JPS60136903A - 垂直磁気記録ヘツド主磁極の作成方法 - Google Patents
垂直磁気記録ヘツド主磁極の作成方法Info
- Publication number
- JPS60136903A JPS60136903A JP16901883A JP16901883A JPS60136903A JP S60136903 A JPS60136903 A JP S60136903A JP 16901883 A JP16901883 A JP 16901883A JP 16901883 A JP16901883 A JP 16901883A JP S60136903 A JPS60136903 A JP S60136903A
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- magnetic
- pole
- magnetic field
- head
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は手直磁気記録用ヘッド（以下、垂直ヘッド）の
製造方法に関するもので、その主磁極に用いられる高透
磁率薄膜の磁気異方性の向きを作成時に制御することに
より垂直ヘッドの信頼性を高め９歩留まりを向上させる
ことを目的とする。
製造方法に関するもので、その主磁極に用いられる高透
磁率薄膜の磁気異方性の向きを作成時に制御することに
より垂直ヘッドの信頼性を高め９歩留まりを向上させる
ことを目的とする。
近年、磁気記録の高密度化の請求とともに、磁気記録媒
体の淳み方向に磁気記録する。いわゆる垂直磁気記録方
式が注目されている。
体の淳み方向に磁気記録する。いわゆる垂直磁気記録方
式が注目されている。
この垂直磁気記録に使用される垂直ヘッドに紘さまざま
なタイプのものが提案されているが、基本的には高透磁
率薄膜からなる主磁極と、フェライト等からなる比較的
厚い補助磁極及び励磁コイルによって構成されている。
なタイプのものが提案されているが、基本的には高透磁
率薄膜からなる主磁極と、フェライト等からなる比較的
厚い補助磁極及び励磁コイルによって構成されている。
これらの垂直ヘッドのうち９代表的な補助磁極励磁型垂
直磁気ヘッドを第１図に示す。記録時にはコイル２に記
録電流を流して補助磁極の磁性体３を励磁し、これＫよ
りて励磁された主磁極１の高透磁率薄膜と垂直磁性媒体
５との相互作用によりて記録される。また、再生時には
記録時と逆の過程を経てコイル２に再生電流が流れる。
直磁気ヘッドを第１図に示す。記録時にはコイル２に記
録電流を流して補助磁極の磁性体３を励磁し、これＫよ
りて励磁された主磁極１の高透磁率薄膜と垂直磁性媒体
５との相互作用によりて記録される。また、再生時には
記録時と逆の過程を経てコイル２に再生電流が流れる。
７はヘッド支持台である。この時、高密度記録になる程
。
。
主磁極を通る磁束の反転速度が速くなり、主磁極の高透
磁率薄膜の応答速度または実効透磁率の低下が問題とな
りてくる。つまり、主磁極の高透磁率薄膜の磁気特性は
、磁化反転速度の遅い磁化容易軸を用いるよりも、磁化
反転速度の速い磁化困難軸を用いれば良い。つまり、垂
直磁性媒体に対して磁化困難軸を向ければ良い。
磁率薄膜の応答速度または実効透磁率の低下が問題とな
りてくる。つまり、主磁極の高透磁率薄膜の磁気特性は
、磁化反転速度の遅い磁化容易軸を用いるよりも、磁化
反転速度の速い磁化困難軸を用いれば良い。つまり、垂
直磁性媒体に対して磁化困難軸を向ければ良い。
一方、この主磁極の高透磁率薄膜はスパッタ。
蒸着、メッキ法等の方法で作成されるが、その生成膜は
膜作成時の環境、特に周囲に存在する微弱な磁場によっ
て敏感に反応しその磁気異方性の向きを決定するため１
作成された高透磁率薄＞の磁気異方性の方向がとかく一
定しない。従って従来は高透磁率薄膜を形成した後、Ｂ
−Ｈループトレーサーにより薄膜の磁気異方性を測定し
、磁化困難軸の方向にパターンが向くよりエツチング処
理をしていた。しかしこの方法では膜形成時の環境の微
妙な変化により高透磁率薄膜の磁気特性にかナリノバラ
ツキを生じていた。
膜作成時の環境、特に周囲に存在する微弱な磁場によっ
て敏感に反応しその磁気異方性の向きを決定するため１
作成された高透磁率薄＞の磁気異方性の方向がとかく一
定しない。従って従来は高透磁率薄膜を形成した後、Ｂ
−Ｈループトレーサーにより薄膜の磁気異方性を測定し
、磁化困難軸の方向にパターンが向くよりエツチング処
