JPS60167143A - 光学デイスク形成用スタンパ−の製造方法 - Google Patents
光学デイスク形成用スタンパ−の製造方法Info
- Publication number
- JPS60167143A JPS60167143A JP2082184A JP2082184A JPS60167143A JP S60167143 A JPS60167143 A JP S60167143A JP 2082184 A JP2082184 A JP 2082184A JP 2082184 A JP2082184 A JP 2082184A JP S60167143 A JPS60167143 A JP S60167143A
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- Japan
- Prior art keywords
- film
- stamper
- optical disc
- nickel
- thin film
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、光学ディスクに刻設されている微細パターン
を形成するだめの光学ディスク形成用スタンパ−の製造
方法に関する。
を形成するだめの光学ディスク形成用スタンパ−の製造
方法に関する。
従来、光学ディスクの製造に使用するスタンパ−は第１
図（−〜（ｅ）に示す方法によシ製造されていた。すな
わち、第１図（ａ）のようにガラス基板１にホトレジス
トを塗布してホトレジスト膜２とし、第１図（ｂ）のよ
うに露光、杭体により微細パターン３を形成する。欠に
第１図（ｃ）のように銀鏡無電解めっき、スパッタ又は
蒸着により金属薄膜４を形成する。ついで第１図（ｄ）
に示すように、この金属薄膜４を導電膜としてニッケル
めっき浴中で電鋳ニッケル膜５を形成する。めっき後第
１図（、）に示すように金属薄膜４とホトレジスト２の
界面で剥離することにより、ホトレジストに形成したパ
ターンを反転したパターンを有するスタンバ−が得られ
る。
図（−〜（ｅ）に示す方法によシ製造されていた。すな
わち、第１図（ａ）のようにガラス基板１にホトレジス
トを塗布してホトレジスト膜２とし、第１図（ｂ）のよ
うに露光、杭体により微細パターン３を形成する。欠に
第１図（ｃ）のように銀鏡無電解めっき、スパッタ又は
蒸着により金属薄膜４を形成する。ついで第１図（ｄ）
に示すように、この金属薄膜４を導電膜としてニッケル
めっき浴中で電鋳ニッケル膜５を形成する。めっき後第
１図（、）に示すように金属薄膜４とホトレジスト２の
界面で剥離することにより、ホトレジストに形成したパ
ターンを反転したパターンを有するスタンバ−が得られ
る。
光学ディスクは上記スタンバ−から射出成形法、２Ｐ法
（放射線硬化性ラッカーを用いて転写する方法）等によ
り、微細パターンを転写し、作成される。光学ディスク
には信号読取時のエラーを低減するため、微細パターン
の転写性が良いこと、複屈折が少ないこと、平担性が良
いこと等が要求される。
（放射線硬化性ラッカーを用いて転写する方法）等によ
り、微細パターンを転写し、作成される。光学ディスク
には信号読取時のエラーを低減するため、微細パターン
の転写性が良いこと、複屈折が少ないこと、平担性が良
いこと等が要求される。
２Ｐ法は転写性、複屈折等の面では優れているが、スタ
ンパ−を保持する除法のような欠点がめった。すなわち
、成形後のディスクの平担性を重視した場合、上記ニッ
ケル膜からなるスタンパ−を接着剤を介して、ガラス板
、金属板等により裏打ちした、いわゆる裏打ち補強法ス
タンバ−を使用しているが、転写性悪化の原因となる。
ンパ−を保持する除法のような欠点がめった。すなわち
、成形後のディスクの平担性を重視した場合、上記ニッ
ケル膜からなるスタンパ−を接着剤を介して、ガラス板
、金属板等により裏打ちした、いわゆる裏打ち補強法ス
タンバ−を使用しているが、転写性悪化の原因となる。
メタ／パー表面に蓄積した未反応の２Ｐラツカーを洗浄
するのが困難であるという点である。この点を改良した
方法として、上記ニッケル膜からなるスタンパ−を、直
接真空チャック又は電磁石等の磁力により、保持し、洗
浄を簡単にした方法も使用されているが、この方法では
、スタンパ−の膜厚が従来使用されていた０、２５〜Ｏ
１３龍のものではチャックした部分とチャックされてい
ない部分との間で、うねりを生じ、成形されたディスク
の平担性が悪化するという新たな欠点を生じた。
するのが困難であるという点である。この点を改良した
方法として、上記ニッケル膜からなるスタンパ−を、直
