JPS60149945A - 希釈方法及び装置 - Google Patents

希釈方法及び装置

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JPS60149945A
JPS60149945A JP59005621A JP562184A JPS60149945A JP S60149945 A JPS60149945 A JP S60149945A JP 59005621 A JP59005621 A JP 59005621A JP 562184 A JP562184 A JP 562184A JP S60149945 A JPS60149945 A JP S60149945A
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Japan
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dilution
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pulp
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JPH0447780B2 (ja
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Akira Ishizuka
石塚 昭
Yutaka Ozawa
小沢 裕
Ichitaro Miura
三浦 市太郎
Mitsuoki Kondo
近藤 光興
Yutaka Mitarai
御手洗 裕
Hiroshi Kitaguchi
博司 北口
Masaaki Fujii
藤井 正昭
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Toshiba Corp
Tohoku Electric Power Co Inc
Japan Atomic Power Co Ltd
Chugoku Electric Power Co Inc
Chubu Electric Power Co Inc
Hokuriku Electric Power Co
Hitachi Ltd
Tokyo Electric Power Co Holdings Inc
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Toshiba Corp
Tohoku Electric Power Co Inc
Tokyo Electric Power Co Inc
Japan Atomic Power Co Ltd
Chugoku Electric Power Co Inc
Chubu Electric Power Co Inc
Hokuriku Electric Power Co
Hitachi Ltd
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N1/28Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
    • G01N1/38Diluting, dispersing or mixing samples

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は高レベル放射性試料水を自動的に分析する装置
に係シ、特に、高レベル放射性試料水の希釈混合を実施
するのに好適な希釈方法及び装置に関する。
〔従来技術〕
従来の高レベル放射性試料水を希釈する方法としては、
スタン、プロペラ攪拌等がある。第1図は従来のプロペ
ラ攪拌式希釈装置の一例を示した概略図である。配管1
がパルプ2に接続され、このパルプ2には試料入口配管
3と切シ取シ部配管4とが接続され、切シ取シ部配管4
の他端はパルプ5に接続されている。このパルプ5には
試料出口配管6と配管7とが接続され、この配管7の他
端にある出口部は希釈混合槽8内に挿入されている。こ
の希釈混合槽8の底部付近には駆動機構9で回転される
プロペラ10が設けられている。又、この希釈混合槽8
の底部にはパルプ11を挿介した配管12が接続されて
おシ、更にその上部にはパルプ13が挿介されている配
管14が接続されている。
今、パルプ2.5を操作して、高レベル放射性式利水を
試料入口配管3、パルプ2、切シ取シ部配管4、パルプ
5、試料出口配管6を経由して循環させ、切フ取シ部配
管4内の試料水置換を充分行う。その後、パルプ2,5
を切シ換えて、配管1から一定量の希釈水をパルプ2、
切シ取シ部配管4、パルプ5、配管7を経由して希釈混
合槽8内へ注入する。この操作は切り取シ部配管4内の
定量試料水をパルプ2とバルブ5間で切シ取る処理であ
る。一定量の希釈水の注入後、希釈混合槽8内のプロペ
、ylOを駆動機構9で回転させて試料水と希釈水とを
混合し、充分混合した後、パルプ11を開けて配管12
よシ図示されない分析装置へ希釈試料水を移送する。希