理をしていた。しかしこの方法では膜形成時の環境の微
妙な変化により高透磁率薄膜の磁気特性にかナリノバラ
ツキを生じていた。
本発°明はこの問題を解決するために、成膜時に高透磁
率材料からなるヨーク板８，８／ を第２図（ａ）の様
にヘッド支持台となる基板７の両側に配置することによ
って９周囲に存在する浮遊磁場をこのヨーク板８，８′
に導き、その方向を常にヨークオシの挟持の方向に一定
にし、それによって作成される高透磁率薄膜の磁気異方
性の向きを任意に制御するようにしたものである。
率材料からなるヨーク板８，８／ を第２図（ａ）の様
にヘッド支持台となる基板７の両側に配置することによ
って９周囲に存在する浮遊磁場をこのヨーク板８，８′
に導き、その方向を常にヨークオシの挟持の方向に一定
にし、それによって作成される高透磁率薄膜の磁気異方
性の向きを任意に制御するようにしたものである。
以下１本発明をその実施例について更に詳細に説明する
。
。
第２図は本発明の一実施例であり、６は高周波スパッタ
用基板ホルダーである。基板ホルダー６上に高透磁率材
料のヨーク板（パーマロイ）８．８’を第２図に示す様
に平行に配置する４゜このヨーク板８．８′の設置によ
り、それらに導かれてヘッド支持台となる基板７表面付
近の浮遊磁場の向きは、第２図（ｃ）に示す様な形とな
り９例えば高周波スパッタにより高透磁率ＮＦＩ）を基
板７上に付層するとき、その部分には特定方向即ちヨー
クが挾む方向の平行磁場がかかることになる。この基板
ホルダーを用いて高周波スパッタ法により基板上にパー
マロイ膜を形成させたものをＢ−）−１ループトレーサ
ーにかけて得られたＢ−Ｈループは第３図の様になり、
磁化容易軸は平行磁場の方向を向き。
用基板ホルダーである。基板ホルダー６上に高透磁率材
料のヨーク板（パーマロイ）８．８’を第２図に示す様
に平行に配置する４゜このヨーク板８．８′の設置によ
り、それらに導かれてヘッド支持台となる基板７表面付
近の浮遊磁場の向きは、第２図（ｃ）に示す様な形とな
り９例えば高周波スパッタにより高透磁率ＮＦＩ）を基
板７上に付層するとき、その部分には特定方向即ちヨー
クが挾む方向の平行磁場がかかることになる。この基板
ホルダーを用いて高周波スパッタ法により基板上にパー
マロイ膜を形成させたものをＢ−）−１ループトレーサ
ーにかけて得られたＢ−Ｈループは第３図の様になり、
磁化容易軸は平行磁場の方向を向き。
磁化困難軸はそれに直交する方向となった。
以上述べた様に本発明によれば、あらかじめ決定した方
向に磁気異方性を持つ高透磁率薄膜を作成でき、主磁極
の信頼性を高め１歩留まりを大幅に向上させることがで
きた。
向に磁気異方性を持つ高透磁率薄膜を作成でき、主磁極
の信頼性を高め１歩留まりを大幅に向上させることがで
きた。
ただし９本実施例では高透磁率材料のヨーク板としてパ
ーマロイを用いたが、ヨーク板は高透磁率材料であれば
良く、材料には制限されない。また、ヨーク板の構造も
非磁性体上に単に高透磁率材料の膜を付着させた屑けの
ものでも良く１本実施例に制限されるものではない。さ
らにヨーク板の形状についても基板上で平行磁場を生じ
させるものであれば良く、これも本実施例に制限されな
い。
ーマロイを用いたが、ヨーク板は高透磁率材料であれば
良く、材料には制限されない。また、ヨーク板の構造も
非磁性体上に単に高透磁率材料の膜を付着させた屑けの
ものでも良く１本実施例に制限されるものではない。さ
らにヨーク板の形状についても基板上で平行磁場を生じ
させるものであれば良く、これも本実施例に制限されな
い。
本実施例では高周波スパッタ法を用いたか、ＤＣマグネ
トロンスパッタ法、蒸着法、イオンブレーティング法、
メッキ法等によっても同様な結果が得られる。薄膜形成
方法においても本発明は本実施例に制限されない。
トロンスパッタ法、蒸着法、イオンブレーティング法、
メッキ法等によっても同様な結果が得られる。薄膜形成
方法においても本発明は本実施例に制限されない。
簡単な方法によって顕著な効果をあげる１本発明の工業
的価値は高い。
的価値は高い。
第１図は典型的な垂直ヘッドの例である。
第２図は本発明の一実施例でおり、（ａ）は正面図。
（ｂ）は断面図、（Ｃ）はヨーク板を通る磁力線を示し
たルー フヲ測定して得られたグラフの一例である。 １：主磁極 ２：補助磁極のコア ３：コイル ４：ベースフィルム ５：磁性層 ６：基板ホルダー ７：基板 ８：ヨーク板 ９：磁力線 １０：基板上の磁力線方向１１：基板上の
