JPS6015251B2 - optical demultiplexer - Google Patents

optical demultiplexer

Info

Publication number
JPS6015251B2
JPS6015251B2 JP222679A JP222679A JPS6015251B2 JP S6015251 B2 JPS6015251 B2 JP S6015251B2 JP 222679 A JP222679 A JP 222679A JP 222679 A JP222679 A JP 222679A JP S6015251 B2 JPS6015251 B2 JP S6015251B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mode
waveguide
light
optical
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP222679A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5595928A (en
Inventor
修 三上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP222679A priority Critical patent/JPS6015251B2/en
Publication of JPS5595928A publication Critical patent/JPS5595928A/en
Publication of JPS6015251B2 publication Critical patent/JPS6015251B2/en
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、光伝送システムあるいは光集積回路において
用いられるTM・TEモード分波器に関するものである
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a TM/TE mode duplexer used in optical transmission systems or optical integrated circuits.

偏波面が90o異なる直線偏波光を分離する素子として
は従来複屈折結晶からなるプリズム等が知られている。
A prism made of a birefringent crystal is conventionally known as an element for separating linearly polarized light whose polarization planes differ by 90 degrees.

例えばWallaston(ウオラストン)プリズム、
R比hon(ローション)プリズムがあり、これらのプ
リズムの平行光を入射すると、これを通過した方向は2
つに分かれ、各々が互いに垂直に振動する直線偏波光と
なる。しかしながら、これらのプリズムはバルク構造で
あり導波路化されていないため、光伝送システムあるい
は光集積回路に適用することは難かしい。光フアイバあ
るいは光導波路などの導波構造中を伝搬する光波に対し
て、偏波方向のちがし、により光分波の作用を有するも
のとしては第1図に示すものがある。
For example, Wallaston prism,
There are R ratio hon (rotion) prisms, and when parallel light from these prisms is incident, the direction of passing through it is 2.
The light is divided into two parts, each of which becomes a linearly polarized light that vibrates perpendicularly to the other. However, since these prisms have a bulk structure and are not formed into a waveguide, it is difficult to apply them to optical transmission systems or optical integrated circuits. There is a device shown in FIG. 1 that has the effect of splitting light by changing the polarization direction of light waves propagating in a waveguide structure such as an optical fiber or an optical waveguide.

基板1の表面近傍に作成された光導波路2の表面に金属
膜3を装荷した構造になっている。基板に垂直な偏波面
5−1をもつTMモードの伝搬光に対して、金属膜は非
常に大きな吸収を生じる。一方、基板に平行な偏波面5
一2をもつTEモード‘こ対しては吸収をほとんど生じ
ない。したがってこの導波路2に入射された光はTEモ
ード成分のみが低い伝搬損失で通過し、TMモード成分
は通過するとはできない。すなわち、TEモード通過フ
ィル夕として作用する。この構造ではTMモード通過フ
ィル夕はできない。TMおよびTEモードのいずれか一
方のみを通過できるフィル夕としては、第2図に示すも
のがある。2本の導波路間の光結合を利用するものであ
り、基板1の表面に平面導波路2および4が作成され、
とくに平面光導波路4は、光の伝搬方向に対して垂直方
向に厚みが変化されテーパ状となっている。
It has a structure in which a metal film 3 is loaded on the surface of an optical waveguide 2 formed near the surface of a substrate 1. The metal film produces a very large absorption of TM mode propagating light having a polarization plane 5-1 perpendicular to the substrate. On the other hand, the plane of polarization 5 parallel to the substrate
For the TE mode with -2, almost no absorption occurs. Therefore, of the light incident on the waveguide 2, only the TE mode component passes through with low propagation loss, and the TM mode component cannot pass through. That is, it acts as a TE mode passing filter. This structure does not allow a TM mode pass filter. FIG. 2 shows a filter that can pass only one of the TM and TE modes. It utilizes optical coupling between two waveguides, and planar waveguides 2 and 4 are created on the surface of the substrate 1.
In particular, the planar optical waveguide 4 has a tapered shape whose thickness changes in a direction perpendicular to the light propagation direction.

