JPS60152494A - 保護化ヌクレオチド化合物の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は全ての官能基が完全に保護されたヌクレオチド
化合物の製造法に関し、さらに詳しくは、簡単な操作で
効率よく高純紋の保詐化ヌクレオチド化合物を製造する
方法に関する。

近年、遺伝子工学の発展にともない、デオキシリボヌク
レオチド、リボヌクレオチド、それらのオリゴマーなど
のヌクレオチド化合物の重要性が一段と高まっている０
かかるヌクレオチド化合物の合成法として、従来から反
応に必要な官能基だけを残して他の官能基を保護したリ
ン受容性成分（例えば５′−位や３′−位に水酸基を有
する保護化ヌクレオシドや保護化ヌクレオチドなど）と
リン供与性成分（例えばリン酸化剤やヌクレオチド塩な
ど）を液相で反応してリン酸トリエステル化する方法が
知られて−る。

この方法の場合１反応系中には未反応の原料や縮合剤な
どの薬剤が共存するため反応液から目的物を分離する工
程が必須であり１例えば１）混合物をクロロホルム、ジ
クロルメタン、酢酸エチル等のごとき水と相分離する疎
水性溶媒に溶解したのち水または塩の水溶液で親水性の
不純物を抽出する方法（例えばＭｅｔｈｏｄｓ　ｉｎｌ
ｌｉｎｚｙｍｏｌｏｇｙ　ＶＯＬ、　６５．第６１０頁
、１９８０年発行） ２）クロロホルム、ジクロルメタン等の疎水性溶媒に溶
解した混合物をカラムに通してシリカゲル吸着剤に吸着
させた後、クロロホルム−メタノール系、ジクロルメタ
ン−メタノール系などの溶離剤で展開、溶離させ分画す
る方法（例えば前記文献） ６）アセトン−水、アセトニトリル−水等の水系混合溶
剤に溶解した混合物をカラムに通してアルキルシラン化
シリカゲル吸着剤に吸着させた後、該混合溶剤を展開、
溶離剤として溶出させ分画する方法（Ｍｅｔｈｏｄｓ　
ｉｎ　ＥｉｎｇｙｍｏｌｂｇｙＶＯＩ、、　６Ｂ、第９
０頁１９７９年発行）などが提案されており、ｉた前記
１）、２）、５）を適宜組合わせた方法も多数報告され
ている。

しかしながら、１）の方法では抽出効果が不充分なうえ
、親水性溶剤が共存するとエマルジョン化して分離が困
難になったり、抽出後に多量の溶剤を除去しなければな
らないといった欠点がある。

また２）及び３）の方法は操作が繁雑なうえ操作中に目
的物の分解が生じやすく、シかも希薄な分画溶液から目
的物を回収する工程ｆ：必要とするという欠点がある。

さらに１）と２）を組合わせて繁雑な分離、精製操作を
行った後でさえβ−シアノエタノール等のある種の化合
物が除去されずに残るという報告もあり（例えば前記文
献〕、従来の方法では保護化ヌクレオチド化合物を高純
度でかつ効率よく得ることが困難であった。

そこで本発明者らＬ従来方法の欠点を改良し。

目的とする保護化ヌクレオチド化合物を簡単な操作で効
率よく、かつ高純度で得る方法を開発すべく鋭意検討を
進めた結果、特定な反応条件と特定な精製工程を組み合
わせることがきわめて効果的なことを見い出し本発明を
完成するに到った〇かくして本発明によれば、リン受容
性成分（、）とリン供与性成分（ｂ）を反応し、反応生
成物中に活性部位が存在する場合にはさらにその部位を
保護化剤（Ｃ）で保護することにより完全に保護された
ヌクレオチド化合物（ｄ）を製造するにあたり、その製
造過程が親水性溶剤の存在下に（、）成分と（ｂ）成分
、さらには（、）成分を反応させて（，１成分の実質的
全量を（ｄ）成分に転換する過程（１）、該過程の反応
液と水を混合して前記（１１成分を選択的に沈澱分離す
る過程（２）及び必費に応じて分離した（１１　ｇ分を
脱水する過程（３）とから成ることを特徴とする完全に
保護されたヌクレオチド化合物の製造法が提供される。

本発明においては、ます第一の過程で前記（、）成分及
び（ｂ）成分の反応が行われ１反応生成物中に活性部位
が残存する場合に絋さらに（、）成分を反応させる仁と
によって化合物（＋１）が合成される。

