JPS60179700A - 除染電解液の連続再生方法 - Google Patents
除染電解液の連続再生方法Info
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- JPS60179700A JPS60179700A JP3746684A JP3746684A JPS60179700A JP S60179700 A JPS60179700 A JP S60179700A JP 3746684 A JP3746684 A JP 3746684A JP 3746684 A JP3746684 A JP 3746684A JP S60179700 A JPS60179700 A JP S60179700A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、原子力発電所等で使用され表面に放射性を帯
びた機器の電解除染のために使用され放射線の線舊レベ
ルの高くなった電解液から、連続的に放射性金網イオン
を企−固体として回収すると同時ＶＣ電解液を初期の高
濃度酸Ｖｃ樽生し連続的に電解除染槽に供給する方法に
関する。
びた機器の電解除染のために使用され放射線の線舊レベ
ルの高くなった電解液から、連続的に放射性金網イオン
を企−固体として回収すると同時ＶＣ電解液を初期の高
濃度酸Ｖｃ樽生し連続的に電解除染槽に供給する方法に
関する。
電解除染の過程で電解液中に蓄積される放射性物質のう
ち、被除染物の表面から電解液中に＃Ｊ離放出される金
喘酸化物等の懸濁物は電解液の循環濾過や沈降分離等の
固液分離手段を適用することにより比較的容易に電解液
系外へ集中状態として取出すことができる。しかし被除
染物から溶出し電解液中に金用イオンとして溶存する放
射性９／Ｊ＊は前記固液分離手段では除去されず次第に
：ａ縮蓄積されるので、そのような電解液中の放射線ｌ
が増加した状態で電解除染作業を続行することは作業者
に放射線被曝の危険が生ずるばかりでなく、電解研摩効
率が溶存金網イオン濃度の増加により低下して電解液の
寿命に達する。電解液として高ａ度酸液を使用しこれが
電解除染の継続により上記の様に電解液として使用不可
能になった場合、その後処理を有利に遂行し得る１つの
方法として特願昭５８−１９８１１４を出願した。 こ
の方法は、電解除染槽より−たん使用済電解液を全部引
き抜き別槽の隔膜で仕９ノられた電着再生楡に収容し長
時間電解を続け、捕集電極上に放射性金員を回収すると
同時に電解液を再生するものである。この方法はパンチ
式に操作するものであるため、これに伴う若干の制約と
不利益から脱却することができないものであった。
ち、被除染物の表面から電解液中に＃Ｊ離放出される金
喘酸化物等の懸濁物は電解液の循環濾過や沈降分離等の
固液分離手段を適用することにより比較的容易に電解液
系外へ集中状態として取出すことができる。しかし被除
染物から溶出し電解液中に金用イオンとして溶存する放
射性９／Ｊ＊は前記固液分離手段では除去されず次第に
：ａ縮蓄積されるので、そのような電解液中の放射線ｌ
が増加した状態で電解除染作業を続行することは作業者
に放射線被曝の危険が生ずるばかりでなく、電解研摩効
率が溶存金網イオン濃度の増加により低下して電解液の
寿命に達する。電解液として高ａ度酸液を使用しこれが
電解除染の継続により上記の様に電解液として使用不可
能になった場合、その後処理を有利に遂行し得る１つの
方法として特願昭５８−１９８１１４を出願した。 こ
の方法は、電解除染槽より−たん使用済電解液を全部引
き抜き別槽の隔膜で仕９ノられた電着再生楡に収容し長
時間電解を続け、捕集電極上に放射性金員を回収すると
同時に電解液を再生するものである。この方法はパンチ
式に操作するものであるため、これに伴う若干の制約と
不利益から脱却することができないものであった。
すなわち、使用済電解液を電着再生槽に収容してからＮ
Ｈが起るＰｉ（＝２．に到達するまでに長時間を要し、
その間放射能の線量レベルは低下せず電解時間のほとん
どが高線量レベルで維持されるので、作業環境が高い放
射線量レベルのもとに長時間置かれ、危険で好ましくな
い。また電着の開始までに長時間を要するので、この間
に隔膜を介して陽極室の再生液側への放射性金喘イオン
のリーク量も多くなり、再生液を電解液として再利用す
る場合の除染能力に悪影響ヲ与よる。さらにパンチプロ
