JPS60152180A - 固体撮像デバイスを用いた撮影装置 - Google Patents

固体撮像デバイスを用いた撮影装置

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JPS60152180A
JPS60152180A JP59006354A JP635484A JPS60152180A JP S60152180 A JPS60152180 A JP S60152180A JP 59006354 A JP59006354 A JP 59006354A JP 635484 A JP635484 A JP 635484A JP S60152180 A JPS60152180 A JP S60152180A
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solid
layer
imaging device
bias voltage
diode
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JP59006354A
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Masashi Kantani
乾谷 正史
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Fuji Photo Film Co Ltd
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14665Imagers using a photoconductor layer

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 皮先斑I 本発明は撮影装置、とくに、撮像セルを非晶質半導体な
どの光導電層の積層構造とする固体撮像デバイスを用い
た撮影装置に関するものである。
貨」L挟J 固体撮像デバイスは、入射光の強度に応じた光電流を出
力する範囲、すなわちタイナミックレンジがあまり広く
ない。これI±、撮影条件の異なる様々な被写体を撮影
する場合に問題を生ずる。
たとえば、マイクロフィルムのコマを拡大してスクリー
ンに表示するマイクロフィルムリータの場合、撮像素子
として固体撮像デバイスを使用すると、表示に最適な画
像信号を得るには複雑で高度な信号処理回路を必要とし
ていた。 一般にマイクロフィルムには銀塩フィルム及
びジアゾフィルム等があるが、銀塩フィルムの場合多く
はネガ像であり、またジアゾフィルムの場合多くは銀塩
フィルムからの密着転写によるポジ像であるため、実際
のマイクロフィルムの中にはネガ像、ポジ像が混在して
いる。また、マイクロフィルムに記録された対象物にも
1文字等の書かれた原稿や中間調の写真などを含む様々
な階調をもった画像が含まれている。
したかって、このようなバラエティに富んだマイクロフ
ィルムの記録画像を固体撮像デバイスで撮影し、表示に
最適な画像信号を得るには、コントラストの硬軟はもと
より、陰画−陽画の変換(ネガポジ変換)をも含む信号
処理を行なわなければならない。この信号処理は、固体
撮像デフへイスの出力信号に対して行なわれるγ補正を
可変としたり、出力信号のレベルを反転するなどの複雑
な回路を必要とする。
さらには、−に記銀塩フィルムおよびジアゾフィルムで
は分光透過特性が異なるため、表示に最適な画像信号を
得るには固体撮像デバイスの分光感度特性を可変にする
必要がある。
また、上記の他、ファクシミリ等において様々な色の原
稿、印刷物を転送する際、例えば赤で書かれた文字を強
調したいとか、青い紙を白く出したいなどという要求が
あるが、撮像デへイスの分光感度特性を可変にすればこ
れらの要求を満たすことかで−9る。
ところで、撮像セルが非晶質半導体などの光導電11り
の積層構造をなす固体撮像デバイスは、入射光に対する
光学開口率が大きく高感度であり、分光感度の設計自由
度が高くて感光波長領域が広く、シかもブルーミングを
効果的に抑制できるなどの特長がある。本発明は、この
ような撮像デバイスの特長に着目し、出力する画像信号
のコントラストおよびネガポジ(NP)反転などを含む
階調特性、さらには分光感度特性までも可変な撮影装置
を提供するものである。
なお本明細書において[出力特性Jとは、最も広義に解
釈するものとし、単なる光学濃度の差についてのみなら
ず、NP反転、分光感度特性をも包含するものである。
則−犯 本発明はこのような従来技術の欠点を解消し、複雑な回