反応に供される（、）成分は分子中に少なくとも１個の
水酸基を有し５反応に不要な他の官能基は全て保護され
たヌクレオシド、ヌクレオチドまたはポリヌクレオチド
であり１通常、糖の２′−位、３′−位または５′−位
に１個の水酸基を有する化合物やリン酸部位に１個の水
酸基を有する化合物が用いられる。

かかる（−）成分のうち、ヌクレオシトリ具体例として
は次のような範ちゅうの化合物が例示される。

すなわちヌクレオシドを構成する糖の具体例としては、
２′−デオキシリボース型またはリボース型のフラノー
スが最も一般的に用いられるが、アラビノース、３′−
デオキシリポース、２１．３１−ジデオキシリボース等
のごとき他のフラノースや、５′−フロロデオキシリボ
ース、３′−アミノリボース等の銹導体でもよく、また
マンノース、グルコース等のピラノース型のものであっ
てもよい◇また楯の１′−位に結合した塩基の具体例と
しては、アデニン、グアニン、チミン、シトクン、ウラ
シル、イノシン％５−メチルシトシン、５−ヒドロキシ
メチルシトシンなどのごとき一般的核酸塩基の他、８−
ブロモアデニン％５−７０ロウラシル、６−チオグアニ
ン、６−メルカプトプリン。

５−ニトロウラシル、エテノシチジン等の各種誘導体や
、５−アザオルチン酸、６−７ザウリジン。

６−アザシチジン、ピリドン、ベンツイミダゾール等の
類似構造を有する含鼠素複累猿塩基などが例示される。

さらに糖及び塩基中に存在する官能基を保護するための
保護化剤は一般に用いられているものであればいずれで
も使用できる。例えばアミノ基の保＠基としては、アセ
チル基、インブチリル基。

ベンゾイル基、アニソイル基、ナフトイル基、〇−フタ
ロイル基などのごときカルボン酸アミド構造またはカル
ボン酸イミド構造を形成するものが一般的であり、塩基
がシチジル基またはアデニル基の場合にはベンゾイル基
が、またグアニル基の場合にはインブチリル基が賞月さ
れる。

また水酸基の保護基としては１例えばアセチール基、イ
ソブチリル基、ベンゾイル基、アニソイル基、ナフトイ
ル基などのごときカルボン酸工♂チル構造を形成するも
のや、モノメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基
、トルイルジフェニルメチル基Ｓ　Ｏ−メトキシフェニ
ルナフチルフェニルメチル基、フラニルクロロフェニル
メチル基。

ナト２ヒドロピラニル基、メトキンテトラヒト′ロビラ
ニル基などのごときエーテル構造を形成するものなどが
あり、３′−位の保護にはカルホン酸エステル型が、ｔ
た５′−位の保護にはエーテル構造型が賞月される。

さらに隣接するジオールの保護基としては、オル）Ｍ酸
エステル構造を形成するものやケタール型構造を形成す
るものなどが例示される。

また（−１成分におけ一不ヌクレオチドは前記ヌクレオ
シドに少なくとも１個のリン酸が結合したものである。

このリン酸は１通常、糖の２′−位、３′−位または５
′−位のいずれかに結合しているが、複数の位置に結合
していてもよく、それらが分子間または分子内でリン酸
エステルを形成していてもよい。またリン酸は１−リン
酸のをまか２−リン酸。

６−リン酸等のポリリン酸結合を形成するものでもよい
が、このリン酸部公社完全に保護されている必要がある
。

かかるリン酸の保護基としては通常用いられているもの
であればいずれでもよく１例えばシアノエチル基、）！
Ｊクロルエチル基、フェニルチオエチル基、フェニルス
ルフィニルエチル基、フェニルスルホニルエチル基、ｐ
−クロルフェニル基、０−クロルフェニル基、ナフチル
基などのごときエステル構造を形成するものや、フェニ
ルアミノ基、メトキシフェニルアミノ基などのごときリ
ン酸アミデート構造管形成するものなどが例示される０ また（−１分中のポリヌクレオチド祉複数のヌクレオチ
ドが適宜結合したものであるが１通常線３′−位と５′
−位の間または２′−位と５′−位の間でリン酸エステ
ル結合を形成したものであり、その重合度は通常１０以
下、好ましくは５以下、さらに好ましく扛３以下のもの
である。