セスのためその運転操作が非常ＶＣ繁雑である。これら
の点で前記先願方法は解決すべき問題点を伐している。
Ｈが起るＰｉ（＝２．に到達するまでに長時間を要し、
その間放射能の線量レベルは低下せず電解時間のほとん
どが高線量レベルで維持されるので、作業環境が高い放
射線量レベルのもとに長時間置かれ、危険で好ましくな
い。また電着の開始までに長時間を要するので、この間
に隔膜を介して陽極室の再生液側への放射性金喘イオン
のリーク量も多くなり、再生液を電解液として再利用す
る場合の除染能力に悪影響ヲ与よる。さらにパンチプロ
セスのためその運転操作が非常ＶＣ繁雑である。これら
の点で前記先願方法は解決すべき問題点を伐している。
本発明は電解除染過程との関連のもとに前記先願の電着
再生過程の諸問題に解決を与えてその連続化を可能とし
、以て両過程が相互連続して一貫連続的過程として成立
するようにしたものである。
再生過程の諸問題に解決を与えてその連続化を可能とし
、以て両過程が相互連続して一貫連続的過程として成立
するようにしたものである。
過程で放射性金１として捕集電極に集中捕集しできるだ
け濃縮された形態で回収可能とするとともに電解液を再
生して新しい高濃度酸溶液として電解除染過程に供給す
ることが可能となる。
け濃縮された形態で回収可能とするとともに電解液を再
生して新しい高濃度酸溶液として電解除染過程に供給す
ることが可能となる。
その結果、廃液の発生を＆度Ｋ ＃：じ放射性２次廃棄
物匍を少くすることが可能となる。
物匍を少くすることが可能となる。
本発明方法においては、隔膜によって仕切られた陽極室
と＃ｉ極室とからなる電着再生過程の槽の陰極室ＶＣ電
解除染過程の槽の電解液をＰＨコントローラによって陰
極室のｐＨが常に２となるように注ぎ入れる。この注入
は連続的になされるよう両過程を接続する。即ち、隔膜
を介して陰極室の捕集電極と陽極室の不溶性電極との間
に直鑓通電を行うと、陰極室の液の水素イオンが水素ガ
スとして放出されるのに伴ってＰＨが上昇するが、本発
明においてはＰＨが２を越えると電解除染槽の電解液が
陰極室に注入されＰＨが２以下となると注入が停止され
るよう操作する。これとバランスを保つよう、その−力
で電解除染過程の陽極室に再生された高濃度酸溶液を同
容鐘引き抜ぎ電解除染槽に供給するよう操作する。これ
ら操作をＰＨコントローラの制御のもとに自動的ＶＣ繰
返す。
と＃ｉ極室とからなる電着再生過程の槽の陰極室ＶＣ電
解除染過程の槽の電解液をＰＨコントローラによって陰
極室のｐＨが常に２となるように注ぎ入れる。この注入
は連続的になされるよう両過程を接続する。即ち、隔膜
を介して陰極室の捕集電極と陽極室の不溶性電極との間
に直鑓通電を行うと、陰極室の液の水素イオンが水素ガ
スとして放出されるのに伴ってＰＨが上昇するが、本発
明においてはＰＨが２を越えると電解除染槽の電解液が
陰極室に注入されＰＨが２以下となると注入が停止され
るよう操作する。これとバランスを保つよう、その−力
で電解除染過程の陽極室に再生された高濃度酸溶液を同
容鐘引き抜ぎ電解除染槽に供給するよう操作する。これ
ら操作をＰＨコントローラの制御のもとに自動的ＶＣ繰
返す。
この本発明方法による操作のもとでは、電着再生過程に
おいては、ＰＨ２に維持される陰極室の液から放射性金
属イオンが遅滞なく金喘団体として捕集電極上に析出し
また水素の発生も起り、水素の発生によって分離した陰
イオンが隔膜を辿って陽極室に移動し、そして陽極の不
溶性電極で発生した水素イオンと與び結合し、高濃度酸
溶液として再生される。このことから電着再生過程の開
始に際しては、陰極室ＶＣは通常の水を、また陽極室に
は電解除染過程に使用する電解液と同濃度の高濃度酸溶
液を当初の１回だけ収容して操作をスタートさせればよ
い。
おいては、ＰＨ２に維持される陰極室の液から放射性金
属イオンが遅滞なく金喘団体として捕集電極上に析出し
また水素の発生も起り、水素の発生によって分離した陰
イオンが隔膜を辿って陽極室に移動し、そして陽極の不
溶性電極で発生した水素イオンと與び結合し、高濃度酸
溶液として再生される。このことから電着再生過程の開
始に際しては、陰極室ＶＣは通常の水を、また陽極室に
は電解除染過程に使用する電解液と同濃度の高濃度酸溶
液を当初の１回だけ収容して操作をスタートさせればよ
い。
それ以後は液の循環によＶ電着再生操作が自動的Ｉ／ｃ
維持される。そして陰極室および一極室ともに収容時の