釈試料水の移送後、パルプ13を開けて配管14よシ洗
浄水を希釈混合槽8内へ注入し、希釈混合槽8を洗浄す
る。
この様な従来のプロペラ攪拌式希釈装置では、希釈混合
槽8内にプロペラ10等の攪拌素子が設置されている為
、このプロペラ10が邪魔となって希釈混合槽8内の充
分な洗浄が難しい。完全に洗浄されない場合は希釈処理
を繰返し行う時に、次試料への影響が出て、次試料の希
釈精度が悪化すると云う欠点があった。又、プロペラ1
0等の回転部分を有し、装置が複雑になると共にその信
頼性或は耐環境性が必ずしも良いとは云えない欠点があ
った。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、上記の欠点を解消し、使用後の洗浄効
果に優れ且つ耐環境性の向上した希釈方法及び装置を提
供することにある。
〔発明の概要〕
本発明は、攪拌素子の様な駆動部品を用いず、希釈混合
槽内に事前に定量の希釈水の一部を注入しておき、その
後試料水と残シの希釈水とを前記希釈混合槽内に注入し
て定量の希釈水と試料水とを放置混合する方法を採用す
ることによシ、上記目的を達成する。
図面に従って説明する。第2図は本発明の希釈方法を実
現する為の希釈装置の一実施例を示したものである。希
釈水が流入するパルプ15を挿介した配管16を上部に
備えた定量タンク(定量供給容器)17が設けられてお
り、この定量タンク17の下部にはパルプ18を挿介し
た配管1が接続され、この配管1の他端はパルプ2に接
続されている。このパルプ2には試料入口配管3と切シ
取シ部配管4とが接続され、切シ取シ部配管4の他端は
パルプ5に接続されている。このパルプ5には試料出口
配管6と配管7とが接続され、この配管7の他端は希釈
混合槽19の上部に接続されている。この希釈混合槽1
9の底部にはパルプ11を挿介した配管12が接続され
、又上部にはパルプ13を挿介した配管14が接続され
ている。
尚、上記パルプ2.5,11,13,15.18の開閉
は制御装置20がデジタル出力装置21を介して行う様
になっている。
次に本実施例の動作について説明する。パルプ15を開
にして希釈水を定量タンク17にて計量し、この計量し
た希釈水の一部をパルプ18,2゜5及び配管7t−介
して希釈イ屁合槽19に先ず注入する。次に、試料水入
目配v3、パルプ2、パルプ5、試料水出口配管6の流
路をパルプ2,5を操作して作シこの流路に試料水を循
環させる。この試料水の循環で試料水切シ取シ部配管4
内の置換を充分行った後、パルプ2とパルプ5とを切シ
換えて、定量タンク17内に残っている希釈水を配管1
、パルプ2、切シ取シ部配管4、パルプ5、配管7に流
して、この希釈水で切シ取ル部配管4内の試料水を洗い
流し希釈混合槽19へ注入する。
希釈混合槽19内には、最初に事前注入(−次注入)し
た希釈水22と、次に注入(二次注入)した試料水23
と希釈水24が注入されることになる。この図では希釈
水22.24と試料水23を便宜的に層状に示している
が、実際は注入時の攪拌作用で混合が進行する。この状
態で一定時間(1〜2tの希釈水量の場合では5分程度
)放置混合した後、希釈試料水をパルプ11を開いて配
管12に通し、図示されない分析系へ移送する。
希釈試料水の移送後は、パルプ13を開けて配管14よ
シ洗浄水を希釈混合槽19内に注入しこれを洗浄する。
上記の処理は制御装置20がデジタル出力装置21を介
して実行する。第3図はこの制御装置20が実行する制
御フローチャートを示したものである。先ずステップ1
01でパルプ18を閉としパルプ15を開として定量タ
ンク17で希釈水を計量する。次にステップ102でパ
ルプ15を閉としパルプ18を開としパルプ2t−A側
に連通させ、更にパルプ5をA側に連通させる。この状
態をステップ103のタイマー制御が所定時間となる迄
続け、定量タンク17の希釈水の一部を希釈混合槽19
内に注入する。ステップ103のタイマー制御が所定時
間に達すると、ステップ104でパルプ18を閉とし、
パルプ2をB側と連通させ更にパルプ5をB側と連通さ
せ、試料水を循環させる。次にステップ105でパルプ
2をA側に連通させ更にパルプ5をA側に連通させて試
料水を希釈混合槽19内に注入する。次にステップ10
6でパルプ18を開とし定量タンク17内の残シの希釈
水゛を希釈混合槽19内に注入すると共に、切シ取シ部
配管4内の試料水を洗い流す。この処理はステップ10
7のタイマー制御が所定時間に達する迄行い、このタイ
マー制御が所定時間に達した時はステップ108でパル
プ11を開として、希釈混合槽19内の希釈試料水を分
析系へ移送する。
第4図は上記の本実施例の希釈装置を自動的にコントロ
ールする制御系の具体例を示したものである。符号41
はシーケンスコントローラであシ、このシーケンスコン
トローラ41に前述の制御装置20とデジタル出力装置
21とが設けられている。制御装置20には内蔵タイマ
ー42及びデジタル入力装置43が接続されている。デ
ジタル出力装置21の出力はパワースイッチ44を介し