一万１反応に供される（ｂ）成分扛分子中のリン酸基部
分で（ａｌ成分中の水酸基と反応してリン酸トリエステ
ル結合を形成可能な化合物であり、より具体的にはヌク
レオシドからヌクレオチドを合成する際やヌクレオチド
の結合リン酸基数を増加する際に用いられるリン酸化剤
、ポリヌクレオチドを合成する際に用いられるヌクレオ
チドやポリヌクレオチドの塩などが含まれる。

かかる（ｂ）成分は通常使用されているものであればい
ずれでもよく、リン酸化剤としては、例えばモルホリノ
ホスホロジクロリドなどのごときハロゲン化リン、テト
ラクロロピロリン酸なとのごとキリン酸無水物、４−ク
ロロフェニルホスホロシトリアソリッド、２−クロロフ
ェニルホスホロジトリアゾリッドなどのごときリン酸ト
リアゾリッド、β、β、β−トリクロロエチルホスホロ
ジイミダゾリツドなどのごときリン酸イミダゾリド、２
−クロロフェニル−〇、０−ビス（１−ペンツトリアゾ
リル）ホスフェートなどのごときリン酸オキシペンシト
リアゾリドなどが例示される。

またヌクレオチド塩は糖の部分に結合したりン酸部分が
塩となっている以外、他の官能基は全て保護された化合
物であり、通常、２′−位、！１′−位または５′−位
にリン酸を有するものが用いられる。

用いられるヌクレオチドの種類は前記（、）成分と同−
範ちゅうのものでよく、また塩の具体例としてはトリア
ルキルアミン塩、炭酸水素トリアルキルアミン塩、ピリ
ジン塩などが例示される。

またポリヌクレオチド塩は前記（，１成分と同−範ちゅ
うのものの塩であり、とくに重合度１０以下。

好ましくは５以下、さらに好ましくは３以下のものであ
る。

本発明においては、かかる（、１成分及び（ｂｌ成分全
親水性溶剤中で反応し、（ＩＬ＋成分の実質的全量が消
費される。ここで実質的全量とは、目的生成物に要求さ
れる純度によって必ずしも一様ではないが。

通常は９０モル饅以上、好ましくは９５モルチ以上、さ
らに好ましくは９９モルチ以上であり、高転化率である
ほど高純度の目的物ｔ−得ることができる。

反応に用いられる親水性溶剤は反応に不活性でかつ系を
均一化しうるものであればいずれでもよく、なかでも水
に２５容ｉ％以上、とくに完全に相溶するものが好まし
く、さらにベンゼン、トルエン、キシレンなどのごとき
芳香族溶剤とも相溶するものが適切である。

かかる親水性溶剤の具体例としては、例えばアセトン、
メチルエチルケトンなどのごときケトン類；テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジオキソランなどのごときエー
テル８：ピリジン、ピコリンなどのごとき環状６級アミ
ン類；アセトニトリル、プロピオニトリルなどのごとき
ニトリル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのごときＮ　−Ｉｔ換
アミド類ニジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシ
ド、テトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドなど
のごときスルホキシド類などが挙げられ、必要に応じて
適宜混合して用いられる。

なかでも（−１成分及び生成物の溶解反が高く、はぼ中
性で、安定性、低毒性、低価格のものが好ましく、とく
に取扱いの容易さの点で沸点範囲が４０〜１２０Ｃ’程
度のものが賞月されるＯこのような好ましい溶剤の具体
例として、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメチルアセトアミド、ピリジ
ン、ピコリンなどが例示される。

（、）成分と（ｂ）成分の反応は、（ａ）成分１モル当
り、通常（ｂ）成分１〜２モル、好ましくは１１〜１５
モルを仕込み、（ａ）成分と（１，）成分の合計３１１
００重量部当り１００〜５００部の親水性溶剤の存在下
にＤ〜５０Ｃで０，１〜３時間攪拌することによって行
われる。

この際、必要に応じて縮合剤や活性化剤を用いる仁とが
でき、前者の具体例として１例えば２，４．６−ドリイ
ソグロビルベンゼンスルホニルテトラゾ１）　）”、ｐ
−二トロベンゼンスルホニル）！Ｊ７／ＩＪド、ベンゼ
ンスルホニルトリアゾリド、２，４．６−トリメチルベ
ンゼンスルホニルトリアゾリド。

２、４．６−　）　’）　メｆルベンゼンスルホニルエ
トロトリアゾリド、２，４．６−）リメチルベンゼンス
ルホニルテトラゾリド、２，４．６−）リイソプロビル
ベンゼンスルホニルクロリド、２，４．６−）ＩＪメチ
ルベンゼンスルホニルクロリドなどが例示され、後者の
具体例としては、例えばメチルイミダゾール。

