JPS60171649A - 情報円盤検査装置 - Google Patents
情報円盤検査装置Info
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- JPS60171649A JPS60171649A JP2597684A JP2597684A JPS60171649A JP S60171649 A JPS60171649 A JP S60171649A JP 2597684 A JP2597684 A JP 2597684A JP 2597684 A JP2597684 A JP 2597684A JP S60171649 A JPS60171649 A JP S60171649A
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- JP
- Japan
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B19/00—Driving, starting, stopping record carriers not specifically of filamentary or web form, or of supports therefor; Control thereof; Control of operating function ; Driving both disc and head
- G11B19/02—Control of operating function, e.g. switching from recording to reproducing
- G11B19/04—Arrangements for preventing, inhibiting, or warning against double recording on the same blank or against other recording or reproducing malfunctions
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B33/00—Constructional parts, details or accessories not provided for in the other groups of this subclass
- G11B33/10—Indicating arrangements; Warning arrangements
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は情報円盤上の欠陥を検出し、その欠陥の位置お
よび大きさを記録する欠陥検査装置に関する。
よび大きさを記録する欠陥検査装置に関する。
情報を凹凸の形で螺線状または同心円状Ｃ二記録するビ
デオディスクやデジタルオーディオディスクは、記録原
盤をもと（ニして、マスター、マザー。
デオディスクやデジタルオーディオディスクは、記録原
盤をもと（ニして、マスター、マザー。
スタンパ−とメッキ盤を作製し、これを金型としニブラ
スチック等を成形して製作される。情報が記録される凹
凸は幅０．５〜１μｍ長さ０５〜２μｍ程度の微小な大
きさであるので、キズやゴミが付着した場合（−は、情
報が失なわれ信号の再生ができなくなることがある。こ
のため、ディスクの製作の各工程、即ち原盤、メッキ盤
、ディスク等の欠陥の大きさや付着位置を検査し、許容
値以内のものを選ぶ必要がある。
スチック等を成形して製作される。情報が記録される凹
凸は幅０．５〜１μｍ長さ０５〜２μｍ程度の微小な大
きさであるので、キズやゴミが付着した場合（−は、情
報が失なわれ信号の再生ができなくなることがある。こ
のため、ディスクの製作の各工程、即ち原盤、メッキ盤
、ディスク等の欠陥の大きさや付着位置を検査し、許容
値以内のものを選ぶ必要がある。
この検査方法として従来、円盤上に光ビームを照射させ
、その反射回折光の強度変化を検出して欠陥を検出する
欠陥検査方法が知られている。欠陥の位置と大きさを記
録するには欠陥が検出された時点で、その位置の情報を
遂次記憶してゆき。
、その反射回折光の強度変化を検出して欠陥を検出する
欠陥検査方法が知られている。欠陥の位置と大きさを記
録するには欠陥が検出された時点で、その位置の情報を
遂次記憶してゆき。
次に欠陥が検出されると、それまで記憶されていた欠陥
の位置の情報すべてとその位置の情報を比較しモ処理す