液容１を維持するｆｃめ、そ九ぞれＶｃ設けたレベル計
によって常に液位が一定ＶＣなるように自動的に給水す
る。
維持される。そして陰極室および一極室ともに収容時の
液容１を維持するｆｃめ、そ九ぞれＶｃ設けたレベル計
によって常に液位が一定ＶＣなるように自動的に給水す
る。
この水のメイクアンプｓＦｉｍ位過程での水素、酸素の
発生および水の蒸発損失を補給する佃で足る。
発生および水の蒸発損失を補給する佃で足る。
このように本発明は、表面に放射性を帯びた＠器物品の
除染のため高濃度酸溶液を電解液として電解除染する過
程に関連してその電解液を一定条件のもとに連続的に引
抜いて電着再生することを可能とし、電着再生の過程で
は引抜いた電解液中の放射性金属イオンを放射性金−と
して捕集電極に析出集中させて処分容易な形態にすると
ともに同時に再生し得た新しい高濃度酸溶液を電解除染
過程に引抜電解液ｌと同梱帰還流させることにより、こ
こに電解除染過程と電着再生過程とを一括した連続シス
テムの成立を可能としたものでるる。そしてこの−頁連
続システムにおいては、電着再生過程では液中の放射能
の線量レベルを常に低く維持できまた再生液への金網イ
オンのリーク量も少くすることができ、かつまた電解除
染過程では電解液の更新により放射能の線ロレベルなら
びに金回イオンレベルを低く一定に保つことができる。
除染のため高濃度酸溶液を電解液として電解除染する過
程に関連してその電解液を一定条件のもとに連続的に引
抜いて電着再生することを可能とし、電着再生の過程で
は引抜いた電解液中の放射性金属イオンを放射性金−と
して捕集電極に析出集中させて処分容易な形態にすると
ともに同時に再生し得た新しい高濃度酸溶液を電解除染
過程に引抜電解液ｌと同梱帰還流させることにより、こ
こに電解除染過程と電着再生過程とを一括した連続シス
テムの成立を可能としたものでるる。そしてこの−頁連
続システムにおいては、電着再生過程では液中の放射能
の線量レベルを常に低く維持できまた再生液への金網イ
オンのリーク量も少くすることができ、かつまた電解除
染過程では電解液の更新により放射能の線ロレベルなら
びに金回イオンレベルを低く一定に保つことができる。
そして運転操作向では、連続的システムであるので、＜
ンチ式に比べ設備数も少く操作も非虐Ｖｃ簡略化できる
。
ンチ式に比べ設備数も少く操作も非虐Ｖｃ簡略化できる
。
本発明の注目すべき１つの特質として、電着再生過程は
操作開始時点から一貫して到達すべ、き終局のＰＨ２の
定宿的状席に常に維持される。
操作開始時点から一貫して到達すべ、き終局のＰＨ２の
定宿的状席に常に維持される。
従来のパンチ式操作の電着再生過程では液中の金ねイオ
ンを析出させるまで長時間水素発生反応を起爆せ陰極室
のＰＨを２に到達させてはじめて電着再生を完了させる
ようにしていたものでるるか、本発明ではこの最終の段
階であるところの、陰極室はＰＨ２のＭ液であり一極室
は高濃度酸液であるという状態を継続して操作する。
ンを析出させるまで長時間水素発生反応を起爆せ陰極室
のＰＨを２に到達させてはじめて電着再生を完了させる
ようにしていたものでるるか、本発明ではこの最終の段
階であるところの、陰極室はＰＨ２のＭ液であり一極室
は高濃度酸液であるという状態を継続して操作する。
次に本発明を、その実施に使用する装置とともに説明し
、それとの開運により持實を具体的に明らかにする。添
付図はそのフロー線図を示す。
、それとの開運により持實を具体的に明らかにする。添
付図はそのフロー線図を示す。
本発明の電着再生過程Ｔ／ｃ使用する電着再生槽（υは
隔膜（２）Ｋよって陰極室（３）と陽極室（４）とに仕
切られ、陰極室（３） Ｋ ｉｌｌ鉄板等の捕集電極（
５）を設直し、陽極室（４）には白金メンキしたチタン
ネット製の不メ性電極（６）を設直し、陰極室（３）の
液（７）としては当初は通常の水を収容し陽極室（４）
の液（８）としては当初は電解除染過程の電解液と同成
分、同濃度の高濃度酸溶液を収容し、両電極（５）（６
）間に直流３ｍ電を行う。
隔膜（２）Ｋよって陰極室（３）と陽極室（４）とに仕
切られ、陰極室（３） Ｋ ｉｌｌ鉄板等の捕集電極（
５）を設直し、陽極室（４）には白金メンキしたチタン
ネット製の不メ性電極（６）を設直し、陰極室（３）の
液（７）としては当初は通常の水を収容し陽極室（４）
の液（８）としては当初は電解除染過程の電解液と同成
分、同濃度の高濃度酸溶液を収容し、両電極（５）（６