ニトロトリアゾール、２．６−ルチジン、ピリジンなど
が例示される。

また（ｂｌ成分としてモルホリノホスホロジクロリ）’
、０−／ａ口フェニルホスホロジトリアゾリツ）”、２
−／ロロフェニルー〇、０−ビス（１−ベンゾトリアゾ
リル）ホスフェートなどのようなリン酸化剤を用いた場
合には生成物中にハロゲン原子。

トリアゾリッド基などのごとき活性部位が残存するため
、この反応に引続いてその部位を保護化剤（、）で保護
することが必要である。

かかる（Ｃ１成分の具体例としてはβ−ンアノエタノー
ル、β、β、β−トリクロロエタノール、ベンジルアル
コールなどが挙げられる・ なお、　（ａｌ、　（ｂ）及び（ｃｌの各成分について
は、上記の具体例に加え「核酸有機化学」（池原ら、化
学同人、１９７９年発行）に開示されている化合物で本
発明の定義に合致するものはすべて包含される０ このようにして第一の過程において得られた反応液は、
必要に応じて親水性溶剤の一部を除去したのち第二の過
程において水と混合することにより、目的とする完全に
保護されたヌクレオチド化合物（ｄ）の選択的な沈澱形
成が行われる。用いられる水の量は化合物（α）の沈澱
が生ずるに足る量であ’Ｊ、（−１成分や（ｂ）成分の
種類によって必ずしも一定ではないが５通常は反応液に
対してｔ５容量倍以上、好ましくは２〜１００容量倍、
さらに好ましくは６〜５０容量倍であり、反応液の組成
に応じて簡単な予備実験を行うことにより、容易にその
最適値を定めることができる。また必要に応じて水とと
もにアルコール、１級アミンなどのごとき親水性溶剤を
適宜併用することもできる。

さらに水を混合するにあたって、化合物（ｄ）に不活性
な塩を共存させ系中のイオン強度を高めることもできる
。この処理によって化合物（ｄ）の沈澱が促進され回収
率も向上するが、過度にイオン強度を高めると化合物（
＜Ｌ）の純度が低下する傾向を示すので、その強度は５
Ｍ／−ｅ以下、とくに０．１〜２Ｍ７４３程度が好まし
い。

かかる塩類の具体例としては１例えば塩化ナトリウム、
塩化アンモニウム、硫酸ナトリウムなどのごとき中性塩
、リン酸２水素ナトリウム、リン酸水素２カリウム、炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素トリエチルアミンなどのご
とき多塩基性酸の酸性塩、ｐＨ緩衝作用を有するように
適宜組合わされた酸と塩基の混合物（例えば酢酸と水酸
化カリウムとの組合せや炭酸水素す）　ＩＪウムと水酸
化ナトリウムの組合せなど）等をあげることができ、な
かでも化合物（ｄｌが安定なｐＨ領域でｐＨ緩衝作用を
有するものが賞月される。

反応液と水との混合手法は格別制限されるものではなく
１反応液中に水を添加する方法でも、逆に水中に反応液
を添加する方法であってもよい。

混合の条件は反応液の組成に応じて適宜選択すればよい
が、通常は−２０〜４０Ｃ１好ましくは０〜５０Ｃ程度
で０．５〜１８０分間、好ま【７くは２〜３０分間にわ
たり攪拌することによって行われる。系のｐＨも適宜選
択しうるが、通常はｐＨ２〜１１の範囲内で、化合物（
ｄ）の安定性を保ち、かつ他の成分の混合溶剤への溶解
性を高めるようなｐＨ領域を選定することが適切である
０″！、た混合装置はとくに制限がなくバッチ方式、連
続方式のいずれを使用することもできる０ 本発明においては、かかる簡単な操作を行うことによっ
て化合物（ｄ）を粘稠なアメ状物または粉末状の形態で
回収することができる。また必要に応じて１回収した化
合物（ａｌを再度親水性溶剤に溶解して水と混合する操
作を２度もしくはそれ以上くり返すこともでき、それに
よって化合物（ｄＬｌの純度全さらば高めることができ
る０とくに混合溶剤中に塩類を共存させた場合には１回
収される物質（，１中に塩が随伴しやすいので、塩を含
まない混合溶剤でくり返し処理することによって塩の除
去率を高めることが好ましい。

