JPS6015987A - 発光素子 - Google Patents
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- JPS6015987A JPS6015987A JP58123225A JP12322583A JPS6015987A JP S6015987 A JPS6015987 A JP S6015987A JP 58123225 A JP58123225 A JP 58123225A JP 12322583 A JP12322583 A JP 12322583A JP S6015987 A JPS6015987 A JP S6015987A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
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- H01L33/645—Heat extraction or cooling elements the elements being electrically controlled, e.g. Peltier elements
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/024—Arrangements for thermal management
- H01S5/02407—Active cooling, e.g. the laser temperature is controlled by a thermo-electric cooler or water cooling
- H01S5/02415—Active cooling, e.g. the laser temperature is controlled by a thermo-electric cooler or water cooling by using a thermo-electric cooler [TEC], e.g. Peltier element
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- H01S5/0422—Electrical excitation ; Circuits therefor characterised by the semiconducting contacting layers with n- and p-contacts on the same side of the active layer
-
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- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
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- H01S5/06804—Stabilisation of laser output parameters by monitoring an external parameter, e.g. temperature
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は半導体素子、特に主素子部の温度検出モニタが
可能な半導体素子で、1ことえば発熱量の大きな半4体
レーザ装置に適用して有効な技術に関する。
可能な半導体素子で、1ことえば発熱量の大きな半4体
レーザ装置に適用して有効な技術に関する。
半導体レーザ装置はレーザ発振に伴なう発熱温度および
周囲温度に体めて影響を受け易く、これら温度によって
光出力の低下ならびに寿命劣化を来たすことがよく知ら
れている。このため、従来の半導体レーザ装置は、たと
えば、日経エレクトロニクス(1981年9月14日号
)の138〜152貞にも記載されているように、半導
体レーザ素子(レーザチップ)をCu、Si等のような
熱伝導性の良好な放熱板(サブマウント)、を介して、
Cuのステムに固定されたCuのヒートシンクに固定し
た構造とし、レーザ発振に伴なう熱の速やかな放散によ
る温度上昇阻止を図るとともに、受光素子で光出力をモ
ニタし、このモニタ情報に基いてレーザチップの動作電
流Z制御することによって光出力の一定化を図っている
。
周囲温度に体めて影響を受け易く、これら温度によって
光出力の低下ならびに寿命劣化を来たすことがよく知ら
れている。このため、従来の半導体レーザ装置は、たと
えば、日経エレクトロニクス(1981年9月14日号
)の138〜152貞にも記載されているように、半導
体レーザ素子(レーザチップ)をCu、Si等のような
熱伝導性の良好な放熱板(サブマウント)、を介して、
Cuのステムに固定されたCuのヒートシンクに固定し
