JPS60157281A - Gas laser oscillation device - Google Patents
Gas laser oscillation deviceInfo
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- JPS60157281A JPS60157281A JP1235084A JP1235084A JPS60157281A JP S60157281 A JPS60157281 A JP S60157281A JP 1235084 A JP1235084 A JP 1235084A JP 1235084 A JP1235084 A JP 1235084A JP S60157281 A JPS60157281 A JP S60157281A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、レーザ媒質を放電励起し連続パルス発振を行
うガスレーザ発振装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a gas laser oscillation device that excites a laser medium by discharge and generates continuous pulse oscillation.
従来例の構成とその問題点
近年、レーザ加工において、連続パルス発振によるレー
ザ出力を用いた加工が主流になってきている。さらに加
工時間を短縮するためにも レーザピークパワーの著し
いレーザパルスパワーが8以下、図面の第1図、第2図
を参照しながら従来例について説明を行う。Conventional configuration and problems thereof In recent years, in laser processing, processing using continuous pulse oscillation laser output has become mainstream. Furthermore, in order to shorten the processing time, a conventional example in which the laser pulse power with a significant laser peak power is 8 or less will be explained with reference to FIGS. 1 and 2 of the drawings.
第1図は従来のガスレーザ発振装置の放電電流制御回路
の一部を示すものである。第1図において、1は放電管
、1aはそのアノード側の′1[L極、1bはカソード
側の電極、2は高耐圧真空管、3はトランジスタ、4は
電流制限のだめの抵抗であり、図のように結線されてい
る。FIG. 1 shows part of a discharge current control circuit of a conventional gas laser oscillation device. In Fig. 1, 1 is a discharge tube, 1a is an L pole on the anode side, 1b is an electrode on the cathode side, 2 is a high-voltage vacuum tube, 3 is a transistor, 4 is a resistor for current limiting. It is wired as follows.
捷だ、第2図は第1図における放電電流制御回路で連続
パルス発振をしたときの、放電電流波形とレーザビーム
パワーの波形を示したものである3、つぎに従来の連続
パルス発振の動作についてrjj)、明する。Figure 2 shows the discharge current waveform and laser beam power waveform when continuous pulse oscillation is performed by the discharge current control circuit in Figure 1. 3. Next is the operation of conventional continuous pulse oscillation. About rjj), I will explain.
アノード側電極1aとカソード側電極1bの間を流れる
放電電流は、高制圧真空11g2のツノノートにかケた
バイアス電圧をトランジスタ30オン、オフでもって制
御することにより制御される。ずibち、前記トランジ
スタ3のベースにオン、オフのパルス信号を印加するこ
とにより、連続バルしかしながら、上記のような構成で
は、パルスのオン、オフ時間が0.1mS以下になると
、第2図に示すように放電おくれが影響し、放電電流工
の波形およびレーザビームパワーPの波形がみだれ、う
まく連続パルス発振をさせることが不可能となる。第2
図において、破線は、前記トランジスタ3のベース信号
波形である。The discharge current flowing between the anode side electrode 1a and the cathode side electrode 1b is controlled by controlling the bias voltage across the horn of the high pressure vacuum 11g2 by turning the transistor 30 on and off. By applying an on/off pulse signal to the base of the transistor 3, however, in the above configuration, when the on/off time of the pulse becomes 0.1 mS or less, as shown in FIG. As shown in the figure, the discharge delay affects the waveform of the discharge current and the waveform of the laser beam power P, making it impossible to perform continuous pulse oscillation properly. Second
In the figure, the broken line is the base signal waveform of the transistor 3.
したがって、この放電の不安定さが連続パルス発振時の
レーザビームパワーに影響し、高速加工時に悪影響を及
ぼしていることがわかった。Therefore, it was found that the instability of this discharge affected the laser beam power during continuous pulse oscillation, and had an adverse effect on high-speed machining.
そこで、0.I InS以下のパルスでも安定したレー
ザビームパワーが得られるようなガスレーザ発振装置の
開発が望まれていた。Therefore, 0. It has been desired to develop a gas laser oscillation device that can obtain stable laser beam power even with pulses of I InS or less.