かくして得られる化合物（ａ）は通常１０〜４０重量％
の水を含んでいるが、水を除く必要がある場合には第三
の過程において適当な手法で脱水することができる。か
かる乾燥法の具体例としては、例えばｎ−へブタン、ト
ルエン、ピリジン、ジオキサンなどのごとき溶剤を用い
て共沸混合物として脱水する方法、減圧下に乾燥する方
法、溶剤に溶かし脱水剤を用いて脱水した後乾固する方
法停がある。

かくして本発明によれば、第一の過程における反応条件
と第二の過程における精製手段とを組合せることにより
、従来法に比較してはるかに簡単な操作で収率よく、か
つ高純度の化合物（ｄｉを得ることができる。かかる化
合物（ｄ）は完全に保護されたヌクレオチドまたは重合
度が通常１２以下、好ましくは４以下のポリヌクレオチ
ドであるが、とくに（，１成分ともてヌクレオシドを用
い、（ｂ）成分としてリン酸化剤を用いてヌクレオチド
を合成する場合にその効果が顕著である。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する
〇 実施例１ ５′−〇−ジメトキシトリチル−Ｎ６−ペンゾイルデオ
キシアデノシンしくａ）成分）ｄ５５ｐ（１ｍｏりのジ
オキサン２Ｊ溶液を、０−クロロフェニル−０、０−ヒ
ス（１−ベンゾトリアゾリル）フォスフェート〔（ｂ）
成分）７２０５４（ｔ５ｍｏ１）のジオキサン２−ｅの
溶液に攪拌下ＯＣで滴下しつつ反応させた０１貝相用シ
リ力ゲル薄層クロマドグ２フィー板に試料的３０μｌを
吸着させてクロロホルム／メタノール−１ｏ／１（ｖ／
Ｖ）混合液で展開して原料ヌクレオチドが消失したのを
確認した（過程１−１）後、β−シアノエタノール〔（
Ｃ）成分〕２１．５．％（３ｍｏｌ）及びピリジン２０
０創を加えた（過程１−２）ｏ薄層クロマトグラフィー
で燐酸基がシアノエテルエステル化されたのを確認して
、反応液に０．２Ｍ中性リン酸緩衝液（リン酸水素二カ
リウムとリン酸二水素カリウムの等モル混合液）３０石
を添加して室温下５分間攪拌して保護化ヌクレオチド〔
（ｄ）成分〕の沈澱を得た（過程２−１）ｏ上澄みを傾
斜して除き、沈澱物をアセトン１！に溶解して室温下で
攪拌しつり水６！及び１Ｍ中性リン酸緩衝液１ｇｔ−加
えて５分後に沈澱物を得た（過程２−２９゜ 真空乾燥後の重量は８４２ｆｒであり、１０μｆを順相
用シリカゲル薄層クロマト板に吸着させてクロロホルム
／メタノール＝　、１０．／　１　（ｖ／ｖ　）混合溶
媒で展開し２６０　ｎｍの紫外検出器で検出したところ
１スポツトであった。また１１１１！相月シリカゲルカ
ラム及び逆相用オクタデシル化シリカゲルカラスを用い
てそれぞれクロロホルム／メタノール／ピリジン（ｓ　
Ｏ／１１０．２　）及び７−ｉ！１−＝ＩｎＡ／／水／
　ｋ：　’）　シフ　（７／３／　０．５　）混合溶媒
で溶離させ、Ｒ工検出器、ＵＶ検出器（２６ｏｎｍ＋）
の雨検出器で検出する高速液体クロマトグラフィーで分
析したところ、純度９８．２％であった。保護化ヌクレ
オチドのモル収率は９２．０％であった〇比較例１ 過程１−１及び過程１−２の反応を実施例１の１１５０
の規模で行い、５０　ｖａｔ％ピリジン水溶液２耐を添
加して反応を止めて溶媒を留去した後。

クロロホルム１００Ｗ１ｔで抽出して無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した後溶媒を留去した・粘稠の残渣をジオキサ
ン８００−、テトラヒドロフラン３００ｄ及びピリジン
１５０１１Ｌｌの混合溶剤に攪拌下ＯＣで滴下しつつ反
応させた。実施例１の如く薄層クロマトグラフィーによ
り原料ヌクレオシドが保護化ヌクレオチド〔（ｄ）成分
〕に転換したのを確認した（過程１）後１反応液に食塩
１ｋｇを含む０．２Ｍ中性リン酸緩衝液２５沼金添加し
て室温下５分間攪拌して沈殿物を得た（過程２−１）。