路を必要とすることなく、出力する画像信号の出力特性
がU(変な固体撮像デバイスを用いた撮影装置を提供す
ることを目的とする。
魚豆二旦j 本発明によれば、複数の撮像セルが半導体基板にで撮像
セル配列を形成している固体撮像デバイスと、複数の撮
像セルから順次映像信号を読み出す読出し手段とを含む
固体撮像デバイスを用いた撮影装置において、固体撮像
デバイスの各撮像セルは、半導体基板上に形成され光キ
ャリアを蓄積する接合部、この接合部に光キャリアを集
める金属層、この金属層の上に形成され入射光に応じた
光キャリアを発生する光導電層、および光導電層の上に
形成され光に透明な導電材料からなる透明電極層を有し
、撮影装置は、透明電極層にバイアス電圧を印加しバイ
アス電圧の値および極性のうちの少なくとも一方が可変
な電源手段を含み、電源手段によってバイアス電圧の値
および極性のうちの少なくとも一方を変えることで映像
信号の出力特性を調整可能とするものである。
本発明の1つの態様によれば、光導電層は、入射光のう
ち比較的長い波長の光が接合部に到達可能な程度に薄く
形成され、金属層は、接合部に対応する部分に少なくと
も部分的に光学的開口を有してもよい。
史」0飢1」級」 次に栃付図面を参照して本発明による固体撮像デバイス
を用いた撮影装置の実施例を詳細に説明する。
第1図を参照すると、非晶質半導体を光導電膜として使
用した固体撮像デバイスの例における1つの撮像セル1
0の構成が縦断面図で概念的に示されている。この例で
は、n型シリコンl板12の1つの主表面上に形成され
たp型エピタキシャル層14に光キヤリア蓄積ダイオー
ドlBが形成されている。それらの上にさらに、図示の
ように、たとえばアルミニウムなどの金属からなる電極
層20が絶縁材料層21をはさんで形成されている。ま
た、多結晶層22は絶縁材料層23を介してMOSスイ
ッチング素子42を構成し、第2のアルミニウム層24
は、ダイオード16から映像信号を読み出す出力線を形
成している。
アルミニウム層20の上にさらに、非晶質の半導体層2
6が形成され、これによって光導電膜が構成されている
。光導電膜としては、たとえば水素化非晶質シリコン(
a−Si:H)の他に、Zn5e−ZnGdTe膜、S
e−^5−Te膜などが使用される。高導電膜28の厚
さは、従来のこの種の撮像デバイスより若干薄く、後述
のように、入射光4Bの一部がダイオード1Bのpn接
合にまで到達し、光キャリアをそこで励起してフォトダ
イオードをしてこれを機能させる程度の厚さが有利であ
る。
光導電膜2Bの上には透明電極28が形成され、これは
たとえばITO(In203−9n02)などでよい。
透明電極28の上には、必要に応じて色フィルタ30が
形成される。
金属層20は、ダイオード166ノ上方の部分80が少
なくとも部分的に開口し、またはごく薄く形成されるの
が有利である。より詳細には、入射光46の一部がこの
部分80を通してダイオード16のpn接合部にまで到
達できるように、部分60は光学的開口を形成している
。なお、本明細書において「光学的開口」とは、機械的
に開口している部分のみならず、光に対して透明または
半透明な部分や、光が入射可能な程度に層厚が薄い部分
をも含むものである。
このように、光導電膜26の厚さが薄いこと、および金
属層20に光学的開口BOが形成されていることによっ
て、導電膜26における光吸収係数の小さい波長、すな
わち赤色領域の長波長光は、ダイオード16のpn接合
部にまで到達し、そこで光キャリアを励起することがで
きる。
第2図を参照すると、第1図に示す1つの撮像セルlO
の等価回路が示されている。これかられかるように、基
板12が接地され、透明電極28が直流電源40によっ
て正または負にバイアスされる。電源40は、図示のよ
うに正の極性で接続された直流電源62と負の極性で接
続された直流電源64とを有し、これらが切換え接点6
Bを通して択一的に透明電極28に接続され、バイアス
電圧VTをこれに供給する。電@62および64は、図
からも明らかなように、その供給電圧の値がたとえば手
動にてuf変である。このように、電源40は、後の説
明からもわかるように、極性および電圧が可変であるこ
とによって、撮像デバイスの出力する映像信号のネガポ
ジ(NP)変換およびコントラスト調整などの階−調時
性を指示する手段を構成している。
蓄積ダイオード16の陰極は、読出しスイッチ42およ
び43、ならびに負荷抵抗45を介して映像電源44に
接続される。スイッチ42は概念的に接点の形で示され
ているが、第1図に示すMOSスイッチング素子でよい