発明の目的
本発明は上記欠点に鑑み、0.1mS以下のパルス幅に
おいても安定なレーザビームパワーを得ることのできる
ガスレーザ発振装置を提供することを目的とするもので
ある○
発明の構成
この目的を達成するだめに本発明のガスレーザ発振装置
は、レーザ媒質を放電によって励起し、連続パルス発振
を行うガスレーザ発振装置において、放電管の電極の一
方に直列に抵抗の一端を接続し、かつ他方の電極と前記
抵抗の他端との間にコンデンサを接続したものである。Purpose of the Invention In view of the above drawbacks, it is an object of the present invention to provide a gas laser oscillation device that can obtain stable laser beam power even with a pulse width of 0.1 mS or less. In order to achieve this, the gas laser oscillation device of the present invention excites a laser medium by discharge and performs continuous pulse oscillation, in which one end of a resistor is connected in series with one of the electrodes of the discharge tube, and the other end is connected in series with one end of the electrode of the discharge tube. A capacitor is connected between the electrode and the other end of the resistor.
実施例の説明
以下、本発明の一実施例について図面の第3図、第4図
を参照しながら説明する。DESCRIPTION OF THE EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 3 and 4 of the drawings.
第3図は本発明の一実施例におけるカスレーザ発振装置
の放電電流制御回路の一部を示すもので8る。1.1a
、1b12.3.4は従来と同様の放電管、アノード側
電極、カソード側電極、高耐圧真空管、トランジスタ、
電流制限のだめの抵抗である。また5は放電管1のカソ
ード側電極1bと真空管2のプレート間に接続された抵
抗、6は抵抗5のカソード側電極1bとは反対側の端と
ア □ノード側電極1aとの間に接続されたコンデンサ
である。FIG. 3 shows a part of the discharge current control circuit of the Cas laser oscillation device in one embodiment of the present invention. 1.1a
, 1b12.3.4 is the same discharge tube, anode side electrode, cathode side electrode, high voltage vacuum tube, transistor,
This is a current limiting resistor. Further, 5 is a resistor connected between the cathode side electrode 1b of the discharge tube 1 and the plate of the vacuum tube 2, and 6 is connected between the end of the resistor 5 on the opposite side from the cathode side electrode 1b and the anode side electrode 1a. It is a capacitor that has been
以下、第3図の回路動作を説明する。The operation of the circuit shown in FIG. 3 will be explained below.
壕ず、トランジスタ3がオフのとき、コンデンサ6の両
端には、高耐圧真空管2によるプレート電圧と、印加電
圧との電位差がかかっており、その電位差分だけ充電さ
れている。When the transistor 3 is off, a potential difference between the plate voltage of the high voltage vacuum tube 2 and the applied voltage is applied to both ends of the capacitor 6, and the capacitor 6 is charged by the potential difference.
つぎに、前記トランジスタ3がオンになると、前記高耐
圧真空管2のプレート電圧は数kV降下し、放電電流が
流れ始める。その時、同時に前記コンデンサ6の充電が
さらに進められる。そして前記高耐圧真空管2がオフに
なると、はとんどの放電電流はカットオフされる。とこ
ろがこのとき放電管1のアノード側電極1亀、カソード
側電極1bおよび抵抗5およびコンデンサ6による閉回
路中を、前記コンデンサ6に蓄えられたエネルギーが微
少電流として流れる。このとき流れる微少電流の量と流
れ続ける時間は、前記抵抗6の抵抗値と、前記コンデン
サ6の容量値に依存する。すなわち、この微少電流によ
ってパルスオフ時間中レーザ媒質をイオン化状態に保つ
ことができるので、次のパルス発振が円滑に行える。Next, when the transistor 3 is turned on, the plate voltage of the high voltage vacuum tube 2 drops by several kV, and a discharge current begins to flow. At that time, charging of the capacitor 6 is further progressed at the same time. When the high voltage vacuum tube 2 is turned off, most of the discharge current is cut off. However, at this time, the energy stored in the capacitor 6 flows as a minute current in a closed circuit formed by the anode side electrode 1 of the discharge tube 1, the cathode side electrode 1b, the resistor 5, and the capacitor 6. The amount of minute current flowing at this time and the time it continues to flow depend on the resistance value of the resistor 6 and the capacitance value of the capacitor 6. That is, the laser medium can be kept in an ionized state during the pulse-off period by this small current, so that the next pulse oscillation can be performed smoothly.