接真空チャック又は電磁石等の磁力により、保持し、洗
浄を簡単にした方法も使用されているが、この方法では
、スタンパ−の膜厚が従来使用されていた０、２５〜Ｏ
１３龍のものではチャックした部分とチャックされてい
ない部分との間で、うねりを生じ、成形されたディスク
の平担性が悪化するという新たな欠点を生じた。
本発明は上記した欠点を解消し、高性能の光ディスクを
成形できる光学ディスク形成用スタンパ−の製造方法を
提供することを目的としたものである。
成形できる光学ディスク形成用スタンパ−の製造方法を
提供することを目的としたものである。
すなわち本発明は、微細パターンを形成した原盤に、合
鏡、無電解めっき、スパッタ又は蒸着等の方法により、
金属薄膜を形成し、形成された金属薄１１茅を露出面と
するようにして１回転する陰極面上にとりつけ、ついで
ニッケルめっき浴中で上記金属薄膜上に電鋳ニッケル膜
を形成し、ついで銅めっき浴中で上記ニッケル膜上に電
鋳銅膜を形成して原盤から剥離することを特徴とする光
学ディスク形成用スタンパ−の製造方法である。
鏡、無電解めっき、スパッタ又は蒸着等の方法により、
金属薄膜を形成し、形成された金属薄１１茅を露出面と
するようにして１回転する陰極面上にとりつけ、ついで
ニッケルめっき浴中で上記金属薄膜上に電鋳ニッケル膜
を形成し、ついで銅めっき浴中で上記ニッケル膜上に電
鋳銅膜を形成して原盤から剥離することを特徴とする光
学ディスク形成用スタンパ−の製造方法である。
（発明の実施例）
以下本発明の実施例につき１図面を参照して説明する。
ｐ４２図（ａ）〜（ｆ）は本発明の光学ディスク形成用
スタンパ−の製造方法を工程順に示すものである。
スタンパ−の製造方法を工程順に示すものである。
先ず＋７！２図（ａ）のようにガラス基板１にホトレジ
ストを再生用レーザー波長λの１／８の厚みに塗布して
ホトレジスト膜２とし、ガラス原盤とする。
ストを再生用レーザー波長λの１／８の厚みに塗布して
ホトレジスト膜２とし、ガラス原盤とする。
このガラス原盤をレーザーを用−た記録機によシ情報に
対応して露光し、現像することにより微細パターン３を
形成したものが第２図（ｂ）である。次に第２図（ｃ）
のようにレジスト膜上に銀鏡、無電解めっき、スパッタ
又は蒸着により金属膜４を形成する。ついで第２図（ｄ
）に示すようにこの金属薄膜４を導電膜としてニッケル
めっき浴中で電鋳ニッケル膜５を形成する。
対応して露光し、現像することにより微細パターン３を
形成したものが第２図（ｂ）である。次に第２図（ｃ）
のようにレジスト膜上に銀鏡、無電解めっき、スパッタ
又は蒸着により金属膜４を形成する。ついで第２図（ｄ
）に示すようにこの金属薄膜４を導電膜としてニッケル
めっき浴中で電鋳ニッケル膜５を形成する。
このニッケルめっき浴の組成及びめっき条件を第１表に
示す。
示す。
第１表 ニッケルめりき浴の組成及びめっき条件電鋳ニ
ッケル膜の厚み社、 ５／ｊｍ〜１００／１ｍ、好まし
くは１０ｔ１ｍ〜５０ＩＲｎである。この理由は厚みが
５Ｒｎ以下では、後続する銅を鋳膜の厚みを増しても表
面硬度が低く、成形を繰返す間に、微細パターンが摩耗
したシ、イ取扱中に傷がつきやすい等の問題が生じ、ま
た１１００１ｔ以上に厚くしても表面硬度の増加は飽和
してしまって意味がないばかりか内部応力によりスタン
パ−が変形する等の欠点が生じるためである。
ッケル膜の厚み社、 ５／ｊｍ〜１００／１ｍ、好まし
くは１０ｔ１ｍ〜５０ＩＲｎである。この理由は厚みが
５Ｒｎ以下では、後続する銅を鋳膜の厚みを増しても表
面硬度が低く、成形を繰返す間に、微細パターンが摩耗
したシ、イ取扱中に傷がつきやすい等の問題が生じ、ま
た１１００１ｔ以上に厚くしても表面硬度の増加は飽和
してしまって意味がないばかりか内部応力によりスタン
パ−が変形する等の欠点が生じるためである。
次に第２図（ｅ）に示すように上記電鋳ニッケル膜上に
銅めりき浴中で電鋳銅膜６を形成する。
銅めりき浴中で電鋳銅膜６を形成する。
この銅めっき浴の組成及びめっき条件を第２表に示す。
第２表 鋼めっき浴の組成及びめっき条件電鋳銅膜の厚
みは、上記ニッケル膜との合計で０．８間〜５龍、好ま
しくは１顛〜３關である。この理由は、Ｑ、８ｍｓ以下
では、スタンバ−を保持する際、チャッキングによるう
ねシを生じ、成形されたディスクの平担性を充分改良で
きない欠点を有し、また５ １ｍ以上では平担性改良効
果は飽和してしまって、これ以上膜厚を増加しても意味
がないばかりか、電鋳に１２時間以上を要し、作業性が
悪くなるという新たな欠点が生ずるためである。
みは、上記ニッケル膜との合計で０．８間〜５龍、好ま