6は両導波路より屈折率が小さい中間層である。6 is an intermediate layer having a smaller refractive index than both waveguides.

いま導波路2,4の伝搬定数を3,、32とし、光結合
係数をCとする。導波路の厚みおよび屈折率を適当に選
べば、TMモー日こ対して8,=82、またTMモード
に対してl3,一82AI》Cとすることができる。こ
の結果、両導波路の間でTMモードのみが結合され、光
パワーが他の導波路へ移る。したがって導波路2に光7
を入射すると、TEモードは結合されることなく導波路
2を光8として通過する。一方TMモードへ導波路4に
結合され、かつ導波路4はテーパ構造となっているため
、結合したTMモ−ドの伝搬光9は光路を曲げて進行す
るので、TMモードとTEモード‘ま空間的に分離され
る。TMモードとTEモードを入替えても、伝搬定数を
そのように設定すれば同じことが成立つ。この場合、導
波路を3次元化することが不可能であり、光フアィバと
の接続ができないという問題があった。従って本発明の
技術の上記各欠点を改善することを目的とし、その特徴
は、電気光学効果を有する物質による基板と、基板の表
面近傍にもうけられる平行近接した長さ1の結合領域を
有する1対の同じ構成の光導波路と、一方の光導波路の
表面に装荷される金属膜電極と、mlo<1く(m+2
)lo(mは自然数、loは結合領域のTEモード‘こ
対する100%結合長)を満足するmの値に従って長さ
1を光の伝播方向に(m+1)分割し、分割領域毎にバ
ッファ層を介してもう一つの光導波路の上又は光導波路
からずらして光導波路と平行にもうけられる電極と、該
電極と前記金属膜電極を介して少なくとも一方の光導波
路に分割領域毎に交互に符号の異なる電位差を与える手
段とを有するごとき光分波器にある。以下図面による実
施例を説明する。第3図は本発明の一実施例であり、電
気光学効果を有する物質から成る基板1の表面の2本の
直線導波路2,4が作成されている。
Let us now assume that the propagation constants of the waveguides 2 and 4 are 3, 32, and the optical coupling coefficient is C. By appropriately selecting the thickness and refractive index of the waveguide, it is possible to obtain 8,=82 for the TM mode, and l3,-82AI》C for the TM mode. As a result, only the TM mode is coupled between both waveguides, and the optical power is transferred to the other waveguide. Therefore, the light 7 in the waveguide 2
When the TE mode is incident, the TE mode passes through the waveguide 2 as light 8 without being coupled. On the other hand, since the TM mode is coupled to the waveguide 4 and the waveguide 4 has a tapered structure, the coupled propagation light 9 of the TM mode bends the optical path and travels, so the TM mode and the TE mode' spatially separated. Even if the TM mode and the TE mode are exchanged, the same thing will hold true if the propagation constant is set in this way. In this case, there was a problem in that it was impossible to make the waveguide three-dimensional, and it was impossible to connect it to an optical fiber. Therefore, it is an object of the present invention to improve the above-mentioned drawbacks of the technology, and its features include a substrate made of a substance having an electro-optic effect, and a bonding region having a length of 1 in parallel and close to each other near the surface of the substrate. A pair of optical waveguides with the same configuration and a metal film electrode loaded on the surface of one optical waveguide, mlo<1 (m+2
) lo (m is a natural number, lo is 100% coupling length for the TE mode of the coupling region), and the length 1 is divided into (m+1) in the light propagation direction according to the value of m that satisfies the TE mode of the coupling region. an electrode provided on top of another optical waveguide or parallel to the optical waveguide at a position offset from the optical waveguide; The optical demultiplexer includes means for providing different potential differences. Examples will be described below with reference to the drawings. FIG. 3 shows an embodiment of the present invention, in which two straight waveguides 2 and 4 are formed on the surface of a substrate 1 made of a substance having an electro-optic effect.

