JPS60184227A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents

液晶表示装置およびその製造方法

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JPS60184227A
JPS60184227A JP59040866A JP4086684A JPS60184227A JP S60184227 A JPS60184227 A JP S60184227A JP 59040866 A JP59040866 A JP 59040866A JP 4086684 A JP4086684 A JP 4086684A JP S60184227 A JPS60184227 A JP S60184227A
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JP
Japan
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liquid crystal
white
insulating layer
display device
heating electrode
Prior art date
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Pending
Application number
JP59040866A
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English (en)
Inventor
Eiji Ashida
栄次 芦田
Yuzo Kozono
小園 裕三
Akira Sato
明 佐藤
Satoshi Ogura
小倉 慧
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はスメクテイツク液晶を用いた熱書き込み型の液
晶表示装置に係り、特に鮮明な表示が得られる液晶表示
装置に関する。
〔発明の背景〕
液晶表示装置は、情報機器関係、特に情報端末の表示装
置として広く使用されている。現在はとんどの液晶表示
素子は電界印加による液晶のねじれを利用したねじれネ
マティック型(TN型)液晶が用いられている。このT
N型液晶表示の場合、電界印加をやめると表示が消え、
表示自体にメモリ機能はないっまた、表示の大画面化や
高精細画面化には不向きである。そこで情報端末の表示
装置としてメモリ機能を持ったスメクテイツク液晶(以
下Sm液晶という)を用いた熱書き込み型表示装置が注
目されている。
第1図にSm液晶表示装置の表示板の素子構造を示す。
上下のガラス基板1の内側にストライプ状の液晶加熱電
極3と透明電極6を形成し、それらの間に液晶層5をは
さみ込んだ構造である、加熱電極3と透明電極6は交差
しており、マ) IJラックス形成している。液晶層5
と加熱電極3並びに透明電極6との間には配向膜4があ
る。加熱電極3と下側ガラス基板1との間には、加熱電
極3の熱が液晶層5方向にのみ伝導しやすいように、断
熱絶縁層2が設けられている。
液晶の書き込みは加熱電極3に電流を流し、電極の抵抗
発熱からの熱伝導で液晶層を加熱することによシ行なわ
れる。また、消去は、電極を加熱し、冷却時に透明電極
6と加熱電極3との間に消去電圧を印加してなされる。
この消去電圧が印加されないかぎ如、一度書き込んだ表
示は消滅せずメモリ機能を持っている。
液晶層は通常透明であるが、液晶内に色素を添加すると
、加熱された部分が着色する。一般には黒色に着色する
色素を用いる。透明電極6と加熱電極3を前述したよう
にマトリックス状に配置しておくと、交差した部分を選
択的に着色させることができる。この選択的着色を各位
置で行ない、文字や図形を表示させる。
この文字や図形を鮮明に表示させるには、表示する背景
が白であることが必要である。加熱電極3にはAt(ア
ルミニウム)が用いられている。
kl膜は光を鏡拘反射するので、光を当てても、特定方
向以外では、黒く見えてしまう。故に、At表面に何ら
かの処理を施こさないと、黒い面に黒い文字や図形を表
示することになり、表示された文字や図形を認識できな
い。そこで、At表面の結晶を成長させ、表面が荒れた
状態にして光を拡散反射させ、At表面を白濁させてい
る。
At膜形成には蒸着法あるいはスパッタリング法が用い
られており、入力基板温度等の条件を変えて、表面の白
濁化を行なっている。
しかし、このような従来法では結晶の成長度合が異なる
と、鏡面反射率が変わる。そのため、再現性がなく、色
むらを生じ鮮明な表示が得られない上に、At自体の表
面を粗にすることがら膜厚が一定せず、電極抵抗値の安
定性が悪く、表示むらが発生したシ、長時間使用で断線
を生ずる叫の欠点がある。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、加熱電極の抵抗値に影響を及ぼすこと
なく、再現性が良く安定した白色糸の背景を持った液晶
表示装置を提供することでおる。
また、そのような液晶表示装置を安定的に製造する方法
を提案することである。
〔発明の概要〕
本発明は加熱電極を白色化するのでなく、加熱電極層の
上面に白色化した絶縁層を形成し、加熱電極に影響を及
ぼすことなく、安定した白色の背景が得られるようにし
たものである。
本発明はまた、白色絶縁層をスパッタリングにより形成
する際に、不純カスの混入率を変えて、最適な白色背誤
が得られるようにすることを特徴としている。
〔発明の実施例〕
次に、第2図と第3図とを参照して、本発明の詳細な説
明する。
第2図は本発明の液晶表示装置の素子構造を示す図であ
