JPS60145613A - 回転微動機構 - Google Patents

回転微動機構

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Publication number
JPS60145613A
JPS60145613A JP59001272A JP127284A JPS60145613A JP S60145613 A JPS60145613 A JP S60145613A JP 59001272 A JP59001272 A JP 59001272A JP 127284 A JP127284 A JP 127284A JP S60145613 A JPS60145613 A JP S60145613A
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JP
Japan
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follower
rotation
rotary
center
fine movement
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Pending
Application number
JP59001272A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuji Matsumoto
有史 松本
Toru Tojo
東条 徹
Kazusumi Sugihara
杉原 和住
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPS60145613A publication Critical patent/JPS60145613A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 本発明は、物体を高精度に位置決めできる微動機構の改
良C二関する。
〔従来技術とその問題点〕
近年、半導体ウェハやマスク基板等の試料に微細パタン
を形成するものとして電子ビーム描画装置、縮小投影形
転与装置およびX線転与装置等が開発されているが、こ
の種の装置ではサブミクロン単位の精度を保持するため
鴫二、微小に駆動する駆動機構が必要となる。また上記
装置(二限らず、測定器で精密な測定を行なう分野等に
おいても、高精度を有する微動駆動機構が必要である。
このような微動駆動機構として最近発明者等は第1図(
a) 、 (b)に示す如き回転微動機構を考案した(
特願昭57−19328号)。この方式では、微小ステ
ップが0.005μm程度の微動可能な素子を用いて、
1回転以上の回転ができる。この回転機構C二ついて説
明する。第1図(a)は平面図で(b)は同図(a)の
矢視AA断面図を示している。図中1は回転板であり、
この回転板1は半円板状の第1および第2の移動部材2
,3を弾性ヒンジ4で接続して構成されている。なお実
際には円板の中心軸を対称とする該円板の外周部2ケ所
をそれぞれ一部切欠くとAもに、該切欠部から中心軸C
二向つ℃それぞれ切欠みを設けること(二よって上記移
動部材2,3および弾性ヒンジ4からなる、回転円板1
が形成される。そして回転円板1は基台5上に移動自在
(=載置されると共4二その中心である弾性ヒンジ4の
下面(−設けたピン6(二よって回転中心が規定されて
いる。
回転板1の前記切欠部inは、第1.および第2の駆動
部材7,8がそれぞれ設けられ℃いる。これらの駆動部
材7,8はそれぞれの印加電圧(二応じて伸縮する圧電
素子からなるもので、その伸縮方向(図中に示す矢印方
向)の両端(二前記第lおよび第2の移動部材2,3が
それぞれ固定されている。なお、この固定は、接着、ね
じ止め、圧入等のいずれであっても良い。また第lの駆
動部材lにはスイッチ9aを介してfiJ’ K ’m
圧電源10 aが接続され第2の駆動部材8(二はスイ
ッチ9bを介して可変電圧電弾10 bが接続されるも
のとなっている。
一方、前記第1の移動部材2の下部(二は、電極11 
aおよび絶縁物11 b 、11 C,@3らなる静電
チャック]1が設けられ℃おり、上記電極11 aと前
記基台5との間にスイッチ13 aを介し″c電諒14
 aを接続することにより第1の移動部iA2が基台5
上に吸着l自走されるものとなつ℃いる。また第2の移
動部材3の下部(二は、上記靜′屯チャック11と同様
な第2の静電チャック12が設けられており、このチャ
ック12により第2の移動部材3が基台5上に吸着固定
されるものとなっている。
このよう(二構成された回転微動機構では、まず前記第
2の静電チャック12(二より第2の移動部材3を基台
5上に吸着固定する。この状態で第1の駆動部材7を伸