）間に直流３ｍ電を行う。
これに対して本発明の電解除染過程に使用する電解除染
槽（９）は表面に放射性を帯びた機器物品を１１１ｉＩ
極叫とし前同様な不溶性電極の陰極（ロ）を般社し電解
液＠とじて高濃度酸“溶液を収容し直ｒ１１通電により
電解イνを厚を行って陽極表面の放射性物質の一部を剥
離して液中懸濁物とし他の一部を放射性金践イオンとし
て液中に溶出させて除染する。
槽（９）は表面に放射性を帯びた機器物品を１１１ｉＩ
極叫とし前同様な不溶性電極の陰極（ロ）を般社し電解
液＠とじて高濃度酸“溶液を収容し直ｒ１１通電により
電解イνを厚を行って陽極表面の放射性物質の一部を剥
離して液中懸濁物とし他の一部を放射性金践イオンとし
て液中に溶出させて除染する。
本発明では両過程の聞に一定の連累関係が得られるよう
にする。そのため電層再生槽（１）の陰極室（３）Ｋは
上部ＫＰＨ検知用の補助槽０を付設し、ここＫＰＨコン
トローラｕ勺に接続された′ＰＨ電極電極膜置し、その
設定をＰＨ＝２とする。
にする。そのため電層再生槽（１）の陰極室（３）Ｋは
上部ＫＰＨ検知用の補助槽０を付設し、ここＫＰＨコン
トローラｕ勺に接続された′ＰＨ電極電極膜置し、その
設定をＰＨ＝２とする。
そして陰極室液（７）のｐｎ検知のためこれを循環ポン
プ９りにより補助槽０を経由して陰極室（３）に循環流
させるようにする。
プ９りにより補助槽０を経由して陰極室（３）に循環流
させるようにする。
そして電解除染槽（９）からその槽内の電解液（２）を
連続的に陰極室（３） ＶＣ注入するためＰＨシコンロ
ーラ（ロ）に連動して駆動される電解液注入ポンプα７
１を有する注入管路（ト）を補助１１たは陰極室（３）
Ｋ向って桿く。さらにｌｉＭ極室（４）からこれに連
動して駆動される再生液引抜ポンプ（Ｉｉを有する引抜
管路＠＃を電解除染槽（９） Ｋ向って導く。この循環
システムでは陰極室（４）の容鉛はパンチ式操作の場合
のような規定はなく適当に小容量でよい。
連続的に陰極室（３） ＶＣ注入するためＰＨシコンロ
ーラ（ロ）に連動して駆動される電解液注入ポンプα７
１を有する注入管路（ト）を補助１１たは陰極室（３）
Ｋ向って桿く。さらにｌｉＭ極室（４）からこれに連
動して駆動される再生液引抜ポンプ（Ｉｉを有する引抜
管路＠＃を電解除染槽（９） Ｋ向って導く。この循環
システムでは陰極室（４）の容鉛はパンチ式操作の場合
のような規定はなく適当に小容量でよい。
陰極室（３）および陽＆室（４）に前記のように当初に
通常の水および高濃度酸溶液を収容し、循環ポンプｕ＃
を運転して陰徳室液（７）を循環させる。
通常の水および高濃度酸溶液を収容し、循環ポンプｕ＃
を運転して陰徳室液（７）を循環させる。
この状態では陰極室内液（７）のＰＨが２より高いため
ＰＨコントローラ（ロ）が作動しこれと連動している電
解液注入ボング助が起動し電解除染過程の電解液（ロ）
が陰極室（３）あるいは袖助僧ｏ４に注入さｎる。これ
と同時に同じ（ＰＨコントローラＱ◆と連動して再生液
引抜ポンプ四が起動し電解除染槽（９）からの電解液の
陰極室（３）への注入量と同量の陽極室液（句が引抜か
れ電解除染槽（９〉に戻される。
ＰＨコントローラ（ロ）が作動しこれと連動している電
解液注入ボング助が起動し電解除染過程の電解液（ロ）
が陰極室（３）あるいは袖助僧ｏ４に注入さｎる。これ
と同時に同じ（ＰＨコントローラＱ◆と連動して再生液
引抜ポンプ四が起動し電解除染槽（９）からの電解液の
陰極室（３）への注入量と同量の陽極室液（句が引抜か
れ電解除染槽（９〉に戻される。
この初期操作をある時間継続して電ｉ （６） （５）
間に直流通電を行なう。陰徳室（３）のＰＨが２まで下
るとｐＨコントローラＶ脣が作動し電解液注入ポンプ（
ロ）およ′び再生液引抜ポンプ四が一旦停止する。この
ＰＨが２の状態で電肴栴生檜（１） において直ｖ１通
電による電解操作を継続すると、陰極室液（７）中に＠
在されている放射性企−イオンが捕集電極（５）上に金
属として析出して次第に蓄積され、陰イオンが隔膜（２
）を介して陽極室（４） Ｋ移動しここで高濃度酸溶液
に再生される。そしてこの電解操作によＶ陽＆室（４）
のＰＨが再び２より高くなればこれらポンプα′Ｉ）四
が再起動して陰極室（３）のＰＲが２に維持される。以
上の操作が自動的ＶｃＲ返されることにより実質的に連
続的な定常的電着再生が続行さｎる。
間に直流通電を行なう。陰徳室（３）のＰＨが２まで下