た構造とし、レーザ発振に伴なう熱の速やかな放散によ
る温度上昇阻止を図るとともに、受光素子で光出力をモ
ニタし、このモニタ情報に基いてレーザチップの動作電
流Z制御することによって光出力の一定化を図っている
。
しかし、この構造では周囲温度が高すぎたり、あるいは
低すぎたりした場合には効果的な光出力制御は難しい。
低すぎたりした場合には効果的な光出力制御は難しい。
そこで、従来、熱電冷却素子を用いてレーザチップの温
度乞制御して光出力を一定に保つ技術が提案(特開昭5
0−81695号公報記載の技術)されている。また、
この半導体レーザ装置6ではレーザチップはCuのサブ
マウントに固定された構造となっている。
度乞制御して光出力を一定に保つ技術が提案(特開昭5
0−81695号公報記載の技術)されている。また、
この半導体レーザ装置6ではレーザチップはCuのサブ
マウントに固定された構造となっている。
しかし、この半導体レーザ装置は直接温度検出をする構
造ではなく、光出力であるレーザ光の光強度を受光素子
によって検出し、光強度の大小に対応させて熱電冷却素
子の制御を行ない、レーザチップの温度制御を行なう構
造であるために、周囲温度に対して規定の光出力を得る
のに限外がある。
造ではなく、光出力であるレーザ光の光強度を受光素子
によって検出し、光強度の大小に対応させて熱電冷却素
子の制御を行ない、レーザチップの温度制御を行なう構
造であるために、周囲温度に対して規定の光出力を得る
のに限外がある。
そこで、本出願人は前記の問題点を解消する技術を開発
し1こ。
し1こ。
すなわち、この開発技術はpn接合ダイオードは温度特
性を有していることに着目し、レーザチップを取り付け
ろサブマウント乞pn接合ダイメーードの形成ができる
シリコンとし、このシリコンからなるサブマウントの一
部に温度検出用のpn接合ダイオードを構成し、サブマ
ウントの温度検出によって間接的にレーザチップの温度
を検出し、この検出情報に基いて熱電冷却素子を制御し
て光出力の安定化7図っている。
性を有していることに着目し、レーザチップを取り付け
ろサブマウント乞pn接合ダイメーードの形成ができる
シリコンとし、このシリコンからなるサブマウントの一
部に温度検出用のpn接合ダイオードを構成し、サブマ
ウントの温度検出によって間接的にレーザチップの温度
を検出し、この検出情報に基いて熱電冷却素子を制御し
て光出力の安定化7図っている。
しかし、このような技術においても、発熱部7有するレ
ーザチップの温度ン直接検出する構造でないため、たと
えば、サブマウントにレーザチップを固定するソルダの
接着状況によって熱抵抗が微妙に変化し、レーザチップ
の温度状況を高精度に検出でき難いという問題点が生じ
るということが本発明者によってあきらかとされた。
ーザチップの温度ン直接検出する構造でないため、たと
えば、サブマウントにレーザチップを固定するソルダの
接着状況によって熱抵抗が微妙に変化し、レーザチップ
の温度状況を高精度に検出でき難いという問題点が生じ
るということが本発明者によってあきらかとされた。
一方、本発明者はpn接合〃イオードはシリコン以外の
化合物半導体に形成したものであっても、シリコンのp
n接合と同様に温度特性を有する(たとえば、1982
年9月1日付発行の光通信ハンドブック、163頁には
、閾電流密度の温度依存性が記載されている。)ことに
気が付き、レーザチップにモノリシックに温度検出用素
子を設ける本発明を成した。
化合物半導体に形成したものであっても、シリコンのp
n接合と同様に温度特性を有する(たとえば、1982
年9月1日付発行の光通信ハンドブック、163頁には
、閾電流密度の温度依存性が記載されている。)ことに
気が付き、レーザチップにモノリシックに温度検出用素
子を設ける本発明を成した。
本発明の目的は半導体素子自体の温度検出を高精度に検
出することができる半導体素子を提供することにある。
出することができる半導体素子を提供することにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述およびざX付図面からあきらかになるで
あろう。
本明細書の記述およびざX付図面からあきらかになるで
あろう。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、本発明は、レーザ発振が行なわれる共振器(
王素子部)乞形成した化合物半導体からなる半導体レー
ザ素子の一部分に、温度検出用のpn接合ダイオード(
温度検出素子部)を組み込んだ素子構造とすることによ
り、直接半導体レーザ素子の温度ビ検出できるため、高
精度な半導体レーザ素子温度の検出が達成できろ。
王素子部)乞形成した化合物半導体からなる半導体レー
ザ素子の一部分に、温度検出用のpn接合ダイオード(