長させると共に、第2の枢動部材8を縮長させる。これ
により第1の移動部材2は第2図(a)に示す如く弾性
ヒンジ4を中心として矢印方向P方向に微小回転する。
次に前記第1の静電チャック11(二より第1の移動部
材2を基台5上(二固定し、その後節2の静電チャック
12による第2の移動部材3の固定を解除する。この状
態で第1の駆動部材7を縮長させると共(二鎖2の駆動
部iA’ 8を伸長ざぜると第2の移動部材3が第2図
(bl(=示すシロく弾性ヒンジな中心にして回転する
とと(二なる。
カくシて回転板lを微動駆動し得ると共にこの繰返し動
作によって回転ストロークを長くとることができる。さ
らに駆動部材7,8に印加する電圧を’J4Mすること
によって、回転板の粗動および超微動を容易C二行なつ
ことができる。
ところで、このような機構にあっては、回転板lを駆動
している間は回転板2を1回転板2を、駆動しχいる間
は回転板1を確実(二固定しておく必要がある。発明者
等の実験によると上記微動哉構を高速で駆動させると、
本来固定されるべき回転板がスリップして逆回転してし
まうことが測定された。これは駆動される回転円板の慣
性抵抗が反力として固定側の回転円板に加イっるためで
ある。
この結果、スリップした分だけ回転速度が低ドし。
かつ回転トルクも低下してしまう。また、スリップする
ことにより摩耗も増加し、好ましくない。
〔発明の目的〕
本発明は上記回転円板のスリップを防止し、回転速度1
回転トルクの低下を防止した回転倣動機構を提供するも
のである。
〔発明の概要〕
本発明の骨子は、従来の回転微動84構に逆転防止′機
構を取付けたことを特徴とする。また回転方向によって
該逆転防止機構の動作方向を切変えるよう(ニしたこと
を特徴とする。
逆転防止機構は、摩擦力を二よって動作するものであり
回転円板のスリップ方向(二そって動くフォロアーと、
該フォロアーが回転円板スリップ方向に動くとき、該フ
ォロアーの回転中心と回転円板との間(ニフオロア−が
くさび効果1:よつ℃くい込んでいくような構造となっ
ており、このくさび効果によって、該フォロアの回転中
心軸と回転円板との間に力を発生させそこ(二働く摩擦
力ζ二よってスリップを防止させるものである。この場
合、回転方向が反対になるとスリップする方向も反対に
なるため、上記逆転防止機構もくきび効果の働きが切変
えられるようにしたものである。
〔発明の効果〕
本発明によれば従来の回転微動機構のように高速で駆動
させても固定側の回転円板のスリップは防止され、との
ため、回転速度が目標値に近い量だけ得られる。また従
来はスリップによって得られるトルクが小さかったがス
リップが防止されたため、かつ発生するトルクが従来で
は回転円板を固定する静電チャック力、あるいは機械的
(二固定する力のみで得られていたものが上記逆転防止
機構で得られるとと(二なり、高いトルクが発生できる
よう(二なる。すべての電源が供給されていないとき、
回転円板が自由に回転してしまうのを避けることができ
るなど利点が多い。
〔発明の実施例〕
第3図は、本発明の一実施例(二係わる回転微動機構の
概略構成図を示す。なお、第1図(a) 、 (blと
同一部分(二は同一符号を付してその詳しい説明は省略
する。この実施例が前記第1図(a) 、 (blに示
した機構と異なる点は、図で示したような逆転防止機構
製を設けたことにある。
すなわち、基台5上に固定された支持具5]はL形構造
をしており、その一方の腕は回転円板2゜3上にそれぞ
れつき出した構造となっている。ルuの先端には回転軸
52があり、例えはころがり玉Q!lli受などで支持
され又いる。
回転軸にはフォロアー53が固定されており回転軸を中
心(二回転できるよう(ユなっている。フォロアーはそ
れ自身の中心とは偏心した位置(二回転支持されており
、フォロアーの一部が回転円板2゜3とそれぞれ接触し
ている。第3図では矢印方向(ニスリップするのを防止
するよう(=示されている。
回転円板3が矢印方向にスリップすると一回転円板3と
フォロアー53との間のまさつ力によってフォロアは左
回転しようとする。この動きは回転中心52と回転円板
3との間にフォロアーを無理に押こもうとするように1
@き、回転円板を強い力で基板C二押えつける力を発生
する。この方(二よって生じた基板と回転円板のフォロ
アーと回転円板の間の摩擦力はスリップを防止するよう
に働く。
逆C二回転円板が矢印と反対の方向、(回転方向)(−
進むときはフォロアは右回転し、上述した力は作用しな
い。上述したよう(二回転円板2,3にそれぞれ逆転防
止機構刃が設けられているため、各回転円板のスリップ
は防止され、スリップ(=よる回転速度の低下、発生ト
ルクの低下が防止される。
回転方向を逆転した時は、この状態では逆転防止機構が
働い工しまい回転しない。この場合はフォロアを大きく