。スイッチ43も同様である。実際には、撮像セルlO
は多数、行列方向に配列されたアレイを構成しているの
で、1つの撮像セル1oに着目すると、等測的に水平行
選択用MOSスイッチング素子42および垂直列選択用
MOSスイッチング素子43が直列に接続された構成を
とっている。なお、このようなMO3構造をとらないで
、たとえば電荷結合デバイス構造の電荷転送路の構成を
とってもよいことは言うまでもない。
このような撮像セルを非晶質半導体の積層構造とする固
体撮像デバイス10において、スイッチ6Bを図示の接
続位置として透明電極28に正の電圧を印加すると、す
なわちバイアス電圧VTを正とすると、光導電膜2Bへ
の入射光46によって膜2θ中で励起された光キャリア
のうち、電子48が透明電極28の方へ移送され、正孔
49は、アルミニウム層2oに捕捉されて蓄積ダイオー
ド1Bへ移送され、そのpi接合部に蓄積される。読出
しスイッチ42および43を閉じると、ダイオードI6
に蓄積されたキャリアに応じた電流が流れ、これが出力
映像信号として出力端子50に出力される。
ところで本実施例でIよ前述のように、光導電膜26は
、長波長の入射光が光学開口6oを通ってダイオード1
6まで到達可能なようにある程度薄く構成されている。
すなわち、長い波長の光はど、つまり赤色領域に近い光
はど多くダイオード16に入射して光キャリアを励起す
る。それ以外の波長領域の光は、主として導電膜26中
において光キャリアを励起する。これは、非晶質シリコ
ンは、主として約800nm程度以下の短波長域の光を
吸収し、pn接合の光応答域はそのピーク位置の中心が
これより長波長城にあるという性質を有効に利用するも
のである。
光導電膜2Bにおいて励起されたキャリアは、たとえば
バイアス電圧VTが正であれば、そのうち正孔48がこ
れによってダイオード1Bに向って走行するが、他の電
荷と再結合しないでそれが走行できる距#1は、周知の
ように、キャリアの移動度にと寿命時間でとバイアス電
圧VTの作る電界Eとの積で決まる。したがって、電界
Eが強いほど走行桁#】が長い。
これは、電界Eが強いほどダイオード18に到達する正
孔の量が多くなることを意味する。したがって、バイア
ス電圧VTを可変とすることによって、入用光46によ
って導電膜26中に励起されたキャリアのうちダイオー
ドlθに到達するものの割合を変えることができる。す
なわち、長波□長光以外の波長領域の入射光について、
撮像セル10の入射光感度特性を変えることができる。
つまり、青(B)および緑(G)の波長領域については
、バイアス電圧VTを変えることによって感度を可変と
する波長選択性が実現される。この波長選択性のある感
度可変機能については、バイアス電圧VTを負にした場
合も、上記の説明において正孔と電子が入れ換わるだけ
で同じである。
しかし、バイアス電圧VTを負にした場合は、光キャリ
アのうち正孔と1[子の役割が入れ換わる点に注意すべ
きである。つまり、撮像セル10への入射光4θの強度
が同じでも、バイアス電圧VTがinのときとは出力5
0から取り出される信号電流の極性が反転しているため
、これによってNP反転機能を実現することができる。
第3図を参照してより具体的に説明すると、ダイオード
16のpn接合部で入射光によって励起された光キャリ
アによる電流■は1点線200で示すようにバイアス電
圧VTに依存しない。しかし光導電1112B中で入射
光によって励起された光キャリアによる電流Iは、一点
鎖線202,204および206で示すようにバイアス
電圧VTに依存し、バイアス°屯圧が大きいほどその変
化の割合が大きい、つまり感度が高い。したがって、結
果としての総和の出力電流Iは、同図に実線210,2
12および214で示すようになる。このように、バイ
アス電圧VTに応じて撮像セル10としての感度を可変
とすることができる。
/ヘイアス電圧VTをある程度低くすれば、すなわち、
光導電rIrA2B中で励起される光電流の絶対値がダ
イオード16で励起される光電流(点線200)のそれ
よりも小さくなるように低くすれば、総和の出力電流■
は方向が反転す′る。これは、同図においてバイアス電
流VTがOのとき、導電膜2B中で励起される光電流が
一点鎖1120Bで示されるようにOであり、総和の出
力電流はダイオード18で励起される光電流のみであっ
て反対方向に流れることからも明らかであろう。
また、バイアス電圧VTの極性を反転すれば、ダイオー
ド16のpn接合部で励起された光電流Iについては変
化ないが、光導電膜26中で励起された光゛上流Iは、
