単結晶の形で引抜かれる物質の量と常に実質
的に等しくなるような速度で単結晶製造用原料をルッボ
に供給しながら前記の引抜きを行い、そして(e}形成
された単結晶を選定された時間間隔で取出すことからな
る、多重式にドープ剤を加えた且つ予定された形状の単
結晶の連続製造法が提供される。
単結晶製造用原料は粉末状又は小さなべレツトの形で供
給するのが好ましい。
操作は結晶の化学的性質及びルッボを構成する材料の化
学的性質に応じて適当な雰囲気中で行う。
例えば窒素の雰囲気中で、酸素を含まないアルゴン雰囲
気中で又は空気中で作業することができる。作業圧力は
大気圧又はそれ以下であり得る。
所要ならば、10‐3側日#程度の高い真空中で操作す
ることができる。単結晶製造用原料の加熱温度は、それ
を十分に溶融させるために該原料の融点よりも十分高く
しなければならない。
結晶核の下向き引抜き速度は通常10〜50仇岬/時の
範囲である。
本発明によると、作業温度及び圧力で単結晶製造用の溶
融原料が毛管中に保有される高さよりも大であるか又は
それに等しい高さを有する毛管路を底部に有するルッボ
【a)と、ルッポを包囲する加熱装置‘bーと、ルッボ
の上方に配置されしかも単結晶製造用原料をルッボに多
重式に供給するために少くとも2つの別個の貯蔵器より
なる供艶鶴菱贋{c)と、冷却手段を備え且つ形成され
た単結晶を通過せしめ得る底部孔、作業用雰囲気を構成
するガスを循環せしめ得る孔及び加熱系を通過せしめ得
る孔を有する、ルツボ及び単結晶製造用原料の供給装置
を包囲する容器【d’と、予じめ成形した単結晶核を支
持する核支持系{eーと、核支持系を上向き方向及び下
向き方向に移動させ且つそれをその軸のまわりに回転さ
せ得る装置‘f}と、形成した単結晶の引抜き速度を単
結晶製造用原料のルッボへの供給速度に関連させて調節
する装置‘g’とからなる、多重式にドープ剤を加えた
且つ予定された形状の単結晶の連続製造用装置も提供さ
れる。
ルッボは作業温度において単結晶製造用原料に対して化
学的に不活性である材料から作られる。
容器は任意適当な材料、例えば石英製である。またそれ
は金属製であることもできる。或る場合には、特にアル
ミナ及び珪素単結晶の製造の場合、容器は冷却されなけ
れでならない。冷却は任意適当な手段によって行うこと
ができ、例えば冷却水を循環させたジャケットを容器に
設けることができる。毛管孔は単結晶断面について望ま
れる形状に適合する形状の断面を有し、例えば鉢金状単
結晶の場合には毛管孔の断面は円形であり、板状単結晶
の場合には長方形である。
加熱系統は任意適当な装置、例えばルッポの形状及び材
質に適合する巻線を備え、ルッポの材料との結合を確実
にするために20乃至50雌世で作動し、50KWまで
の出力をもつ抵抗型加熱装置又は高周波誘導加熱装置で
あり得る。
つぎに本発明の−実施態様を図面を参照しつつ説明する
1はルツボ、2は毛管孔、3は単結晶製造用物質、4及
び4′はその供給装置、5は単結晶7を通過せしめ得る
底部孔6を備えた容器、8は予じめ形成された結晶核9
を支持する核支持台、10は加熱系統を示す。
加熱系統は放熱抵抗体として作動するかあるいは誘導加
熱のための高周波電流を通ずる型のものであり○記号で
表わされている(こ)では○記号は容器の内側に示され
ているが、これらはまた容器の外側に配置してもよいも
のであることに留意すべきである。)多重式供給装置を
用いると随意に調節しうる種々の組成の液体を毛管の底
部に得ることができる。少量(数弧3)の溶融物質を用
いても、組成の変化に対応して、製造した単績晶のドー
プ剤添加童(doping)即ちドーピングの明らかな
変化を達成することができることに留意しなければなら
ない。
即ち、単結晶の長さ全体に沿って種々のドープ剤添加量
又は組成を有する単結晶を得ることができる。
例えば一方ではP型珪素(シリコン)を製造し他方では
N型珪素を製造するために適当にドープ剤を加えた珪素
粉末に充填させた単に2つの貯蔵器により珪素の帯状結
晶の一部に亘つてN型珪素が存在し次いでP型珪素が存
在する珪素の帯状結晶を得ることができる。予定の計画
に応じてドープ剤の添加量が結晶の長さ全体に亘つて変
化している結晶も得ることができる。
例えば、晶出部分の開始から晶出の中止によって決定さ
れた終了時まで徐々に且つ直線的にドープ剤としてのク
ロムの添加量を増大させながらレーザールビーを得るこ
とができる。
例えば本発明の1つの方法においては、第1の供給装置