るとｐＨコントローラＶ脣が作動し電解液注入ポンプ（
ロ）およ′び再生液引抜ポンプ四が一旦停止する。この
ＰＨが２の状態で電肴栴生檜（１） において直ｖ１通
電による電解操作を継続すると、陰極室液（７）中に＠
在されている放射性企−イオンが捕集電極（５）上に金
属として析出して次第に蓄積され、陰イオンが隔膜（２
）を介して陽極室（４） Ｋ移動しここで高濃度酸溶液
に再生される。そしてこの電解操作によＶ陽＆室（４）
のＰＨが再び２より高くなればこれらポンプα′Ｉ）四
が再起動して陰極室（３）のＰＲが２に維持される。以
上の操作が自動的ＶｃＲ返されることにより実質的に連
続的な定常的電着再生が続行さｎる。
上記過程に関連して、電着再生槽（１）での電解操作中
には、陰極室（３）では発熱反射による水分の蒸発が起
Ｖ陽極室（４）では水の電気分解による水分の減少が起
る。これらの水を補償して連続過程を順調に推移させる
ために、例えはそれぞれの室に設置した水位計（至）（
２）に連動する電磁ヅｔＣ＃（財）を設けて自動的に給
水し一定水位を維持するようにする。
には、陰極室（３）では発熱反射による水分の蒸発が起
Ｖ陽極室（４）では水の電気分解による水分の減少が起
る。これらの水を補償して連続過程を順調に推移させる
ために、例えはそれぞれの室に設置した水位計（至）（
２）に連動する電磁ヅｔＣ＃（財）を設けて自動的に給
水し一定水位を維持するようにする。
本発明方法の具体的操作数値を次に例示する。
〔数値例１〕
（Ａ）電解除染過程
陽極ｕ０の放射能除染対象物は５ＵＳ３０４不銹Ｉｉ８
製とし、リン酸７５ｖｖｔ％の電解ｗＬを使用して電解
除ＩＪ！を行った。使用済電解液Ｋｌ′ｉ鉄イオン８８
ｇ／ｌ 、クロムイオン８．８ ｇ／ｌ １ニッケルイ
オン６．８ ｇ／ｌ ｓ コバルトイオン０．０９２ｇ
／７が溶存している。
製とし、リン酸７５ｖｖｔ％の電解ｗＬを使用して電解
除ＩＪ！を行った。使用済電解液Ｋｌ′ｉ鉄イオン８８
ｇ／ｌ 、クロムイオン８．８ ｇ／ｌ １ニッケルイ
オン６．８ ｇ／ｌ ｓ コバルトイオン０．０９２ｇ
／７が溶存している。
（Ｂ） 電着再生過程
電着再生槽（１）の陰極室（３）Ｋはじめ［通常の水音
収容し、陽極室（４） ｖｃはしめに金回イオンを含ま
ない７５ ｗｔ％のリン綾取を収容し、Ｒ＋１記使用済
電解液全電解液注入ボンズｕ７１Ｋより陰極室（３）Ｋ
注入し電流密度８Ａ／ｄｍ’ で電解操作を実施し、陰
極室ｆｉ （７）および陽極室液（８ンの残留金（鳴イ
オンａ度の経時変化を調べた。
収容し、陽極室（４） ｖｃはしめに金回イオンを含ま
ない７５ ｗｔ％のリン綾取を収容し、Ｒ＋１記使用済
電解液全電解液注入ボンズｕ７１Ｋより陰極室（３）Ｋ
注入し電流密度８Ａ／ｄｍ’ で電解操作を実施し、陰
極室ｆｉ （７）および陽極室液（８ンの残留金（鳴イ
オンａ度の経時変化を調べた。
到達結果では陰極室液（７ン中の残留金初イオンは鉄イ
オン０．００５〜０． ｏ６０ ｇ／ｇ 、 クロムイ
オン０．００３−０．０Ｉ ｇ、／ｌ 、 二７ケルイ
２ン０．００１−０．００５ ｇ／７． フハルトイ７
７０．０００＋ −０，０００５ｇ／ｌとなり、一方Ｐ
ＪＡ極室液（勢中のリーク金網イオンは鉄イオン０．０
１−〇−０２ｇ／ｌ 、クロムイオン０．００６〜０−
００７ ｇ、／ｌ 、ニッケルイオン０．００４〜０．
０’０５ ｇ／／ 、：ｌ ハル） イ２ン０．０００
１〜０．０００２ ｇ／ｌとなった。
オン０．００５〜０． ｏ６０ ｇ／ｇ 、 クロムイ
オン０．００３−０．０Ｉ ｇ、／ｌ 、 二７ケルイ
２ン０．００１−０．００５ ｇ／７． フハルトイ７
７０．０００＋ −０，０００５ｇ／ｌとなり、一方Ｐ
ＪＡ極室液（勢中のリーク金網イオンは鉄イオン０．０
１−〇−０２ｇ／ｌ 、クロムイオン０．００６〜０−
００７ ｇ、／ｌ 、ニッケルイオン０．００４〜０．
０’０５ ｇ／／ 、：ｌ ハル） イ２ン０．０００
１〜０．０００２ ｇ／ｌとなった。
これら数値から知られるように、陰極室（３）、陽極室
（４）ともに非電に低い金−イオンレベルに維持される
。そして前目ピ操作の間の電流効率は約１０５１５で安
定した効率が得られた。
（４）ともに非電に低い金−イオンレベルに維持される
。そして前目ピ操作の間の電流効率は約１０５１５で安
定した効率が得られた。
電解除染過程から引抜き電着再生過程の陰極室（３）に
注入する電解液として、その金−イオンは数値例１より