る方法が一般的であった。
の位置の情報すべてとその位置の情報を比較しモ処理す
る方法が一般的であった。
しかし、この方法を用いて盤面上の欠陥の位置および大
きさを正確に記録するため（二は複雑なアルゴリズムを
必要とし、またその処理（二時間がか力）っていた。
きさを正確に記録するため（二は複雑なアルゴリズムを
必要とし、またその処理（二時間がか力）っていた。
また従来方法では被検査情報円盤上の全ての欠陥情報を
記憶するため、金属原盤等の比較的欠陥の多い原盤を検
査するとメモリーが不足し円盤全面を検査できなくなる
欠点があった。
記憶するため、金属原盤等の比較的欠陥の多い原盤を検
査するとメモリーが不足し円盤全面を検査できなくなる
欠点があった。
本発明はこのような事情を考はしてなされたもので、そ
の目的とするところは、ｔｌ検査情報円盤上の特定の欠
陥のみを選別し、その欠陥の位置および大きさを短時間
のうちＣ二正確（二検査することのできる欠陥検査装置
を提供すること蚤二ある。
の目的とするところは、ｔｌ検査情報円盤上の特定の欠
陥のみを選別し、その欠陥の位置および大きさを短時間
のうちＣ二正確（二検査することのできる欠陥検査装置
を提供すること蚤二ある。
本発明は、被検査情報円盤を円周方向に分割した複数の
領域の集まりと考え、それぞれの領域に対応したレジス
タ群をマイクロコンピュータのメモリー上（＝設定し、
回転する被検査情報円盤上の光ビームの照射される領域
（二対応したレジスタのアドレスを角度信号（二よって
生成し、そのレジスタの内容を欠陥検出信号の有無によ
って更新してゆき被検査円盤上の欠陥の半径方向の大き
さと反射率が高い欠陥か、反射率が低い欠陥かを示すフ
ラグを記録する。そして欠陥検出信号が同一角度上で連
続しなくなり欠陥の大きさが測定され終わった時Ｃ二、
欠陥の大きさと、反射率の変化方向が目的とする欠陥と
適合するか否かを判断し、適合する欠陥のみを記録する
ものである。
領域の集まりと考え、それぞれの領域に対応したレジス
タ群をマイクロコンピュータのメモリー上（＝設定し、
回転する被検査情報円盤上の光ビームの照射される領域
（二対応したレジスタのアドレスを角度信号（二よって
生成し、そのレジスタの内容を欠陥検出信号の有無によ
って更新してゆき被検査円盤上の欠陥の半径方向の大き
さと反射率が高い欠陥か、反射率が低い欠陥かを示すフ
ラグを記録する。そして欠陥検出信号が同一角度上で連
続しなくなり欠陥の大きさが測定され終わった時Ｃ二、
欠陥の大きさと、反射率の変化方向が目的とする欠陥と
適合するか否かを判断し、適合する欠陥のみを記録する
ものである。
本発明（二よると被検査円盤上の特定の大きさと反射率
を持つ欠陥のみを複雑なアルゴリズムな必要とせず、し
かも短時間で検査することができる。
を持つ欠陥のみを複雑なアルゴリズムな必要とせず、し
かも短時間で検査することができる。
また欠陥の数の多い場合（二も特徴的な欠陥のみを選別
して検査できるため、オーバーフローを起こすことなく
全面を検査できる。
して検査できるため、オーバーフローを起こすことなく
全面を検査できる。
以下、この発明を図面を参照しながら詳細（＝説明する
。第１図に本発明の一実施例の構成を示す。
。第１図に本発明の一実施例の構成を示す。
被検査情報円盤１１Ｕ、ディスク回転モータ１２により
一定の回転数で回転すると同時に送りモータ１３により
一定方向に一定速度で送られる。被検査情報円盤１１に
レーザー１４から発したレーザー光を照射し、その反射
光をビームスプリッタ１５（二より分岐させ、光検出器
１６によりその反射光強度を電気信号として取り出す。
一定の回転数で回転すると同時に送りモータ１３により
一定方向に一定速度で送られる。被検査情報円盤１１に
レーザー１４から発したレーザー光を照射し、その反射
光をビームスプリッタ１５（二より分岐させ、光検出器
１６によりその反射光強度を電気信号として取り出す。
ここでもし、被検査情報円盤１１上に欠陥があり、この
欠陥にレーザー光が当ると、その反射光強度が変化し、
光検出器１６によって変換された電気信号のレベルが変
化することになる。この信号を比較器１７で基準レベル
と比較し、それを越える場合に、欠陥を検出したと判断
する。基準レベルは反射率が大きくなる欠陥を検出する
レベルと１反射率の小さくなる欠陥を検出するレベルの
２種類を使用する。このようにして被検査円盤１１上を
レーザー光で螺線状（二走査し、円盤上のすべての欠陥