温度検出素子部)を組み込んだ素子構造とすることによ
り、直接半導体レーザ素子の温度ビ検出できるため、高
精度な半導体レーザ素子温度の検出が達成できろ。
〔実施例1〕
第1図は本発明の一実施例による半導体レーザ装置の要
部7示す斜視図、第2図は同じく要部の概念図である。
部7示す斜視図、第2図は同じく要部の概念図である。
半導体レーザ装置は第1図に示すように、6本のり一部
1を絶縁的に貫通固定したCuからなるステム2を基に
して構成されている。すなわち、ステム2の主面中央に
は熱電冷却素子3が固着され、この熱電冷却素子3上に
は熱放散のためのCuの金属支持板(ヒートシンク)4
が固着されている。ヒートシンク4は基部5とこの基部
5の主面から矢出する支柱部6とからなり、支柱部6に
は半導体レーザ素子(レーザチップ)7を固定したSi
からなるサブマウント8が固着されている。
1を絶縁的に貫通固定したCuからなるステム2を基に
して構成されている。すなわち、ステム2の主面中央に
は熱電冷却素子3が固着され、この熱電冷却素子3上に
は熱放散のためのCuの金属支持板(ヒートシンク)4
が固着されている。ヒートシンク4は基部5とこの基部
5の主面から矢出する支柱部6とからなり、支柱部6に
は半導体レーザ素子(レーザチップ)7を固定したSi
からなるサブマウント8が固着されている。
レーザチップ7はレーザ光9を上方および下方に向けて
それぞれ発光するようになっている。そして、前記ヒー
トシンク40基部5の主面には、下方に進むレーザ光9
を検出し、レーザ光強度(光出力)を検出する受光素子
10が固定されている。
それぞれ発光するようになっている。そして、前記ヒー
トシンク40基部5の主面には、下方に進むレーザ光9
を検出し、レーザ光強度(光出力)を検出する受光素子
10が固定されている。
なお、受光素子面で反射したレーザ光が上方の供述する
窓から外部に出ないようにするために、基部5の主面を
傾斜させ受光素子面が傾斜するようになっている。これ
は上方に発光されたレーザ光9の遠視野像の乱れを生じ
させない配慮によるものである。
窓から外部に出ないようにするために、基部5の主面を
傾斜させ受光素子面が傾斜するようになっている。これ
は上方に発光されたレーザ光9の遠視野像の乱れを生じ
させない配慮によるものである。
また、前記レーザチップ7は第2図のように、レーザ光
9を発光する半導体レーザ部(主県子部)11と、この
半導体レーサ部11の温度を検出する温度検出素子部1
2をモノリシックに形成した構造となっている。そして
、このレーザチップ7および受光素子10の各電極はス
テム2に突出した所定のリード1とワイヤ13を介して
電気的に接続されている。さらに、ステム2の主面には
金絹製のキャンプ14が気密的に取り付けられ、前記レ
ーザチップ7等を気密的に封止している。また、前記キ
ャップ】4の天井部分は開口されるとともに、この開口
部には透明なガラス板15が気密的に取り付けられてレ
ーザ光9が透過する窓16が形成されている。
9を発光する半導体レーザ部(主県子部)11と、この
半導体レーサ部11の温度を検出する温度検出素子部1
2をモノリシックに形成した構造となっている。そして
、このレーザチップ7および受光素子10の各電極はス
テム2に突出した所定のリード1とワイヤ13を介して
電気的に接続されている。さらに、ステム2の主面には
金絹製のキャンプ14が気密的に取り付けられ、前記レ
ーザチップ7等を気密的に封止している。また、前記キ
ャップ】4の天井部分は開口されるとともに、この開口
部には透明なガラス板15が気密的に取り付けられてレ
ーザ光9が透過する窓16が形成されている。
ここで、レーザチップ7および熱電冷却素子3等の関係
について説明する。第2図はレーザチップ7および熱電
冷却素子3等の関係を示す概念図である。熱電冷却素子
3はヒートシンク4.サブマウント8を介してレーザチ
ップ7乞冷却するものであって、複数のサーモ・モジュ
ールパネル17゜それらを挾むセラミック板18.19
および一方のセラミック板]9に設けられたプラス端子
20とマイナス端子2】とから構成されている。また、
熱電冷却素子3の一方のセラミック板18(吸熱板)上
には固着材22を介してヒートシンク4(第2図では概
念的に単なる平板で示す。構造上問題ない場合はこのヒ
ートジンクは不要となる。)が固定され、このヒートシ
ンク4にはレーーy−y−ツブ7をソルダ23を介して
固定したサブマウント8がソルダ24によって固定され
ている。なお、サブマウント8はその表面にAu層25
が形成され、ソルダ23,24との濡れ性が良好となる
ようになっている。
について説明する。第2図はレーザチップ7および熱電
冷却素子3等の関係を示す概念図である。熱電冷却素子
3はヒートシンク4.サブマウント8を介してレーザチ
ップ7乞冷却するものであって、複数のサーモ・モジュ