る。下側ガラス基板1上にまず断熱絶縁層2を形成する
。次に電極となるAt膜を蒸着法等によシ断熱絶縁膜2
上に槓1−する。このAt膜上にホトマスクを重ねて露
光し現像した後に、エツチング等を施して、加熱電極3
の電極パターンを形成する。加熱電極3の膜厚は一様で
ある。
本発明による白色絶縁層はスパッタリング等によ膜形成
するが、ここでは材料の一例として5i02に用いであ
る。通常のスパッタリングでは、8i02も透明になっ
てしまう。Sigh絶縁層の白色化は、スパッタリング
条件のうち、スパッタ圧力、基板温度、並びにArガス
中の02やN2等の不純カス混入率を変えることにより
、その程度が種々変化する。不純ガスは02とN2の一
方のみでもよいが、その除は02のみの方が好ましい。
これら条件の中で不純ガス混入率が支配的条件である。
第3図は、ガラス基板上にAtを1μm蒸着した後にS
 i02をスパッタリングしたときの不純ガス混入率と
鏡面反射率との関係を示す図である。
鏡面反射率が低いほど白色度が高い。不純ガス混入率が
低いとき5i02は透明だから、下地のアルミニウム鏡
面の影響が大きく、鏡面反射率が高い。
しかし、不純ガス混入率が高くなると、絶縁層が白濁し
て不透明となるので、鏡面反射率が下が9、白色絶縁膜
7が得られる。第3図から、不純カス混入率が約0.1
%以上であることが望ましいのは明らかである。
以後の製造工程は従来例と変わらない。本発明は背景の
白色絶縁層に関するものであるから、アクティブマトリ
クス等の他の液晶表示装置にも応用できる。
本発明のこの実施例では、加熱電極そのものを白くする
のでなく、加熱電極上面に白色絶縁層を形成するので、
加熱電極の抵抗値等に影響を及はさない。また加熱電極
は加熱のみのための良質の膜として形成できるから、加
熱むらが生じることがなく、電極の寿命が延び、故障率
が低下する。
さらに、加熱電極パターン形成後に白色絶縁層を形成す
るので、加熱電極自体の表面を結晶成長等により白濁さ
せる場合と比較して、プロセスの制御が容易になる。加
えて、電極間にも絶縁層が形成されるから、T4L極間
の接触等の問題を防止する効果がある。
なお、この実施例では白色絶縁層として5iOzを用イ
タカ、At20s + TazOs + S 1sN4
等の絶縁物質でも良いことはいうまでもない。また他の
物質を加えてカラー化することもできる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、加熱電極の抵抗値等に影響を及ばずこ
となく、再現性が良く安定した白色系の背景を持った液
晶表示装置が得られる。
また、スパッタリング時の不純ガス混入率を制御するこ
とによシ、所望の液晶表示装置を安定的に製造する方法
が提案される。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の液晶表示装置の素子構造を示す図、第2
図は本発明の液晶表示装置の素子構造を示す図、第3図
は本発明による白色絶縁層スパッタリング時における不
純ガス混入率と鏡面反射率の関係を示す図である。 1・・・ガラス基板、2・・・断熱絶縁層、3・・・加
熱電極、4・・・配向膜、5用液晶層、6・・・透明電
極、7・・・白色絶縁層。 代理人 弁理士 鵜沼辰之 7′F純−力ス)菫人牟(y=)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、スメクテイツク液晶を主成分として用いる熱書き込
    み型の液晶表示装置において、液晶加熱電極層の上面に
    光散乱のよい不透明絶縁物質層を形成したことを特徴と
    する液晶表示装置。 2、特許請求の範囲第1項において、光散乱のよい不透
    明絶縁物質層が、5i02.Aノ403 +Ta205
     、 Si3N4 のいずれかひとつであることを特徴
    とする液晶表示装置。 3、スメクテイツク液晶を主成分として用いる熱書き込
    み型の液晶表示装置の製造方法において、一定値以上の
    不純カス混入率を有する雰囲気中で絶縁物質をスパッタ
    リング等により液晶加熱電極上に付着させ、光散乱性の
    よい不透明絶縁物質層を形成するステップを含むことを
    特徴とする液晶表示装置の製造方法。 4、特許請求の範囲第3項において、不純ガス混入率が
    0.1%以上であることを特徴とする液晶表示装置の製
    造方法。
JP59040866A 1984-03-02 1984-03-02 液晶表示装置およびその製造方法 Pending JPS60184227A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62135119U (ja) * 1986-02-17 1987-08-25
US4712877A (en) * 1985-01-18 1987-12-15 Canon Kabushiki Kaisha Ferroelectric display panel of varying thickness and driving method therefor
US5078475A (en) * 1985-12-18 1992-01-07 Canon Kabushiki Kaisha Flc device with color filter and insulating protection layer with pencil hardness of at least hb
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Cited By (6)

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