低い欽イすン４．８４ｇΔ１クロムイオン１．４７ ｇ
／７ 、ニッケルイオン０．３４ｇ／ｌ 、 コバルト
イオン０．０１２６ ｇ＃のものを数値列目の運転時に
一時的に数値例Ｉと同様にＩｉ＆極室（３）Ｋ注入して
電着再生操作を行ない陰極室液（７）中の企−イオンと
電流効率の変化を調べた。この場合の到達結果は、陰極
室液（７）および１ＩｋＡ極室液（８）ともその残留金
物イオンは下記のようＶＣ数値例Ｉより低くなった。ま
た電び［効率は同等で約１０％であった。
注入する電解液として、その金−イオンは数値例１より
低い欽イすン４．８４ｇΔ１クロムイオン１．４７ ｇ
／７ 、ニッケルイオン０．３４ｇ／ｌ 、 コバルト
イオン０．０１２６ ｇ＃のものを数値列目の運転時に
一時的に数値例Ｉと同様にＩｉ＆極室（３）Ｋ注入して
電着再生操作を行ない陰極室液（７）中の企−イオンと
電流効率の変化を調べた。この場合の到達結果は、陰極
室液（７）および１ＩｋＡ極室液（８）ともその残留金
物イオンは下記のようＶＣ数値例Ｉより低くなった。ま
た電び［効率は同等で約１０％であった。
陰極室液（７）中の伐槓金喘イオン：鉄イオン０、００
３２ ｇ／ｌ 、クロムイオン０．０００９６ ｇ／ｌ
、ニッケルイオン０．０Ｌ１１４ ｇ／／ 、コバル
トイオン０．０００５ｇ／ｌ！ １１１極室ａ （８）中の残照金属イオン：鉄イオン０
、０１６ｇ／７ 、クロムイオン０−００２５ ｇ／ｊ
ｈ二ンケルイオン帆００４ ｇ／７ 、コバルトイオ
ン０．００２ ｇｅｔ 上記数値では１会極室液（７）よりも陽極室液（娠中の
金Ｎイオンが多くｉつたが、これは数値例１の影竹が残
っているためと考えら、１する。
３２ ｇ／ｌ 、クロムイオン０．０００９６ ｇ／ｌ
、ニッケルイオン０．０Ｌ１１４ ｇ／／ 、コバル
トイオン０．０００５ｇ／ｌ！ １１１極室ａ （８）中の残照金属イオン：鉄イオン０
、０１６ｇ／７ 、クロムイオン０−００２５ ｇ／ｊ
ｈ二ンケルイオン帆００４ ｇ／７ 、コバルトイオ
ン０．００２ ｇｅｔ 上記数値では１会極室液（７）よりも陽極室液（娠中の
金Ｎイオンが多くｉつたが、これは数値例１の影竹が残
っているためと考えら、１する。
不発明によると、次の新規有用な実＃ｉ席様の発明が実
現可能となる。すなわち、従来、電解除染を完了した物
品は付着している放射性のある電解成金水洗浄により除
いている。この場合洗浄水中に混入した放射性金Ｕイオ
ンに２次汚染の問題を起すので厄介な２次処理が必要と
なる。
現可能となる。すなわち、従来、電解除染を完了した物
品は付着している放射性のある電解成金水洗浄により除
いている。この場合洗浄水中に混入した放射性金Ｕイオ
ンに２次汚染の問題を起すので厄介な２次処理が必要と
なる。
こｆＬＫ対し本発明では、前記数値例に示すように金網
イオンの放射能レベルの低い定着再生過程の液、好まし
くはｌ１３樟室液（７）ｔ−利用し、陰極室液（７）を
抜出してスプレー洗浄し洗浄水を陰極室（３） Ｋ戻す
とか５ＦＣｔ楡室液（７）中に浸漬するとかして１次洗
浄を行なったのち、水による２次洗浄を行う。陰極室液
（７）中に混入する付着電解液は注入電解液の一部とな
るので何等問題なく、２次洗浄水に逃げる金−イオンの
放射能レベルは従来よＶはるかに低く安全限界内とする
ことができ、また洗浄に発がん性の疑のある有機溶剤全
使用する等の必要もなくなる。
イオンの放射能レベルの低い定着再生過程の液、好まし
くはｌ１３樟室液（７）ｔ−利用し、陰極室液（７）を
抜出してスプレー洗浄し洗浄水を陰極室（３） Ｋ戻す
とか５ＦＣｔ楡室液（７）中に浸漬するとかして１次洗
浄を行なったのち、水による２次洗浄を行う。陰極室液
（７）中に混入する付着電解液は注入電解液の一部とな
るので何等問題なく、２次洗浄水に逃げる金−イオンの
放射能レベルは従来よＶはるかに低く安全限界内とする
ことができ、また洗浄に発がん性の疑のある有機溶剤全
使用する等の必要もなくなる。
９上のように本発明は、放射能汚染機器の電解研Ｈｖｃ
よる除染のため高濃度酸耐液を電解液に使用して研摩表
面を良好とし除染機器のｐト使用全有利とする場合に、
１ｄ解敢からの溶存全開イオンの析出による電着途去嘔
よび高濃ｐｉ飲溶液の再生を前記電解除染過程との密接
な関連のもとに有利に遂行しつる定着再生過程の成立を
可能とし以て電解研摩過程と電着再生過程とを併用した
一員連続的操作シスタームとして構成したものでるり、
このシステムによＶ電解液の処理処分の必要性を解消し