はA夕203に関して200重量肌のCrを結晶中に得
るような要領でCr203をドープ剤として加えたAそ
203粉末を収容しており、第2の供給装贋はC【20
3を更に大中に加えたAそ2Q粉末を収容しているもの
である。
単結晶の晶出中は、2つの供給装置の作動計画は次の要
領で行う:第1の供給装置4を始動させる:結晶の開始
時は20の伽のCr/Aと203を含有する;結晶中の
クロム含量が直線的に増大するように第2の供給装置4
′を徐々に作動させる。
ルッボに供給されるA夕2Q粉末の全量が一定のま)で
あるように注意を払い、即ち第2の供給装置からの流量
が増大するのに比例して第1の供給装置からの流量が減
少するように注意を払う:晶出の終了時には、例えば1
00の血のCr/Aど2C3を含有する単結晶を得る。
一方の供給機が純粋なAそ203粉末で充填されており
他方の供給機がA〆203−Cr203粉末で充填され
ておりしかもこれらの混合割合が適当に予定されている
2つの供給機を用いても同様な結果を得ることができる
本発明によると、任意種類の物理的な処理を追加するこ
となく、1つの且つ同じ単結晶支持体に種々の化学的及
び/又は物理的特性の単結晶物質を得ることができ本発
明は多数の用途、特に電子工学に応用される。
本発明を次の実施例により説明するが、本発明はこれら
に限定されるものではない。
実施例 1 サファイアとルビーとの単結晶の製造 底部に1×15側の長方形断面の毛管路(孔)が穿孔し
ている全容量の20ccのイリジウム製のルッボを使用
する。
このルツボを酸素の不存在下アルゴン流でフラッシュ洗
浄した容器に含有する。第1の分配用貯蔵器を用いて、
直径0.05乃至0.1豚の純粋なアルミナ単結晶べレ
ツト又は直径5乃至50ムの粒子を有する純粋なQ−ア
ルミナ粉末をルッボに供給する。20kHzで作動し常
に2皿Wの電力を発生する高周波発電機を用いてルッボ
を2075℃(Q−アルミナの融点=2050つ0)の
温度に加熱する。
毛管路の底部にアルミナの液滴が一旦形成されたからに
は、1×15側の寸法の予じめ配向された単結晶薄板を
結晶核としてこの液滴と接触させ、そしてこの液満が結
晶核に接合したからには核を直ちに30弧/時の速度で
下向きに引抜く。同時にルッポにアルミナを18夕/時
の速度で供V給する。単結晶を10分間引抜いた後に、
約1×15豚の長方形断面及び5Q舷の長さをもつサフ
ァイアの薄板が得られた。純粋なアルミナの供V給を停
止した時点でしかも同時に、アルミナの重量に関して5
0Q例のクロムをドープ剤として加えたQーアルミナ粉
末を含有する第2の分配用貯蔵器によりルッボにアルミ
ナ粉末を供給する。
結晶核の引抜きを同じ速度で持続させ、10分の引抜き
後には結晶板は全長100肌である。この板は透明で単
結晶状であり、しかも無色の第1の部分と、桃色の第2
の部分と、これら2つの部分の間に無色から桃色に徐々
に進行する数ミリメートルの分離帯城とを有するもので
ある。実施例 2N型及びP型珪素の単結晶の製造 1×15肌の長方形断面の毛管路をもつ全容量20cc
の焼綾炭化珪素製のルッボを用いる。
このルッボは供給装置と共に酸素の不存在下アルゴン流
によってフラッシュ洗浄された石英容器中に収容されて
いる。このルツボに、ホウ素をドープ剤として加えた粒
度0.1〜1肌の高純度の珪素粉末を供給し、300k
Hzで作動し常に10KWの電力を発生する高周波発電
機を用いて144000±10qo(Siの融点:14
10℃)の温度に加熱する。1×15側の寸法をもつ配
向珪素板を結晶核として、毛管路の底端に形成された珪
素の液滴と接触させ、液滴をこの核に結合させる。
次いでこの核を50肌/時の速度で下方に引抜きそして
同時にルッボに珪素粉末を19夕/時の平均速度で供孫
合する。単結晶を1び分間引抜いた後に、約1×15脚
の断面、約75側の長さをもつ珪素板を得る。ホウ素を
ドープ剤として加えた珪素粉末の供給を停止した時点で
しかも同時に、燐をドープ剤として加えた珪素粉末を含
有する第2の分配用貯蔵器により珪素粉末をルツボに供
給する。
結晶板の引抜きを同じ速度で持続させ、10分の引抜き
後には結晶板は全長15仇岬こ達する。この結晶板はホ
ウ素をドーブ剤として加えた第1の部分(P型珪素)と
燐をドープ剤として加えた第2の部分(N型珪素)とを
もつ単結晶板である。これら2つの部分の間の分離帯城
は長さ数ミリメートルでありこ)でホウ素ドープ剤から