両導波路が平行近接した結合領域10の長さを1とする
。導波路4の表面には金属膜11が、ストリップ状に装
荷されている。また導波路2の上にはフアイバ層12を
装荷した上に、長さ1/2のストリップ状電極13−1
,13−2が設けられている。ここで電気光学効果を有
する物質としては、LINO03に代表される強諺電体
結晶あるいはGaAsに代表される半導体結晶であり、
外部電界の印如によって物質の屈折率が変化する特性を
有する。以後LiNb03を例として説明を行う。Li
Nの3単結晶を基板とした場合は、導波路2,4はパタ
ーン化したTi金属等を熱拡散することによって作成す
ることができる。基板表面に垂直な偏波面5−1をもつ
導波光をTMモード、平行な偏波面5−2をもつ導波光
をTEモードを称する。TEモード光に対する100%
結合長をloとし、結合部長川こ対してloく1く乳o
の関係が成立すると仮定する。TMモード光に対する1
00%結合長に対する制限はない。一般に2本の導波路
間の光結合を考える場合、それぞれの導波路(ここでは
2,4)の伝搬送数をa,、82とした時、l8,一3
2 l》Cならば両者間での光結合は生じない。Cは結
合係数であり、C=汀/21。で与えられる。また一般
に導波略の表面に金属膜を装荷するとTMモード光に対
して大きな吸収を生じるとともに伝搬定数が著しく小さ
くなる。TEモードに対しては金属膜装荷の影響は小さ
い。したがってTMモードに対してはI8,一82 l
》Cの条件が満たされ、導波勝間の光結合は生じない。
一方、TEモードに対しては金属膜装荷に伴う伝搬定数
の変化は小さいため、8,と82とはほぼ等しく光結合
が生じる。前述したごとくTEモードに関する結合は1
。く1く3。なる関係が成立している。この時結合領域
を2分割し、互いに符号が異なる位相差を導波路2,4
の間に誘起することにより、100%結合を実現するこ
とができる。これについては伍EE 、Joumal
of Q雌nt山m ElectronicsVol1
2、p396(1976)の日.Kogelnik氏ら
の論文に説明されている。このため導波路2の上に2枚
の蝿極13−1,13一2が設けられている。電極が導
波光に及ぼす影響、例えば光吸収と伝搬定数の変化、を
無くすため、屈折率や導波路より小さいバッファ層12
が設けられている。バッファ層としてはAI203やS
i02を用いることができる。導波路4の上に装荷され
た金属膜を共通接地のための電極として用い、電極13
−1,13−2にそれぞれ符号が逆の電圧V,,V2を
印放し、その電圧を調整することにより、TEモード‘
こ対して100%結合を実現できる。基板1において分
極軸14は基板表面に垂直とする。外部から電圧を印加
すると、電極の真下に符号が異なる電界が集中する。こ
の様子を第4図に示す。第4図は第3図の断面図であり
、第3図と同一のものは同じ番号をつけた。15は印加
電界である。
Let the length of the coupling region 10 in which both waveguides are parallel and close to each other be 1. A metal film 11 is loaded on the surface of the waveguide 4 in the form of a strip. Further, a fiber layer 12 is loaded on the waveguide 2, and a strip-shaped electrode 13-1 with a length of 1/2 is loaded.
, 13-2 are provided. Here, the substance having an electro-optic effect is a ferroelectric crystal represented by LINO03 or a semiconductor crystal represented by GaAs.
It has the characteristic that the refractive index of the substance changes depending on the influence of an external electric field. Hereinafter, a description will be given using LiNb03 as an example. Li
When a single crystal of N is used as the substrate, the waveguides 2 and 4 can be created by thermally diffusing patterned Ti metal or the like. Guided light having a plane of polarization 5-1 perpendicular to the substrate surface is referred to as TM mode, and guided light having a plane of polarization 5-2 parallel to the substrate surface is referred to as TE mode. 100% for TE mode light
The length of the bond is lo, and the length of the bond is lo x 1 milk o
Assume that the relationship holds true. 1 for TM mode light
There is no limit to 00% bond length. Generally, when considering optical coupling between two waveguides, when the number of propagation carriers of each waveguide (here 2, 4) is a, 82, l8, -3
2 l》C, no optical coupling occurs between the two. C is a coupling coefficient, C=Tai/21. is given by Furthermore, in general, when a metal film is loaded on the surface of a waveguide, a large amount of absorption occurs for TM mode light, and the propagation constant becomes extremely small. For TE mode, the effect of metal film loading is small. Therefore, for TM mode I8, -82 l
>>Condition C is satisfied, and no optical coupling occurs between the waveguides.
On the other hand, for the TE mode, since the change in the propagation constant due to metal film loading is small, optical coupling occurs almost equally between 8 and 82. As mentioned above, the connection regarding TE mode is 1
. Ku1ku3. A relationship has been established. At this time, the coupling region is divided into two, and the phase differences with different signs are applied to the waveguides 2 and 4.
100% binding can be achieved by inducing between Regarding this, please refer to 5EE, Joumal
of Q Female nt Yamam ElectronicsVol1
2, p396 (1976). As explained in the paper by Kogelnik et al. For this purpose, two fly poles 13-1 and 13-2 are provided on the waveguide 2. In order to eliminate the influence that the electrode has on the guided light, such as changes in light absorption and propagation constant, a buffer layer 12 with a smaller refractive index and smaller than that of the waveguide is used.
is provided. AI203 or S is used as a buffer layer.
i02 can be used. The metal film loaded on the waveguide 4 is used as an electrode for common grounding, and the electrode 13
TE mode'
On the other hand, 100% coupling can be achieved. In the substrate 1, the polarization axis 14 is perpendicular to the substrate surface. When a voltage is applied from the outside, electric fields with different signs concentrate directly below the electrode. This situation is shown in FIG. FIG. 4 is a sectional view of FIG. 3, and the same parts as in FIG. 3 are given the same numbers. 15 is an applied electric field.