一点鎖線208で示すように向きが反対になる。したが
って、結果としての総和の出力電流■は、同図に実線2
16で示すように反転される。
このように、バイアス電圧VTの債をある程度低くし、
またはその極性を反転することで総和の出力電流の方向
を変え、これによってNP反転機能が達成される。
次に、第4図および第5図を参照して本発明による分光
感度特性可変の撮像装置の基本的原理を説明する。第4
図は、ダイオードI6のpn接合部および光導電層26
において入射光46により励起されて発生する光キヤリ
ア量の分光感度特性を概念的に示すグラフである。ダイ
オード16のpn接合部の分光感度特性(点線’220
)は前述した通りバイアス電圧VTに関係なく一定であ
る。また光導電層26の分光感度特性もやはりバイアス
電圧VTに関係なく一定であるが、バイアス電圧VTが
小の場合(実線222)と大の場合(一点鎖線224)
では前述した通り絶対量が異なる。このためダイオード
!6のpn接合部で発生する光キャリアと光導゛重層2
6で発生する光キャリアの和として取り出される出力電
流Iの分光感度特性は、前記バイアス電圧VTの値によ
って異なる。
第5図は第4図に示したダイオード16のpn接合部お
よび光導電層2Gの分光感度特性に基づいた出力電流I
の分光感度特性を示すグラフである。バイアス電圧VT
が0のときは出力電流Iダイオード16のpi接合部の
分光感度特性に二数する(点線230)が、バイアス電
圧VTが小の場合(実線232)と人の場合(一点鎖線
234)では第5図に示すように分光感度特性が異なっ
てくる。すなわちバイアス電圧VTの値を変えることに
よって分光感度特性を自由に設定することが可能である
第6図を参照すると、本発明による撮影装置をマイクロ
フィルムリーグに適用した実施例が示されている。その
主要部をなす固体撮像デバイス+00は、第1図に示す
ような撮像セル10が行列アレイ状に配列された撮像セ
ルアレイ102と、垂直シフトレジスタI04と、水平
シフトレジスタ108とを有し、これらが1つのチップ
に形成されている。撮像セルアレイ102は、たとえば
、垂直方向Vに242行の水平走査線、水平方向Hに2
58個の画素が配列され、したがってシフトレジスタ+
04および10fiもこれに対応したレジスタ段が用意
されている・ 垂直シフトレジスタ104の各し・′ンスタ段108は
、対応する水平行選択線+10を駆動するもので、各選
択線+10はスイッチ42のゲート22に接続されてい
る。スイッチ42は、スイッチ43と同様に本実施例で
は第7図に示すようなMOSスイッチで構成されている
が、図の複雑化を避けるため、第6図では丸い記号で示
されている。そのソース0ドレーン路は、一方がタイオ
ード16に接続され、他方は垂直線すなわち映像信号読
出し線24に接続されている。
垂直線24は、8052インチ43の、ソース−トレー
ン路を通して各垂直列が共通に映像信号出力端子50に
接続されている。MOSスイ、チ43のゲート112は
、水平シフトレジスタl0flの対応するレジスタ段+
14に接続されている。
なお、第6図に示した説明のための実施例は、各撮碌セ
ルIOが単純に格子状に配列された白黒撮像デバイスの
場合を示している。本発明の原理の理解にはこれで十分
であるが、本発明はカラー撮像デバイスの場合にも効果
的に適用できることは言うまでもない。
ところで、本装置は、撮像デバイス100の撮像セルア
レイ!02に被写体+40の像を結像させる撮像レンズ
118を有する。被写体140は本実施例ではマイクロ
フィルムであり、たとえばその1コマが撮像レンズII
8にて撮影される。 ′読出し1ノ制御回路12Bは、
基準発振器+30の発生する基準クロックから様々なタ
イミング信号を形成して固体撮影デバイス100を駆動
する回路である。読出し制御回路128は、信号線13
2によって垂直シフトレジスタ104に歩進クロックφ
Vを、信号線+34によって駆動パルスTVをそれぞれ
供給し、信号線138によって水平シフトレジスタ10
Bに歩進クロックφHを、信号線136によって駆動パ
ルスTFIをそれぞれ供給する。
本実施例では、標準テレビジョン方式の信号速度で出力
端子50から映像信号を出力させる。したがって歩進ク
ロックφVは、垂直シフトレジスタ104の各段1(1
8を1水平走査(IH)期間ごとに歩進させるクロック
であり、歩進クロックφHは、水平シフトレジスタ10
8の各段目4を1画素allJIごとに歩進させるクロ
ックである。これらのクロックφVおよびφHは、同図
では単一の信号線で示されているが、実際には2相クロ
ツクが有利に使用される。