燐ドープ剤への変移が起っている。追加の関係 特許第97411ぴ号(持公昭54−6510)は予定
された形状の単結晶の連続的製造法およびそのための装
置に係わるが、本発明はルッボに装入される単結晶製造
用原料の組成を予定された且つ調節可能な要領で変化さ
せるかあるいは少くとも2つの別個の貯蔵器からなる多
重式供給装置を用いるようにしたもので、特許法第31
条第1項第1号に規定される追加の関係を有するもので
ある。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の方法及び装置の一実施態様を示す縦断面
略図である。 図中、1はルツボ、2は毛管孔、3は単結晶製造用物質
、4及び4′は単結晶製造用物質供給装置、5は容器、
7は生成単結晶、8は核支持台、9は結晶核、10‘ま
加熱装置をそれぞれ表わす。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 (a)作業温度及び圧力において溶融状態の単結晶
    製造用原料が毛管中に保有される高さよりも大であるか
    又はそれに等しい高さをもつ毛管路を底部に有するルツ
    ボ中に単結晶用製造用原料を装入し、(b)該装入物質
    をその融点よりも高い温度に加熱して毛管の下端に垂下
    液滴を形成させ、(c)適当に配向された予じめ成形さ
    れた結晶核を毛管路の底部に形成された垂下液滴と接触
    させ、(d)該結晶核を下向きに引抜き、この際単位時
    間当りの単結晶製造用原料の供給量を単結晶の形で引抜
    かれる物質の量と常に実質的に等しくなるような速度で
    単結晶製造用原料をルツボに供給しながら前記の引抜き
    を行い、そして(e)形成された単結晶を選定された時
    間間隔で取出すことからなる、多重式にドープ剤を加え
    た且つ予定された形状の単結晶の連続製造法において、
    ルツボに装入される単結晶製造用原料の組成を予定され
    た且つ調整可能な要領で変化させることを特徴とする、
    多重式にドープ剤を加えた且つ予定された形状の単結晶
    の連続製造法。 2 相異なる組成を有する単結晶製造用原料をルツボに
    供給し得る2個又はそれ以上の貯蔵器からなる多重式供
    給装置を用いることにより単結晶製造用原料の組成を変
    化させる特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 単結晶製造用原料を徐々に相異なる割合で各々の貯
    蔵品から同時に供給する特許請求の範囲第2項記載の方
    法。 4 単結晶製造用原料を各々の貯蔵品から連続的に供給
    する特許請求の範囲第2項記載の方法。 5 作業温度及び圧力で単結晶製造用の溶融原料が毛管
    中に保有される高さよりも大であるか又はそれに等しい
    高さを有する毛管路を底部に有するルツボaと、ルツボ
    を包囲する加熱装置bと、ルツボより上方に配置された
    単結晶製造用原料をルツボに供給する装置cと、冷却手
    段を備え且つ形成された単結晶を通過せしめ得る底部孔
    、作業用雰囲気を構成するガスを循環せしめ得る孔及び
    加熱系を通過せしめ得る孔を有する、ルツボ及び単結晶
    製造用原料の供給装置を包囲する容器dと、予じめ成形
    した単結晶核を支持する核支持系eと、核支持系を上向
    き方向及び下向き方向に移動させ且つそれをその軸のま
    わりに回転させ得る装置fと、形成した単結晶の引抜き
    速度を単結晶製造用原料のルツボへの供給速度に関連さ
    せて調節する装置gとからなる多重式にドープ剤を加え
    た且つ予じめ成形した単結晶の連続製造用装置において
    、前記の供給装置は少くとも2つの別個の貯蔵器からな
    ることを特徴とする、多重式にドープ剤を加えた且つ予
    定された形状の単結晶の連続製造用装置。
JP1170877A 1977-01-14 1977-02-07 多重式にド−ブ剤を加えた且つ予定された形状の単結晶の連続製造法及びそのための装置 Expired JPS6018636B2 (ja)

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FR (1) FR2377224A2 (ja)
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