を電気信号として検出することができる。また欠陥の反
射率が大小どちらの方向（＝変化したかをも検出するこ
とができる。
欠陥にレーザー光が当ると、その反射光強度が変化し、
光検出器１６によって変換された電気信号のレベルが変
化することになる。この信号を比較器１７で基準レベル
と比較し、それを越える場合に、欠陥を検出したと判断
する。基準レベルは反射率が大きくなる欠陥を検出する
レベルと１反射率の小さくなる欠陥を検出するレベルの
２種類を使用する。このようにして被検査円盤１１上を
レーザー光で螺線状（二走査し、円盤上のすべての欠陥
を電気信号として検出することができる。また欠陥の反
射率が大小どちらの方向（＝変化したかをも検出するこ
とができる。
こうして得られた欠陥検出信号から欠陥の位置と大きさ
を計測するために、欠陥検出信号と欠陥の反射率変化の
極性を示す４３号をインターフェイス１８を介してマイ
クロコンピュータ１９に取り込ム。
を計測するために、欠陥検出信号と欠陥の反射率変化の
極性を示す４３号をインターフェイス１８を介してマイ
クロコンピュータ１９に取り込ム。
また、被検査円盤１１を複数の領域（二分割するための
角度信号を角度信号器１１０よりマイクロコンピュータ
１９に取り込む。得られた計測結果は表示器１１１より
出力される。
角度信号を角度信号器１１０よりマイクロコンピュータ
１９に取り込む。得られた計測結果は表示器１１１より
出力される。
第２図Ｃ二、欠陥と走査トランクの関係を示す。
欠陥２］は通常幾本かの走査トラックｎｉ：またがって
存在している。従って同一角度の領域洞内において、欠
陥２】が何本の走査トラックｎにまたがって存在してい
たかを知ることができれば、その本数（二走査トラック
ピッチ囚を乗じて欠陥２１の半径方向の大きさをめるこ
とができる。また、欠陥２］の半径方向の位置をめる（
二は、走査を開始してから欠陥２１の検出されたトラッ
クまでの走査トラック総数に先の走査トラックピッチお
を乗じ℃やればよい。
存在している。従って同一角度の領域洞内において、欠
陥２】が何本の走査トラックｎにまたがって存在してい
たかを知ることができれば、その本数（二走査トラック
ピッチ囚を乗じて欠陥２１の半径方向の大きさをめるこ
とができる。また、欠陥２］の半径方向の位置をめる（
二は、走査を開始してから欠陥２１の検出されたトラッ
クまでの走査トラック総数に先の走査トラックピッチお
を乗じ℃やればよい。
第３図は、角度信号により複数の領域（二分割された被
検査情報円盤とそれぞれの領域に対応したレジスタとの
対応を示したものである。例えば、被検査情報円盤加上
で分割された領域３ａは、メモリー３２上のレジスタ３
２ ａに対応する。
検査情報円盤とそれぞれの領域に対応したレジスタとの
対応を示したものである。例えば、被検査情報円盤加上
で分割された領域３ａは、メモリー３２上のレジスタ３
２ ａに対応する。
第４図は、第２図、及び第３図を用いて述べた欠陥の位
置と場所をめるための欠陥検査のアルゴリズムをフロー
チャートで示したものである。
置と場所をめるための欠陥検査のアルゴリズムをフロー
チャートで示したものである。
被検査情報円盤は角度信号（二よって複数の領域に分け
て検査を行なうが、このアルゴリズムでは１つの角度信
号を検出してから仄の角度信号、すなわち隣の領域が来
るまでに、その−領域内を検査する。まず、角度信号を
検出した後（二、欠陥検出信号の有無を判断する。もし
欠陥検出信号が検出されれば現在走査中のトランクの、
この領域（二おいて、新たな欠陥が検出されたか、また
はこの領域（二おいて前のトラックから継続して欠陥が
検出されているかのいずれかの場合（二相当するので。
て検査を行なうが、このアルゴリズムでは１つの角度信
号を検出してから仄の角度信号、すなわち隣の領域が来
るまでに、その−領域内を検査する。まず、角度信号を
検出した後（二、欠陥検出信号の有無を判断する。もし
欠陥検出信号が検出されれば現在走査中のトランクの、
この領域（二おいて、新たな欠陥が検出されたか、また
はこの領域（二おいて前のトラックから継続して欠陥が
検出されているかのいずれかの場合（二相当するので。
この唄域（＝対応したレジスタの内容（二１を加算する
。この繰り返しにより、この欠陥がこの領域（二おいて
何本の走査トラックに連続してまたがっているかを知る
ことができる。次に欠陥の反射率変化の極性信号を調べ
て例えば反射率上昇を示す欠陥（−はレジスタの最上位
桁等を利用してフラグを立てる。さらに角度信号数から