電解液の消費を減じ２次汚染源となる溌棄物栢の割合を
極めで少くするとともにさらに操作中ＶＣ起る作業者の
被曝の低＃、を可能にする等の晶効果が実現できる。
よる除染のため高濃度酸耐液を電解液に使用して研摩表
面を良好とし除染機器のｐト使用全有利とする場合に、
１ｄ解敢からの溶存全開イオンの析出による電着途去嘔
よび高濃ｐｉ飲溶液の再生を前記電解除染過程との密接
な関連のもとに有利に遂行しつる定着再生過程の成立を
可能とし以て電解研摩過程と電着再生過程とを併用した
一員連続的操作シスタームとして構成したものでるり、
このシステムによＶ電解液の処理処分の必要性を解消し
電解液の消費を減じ２次汚染源となる溌棄物栢の割合を
極めで少くするとともにさらに操作中ＶＣ起る作業者の
被曝の低＃、を可能にする等の晶効果が実現できる。
添付図は本発明方法の実施に使用する装置構成の１例を
示す７０−線図である。 （１）・・電着再生檜、（２）・・隔膜、（３）・・陰
極室、（４）・・陽極室、（５）・・ｈＩＩ集電極、（
６）・・不に性電極、（７）・・陰極室液、（８ン・・
陽極室液、（９）・・電解除染槽、ｕＩｊ・・陽極、μ
υ・・陰極。 四・・電解液、邸・・補助檜、す嗜・・ＰＨコントロー
ラ、すＱ・・ＰＨ電極％ （ｌｔｊ・・循環ポンプ、Ｑ
７）・・電解液注入ポンプ、０１１１１・・注入管路、
ａす・・再生液引抜ポンプ、に）・・引抜管路、（２）
（イ）拳・水位計、斡（ハ）・・電磁升。 待肝出願人代理人氏名 弁理士 角 山 ん 宏 ・５． １１′ 、−４′
示す７０−線図である。 （１）・・電着再生檜、（２）・・隔膜、（３）・・陰
極室、（４）・・陽極室、（５）・・ｈＩＩ集電極、（
６）・・不に性電極、（７）・・陰極室液、（８ン・・
陽極室液、（９）・・電解除染槽、ｕＩｊ・・陽極、μ
υ・・陰極。 四・・電解液、邸・・補助檜、す嗜・・ＰＨコントロー
ラ、すＱ・・ＰＨ電極％ （ｌｔｊ・・循環ポンプ、Ｑ
７）・・電解液注入ポンプ、０１１１１・・注入管路、
ａす・・再生液引抜ポンプ、に）・・引抜管路、（２）
（イ）拳・水位計、斡（ハ）・・電磁升。 待肝出願人代理人氏名 弁理士 角 山 ん 宏 ・５． １１′ 、−４′
Claims (2)
- （１） 電解除染過程に使用され放射性金網イオンを含
む高濃度酸電解液から電着再生過程において捕集電極上
に放射性金鴎を電着して回収すると同時に電解液を初期
の高濃度酸の程度に再生し電解除染過程に新しい除染電
解液として供給する方法であって、電着再生過程におい
て隔膜によって仕切ったＭ極室および陰極室に間違し、
陰極室には鉄板等の補集電極と陰極室のＰＨが常に２前
後となるようにするたメ＋７） ＰＩ（＝＋ ７ トロ
ーラ用電極とを設けはじめに通常の水を収容し、他方１
１Ｊ極室にははじめに除染型染液と同成分同濃度の高濃
度酸を収容し不溶性電極を設け、両極間に直流通電を開
始し１直流通電の継続中は陰極室にはＰＨが常に２とな
るように電解除染過程から電解液を連続的に移送して注
入し、かくして捕集電極上に放射性金属を回収し陽極室
に電解液として再利用可能な高濃度酸の再生液を発生さ
せつつ、この再生液を電解除染過程からの電解液の注入
量と同容量だけ連続的に引抜いて電解除染過程に供給す
るようにしたこと全特徴とする除染電解液の連続再生力
法。 - （２） 電解除染過程から取出した電解除染完了物品の
洗浄全光づ電着再生過程の陰極室の液を利用して行うよ
うにしたことで特徴とする特許請求の範囲第１項に記載
の除染電解液の連続再生力法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3746684A JPS60179700A (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | 除染電解液の連続再生方法 |
| US06/661,696 US4615776A (en) | 1983-10-21 | 1984-10-17 | Electrolytic decontamination process and process for reproducing decontaminating electrolyte by electrodeposition and apparatuses therefore |