上澄みを傾斜して除き沈殿物をアセトン１Ｊに溶解して
攪拌しつつ水８−ｅを加えて沈殿物を得た（過程２−２
）。真を乾燥後の重量はＢ２６ｆ！であり、１０μ９を
シリカゲル薄層クロマト板に吸着させ、クロロホルム／
メタノール（１０／１）混合溶媒で展開させ２６０　ｎ
ｍのＵＶ検出器で検出したところ１スポツトであった０
また、＋ｌＩｔ相用シ相方シリカゲルカラム相用オクタ
デシル化シリカゲルカ２ムを用いて、それぞれクロロホ
ルム／メタノール／ピリジン（５０／１１０．　ｓ、　
）及びアセトン／水／ピリジン（６０／４０／α５）混
合溶媒で分離させ、Ｒ工検出器、Ｕ４検出器（２６０ｎ
ｍ）の雨検出器で検出する高速液体クロマトグラフィー
により分析したと仁ろ、純度９８．６％であり、保護化
ヌクレオチドの収率は９３．０％であった。

実施例５ Ｎ２−インブチリル−２′−デオキシグアノシン−３’
−〇−（２−クロロフェニル−β−シアノエチル）フォ
スフェートしくａ）成分）５９．６　Ｆ（１００ｍｍｏ
１）と５′−〇−ジメトキシトリチルーチミジル−６′
−ｏ−（２−クロロフェニル）リン酸トリエチルアミン
塩〔（ｂ）成分）１０Ｂ５’（１３０ｍｍｏｌ）をピリ
ジン共沸にて脱水後、ピリジン６００ｍ１ｔｌＣ浴解し
。

Ｎ１１下にメシチレンスルホニルニトロトリアゾール５
９．２ｙ−（２００ｍｍｏｌ）を添加して縮合反応を行
グた。薄層クロマトグラフィーをクロロホルム／メタノ
ール（１０／１）　混合溶媒で展開させ２６０　ｎｍの
ＵＶ検出器で調べ、（ａ）成分が無くなったことを確認
した後１反応液に０．２Ｍ中性リン酸緩衝液２２を加え
て室温下５分間攪拌して沈殿物を得た（過程２−１）、
上澄みを傾斜して除き、沈殿物をアセトン１００−に溶
解して室温下撹拌しつつ水１ノを加えて沈殿物を得た（
過程２−２）。

真空乾燥後の重量は９６．Ｏｆであり、順相用７リカゲ
ルカラム及び逆相用オフ（デシル化シリカゲルカラムを
用いてそれぞれクロロホルム／メタノール／ピリジン（
４５／　１　／　０．５　）及びアセトニトリル／水／
ピリジン（７／忘／１ｌＬ５）で溶離させ。

Ｒ工検出器、ＵＶ検出器（２６０ｏｍ）の雨検出器で検
出する高速液体クロマトグラフィーで分析したところ純
度９７．７％であつ７’ｃｏ保護化二量体ヌクレオチド
のモル収率は７２．５％であったＯ特許出願人　日本七
オ、ン株式会社

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、リン受容性成分（、）とリン供与性成分（１）を反
   応し１反応生成物中に活性部位が存在する場合にはさら
   にその部位を保護化剤（，１で保護することにより完全
   に保護されたヌクレオチド化合物（、Ｌｌを製造するに
   、あたり、その製造過程が親水性溶剤の存在下に（ａ）
   成分と（ｂ）成分、さらには（Ｃ）成分を反応させて（
   ａ）成分の実質的全景を（ｄ）Ｘ分に転換する過程（１
   ）、該過程の反応液と水を混合して前記（ｄ）成分を選
   択的に沈澱分離する過程（２）及び必俄に応じて分離し
   た（ｄｌ成分を脱水する過程（３）とから成ることを特
   徴とする完全に保護されたヌクレオチド化合物の製造法
   。 ２、過程（２）における沈澱分離操作が塩の存在下に実
   施される特許請求の範囲第１項記載の製造法０６、過程
   （２）における沈澱分離操作が２回以上反復される特許
   請求の範囲第１項記載の製造法。 ４、過程（２）における沈澱分離操作が塩の存在下にお
   ける操作と、それに引き続いて行われる塩の不存在下に
   おける操作とから成る特許請求の範囲第３項記載の製造
   法。