て電磁弁45に入力される。この電磁弁45には圧縮空
気46が接続されておシ、この電磁弁46からの圧縮空
気は希釈装置47の配管48に挿置されている空気作動
弁49に供給されている。又、前記シーケンスコントロ
ーラ41には希釈装置47の起動、停止、リセット等を
行うスイッチ50を設けたオペレータコンソール51が
接続されておシ、このオペレータコンソール51からの
起動停止等の信号はデジタル入力装置43を介して制御
装置t20へ取シ込まれる。
制御装置20の出力指令はデジタル出力装置21を介し
てパワースイッチ44を作動させ、このパワースイッチ
44は更に電磁弁45を作動させる。この電磁弁45が
作動することによって所定の空気作動弁49が作動する
。この空気作動弁49は第2図に示したパルプ2.5,
11,13゜15.18に相当するものである。この様
にして第4図に示した制御系は第3図に示したフローチ
ャートに従って希釈装置47を制御する。同希釈装置4
7は第2図に示したものと同一のものである。尚、第3
図のステップ103、ステップ107のタイマー制御は
第4図の内蔵タイマー42にて行つ。又、シーケンスコ
ントローラ41は容易にマイクロコンピュータ等に置き
換えることが出来る。
ところで、第2図で示したような希釈装置では、希釈水
の事前注入無しで直接高濃度試料水を切シ取シ部4から
希釈混合槽19へ洗い流した場合に、流し始めの高濃夏
試料の一部がパルプ取り付は部等のデッドスペースに滞
溜し、短時間の放置混合処理では充分な希釈精度を得る
ことが出来ない。
第5図は上記希釈水の事前注入i(−次注入量)と希釈
精度の関係を示したものである。この図に示した関係は
希釈混合槽19の直径が変る(形状が異なる)と僅かに
変化するが、それぞれの形状に応じて希釈精度が最も良
くなる最適な一次注入量の範囲が存在することを示して
いる。即ち、希釈混合槽19の直径と長さの比が3=1
〜l:3の範囲では、−成性入量が20〜40%の場合
に最も希釈精度が良く、5分程度の放置混合で95%以
上の均質度(希釈精度5%以下)が得られる。
本実施例が、定量タンク17で計量した希釈水を、−成
性入と二次注入の二度に亙って希釈混合槽19へ注入す
る理由は、この様な方法を採らず高濃度放射性試料水を
最初に注入すると、上記したように、パルプ或は配管継
手等のデッドスペースに入シ込んだ高濃度放射性試料水
を洗浄することが困難となシ、次試料の希釈処理に与え
る影響が非常に大きくなるからである。逆に、希釈水全
量を一度に注入した後、高濃度放射性試料水を注入する
方法では、希釈混合槽19内での混合攪拌の効果が小さ
く、充分な希釈精度を得ることが出来ないからである。
従って、上記した本実施例の方法では、最低限必要な希
釈水の一成性入゛量は、希釈装置各部のデッドスペース
に相当する量が必要となる。
本実施例によれば、事前に定量希釈水の一部を希釈混合
槽19に注入し、次に試料水と残シの希釈水とを注入し
て試料水と希釈水を放置混合する方法を採用している為
、希釈混合槽19に攪拌阻止等の駆動機構を設ける必要
がない為、希釈混合槽内が早純な構造となシ洗浄性が著
しく向上し、特に、繰シ返し希釈処理時の次試料への影
響がなくなシ希釈精度を高める効果がある。又、駆動機
構部がない為、装置の信頼性が向上すると共に耐環境性
に優れる効果がある。
第6図は本発明の希釈方法を実現する希釈装置の他の実
施例を示したものである。希釈混合槽19の上部にパル
プ61を挿介した配管62、パルプ63を挿介した配管
64、パルプ65を挿介した配管66が配設されている
。これ等のパルプ61.63.65は前実施例と同様に
制御装置20によシデジタル出力装[21を介して自動
的に開閉される。
この例では、パルプ61を開いて定量希釈水の一部を配
管62よシ希釈混合槽19に注入し、その後バルブ63
を開いて定量試料水を配管64よシ希釈混合槽19内に
注入する。次いで、残シの定量希釈水をパルプ61を開
いて配管62から希釈混合槽19内に注入する。これ等
定量希釈水及び定量試料水を一定時間の間希釈混合槽1
9内に放置して混合を図った後、パルプ11を開いて配
管12から図示されない分析系へ移送する。移送終了後
、パルプ65を開いて配管66から希釈混合槽19内に
洗浄水を送シ、希釈混合槽19内を洗浄する。本実施例
では、希釈水と試料水の注入配管を個別に設けであると
ころに特徴がちるが、その効果は前実施例と同一である
第7図は本発明の希釈方法を実現する希釈装置の更に他
の実施例を示したものである。定量タンク17の底部に
接続されている配管1はそれぞれパルプ71,72.7
3を有する3本の配管に分岐し、これ等3本の配管はそ
れぞれパルプ74゜’75.76に接続されている。こ
れ等パルプ74゜75.76は直列に接続され、パルプ
74には試料水入口配管3が接続されパルプ76はパル
プ77に接続され、このパルプ77は配管7に接続され
、この配管7は希釈混合槽19の上部に接続されている
。又、パルプ77には試料水出口配管6が接続されてい