第4図は第3図における連続パルス発振時の放電電流工
o の波形およびビームパワーPOの波形およびトラン
ジスタ30ベース信号の波形を示したものであるっ
第4図と第2図を比較してわかるように、放電電流の波
形も歪がほとんどなく安定して流れている。まだ、ビー
ムパワーも増大され、しかもピークパワーの高いパルス
出力を得ることが可能になっていることが明らかである
。Figure 4 shows the waveforms of the discharge current 0, beam power PO, and transistor 30 base signal during continuous pulse oscillation in Figure 3. Comparing Figure 4 and Figure 2, As can be seen, the waveform of the discharge current also flows stably with almost no distortion. It is clear that the beam power has also been increased and it has become possible to obtain a pulse output with a high peak power.
発明の効果
以上のように本発明は、パルス出力の増大と安定性を、
特にパルス幅が0.1ms以下においても確保するとと
を可能にし、精度がきわめて高く高速加工が可能になり
、優れた効果を奏するものである。Effects of the Invention As described above, the present invention improves the increase and stability of pulse output.
In particular, it is possible to maintain pulse width even when the pulse width is 0.1 ms or less, and extremely high precision and high-speed machining are possible, resulting in excellent effects.
第1図は従来のガスレーザ発振装置の放電電流制御回路
図、第2図は同従来例における特性図、第3図は本発明
の一実施例におけるガスレーザ発振装置の放電電流制御
回路図、第4図は同実施例における特性図である。
1・・・・・・放電管、1a、1b・・・・電極、2・
・・・・・高耐圧真空管、3・・・・・・トランジスタ
、4,5・・・抵抗、6・ コンデンサ。
代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図
第2図
Of 02
ヒーーパルス時間(惰S)□−−−−H第3図
a
第4図
OL 0.2FIG. 1 is a discharge current control circuit diagram of a conventional gas laser oscillation device, FIG. 2 is a characteristic diagram of the conventional example, FIG. 3 is a discharge current control circuit diagram of a gas laser oscillation device according to an embodiment of the present invention, and FIG. The figure is a characteristic diagram in the same example. 1...discharge tube, 1a, 1b...electrode, 2...
...High voltage vacuum tube, 3...Transistor, 4, 5...Resistor, 6. Capacitor. Name of agent: Patent attorney Toshio Nakao and 1 other person No. 1
Figure 2 Of 02 Heat pulse time (inertia S) ----H Figure 3 a Figure 4 OL 0.2
Claims (1)
ガスレーザ発振装置において、放電管の電極の一方に直
列に抵抗の一端を接続し、かつ他方の電極と 前記抵抗
の他端との間にコンデンサを接続したガスレーザ発振装
置。In a gas laser oscillation device that excites a laser medium by discharge to generate continuous pulse oscillation, one end of a resistor is connected in series to one of the electrodes of the discharge tube, and a capacitor is connected between the other electrode and the other end of the resistor. gas laser oscillation device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1235084A JPS60157281A (en) | 1984-01-25 | 1984-01-25 | Gas laser oscillation device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1235084A JPS60157281A (en) | 1984-01-25 | 1984-01-25 | Gas laser oscillation device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60157281A true JPS60157281A (en) | 1985-08-17 |
Family
ID=11802829
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1235084A Pending JPS60157281A (en) | 1984-01-25 | 1984-01-25 | Gas laser oscillation device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60157281A (en) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5285333A (en) * | 1976-01-02 | 1977-07-15 | Coherent Radiation | Power source for pulse raser |
JPS54140893A (en) * | 1978-04-24 | 1979-11-01 | Nec Corp | Laser unit |
-
1984
- 1984-01-25 JP JP1235084A patent/JPS60157281A/en active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5285333A (en) * | 1976-01-02 | 1977-07-15 | Coherent Radiation | Power source for pulse raser |
JPS54140893A (en) * | 1978-04-24 | 1979-11-01 | Nec Corp | Laser unit |
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