ールパネル17゜それらを挾むセラミック板18.19
および一方のセラミック板]9に設けられたプラス端子
20とマイナス端子2】とから構成されている。また、
熱電冷却素子3の一方のセラミック板18(吸熱板)上
には固着材22を介してヒートシンク4(第2図では概
念的に単なる平板で示す。構造上問題ない場合はこのヒ
ートジンクは不要となる。)が固定され、このヒートシ
ンク4にはレーーy−y−ツブ7をソルダ23を介して
固定したサブマウント8がソルダ24によって固定され
ている。なお、サブマウント8はその表面にAu層25
が形成され、ソルダ23,24との濡れ性が良好となる
ようになっている。
レーザチップ7は一般によく知られたタブルーテロ構造
のプレーナ型であり、裏返し状態となってp電極面がサ
ブマウント8に対面するようにしテ固定(ジャンクショ
ン・ダウン固定構造)されている。プレーナ型は同図で
示すように、n −GaAsの基板26上に順次n−G
aA−gAsのn−クラッド層27.’GaAsの活性
層28. p −GaA−gAsのp−クラソド層29
+ n−GaAsのキャップ層30を積層した構造とな
り、キャップ層30上にはp形電極31.基板26面に
はn形電極32がそれぞれ・形成されている。また、p
形電極31とのコンタクト層33として、キャップ層3
0およびp−クラッド層29の中間部分に亘ってZnが
拡散されている。そして、p’n形電極31.32間に
所定の電圧を印加すると、前記コンタクト層33下の活
性層部分(共振器)でレーザ発振が起き、端面の襞開面
からレーザ光を発光する。
のプレーナ型であり、裏返し状態となってp電極面がサ
ブマウント8に対面するようにしテ固定(ジャンクショ
ン・ダウン固定構造)されている。プレーナ型は同図で
示すように、n −GaAsの基板26上に順次n−G
aA−gAsのn−クラッド層27.’GaAsの活性
層28. p −GaA−gAsのp−クラソド層29
+ n−GaAsのキャップ層30を積層した構造とな
り、キャップ層30上にはp形電極31.基板26面に
はn形電極32がそれぞれ・形成されている。また、p
形電極31とのコンタクト層33として、キャップ層3
0およびp−クラッド層29の中間部分に亘ってZnが
拡散されている。そして、p’n形電極31.32間に
所定の電圧を印加すると、前記コンタクト層33下の活
性層部分(共振器)でレーザ発振が起き、端面の襞開面
からレーザ光を発光する。
ところで、本発明では、このようなレーザ光ヲ発振する
共振器等からなる主素子部11、より正確に説明するな
らば主素子部11を構成するチップの温度ン検出ずろ温
度検出素子部12が設けられている。この温度検出素子
部12はn形の基板26の表層部にp影領域34を形成
することによって得られたpH接合ダイオードによって
形成され、温度変化に伴なつj順方向電圧変化によって
主素子部11の温度をモニタするようKなっている。
共振器等からなる主素子部11、より正確に説明するな
らば主素子部11を構成するチップの温度ン検出ずろ温
度検出素子部12が設けられている。この温度検出素子
部12はn形の基板26の表層部にp影領域34を形成
することによって得られたpH接合ダイオードによって
形成され、温度変化に伴なつj順方向電圧変化によって
主素子部11の温度をモニタするようKなっている。
なお、図中35は絶縁膜、36はpn接合夕゛イオード
のp形電極である。
のp形電極である。
このような素子群において、前記熱電冷却素子3および
温度検出素子部12は詳説はしない自動温度制御回路(
A T C) 37に接続され、温度検出素子部12の
検出情報に基いて熱電冷却素子3を動作させ、レーザチ
ップ7が所望温度となるように制御するようになってい
る。すなわち、レーサチ・プ7は熱電冷却素子3の冷却
面(吸熱面)側に配設されている。したがって、レーザ
発振に伴なうレーザチップ7の不所望な温度上昇、ある
いは周囲温度によるレーザチップ7の不所望な温度上昇
は、温度検出素子部12の検出情報に基く熱電冷却素子
3の冷却効果によって阻止され、レーザチップ7は常に
所望の温度下でレーザ発振を行なうことになる。したが
って、レーザ発振による動作電流も低くかつ安定するた
め、レーザチップの素子寿命の劣化防止等が可能となり
、高信頼度の半導体レーザ装置を提供ずろことができる
ようになる。
温度検出素子部12は詳説はしない自動温度制御回路(
A T C) 37に接続され、温度検出素子部12の
検出情報に基いて熱電冷却素子3を動作させ、レーザチ
ップ7が所望温度となるように制御するようになってい
る。すなわち、レーサチ・プ7は熱電冷却素子3の冷却
面(吸熱面)側に配設されている。したがって、レーザ
発振に伴なうレーザチップ7の不所望な温度上昇、ある
いは周囲温度によるレーザチップ7の不所望な温度上昇