第6図において透明電極28への接続端子が符号142
で示されているが、これに可変電源40が接続される。
電源40は、たとえば第2図に示すような構成をとり、
正負両極性のQf変直流電圧VTを透明電極28に供給
することができる。したがって、電源回路40の出力電
圧VTのレベルや極性を変えることによって、Hif述
した11f変コントラスト機能およびNP反転機能が実
現される。
なお、ここで説明した実施例は本発明を説明するための
ものであって1本発明は必ずしもこれに限定されるもの
ではなく、本発明の精神を逸脱することなく当業者が可
能な変形および修IFは本発明の範囲に含まれる。たと
えば1図示の実施例ではダイオード16のpn接合部に
長波長光のみが選択的に入射され、分光感度特性がI′
If変となるように構成されているが、たとえば全波長
域の光がこれに入射可能なようにダイオード16の上方
の光導電層を除去して全波長の光を透過させる光学開口
を設けてもよい。
汰−1 このように本発明によれば、固体撮像デバイスの光導電
層に印加する電圧の大きさを変えることによって出力映
像信号のコントラストを可変とし、またその極性を変え
ることによって出力映像信号のレベルを反転してIII
P変換を行なっている。
したがって、従来のように複雑で高度な構成のγJli
 jE回路やNP変換回路を固体撮像デバイスの出力側
に設ける必要はない。
また、赤色光がpn接合部に到達可能な程度に光導電膜
を薄く形成した場合は、出力映像信号の分光感度特性を
可変とすることができる。
本発明による撮影装置を、たとえばマイクロフィルムリ
ーグやファクシミリ等に用いられるラインセンサ など
に適用すれば、様々な条件で記録された画像を常に適切
な表示状態の映像として再生することができる。
4 図面(7) l1iT ’lj す説明第1図は、
非晶質半導体を光導電膜として使用した固体撮像デバイ
スの例における1つの撮像セルの構成を概念的に示す縦
断面図、 第2図は第1図に示す1つの撮像セルの等価回路を示す
概念的回路図、 第3図は本発明の基本原理を説明するためのグラフ、 第414および第514は本発明の詳細な説明するため
のグラフ。
第6図は本発明による撮゛影装置をマイクロフィルJ・
リーグに適用した実施例を示すプロンク図。
第7図は第6図に使用されている回路黄素記5)の説明
図である。
=!P )の −1の′J1 10、、、撮像セル 18、、、光キヤリア蓄積ダイオード 2ft、、、光導電膜 28、、、透明電極 40、、、可変電源回路 42.43. 、選択スイッチ 82.84. 、可変直流電源 6G、、、切換えスイッチ 100、、、固体撮像デバイス +02.、、撮像セルアレイ 104.106.シフトレジスタ 128、、、読出し制御回路 +40.、、グイクロフィルム 特許出願人 富士写真フィルム株式会社泰2図 箪27 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、複数の撮像セルか半導体基板ヒで撮像セル配列を形
    成している固体撮像デバイスと、該複数の撮像セルから
    順次映像信号を読み出す読出し手段とを含む固体撮像デ
    バイスを用いた撮影装置において、 該固体撮像デバイスの各撮像セルは、前記半導体基板上
    に形成され光キャリアを蓄積する接合部と、該接合部に
    光キャリアを集める金属層と、該金属層の上に形成され
    入射光に応した光キャリアを発生する光導電層と、該光
    導電層の上に形成され光に透明な導電材料からなる透明
    電極層とを有し、 該撮影装置は、該透明電極層にバイアス電圧を印加し、
    該バイアス電圧の値および極性のうちの少なくとも一方
    が可変な電源手段を含み、該電源手段によって該バイア
    ス電圧の値および極性のうちの少なくとも一方を変える
    ことで前記映像信号の出力特性を調整可能とすることを
    特徴とする固体撮像デバイスを用いた撮影装置。 2、特許請求の範囲第1項記載の装置において、前記光
    導電層は、入射光のうち比較的長い波長の光か前記接合
    部に到達可能な程度に薄く形成され。 前記金属層は、該接合部に対応する部分に少なくとも部
    分的に光学的開口を有することを特徴とする撮影装置。
JP59006354A 1984-01-19 1984-01-19 固体撮像デバイスを用いた撮影装置 Pending JPS60152180A (ja)

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