る。本実施例の特徴は、試料水の循環経路である試料水
入口配管3と試料水出口配管60間に試料切シ取り部を
多段に設けであるところにあシ、この図ではパルプ74
.75間、パルプ75.76間及びパルプ76.77間
が切シ取シ部となる。
本実施例も第2図で示した実施例と同様に、定量タンク
17の希釈水をパルプ73.76、パルプ77を介して
希釈混合槽19へ一部事前に注入する。次に、試料水を
試料水入口配管3、パルプ74.75,76.77及び
試料水出口配管6を通して循環させる。次に、バルブ7
4〜77間で試料水を切シ取る。その後、パルプ73,
76゜77を通して切シ取シ試料水の一部を少量の希釈
水で洗い流しながら希釈混合槽19内へ移送する。
続いて、パルプ72.75,76.77の間、更にパル
プ71.74,75,76.77の間の切夛取シ試料水
を少量の希釈水で希釈混合槽19内へ洗い流す。最後に
、定量タンク17内の残シの希釈水を希釈混合槽19内
へ注入し、試料水と希釈水をこの希釈混合槽19内で放
置混合する。
本実施例によれば、試料切シ取シ部が多段にある為、第
2図で示した実施例よシきめ細かな試料水と希釈水との
均一混合を図る効果があシ、他の効果は同様である。
〔発明の効果〕
以上記述した如く本発明の希釈方法及び装置によれば、
事前に定量希釈水の一部を希釈混合槽内に注入し、次に
残)の希釈水と定量試料水とを希釈混合槽内に注入して
試料水と希釈水との放置混合を図ることによフ、使用後
の洗浄効果に優れ且つ耐環境性を向上させることが出来
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のプロペラ攪拌式希釈装置の一例を示した
構成図、第2図は本発明の希釈方法を吹現する希釈装置
の一実施例を示した構成図1第3図は第2図に示した制
御装置の処理過程を示すフローチャート図、第4図は第
2図の制御系の具体的構成例を示したブロック図、第5
図は一次注入量と希釈精度との関係を示した線図、第6
図は本発明の希釈方法を実現する希釈装置の他の実施例
を示した構成図、第7図は本発明の希釈方法を実現する
希釈装置の更に他の実施例を示した構成図である。 1.7,12,62,64.65・・・配管、215゜
18.11,61,63,65.71〜77・・・パル
プ、3・・・試料入口配管、6・・・試料出口配管、1
7・・・定量タンク、19・・・希釈混合槽、20・・
・制電I図 弔3図 弔7+図 第5図 第6図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、被分析試料とこれを希釈する希釈媒体とを分析系あ
    るいは採取系の希釈混合槽に混入して希釈する方法にお
    いて、分析又は採取に応じた所定量の希釈媒体の一部を
    先ず希釈混合槽に供給し、その後残シの希釈媒体と、分
    析又は採取に応じた所定量の試料とを希釈混合槽に供給
    して放置混合することを特徴とする希釈方法。 26所定量の希釈媒体の内、分析系又は採取系を構成す
    る部品のプツトスペースを少なくとも満たす量だけ先ず
    希釈混合槽に供給することを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の希釈方法。 3、試料と希釈媒体とを同一配管系統を介して希釈混合
    槽に供給することを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の希釈方法。 4、配管系統中に試料切取部が複数混在し、定量分取数
    に応じて供給操作を繰返し、試料の最終移送時に、残シ
    の希釈媒体を同時に供給することを特徴とする特許請求
    の範囲第3項記載の希釈方法。 5、試料と希釈媒体とを独立配管系M、を介して希釈混
    合槽に供給することを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載の希釈方法。 6、希釈水の定量供給容器と、試料水と希釈水とを混合
    する希釈混合槽と、これら両者の間に試料水を定量分取
    する機構とを備えた希釈装置において、定量希釈水の事
    前注入量、分種試料の注入並びに放置混合時間を自動的
    に制御する制御装置を設けたことを特徴とする希釈装置
JP59005621A 1984-01-18 1984-01-18 希釈方法及び装置 Granted JPS60149945A (ja)

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JPS5643726U (ja) * 1979-09-13 1981-04-21
JPS57111451A (en) * 1980-12-29 1982-07-10 Olympus Optical Co Ltd Dispensing method for particle sample

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