は、温度検出素子部12の検出情報に基く熱電冷却素子
3の冷却効果によって阻止され、レーザチップ7は常に
所望の温度下でレーザ発振を行なうことになる。したが
って、レーザ発振による動作電流も低くかつ安定するた
め、レーザチップの素子寿命の劣化防止等が可能となり
、高信頼度の半導体レーザ装置を提供ずろことができる
ようになる。
〔実施例2〕
第3図(a)〜(c)はレーザチップの他の構造例を示
すものであって、いずれも半導体レーザ部である主素子
部11および温度検出素子部12がモノリシックに形成
されている。
すものであって、いずれも半導体レーザ部である主素子
部11および温度検出素子部12がモノリシックに形成
されている。
同図(a)は前記実施例と同様にプレーナ型のレーザチ
ップ7であるが温度検出素子部12はキャップ層30に
形成しである。このレーザチップ7のサブマウントへの
搭載は、ジャンクション・アンプで固定すればサブマウ
ントに全面を固着でき、固定が容易である。ジャンクシ
ョン・アソフでは、サブマウントを熱伝導性の良好なS
iCとすれば充分使用に耐える。
ップ7であるが温度検出素子部12はキャップ層30に
形成しである。このレーザチップ7のサブマウントへの
搭載は、ジャンクション・アンプで固定すればサブマウ
ントに全面を固着でき、固定が容易である。ジャンクシ
ョン・アソフでは、サブマウントを熱伝導性の良好なS
iCとすれば充分使用に耐える。
同図(b)、 (c)は一般に良く知られた埋込みへテ
ロ構造のレーザチップ7に温度検出素子部12乞設けた
例を示す、このレーザチップ7はn−GaAsの基板2
6の主面中央にn −G a AA A sのn−クラ
ッド層27.GaAsの活性層28.p−GaA−i(
Asのp−クラッド層29.n−GaAsのキャップ層
30をストライプ状に有するとともに、このストライプ
部分の両側にp−GaA−gAsのブロッキング層38
゜n −G a A−/J A sの埋込み層39Y埋
込み形成した構造であり、同図(b)ではn形の埋込ツ
メ層39に温度検出素子部12欠形成し、同図(c)で
はn形の基板26に温度検出素子部12を形成したもの
であり、実施例1で示すレーザチップと同様に使用でき
同様の効果ケ得るこ、ト・ができる。なお、図中実施例
1のレーザチップ7の構成部分と同様な構成部分は説明
ケ%略し指示符号はそのまま使用した。
ロ構造のレーザチップ7に温度検出素子部12乞設けた
例を示す、このレーザチップ7はn−GaAsの基板2
6の主面中央にn −G a AA A sのn−クラ
ッド層27.GaAsの活性層28.p−GaA−i(
Asのp−クラッド層29.n−GaAsのキャップ層
30をストライプ状に有するとともに、このストライプ
部分の両側にp−GaA−gAsのブロッキング層38
゜n −G a A−/J A sの埋込み層39Y埋
込み形成した構造であり、同図(b)ではn形の埋込ツ
メ層39に温度検出素子部12欠形成し、同図(c)で
はn形の基板26に温度検出素子部12を形成したもの
であり、実施例1で示すレーザチップと同様に使用でき
同様の効果ケ得るこ、ト・ができる。なお、図中実施例
1のレーザチップ7の構成部分と同様な構成部分は説明
ケ%略し指示符号はそのまま使用した。
(1)半導体レーザ素子部(主素子部)を形成する同一
チ・・プ内に温度検出素子部を形成しているため、チッ
プの温度を高精度に検出することができるという効果が
得られる。
チ・・プ内に温度検出素子部を形成しているため、チッ
プの温度を高精度に検出することができるという効果が
得られる。
(21半導体レーザ装置として温度検出素子部を有する
半導体レーザ素子に、この半導体レーザ素子の温度制御
をする熱電冷却素子を付加させることによって、半導体
レーザ素子ン所望の低温度下で動作させることができろ
ため、動作電流を低く抑えることも可能となり、半導体
レーザ素子の劣化防止が図れる。したがって、高品質、
尚信頼度により長寿命の半導体レーザ装置を提供するこ
とができるという効果が得られる、 (3) 上記(2)のように、温度検出素子部は半導体
レーザ素子を形成したチップ内に化ノリシックに組み込
まれていることから、温度供出素子という構成体が多く
なっても、半導体レーザ装置は大型化しないという効果
が得られる。
半導体レーザ素子に、この半導体レーザ素子の温度制御
をする熱電冷却素子を付加させることによって、半導体
レーザ素子ン所望の低温度下で動作させることができろ
ため、動作電流を低く抑えることも可能となり、半導体
レーザ素子の劣化防止が図れる。したがって、高品質、
尚信頼度により長寿命の半導体レーザ装置を提供するこ
とができるという効果が得られる、 (3) 上記(2)のように、温度検出素子部は半導体
レーザ素子を形成したチップ内に化ノリシックに組み込
まれていることから、温度供出素子という構成体が多く