しくは１顛〜３關である。この理由は、Ｑ、８ｍｓ以下
では、スタンバ−を保持する際、チャッキングによるう
ねシを生じ、成形されたディスクの平担性を充分改良で
きない欠点を有し、また５ １ｍ以上では平担性改良効
果は飽和してしまって、これ以上膜厚を増加しても意味
がないばかりか、電鋳に１２時間以上を要し、作業性が
悪くなるという新たな欠点が生ずるためである。
めっき後、第２図（ｆ）に示すように、金属薄膜４とホ
トレジスト２の界面で剥離することにより、ホトレジス
トに形成したパターンを反転したパターンを有するスタ
ンバ−を得た。
トレジスト２の界面で剥離することにより、ホトレジス
トに形成したパターンを反転したパターンを有するスタ
ンバ−を得た。
このようにして得たスタンバ−を真実チャックにより保
持し、２Ｐ法によシ光学ディスク形成したところ、周方
向半径方向ともうねりは小きく、平担なものが得られた
。
持し、２Ｐ法によシ光学ディスク形成したところ、周方
向半径方向ともうねりは小きく、平担なものが得られた
。
以上の祝明及び実施例で明らかなように、本発明によれ
ば、スタンバ−の洗浄が簡単にできるため、長期間にわ
たシ、良好な転写性を維持できるとともに、スタンバ−
を保持した際、チャッキングによるうねりが生じないた
め、成形されたディスクの平担性が優れている、内部応
力の少ない調成＃によシ厚めつ１するため、歪が少ない
等、多くの利点を有するものでらる。
ば、スタンバ−の洗浄が簡単にできるため、長期間にわ
たシ、良好な転写性を維持できるとともに、スタンバ−
を保持した際、チャッキングによるうねりが生じないた
め、成形されたディスクの平担性が優れている、内部応
力の少ない調成＃によシ厚めつ１するため、歪が少ない
等、多くの利点を有するものでらる。
第１図（ａ）〜（ｅ）は従来方法によるスタンバ−の製
造工程、Ｆ１２図−）〜（ｆ）は本発明の方法によるス
タンバ−の製造工程を示す断面図である。 図において、１はガラス基板、２はホトレジスト膜、３
は微細パターン、４は金属薄膜、５は電鋳ニッケル膜、
６はｍ１ａｊ銅膜を示す。 代理人 弁理士 則 近 憲佑 （ほか１名） 第１図 （ＤＬ） （ムノ ６７ 第２図 （ＤＪ
造工程、Ｆ１２図−）〜（ｆ）は本発明の方法によるス
タンバ−の製造工程を示す断面図である。 図において、１はガラス基板、２はホトレジスト膜、３
は微細パターン、４は金属薄膜、５は電鋳ニッケル膜、
６はｍ１ａｊ銅膜を示す。 代理人 弁理士 則 近 憲佑 （ほか１名） 第１図 （ＤＬ） （ムノ ６７ 第２図 （ＤＪ
Claims (1)
- （１）微細パターンを形成した原盤に銀鏡、無電解めっ
き、スパッタ又は蒸着により金属薄膜を形成し、形成さ
れた金属薄膜を露出面とするようにして１回転する陰極
面上にとりつけ、ついでニッケルめっき浴中で、該金属
薄膜上に電鋳ニッケル膜を形成し、ついで銅めっき浴中
で該電鋳ニッケル膜上に電鋳銅膜を形成して原盤から剥
離することを特徴とする光学ディスク形成用スタンパ−
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2082184A JPS60167143A (ja) | 1984-02-09 | 1984-02-09 | 光学デイスク形成用スタンパ−の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2082184A JPS60167143A (ja) | 1984-02-09 | 1984-02-09 | 光学デイスク形成用スタンパ−の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60167143A true JPS60167143A (ja) | 1985-08-30 |
Family
ID=12037698
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2082184A Pending JPS60167143A (ja) | 1984-02-09 | 1984-02-09 | 光学デイスク形成用スタンパ−の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60167143A (ja) |
-
1984
- 1984-02-09 JP JP2082184A patent/JPS60167143A/ja active Pending
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