被検査円盤が１回転したか否かを判断し、１回転してい
れば走食トラック総数に１を加算する。先に述べたよう
（二この走査トラック総数は欠陥の半径を示すものであ
る。
。この繰り返しにより、この欠陥がこの領域（二おいて
何本の走査トラックに連続してまたがっているかを知る
ことができる。次に欠陥の反射率変化の極性信号を調べ
て例えば反射率上昇を示す欠陥（−はレジスタの最上位
桁等を利用してフラグを立てる。さらに角度信号数から
被検査円盤が１回転したか否かを判断し、１回転してい
れば走食トラック総数に１を加算する。先に述べたよう
（二この走査トラック総数は欠陥の半径を示すものであ
る。
一方、先の欠陥検出信号の有無の判断では、もし欠陥検
出信号が検出されない時４−は、次の２つの状態が考え
られる。第１は現在検査し又いる領域（二おい℃それ以
前の走査トラックから継続し又欠陥が存在していない場
合であり、第２は前の走査トラックオで続いていた欠陥
がこの走査トラックＣ：おい工は検出されなくなった場
合である。
出信号が検出されない時４−は、次の２つの状態が考え
られる。第１は現在検査し又いる領域（二おい℃それ以
前の走査トラックから継続し又欠陥が存在していない場
合であり、第２は前の走査トラックオで続いていた欠陥
がこの走査トラックＣ：おい工は検出されなくなった場
合である。
ここでもしこの領域に対応するレジスタの内容がゼロで
あれば、欠陥は前の走査トラック（＝は存在していない
ので、この領域の検査を終えて次の領域の検査の為に先
（二述べた角度信号数のチェック（二移る。また、レジ
スタの内容がゼロでない時には、これまで継続して存在
していた欠陥の終端が現在の走査トラックである。そこ
で今検出された欠陥が目的とする大きさと反射率変化の
極性（二適合するか否かを判断する。もし適合していれ
ばこのレジスタの内容を欠陥の半径方向の大きさと反射
率変化の極性のデータとしてマイクロコンピュータ上の
他のデータエリア（二格納する。マタ。
あれば、欠陥は前の走査トラック（＝は存在していない
ので、この領域の検査を終えて次の領域の検査の為に先
（二述べた角度信号数のチェック（二移る。また、レジ
スタの内容がゼロでない時には、これまで継続して存在
していた欠陥の終端が現在の走査トラックである。そこ
で今検出された欠陥が目的とする大きさと反射率変化の
極性（二適合するか否かを判断する。もし適合していれ
ばこのレジスタの内容を欠陥の半径方向の大きさと反射
率変化の極性のデータとしてマイクロコンピュータ上の
他のデータエリア（二格納する。マタ。
その際に半径方向の位置の情報として走査トラック総数
を、また角度の情報を先のデータエリアに格納する。さ
らに１次の走査トラックからの検査の為に、このレジス
タの内容をゼロにクリアして角度信号数チェックを行な
い、次の領域の検査へと移る。
を、また角度の情報を先のデータエリアに格納する。さ
らに１次の走査トラックからの検査の為に、このレジス
タの内容をゼロにクリアして角度信号数チェックを行な
い、次の領域の検査へと移る。
また、第４図中のオーバーフローチェックの項は、欠陥
が半径方向に長く、レジスタがオーバーフローを起す場
合（二それを分割していくつかの欠陥としてみなす為の
ものである。
が半径方向に長く、レジスタがオーバーフローを起す場
合（二それを分割していくつかの欠陥としてみなす為の
ものである。
このように本発明Ｃ二よれば、角度信号３二より分割さ
れた領域に対応するレジスタの内容（二反射変化の極性
を示すフラグを立てレジスタの内容を更新するのみで、
欠陥の位置、大きさ１反射率変化の極性を測定すること
ができ、さらに欠陥検出後その欠陥が目的とする大きさ
と反射率変化の極性に適合するか否かの判断も簡単に行
うことができる。従って被検査円盤上に多くの欠陥があ
る場合に、小さな欠陥を無視したり、または特徴的な大
きさと反射率変化の極性を持つ欠陥のみを選別して検出
することができる。
れた領域に対応するレジスタの内容（二反射変化の極性
を示すフラグを立てレジスタの内容を更新するのみで、
欠陥の位置、大きさ１反射率変化の極性を測定すること
ができ、さらに欠陥検出後その欠陥が目的とする大きさ
と反射率変化の極性に適合するか否かの判断も簡単に行
うことができる。従って被検査円盤上に多くの欠陥があ
る場合に、小さな欠陥を無視したり、または特徴的な大
きさと反射率変化の極性を持つ欠陥のみを選別して検出
することができる。
第１図は本発明の一実施例の構成を示す図５第２図は欠