このため導波路2,4のそれぞれの伝搬定数が一方は増
加し、他方は減少する。この結果、両導波略の間に位相
差が生じ、かつ印加電圧y,,V2の符号により2分割
された結合領域で譲起される位相差の符号が異なる。し
たがって第3図において導波路2にレーザ光7を入射す
るとTMモード光は導波路4へ結合されることなく、導
波路2を進み出射光8として取出される。
Therefore, the propagation constants of the waveguides 2 and 4 increase for one and decrease for the other. As a result, a phase difference occurs between the two waveguides, and the sign of the phase difference generated in the coupling region divided into two differs depending on the sign of the applied voltages y, , V2. Therefore, in FIG. 3, when the laser beam 7 is incident on the waveguide 2, the TM mode light is not coupled to the waveguide 4, but proceeds through the waveguide 2 and is extracted as an output beam 8.

一方TEモード光は導波路4へ100%結合し出射光9
として取出される。TEモード光に対して100%結合
を生じるための電圧を印加した時に生じる伝搬定数の変
化は、金属膜装荷による誘起されたTMモード光に対す
る伝搬定数の変化に比較して十分小さいため、TMモー
ド光への影響は小さい。したがって電圧印加によっても
TMモードの非結合の条件がくずされることはない。こ
こではTEモードに対する結合度がlo<1<3oの場
合について述べたが、mlo<1く(m十2)loの場
合も同様である。ここでm=1、2、3、……である。
つぎに第5図は本発明の別の実施例であり、第3図、第
4図と同じものは同一番号をつけている。
On the other hand, the TE mode light is 100% coupled to the waveguide 4 and the output light 9
is extracted as The change in propagation constant that occurs when a voltage is applied to produce 100% coupling for TE mode light is sufficiently small compared to the change in propagation constant for TM mode light induced by metal film loading; The effect on light is small. Therefore, the non-coupling condition of the TM mode is not destroyed even by applying a voltage. Although the case where the degree of coupling with respect to the TE mode is lo<1<3o has been described here, the same applies to the case where mlo<1<1<1>lo. Here, m=1, 2, 3, . . .
Next, FIG. 5 shows another embodiment of the present invention, and the same parts as in FIGS. 3 and 4 are given the same numbers.

