JPS60174250A - 金属の再溶解方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 コノ発明は、ＶＡＲ、ＩＢＲ、ＰＡＲ、ＶＡＤＥＲ等の
真空下或は不活性雰囲気下での金属の再溶解方法に関す
る。

ＭＡＲ−？　ＰＡＲでは鋳型との間にアークが発生し、
ＥＢＲでは強い電子ビームが発生する等、真空下或は不
活性雰囲気下での金属の再溶解方法においては鋳型を溶
けないようにするため水冷している。

第１図はＷＡＲ（真空アーク溶解法）の説明図である。

（Ｘ）は消耗屋電極、（１）は水冷銅鋳型で、電極（Ｘ
）と鋳型（１）の底部との間に発生するアークによルミ
極（Ｘ）を溶解し凝固させるものである。これは真空中
で行われるため、アークはマイルドであるが、電極（Ｘ
）から溶解した液滴が滴下し、鋳型（１）の内壁へ飛沫
となって飛び散シ、こむで冷却されカサブタ状になって
付着する。このカサブタ状スカル（Ｙ）　Ｕ溶解が進ん
で液面が上がっても完全に溶けることがなくインゴット
の表面に残る。これがインゴット表面を汚くし、このま
まで加工すると表面の疵を起点として割れが生じる等の
危険があるため、これを切削成鉱旋削除去する必要があ
シ、その分、歩留が低下し、加工費用も含めてコストア
ップにつながっていた。このような欠点は鋳型を水冷し
ているＩＢＲ−？　ＰＡＲにおいても同様に生じる。

本発明は上記した従来技術の欠点を改善するためになさ
れたもので、水冷鉤部の内周側に密着して消耗電極と同
−或は異種金属の消耗鋳型を置いて再溶解することを基
本的な特徴とするものである。

第２図は本発明法の説明図であシ、水冷鋳型（１）の内
周壁に筒状の消耗鋳型（２）を密着させて設置しである
。この鋳型（２）は消耗電極（Ｘ）と同一金属でも異種
金属でも良い。

この状態で溶解を行えば、カサブタ状スカル（Ｙ）が鋳
型（２）の内面に付着しても、鋳型（２）は間接的に冷
却されているだけなので溶融プールが上昇してくるとス
カル（Ｙ）と鋳型（２）の内面側を溶融して一体化する
。第３図がその状態を示すものでインゴット（ｚ）と鋳
型（２）との間に溶融帯域（α）が形成され一体化され
ている。鋳型（２）の外面側は水冷銅鋳型（１）に密着
し冷却されているため、そのままの形状を保ち、外面性
状良好なインゴットとなる。

鋳型（２〕に電極（Ｘ）とは異種の金属を用いた場合、
溶融帯域（α）拡合金属となシ、耐食性材料等の金属板
に被覆されたクラッドインゴットができる。

なお、第４図に示すように上広がシの水冷鋳型（１）と
ｍ礼１４２）を用いると、１４υ（２）の密着が良く、
型抜きも容易でかつサイドアークも発生し難い等の利点
がある。

以上述べたように本発明法によれば、表面性状の健全な
インゴットを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来法の説明図、第２図は本発明法の説明図、
第３図はインゴットの構造図、第４図は他の実施例の説
明図である。 図中、（１）・・・水冷銅鋳型、（２）・・・消耗鋳型
。 特許出願人　日本鋼管株式会社 発　明　者　１）　中　駿　− 同　吉　１）　泰　三 同　尾　関　昭　欠 間　細　１）　義　部 代理人弁理士　吉　原　省　三 第　１　図 第３図 第２図 第４図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 水冷鋳屋の内周側に密着して消耗電極と同−或は異種金
   属の消耗鋳型を置いて再溶解することを特徴とする金属
   の再溶解方法０