右回転させ1図で示した破線の状態にする。回転円板2
にある逆転防止機構も同様な操作を行なう。こうするこ
と(=よってスリップ方向(二対してくさび効果による
力が発生し、スリップが防止されること(二なる。この
フォロアの回転は手動で行なっても、何らかの駆動装置
な用いて自動で行なっても良い。
〔発明の他の実施例〕
なお本発明は上述した実施例に限窃されるものではない
。逆転防止機構の構造は、イ」々考えられる。例えば第
3図で示したフォロアー533は第4図(a)で示すよ
うに棒状のものであっても良いしその形状は種々考えら
れる。また初期予圧を与える意味で第4図(b)で示す
ようにスプリング54を逆転防止機構の中E含ませても
良い。
要するに本発明の要旨を免税しない範囲でその構造は種
々考えられる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の回転微動機構の概略構造を示し。 (al tI′i平面図、(b)は断面図、第2図(a
) 、 (b)は各々回転微動機構の駆動状態を示す説
明図、第3図は本発明の一実施例を示し伸)は平面図、
(b)は断面図、第4図は本発明の他の実施例を説明す
る為の図である。 1・・・回転微動機構、 2.3・・・回転円板、4・
・・弾性ヒンジ、5・・・基台、 6・・・ビン、 7,8・・・、1駆動部材、9a、9
b、13a、13b−−・スイッチ。 10a 、 10b 、 14a 、 14b −・−
電源、11・・・第1の静′屯チャック(第1の固定部
材)。 12・・・第2の静電チャック(第2の固定部組)、(
2)・・・逆転1)す止機構、 51・・・L形支持具
、52・・・回転軸、 53・・・フォロアー、54・
・・スプリング。 (7317)弁理士 則近憲佑 (ほか1名)第1図 輸 第2図 第 3 図 第 4 図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基台上(=移動自在に載置された第1および第2
    の移動部材と印加電圧に応じて伸縮する圧電素子からな
    りその伸縮方向両端(二上記第1および第2の移動部材
    が取着された駆動部材と、上記第1および第2の移動部
    材を前記基台上に交互(二固定するとともにこれらの移
    動部材の少なくとも一方を常(二固定する固定部材と、
    上記第1および第2の移動部材の回転中心を決定する手
    段とを具備し、前記駆動部材の伸縮作用および前記固定
    部材の固定作用(二より前記第1および第2の移動部材
    を回転せしめる回転微動機構(二おいて。 逆転防止機構を取付けたことを特徴とする回転微動機構
  2. (2) 前記逆転防止機構は、摩擦か(二よって動作す
    るものであり、該移動部材と当−し工回転中心まわり(
    一回転自由なフォロアーと、該フォロアーの回転中心を
    決定する回転支持体とから成り、市フォロアーの回転半
    径が、該フォロアーの回転中心と移動部材との間の距離
    よりも多小犬きめにし。 該フォロアの回転(二よって移動部材を押しつけるよう
    にして逆転を防止したことを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の回転微動機構。
JP59001272A 1984-01-10 1984-01-10 回転微動機構 Pending JPS60145613A (ja)

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JP59001272A JPS60145613A (ja) 1984-01-10 1984-01-10 回転微動機構

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JP59001272A JPS60145613A (ja) 1984-01-10 1984-01-10 回転微動機構

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Publication Number Publication Date
JPS60145613A true JPS60145613A (ja) 1985-08-01

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ID=11496819

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59001272A Pending JPS60145613A (ja) 1984-01-10 1984-01-10 回転微動機構

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