陥と走査トラックの関係を示す図、第３図は被検査円盤
とメモリーマツプとの対応を示した図、第４図は欠陥検
査のアルゴリズムなフローチャートに示した図である。 １１・・・被検査情報円盤、］２・・・ディスク回転モ
ータ、１３・・・送りモータ、１４・・・レーデ−１１
５・・・ビームスプリンタ、１６・・・光検出器。 １７・・・比較器、１８・・・インターフェイス、１９
・・・マイクロコンピュータ。 １１０・・・角度信号器、 １１１・・・表示器。 ２ｊ・・・欠陥、 ２２・・・走査トラック、お・・・
走査トラックピッチ ２４−１．領Ｍ、（資）・・・被
検！情報円盤、３８〜３ｎ・・・領域。 ３２ａ〜３２ｎ・・・レジスタ。 代理人 弁理士 則近憲佑（はが１名）第 １ 図 第 ３ 図
陥と走査トラックの関係を示す図、第３図は被検査円盤
とメモリーマツプとの対応を示した図、第４図は欠陥検
査のアルゴリズムなフローチャートに示した図である。 １１・・・被検査情報円盤、］２・・・ディスク回転モ
ータ、１３・・・送りモータ、１４・・・レーデ−１１
５・・・ビームスプリンタ、１６・・・光検出器。 １７・・・比較器、１８・・・インターフェイス、１９
・・・マイクロコンピュータ。 １１０・・・角度信号器、 １１１・・・表示器。 ２ｊ・・・欠陥、 ２２・・・走査トラック、お・・・
走査トラックピッチ ２４−１．領Ｍ、（資）・・・被
検！情報円盤、３８〜３ｎ・・・領域。 ３２ａ〜３２ｎ・・・レジスタ。 代理人 弁理士 則近憲佑（はが１名）第 １ 図 第 ３ 図
Claims (1)
- 光源と、この光源から発射された光ビームを被検査情報
円盤に照射する手段と、この手段（−よる前記被検査情
報円盤からの反射光を検出して反射光の変化から反射率
の大きくなる欠陥と反射率の小さくなる欠陥な区別して
検出する手段と、前記被検査情報円盤の表面を角度方向
に分割した複数の領域に対応する複数のレジスタと、欠
陥の反射率の変化の極性を示すフラグと欠陥の大きさと
を示すレジスタの内容を更新する手段と、欠陥検出終了
時にレジスタの内容から欠陥の反射率変化の極性と大き
さがめるべき欠陥の反射率変化の極性と大きさに適合す
るか否かを判断する手段とを具備したことを特徴とする
情報円盤検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2597684A JPS60171649A (ja) | 1984-02-16 | 1984-02-16 | 情報円盤検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2597684A JPS60171649A (ja) | 1984-02-16 | 1984-02-16 | 情報円盤検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60171649A true JPS60171649A (ja) | 1985-09-05 |
Family
ID=12180756
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2597684A Pending JPS60171649A (ja) | 1984-02-16 | 1984-02-16 | 情報円盤検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60171649A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011122998A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Hitachi High-Technologies Corp | ディスクの表面欠陥検査方法および検査装置 |
-
1984
- 1984-02-16 JP JP2597684A patent/JPS60171649A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011122998A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Hitachi High-Technologies Corp | ディスクの表面欠陥検査方法および検査装置 |
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