| DE8484307185T DE3484045D1 (de) | 1983-10-21 | 1984-10-18 | Verfahren und anordnung zum regenerieren eines sauren elektrolyten, der zur dekontaminierung von komponenten mit radioaktiv kontaminierten oberflaechen benutzt wurde. |
| EP84307185A EP0141590B1 (en) | 1983-10-21 | 1984-10-18 | Method and apparatus for regenerating an acid electrolyte that has been used in the decontamination of components with radioactively contaminated surfaces |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3746684A JPS60179700A (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | 除染電解液の連続再生方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60179700A true JPS60179700A (ja) | 1985-09-13 |
| JPH0443239B2 JPH0443239B2 (ja) | 1992-07-15 |
Family
ID=12498296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3746684A Granted JPS60179700A (ja) | 1983-10-21 | 1984-02-28 | 除染電解液の連続再生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60179700A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009126571A (ja) * | 2007-11-27 | 2009-06-11 | Tokiko Techno Kk | 燃料供給装置 |
| CN110322981A (zh) * | 2019-08-09 | 2019-10-11 | 中国原子能科学研究院 | 一种用于表面放射性沾污金属的电解去污的作业装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58131963U (ja) * | 1982-08-06 | 1983-09-06 | 静岡県 | 隔膜電解によるクロム酸溶液の精製回収装置 |
| JPS5914000A (ja) * | 1982-07-14 | 1984-01-24 | 神鋼フアウドラ−株式会社 | 電解除染における電解液中の放射性物質除去方法 |
-
1984
- 1984-02-28 JP JP3746684A patent/JPS60179700A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5914000A (ja) * | 1982-07-14 | 1984-01-24 | 神鋼フアウドラ−株式会社 | 電解除染における電解液中の放射性物質除去方法 |
| JPS58131963U (ja) * | 1982-08-06 | 1983-09-06 | 静岡県 | 隔膜電解によるクロム酸溶液の精製回収装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009126571A (ja) * | 2007-11-27 | 2009-06-11 | Tokiko Techno Kk | 燃料供給装置 |
| CN110322981A (zh) * | 2019-08-09 | 2019-10-11 | 中国原子能科学研究院 | 一种用于表面放射性沾污金属的电解去污的作业装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0443239B2 (ja) | 1992-07-15 |
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