JPS60177537A - 電子線照射装置 - Google Patents

電子線照射装置

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Publication number
JPS60177537A
JPS60177537A JP3367984A JP3367984A JPS60177537A JP S60177537 A JPS60177537 A JP S60177537A JP 3367984 A JP3367984 A JP 3367984A JP 3367984 A JP3367984 A JP 3367984A JP S60177537 A JPS60177537 A JP S60177537A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron beam
scanning
electron
electron rays
coils
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3367984A
Other languages
English (en)
Inventor
Isamu Sakamoto
坂本 勇
Kenichi Mizusawa
水澤 健一
Toshio Kimura
寿男 木村
Masaru Hamano
浜野 勝
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NISSHIN HAIBORUTEEJI KK
Nissin High Voltage Co Ltd
Original Assignee
NISSHIN HAIBORUTEEJI KK
Nissin High Voltage Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NISSHIN HAIBORUTEEJI KK, Nissin High Voltage Co Ltd filed Critical NISSHIN HAIBORUTEEJI KK
Priority to JP3367984A priority Critical patent/JPS60177537A/ja
Publication of JPS60177537A publication Critical patent/JPS60177537A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K5/00Irradiation devices
    • G21K5/04Irradiation devices with beam-forming means

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 この発明は、走査形の電子線照射装置に関する。
(ロ)従来技術 走査形の電子線照射装置は、スリット状の照射窓の長手
方向に電子線が往復走査されて実質的に線状の電子ビー
ムを形成するものである。
このような電子線照射装置の電子銃として、温度制御型
の電子銃が使用されているが、温度制御は熱的慣性のた
めに応答が遅いという欠点がある。
(ハ)LI的 この発明は、走査形の電子線照射装置において、温度制
御型の電子銃を使用した場合でも、電子ビームのオン・
オフ制御を迅速に行いうるようにすることを目的として
なされたものである。
(ニ)構成 この発明によれば、走査管に設けられたスリット状の照
射窓の長手方向に電子線が往復走査される走査形の電子
線照射装置において、照射窓の周囲に沿って走査管の側
壁に冷却ジャケットを付設すると共に、その冷却ジャケ
ット付設部分に対応する走査管内壁部分に電子線を入射
させるべく電子線を偏向させる偏向手段を設けたことを
特徴とする電子線照射装置が提供される。
(ホ)実施例 以下、図に示す実施例について説明するが、これにより
この発明が限定されるものではない。
図に示す(11は、この発明の電子線照射装置の一実施
例の要部斜視図である。 (2)は〆詰度制御型電子銃
、(3)は加速管、(4)は走査管、 (5a) (5
b)は走査コイル、(6)は照射窓で、これらは従来公
知の構成要素と同様である。
(7a) (7b)は水冷ジャケットで、走査管(4)
の側壁に、照射窓(6)の長手方向(Y方向)に沿って
、イ:1没されている。
また(8a) (8b)は偏向コイルで、走査コ・イル
(5a) (5b) と直角に配置されている。 走査
コイル(5a) (5b)は電子線を照射窓の長平方向
くY方向)に偏向させるものであるが、(晶向コイル(
8a)(8b)は電子線を照射窓の短手方向(X方向)
に偏向させるものである。
通常の電子線照射を行う際には、偏向コイル(8a) 
(8b)では第2図(alに示すように一定的な磁界と
して、第315!、+(^)に示すように電子線をX方
向において照射窓(6)の中央に位置させると共に、走
査コイル(5a) (5b)では第2図(blに示すよ
うに三角波的な磁界として、第3図(B)に示すように
電子線をY方向において往復走査する。
一方、電子線照射をオフするときには、偏向コイル(8
a) (8b)に第4図(alに示すように矩形波的な
磁界を発生させ、第5図(八)に示すように電子線をX
方向において走査管(4)の内側壁の水冷ジャケット(
7a) (7b)付設部分に入射させると共に、走査コ
イル(5a) (5b)では前記電子線照射の際と同様
にY方向において、往復走査する。 走査管(4)の内
側壁は電子線の入射により発熱するが、水冷ジャゲット
 (7a) (7b)により冷却されるので問題はない
電子線照射をオフからオンにするときには、偏向コイル
(lea) (llh)による磁界を前記電子線照射を
行う際の場合のような直流磁界に戻せばよい。
以上のように、この電子線照射装置(11では、電子銃
(2)を制御するのではなく、偏向コイル(8a)(8
b)の磁界を制御して電子線照射をオン・オフするもの
であるから、応答速度は充分速くなる。
(へ)効果 この発明の電子線照射装置によれば、電子線を偏向して
走査管の内壁に入射させることで電子線照射をオフし、
またその逆動作によって電子線照射をオンにするから、
電子銃の制御応答性に依らず、迅速に電子線照射をオン
・オフできるようになる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の電子線照射装置の一実施例の要部斜
視図、第2図は通常の電子線照射を行う際の磁界の特性
図、第3図は通常の電子線照射におりる電子線の説明図
、第4図は電子線照射をオフするときの第2図相当図、
第5図は電子線照射をオフするときの第3図相当図であ
る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ■、走査管に設LJられたスリット状の照射窓の長平方
    向に電子線が往復走査される走査形の電子線照射装置に
    おいて、 照射窓の周囲に沿って走査管の側壁に冷却ジャケットを
    付設すると共に、その冷却ジャヶソトイ」股部分に対応
    する走査管内壁部分に電子線を入射させるべく電子線を
    偏向させる偏向手段を設けたことを特徴とする電子線照
    射装置。
JP3367984A 1984-02-23 1984-02-23 電子線照射装置 Pending JPS60177537A (ja)

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JP3367984A JPS60177537A (ja) 1984-02-23 1984-02-23 電子線照射装置

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JPS60177537A true JPS60177537A (ja) 1985-09-11

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JP (1) JPS60177537A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013024557A (ja) * 2011-07-14 2013-02-04 Hamamatsu Photonics Kk 電子線照射装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013024557A (ja) * 2011-07-14 2013-02-04 Hamamatsu Photonics Kk 電子線照射装置

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