なっても、半導体レーザ装置は大型化しないという効果
が得られる。
(4)上記(21のように、レーザチップには温度検出
素子部が組み込まれていることから、レーザチップどし
、て(・土、チップの温度検出も可能となり、多機能(
ヒし、高付加価値を生み出ずという効果が得られる。
素子部が組み込まれていることから、レーザチップどし
、て(・土、チップの温度検出も可能となり、多機能(
ヒし、高付加価値を生み出ずという効果が得られる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例にもとづき
具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されろ
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で棟々変史可
能であることはいうまでもない。
具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されろ
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で棟々変史可
能であることはいうまでもない。
fことえば、レーザチップ構造は′#施例以外の各種構
造にも同様に逆用できるとともに、レーザチップを構成
部ろ半導体はGaA彫As系り、外の半導体、1ことえ
ば畏波長元を発揚するInGaA−&As系等であって
も同様に実施でき同様σ)効果を得ろことができる。
造にも同様に逆用できるとともに、レーザチップを構成
部ろ半導体はGaA彫As系り、外の半導体、1ことえ
ば畏波長元を発揚するInGaA−&As系等であって
も同様に実施でき同様σ)効果を得ろことができる。
以−ヒの説明では主として本発明者によってなされた発
明をその背景となった利用分野である半導体レーザ技術
に適用した場合について説明したが、それに限定される
ものではなく、たとえば、発光り“イオード、受光素子
さらには他の半導体装置にも適用できる。本発明は半得
体基体に少なくとも温度特性が敏感な素子が組み込まれ
ている製品群に対して適用できる。
明をその背景となった利用分野である半導体レーザ技術
に適用した場合について説明したが、それに限定される
ものではなく、たとえば、発光り“イオード、受光素子
さらには他の半導体装置にも適用できる。本発明は半得
体基体に少なくとも温度特性が敏感な素子が組み込まれ
ている製品群に対して適用できる。
第1図は本発明の一実施例による半導体レーザ装置の要
部を示す斜視図、 第2図は同じく要部の概念図、 第3図(a)〜(C)は他の実施例による半導体レーザ
素子の断面図である。 1・・リード、2・・・ステム、3 熱電冷却素子、4
・・・金属支持板(ヒートシンク)、5・基部、6・・
・支柱部、7・・半導体レーザ素子(レーザチップ)、
8・・サブマウント、9・・レーザ光、10・・・受光
素子、11・・・主素子部(半導体レーザ部)、12・
・・温度検出素子部、13・・・ワイヤ、14・・キャ
ップ、15・・ガラス板、16・・・窓、17・・・サ
ーモ・モジュールハネル、18.19・・・セラミック
板、20・・・プラス端子、21・・・マイナス端子、
22・・・固着材、23.24・・・ソルタ、25・・
・Au層、26・・・基板、27・・・n−クラッド層
、2B・・・活性層、29・・・p−クラッド層、30
・・・キャップ層、31・・・n形電極、32・・・n
形電極、33・・・コンタクト層、34・・・p影領域
、35・・・絶縁膜、36・・・n形電極、37・・自
動温度制御回路、38・・プロ・キング層、39・・埋
込み層。 第 1 図 第 2 図 第 3 図 (0−)
部を示す斜視図、 第2図は同じく要部の概念図、 第3図(a)〜(C)は他の実施例による半導体レーザ
素子の断面図である。 1・・リード、2・・・ステム、3 熱電冷却素子、4
・・・金属支持板(ヒートシンク)、5・基部、6・・
・支柱部、7・・半導体レーザ素子(レーザチップ)、
8・・サブマウント、9・・レーザ光、10・・・受光
素子、11・・・主素子部(半導体レーザ部)、12・
・・温度検出素子部、13・・・ワイヤ、14・・キャ
ップ、15・・ガラス板、16・・・窓、17・・・サ
ーモ・モジュールハネル、18.19・・・セラミック
板、20・・・プラス端子、21・・・マイナス端子、
22・・・固着材、23.24・・・ソルタ、25・・
・Au層、26・・・基板、27・・・n−クラッド層
、2B・・・活性層、29・・・p−クラッド層、30
・・・キャップ層、31・・・n形電極、32・・・n
形電極、33・・・コンタクト層、34・・・p影領域
、35・・・絶縁膜、36・・・n形電極、37・・自
動温度制御回路、38・・プロ・キング層、39・・埋
込み層。 第 1 図 第 2 図 第 3 図 (0−)