この場合、分割電極はm=1の場合を示しているが、他
の場合でも同様である。分割電極13ーーおよび13−
2は導波路2の上にではなく、金属膜11を装荷した導
波路4の近傍に設けられている。したがって第3図の実
施例で示したバッファ層12は必要とされない。印加電
界15は、導波路4において集中し、その伝搬定数82
を変えることにより、導波路間に所望の位相差を与える
ことができる。導波路2へ入射された光7は、TMモー
ド光8は結合することなく導波路2より出射する。一方
TEモード光9は所定の電圧印加により導波路4へ10
0%結合する。第5図においては分割電極13一1.1
3一2は導波路4の外側に設けられているが、導波略2
の外側に設けても同様である。第6図は本発明の別の実
施例であり、基板1の分極軸14は基板表面に平行であ
る。
In this case, the divided electrode shows the case where m=1, but the same applies to other cases. Split electrodes 13-- and 13-
2 is provided not on the waveguide 2 but near the waveguide 4 loaded with the metal film 11. Therefore, the buffer layer 12 shown in the embodiment of FIG. 3 is not required. The applied electric field 15 is concentrated in the waveguide 4 and its propagation constant 82
By changing , a desired phase difference can be given between the waveguides. The light 7 incident on the waveguide 2 exits from the waveguide 2 without being coupled with the TM mode light 8. On the other hand, the TE mode light 9 is transferred to the waveguide 4 by applying a predetermined voltage.
0% binding. In FIG. 5, the divided electrode 13-1.1
3 and 2 are provided outside the waveguide 4;
The same applies if it is provided outside of the . FIG. 6 shows another embodiment of the invention, in which the polarization axis 14 of the substrate 1 is parallel to the substrate surface.

通常、電気光学効果は印放電界が分極軸と平行な場合に
もっとも効率よく屈折率変化を生じる。したがってこ一
の場合、分割電極13−1,13−2を導波路2をはさ
むように設ける。バッファ層12は必要としない。導波
路2において分極軸と平行な印加電界15によって屈折
率が変化し、所望の位相差を与えることができる。導波
路2に光7を入射すると、TMモード光8は結合を生じ
ず、導波路2より出射する。またTEモード光9は10
0%結合を生じ、導波路4から出射する。つぎに第3図
に示した構造の実施例についての実験結果を述べる。
Generally, the electro-optic effect produces a refractive index change most efficiently when the applied discharge field is parallel to the polarization axis. Therefore, in this case, the divided electrodes 13-1 and 13-2 are provided so as to sandwich the waveguide 2 therebetween. Buffer layer 12 is not required. In the waveguide 2, the refractive index is changed by an applied electric field 15 parallel to the polarization axis, and a desired phase difference can be provided. When the light 7 enters the waveguide 2, the TM mode light 8 is emitted from the waveguide 2 without coupling. Also, TE mode light 9 is 10
0% coupling occurs and the light is emitted from the waveguide 4. Next, experimental results regarding the embodiment of the structure shown in FIG. 3 will be described.