磁力線方向に垂直な方向特許出願人 日電アネルバ株式
会社 ＦＩＧ、２ 手続補正書（方式） ％式％ ２、発明の名称 垂直磁気記録ヘッド主磁極の作成方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都府中市四谷５−８−１ 昭和６０年１月２９日（発送日） ５、補正により増加する発明の数 ０ ６、補正の対象 明細書の図面の簡単な説明の欄 ７、補正の内容 明細書節６頁３行目の次に下記を挿入する。 「第３図（ａ）は、第２図（ａ）の磁気的要部を示す図
。」
たルー フヲ測定して得られたグラフの一例である。 １：主磁極 ２：補助磁極のコア ３：コイル ４：ベースフィルム ５：磁性層 ６：基板ホルダー ７：基板 ８：ヨーク板 ９：磁力線 １０：基板上の磁力線方向１１：基板上の
磁力線方向に垂直な方向特許出願人 日電アネルバ株式
会社 ＦＩＧ、２ 手続補正書（方式） ％式％ ２、発明の名称 垂直磁気記録ヘッド主磁極の作成方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都府中市四谷５−８−１ 昭和６０年１月２９日（発送日） ５、補正により増加する発明の数 ０ ６、補正の対象 明細書の図面の簡単な説明の欄 ７、補正の内容 明細書節６頁３行目の次に下記を挿入する。 「第３図（ａ）は、第２図（ａ）の磁気的要部を示す図
。」
Claims (1)
- スパッタ法、蒸着法、メッキ法等を用いて垂直磁気記録
用ヘッドの主磁極をヘッド支持台表面に薄膜状に作成す
るとき、該ヘッド支持台表面に一定方向に浮遊平行磁界
をつくるように、該方向で該ヘッド支持台表面を挾持す
る如き複数の高透磁率材料よりなるヨーク板を設け、該
主磁極の磁気異方性の向きを該一定方向に制御すること
を特徴とする垂直磁気記録ヘッド主磁極の作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16901883A JPS60136903A (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 垂直磁気記録ヘツド主磁極の作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16901883A JPS60136903A (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 垂直磁気記録ヘツド主磁極の作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60136903A true JPS60136903A (ja) | 1985-07-20 |
| JPH0330968B2 JPH0330968B2 (ja) | 1991-05-01 |
Family
ID=15878802
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16901883A Granted JPS60136903A (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 垂直磁気記録ヘツド主磁極の作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60136903A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57207308A (en) * | 1981-06-15 | 1982-12-20 | Akai Electric Co Ltd | Amorphous soft magnetic thin film |
-
1983
- 1983-09-13 JP JP16901883A patent/JPS60136903A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57207308A (en) * | 1981-06-15 | 1982-12-20 | Akai Electric Co Ltd | Amorphous soft magnetic thin film |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0330968B2 (ja) | 1991-05-01 |
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