Claims (1)
- ■。同−半dfi体基体内に光出射領域と該光出射領域
の温度を検出するだめの温度検出素子とを具備すること
を特徴とする発光素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58123225A JPS6015987A (ja) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | 発光素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58123225A JPS6015987A (ja) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | 発光素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6015987A true JPS6015987A (ja) | 1985-01-26 |
Family
ID=14855296
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58123225A Pending JPS6015987A (ja) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | 発光素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6015987A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998054802A1 (en) * | 1997-05-30 | 1998-12-03 | Videojet Systems International, Inc. | Laser diode module with integral cooling |
WO1999021251A1 (de) * | 1997-10-18 | 1999-04-29 | Deutsche Telekom Ag | Halbleiterlaserchip |
WO2000065699A3 (en) * | 1999-04-16 | 2001-03-01 | Sarnoff Corp | Semiconductor diode lasers with thermal sensor control of the active region temperature |
US20180287347A1 (en) * | 2017-03-30 | 2018-10-04 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical semiconductor device |
-
1983
- 1983-07-08 JP JP58123225A patent/JPS6015987A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998054802A1 (en) * | 1997-05-30 | 1998-12-03 | Videojet Systems International, Inc. | Laser diode module with integral cooling |
US6072814A (en) * | 1997-05-30 | 2000-06-06 | Videojet Systems International, Inc | Laser diode module with integral cooling |
WO1999021251A1 (de) * | 1997-10-18 | 1999-04-29 | Deutsche Telekom Ag | Halbleiterlaserchip |
US6829263B1 (en) | 1997-10-18 | 2004-12-07 | Deutsche Telekom Ag | Semiconductor laser |
WO2000065699A3 (en) * | 1999-04-16 | 2001-03-01 | Sarnoff Corp | Semiconductor diode lasers with thermal sensor control of the active region temperature |
US20180287347A1 (en) * | 2017-03-30 | 2018-10-04 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical semiconductor device |
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