C板LiNb03を基板とし、Ti金属を約500人ス
パッタした後2本の直線導波路状にパターン化する。寸
法は導波路幅8仏肌、間隔51の結合部長1=16肋で
ある。これを1030℃、lq時間大気中にて熱拡散す
ると光方向性結合器が作成される。基板の両端面を研摩
た後、一方の導波路(■とする)上に約3000A厚の
AIをストリップ状に装荷する。つぎにバッファ層とし
て山203を約2000A厚蒸着した後、他方の導波路
(■とする)上に2分割電極をAIで形成する。各電極
の長さは8柵、幅10山肌である。金属膜および電極の
形成以前にレーザ光を入射し結合特性を把握した。この
結果1.15山肌光に対してTMモ−ドは10312欄
、TEモードは10ご8帆であることが判明した。した
がってTEモード‘こ対してloく1<乳oの関係が成
立している。各電極にV,ご18V、V2ご24V程度
を印加した時TEモードは100%結合を生じた。TM
モードは結合することなく入射導波路をそのまま通過し
た。得られたクロストークはTM・TEモードとも約2
MBであった。以上説明したように本発明は、‘1’3
次元の導波略緩造であること、‘2)TM・TEモード
を同時に分波できること及び{3}分波された各モード
が空間的に分離することなどの特徴を有しているので光
フアィバあるいは光集積回路において用いることができ
る。
Using a C plate LiNb03 as a substrate, approximately 500 Ti metals were sputtered and then patterned into two straight waveguides. The dimensions are a waveguide width of 8 squares, a coupling length of 1=16 ribs with a spacing of 51. By thermally diffusing this in the atmosphere at 1030° C. for 1q hours, an optical directional coupler is created. After polishing both end faces of the substrate, a strip of AI with a thickness of about 3000 Å is loaded onto one waveguide (marked as ■). Next, a peak 203 is deposited to a thickness of about 2000 Å as a buffer layer, and then a two-part electrode is formed using AI on the other waveguide (indicated by ■). Each electrode has a length of 8 bars and a width of 10 peaks. Before forming the metal film and electrodes, laser light was applied and the coupling characteristics were determined. As a result, it was found that for 1.15 mountain light, the TM mode was 10312 columns and the TE mode was 10-8 sails. Therefore, for the TE mode, the relationship 1<o holds true. When voltages of about 18 V and 24 V were applied to each electrode, 100% coupling occurred in the TE mode. TM
The mode passed through the input waveguide without coupling. The obtained crosstalk is approximately 2 in both TM and TE modes.
It was MB. As explained above, the present invention comprises '1'3
2) TM and TE modes can be demultiplexed at the same time, and {3} each demultiplexed mode is spatially separated. It can be used in fiber or optical integrated circuits.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来のTEモード・フィル夕の構成図、第2図
は従来のTM・TEモード分波器の構成図、第3図は本
発明の一実施例の構成図、第4図は第3図の断面図、第
5図および第6図は本発明の他の実施例の構成図である
。 1・・・・・・基板、2・・・・・・導波路、3・・・
・・・金属膜、4・・…・導波路、5・・・・・・偏波
面、6・・・・・・中間層、7・・・・・・入射光、8
・・・・・・非結合光、9・・・・・・結合光、10・
・・・・・結合領域、11・・・・・・金属膜、12…
・・・バッファ層、13・・・・・・分割電極、14・
・・・・・分極軸、15・・・…印加電界。 第1図 第2図 第3図 第5図 第6図 第4図
Fig. 1 is a block diagram of a conventional TE mode filter, Fig. 2 is a block diagram of a conventional TM/TE mode duplexer, Fig. 3 is a block diagram of an embodiment of the present invention, and Fig. 4 is a block diagram of a conventional TE mode filter. The sectional view of FIG. 3, and FIGS. 5 and 6 are configuration diagrams of other embodiments of the present invention. 1...Substrate, 2...Waveguide, 3...
... Metal film, 4 ... Waveguide, 5 ... Polarization plane, 6 ... Intermediate layer, 7 ... Incident light, 8
......Uncombined light, 9...... Combined light, 10.
...Binding region, 11...Metal film, 12...
...Buffer layer, 13...Divided electrode, 14.
... Polarization axis, 15 ... Applied electric field. Figure 1 Figure 2 Figure 3 Figure 5 Figure 6 Figure 4

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 電気光学効果を有する物質による基板と、基板の表
面近傍にもうけられる平行近接した長さの1の結合領域
を有する1対の同じ構成の光導波路と、一方の光導波路
の表面に装荷される金属膜電極と、ml_0<l<(m
+2)l_0(mは自然数、l_0は結合領域のTEモ
ードに対する100%結合長)を満足するmの値に従つ
て長さlを光の伝播方向に(m+1)分割し、分割領域
毎にバツフア層を介してもう一つの光導波路の上又は光
導波路からずらして光導波路と平行にもうけられる電極
と、該電極と前記金属膜電極を介して少なくとも一方の
光導波路に分割領域毎に交互に符号の異なる電位差を与
える手段とを有することを特徴とする光分波器。
1. A substrate made of a substance having an electro-optic effect, a pair of optical waveguides having the same configuration and having a parallel and closely spaced coupling region of 1 provided near the surface of the substrate, and loaded on the surface of one of the optical waveguides. Metal film electrode and ml_0<l<(m
+2) Divide the length l into (m+1) in the light propagation direction according to the value of m that satisfies l_0 (m is a natural number, l_0 is the 100% coupling length for the TE mode of the coupling region), and create a buffer for each divided region. an electrode provided parallel to the optical waveguide on top of another optical waveguide or shifted from the optical waveguide via a layer; and an electrode provided alternately in each divided region to at least one optical waveguide via the electrode and the metal film electrode. An optical demultiplexer comprising means for providing different potential differences.
JP222679A 1979-01-16 1979-01-16 optical demultiplexer Expired JPS6015251B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP222679A JPS6015251B2 (en) 1979-01-16 1979-01-16 optical demultiplexer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP222679A JPS6015251B2 (en) 1979-01-16 1979-01-16 optical demultiplexer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5595928A JPS5595928A (en) 1980-07-21
JPS6015251B2 true JPS6015251B2 (en) 1985-04-18

Family

ID=11523435

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP222679A Expired JPS6015251B2 (en) 1979-01-16 1979-01-16 optical demultiplexer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6015251B2 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5945424A (en) * 1982-09-07 1984-03-14 Nec Corp Waveguide type electrooptic modulator
JPS59105612A (en) * 1982-12-10 1984-06-19 Omron Tateisi Electronics Co Separating element for plane of polarization of light
JPS6391606A (en) * 1986-10-03 1988-04-22 Nippon Kagaku Kogyo Kk Integrated type mode splitter
JPH071358B2 (en) * 1986-12-10 1995-01-11 日本電信電話株式会社 Optical variable switch

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5595928A (en) 1980-07-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0817988B1 (en) Polarization-insensitive, electro-optic modulator
US20070081766A1 (en) Optical waveguide device
US4792207A (en) Single mode fiber optic single sideband modulator and method of frequency shifting using same
US6002512A (en) Optical circulator using latchable garnet
US6778313B2 (en) Optical phase modulator and optical equalizer using the same
JPH06194696A (en) Optical switch
US4776656A (en) TE-TM mode converter
JP3272064B2 (en) 4-section optical coupler
US3990775A (en) Thin-film optical waveguide
US5621839A (en) Optical waveguide device having substrate made of ferroelectric crystals
JPS6015251B2 (en) optical demultiplexer
JPH01287623A (en) Optical waveguide type semiconductor polarization beam splitter
JPH0588123A (en) Variable wavelength filter
JPH1068910A (en) Optical nonreciprocal circuit
JPH11119158A (en) Optical circulator array
JPH0422245B2 (en)
JPH0850261A (en) Optical circulator
JP3018621B2 (en) Waveguide type light controller
JPH11125801A (en) Wavelength selection filter
JP2814967B2 (en) Waveguide type optical device
JPS61501287A (en) Integrated optical waveguide components
JPS6219810A (en) Optical multiplexer
JP2792306B2 (en) Polarization separation element
JPS5936250B2 (en) Optical modulation/optical switching device
JPS6236631A (en) Waveguide type optical modulator