JPS60123756A - 磁石装置 - Google Patents

磁石装置

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JPS60123756A
JPS60123756A JP59238233A JP23823384A JPS60123756A JP S60123756 A JPS60123756 A JP S60123756A JP 59238233 A JP59238233 A JP 59238233A JP 23823384 A JP23823384 A JP 23823384A JP S60123756 A JPS60123756 A JP S60123756A
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coils
magnet device
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OKUSUFUOODO MAGUNETSUTO TEKUNO
OKUSUFUOODO MAGUNETSUTO TEKUNOROJII Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は磁石装置、特に核磁気共鳴(NMR)撮像で
の使用に適した磁石装置に関する。
近年NMR撮像の技術が開発されて、人体の各部の撮像
が可能になってきている。強い磁界中において人体内の
ある種の原子は(歳差運動により)特定の周波数で共鳴
するが、NMRはこのような性質を利用するものである
。人体を一横切るように直交磁界の勾配を与えると、空
間的判別を行なうことができる。NMR装置の一例が米
国特許第4021726号に記載されている。
こうしたNMR撮像技術を実行するためには、磁石の孔
によって形成される作用空間内に、強度の大きい一様な
磁界を供給する必要がある。
孔内の磁界(以下孔内磁界という)の代表的な磁界強度
は2.OTでちる。従来の磁石装置でこのような磁界を
発生する場合に、孔内磁界と同時に大きな外部磁界も発
生して悪影響を及ぼすという問題がある。したがって磁
石装置を遮へいして、このような外部磁界を制限するこ
とが望ましい。
通常、磁石装置の一部をなす鉄シールドを用いて外部磁
界を抑制するか、磁石装置を収容する部屋の壁に鉄板を
施こし外部磁界をこの部屋の中にとじこめたシしている
鉄シールドは高価で邪魔になる。例えば5mの半径の領
域外での外部磁界を5゜OG以下にしようとすると、1
.5KGの孔内磁界を発生する磁石装置に対して3トン
の鉄を必要とするし、20KGの孔内磁界発生用の磁石
装置をシールドするには、40トンもの鉄が必要である
。このように多量の鉄を使用すると高価になるばかりで
なく、鉄シールドを磁石装置へ近づければ、それだけ孔
内磁界が歪んでしまう。このことは精密に制御された一
様な孔内磁界を基本とするNMR撮像用磁石装置では特
に望ましくない。
磁石を遮へいする別の方法として、例えば米国特許第3
671902号に記載されているように、磁石の周シに
コイルを並置するものがらる。しかしこの場合には、磁
石をシールドするのに用いられるコイルが小さな局部磁
界を発生するので、特定半径での磁界を決めてから適切
な遮へい磁界を与えるコイルを設計するのに複雑な計算
が必要となる。しかもこの従来装置は、この発明が関係
するような磁界強度とは異なシ、比較的小さな強度の孔
内磁界を発生する磁石を遮へいするよう:設計されたも
のである。また特にNMR撮像用には孔内磁界の強さを
変化させなければならないが、従来装置はこのような点
を解決していない。孔内磁界を変えれば外部磁界も変化
するから、各種シールドコイルに複雑な修正を加える必
要が生ずる。例えばシールドコイルを流れる励磁電流を
変えるだけではなく、コイルの巻数とか磁石に対するコ
イル位置をも変化させなければならない。
米国特許第3333162号にも小規模蓮へい装置が開
示されている。この装置も前述した問題の解決には役立
たない。その理由として、まず第1にNMR装置では孔
内の主磁界ベクトルが回転するから、このコイル装置を
NMR装置に用いることは到底できず、したがってその
まま用いることは勿論、大規模化しても役立たない。第
2に取り扱う磁界が、NMR用には小さすぎる。最大コ
イルの孔内磁界でもその2軸取分は約460ガウス程度
で20〜30cmの離間点での周縁磁界は地磁界以下で
おると推定される。この発明の目的は、磁石装置の表面
に極めて近い周縁磁界が、地気磁界の強さ程度に低減さ
れると共に、患者の出入シのために両端が開口した磁石
装置を提供するにある。
この発明によると、第1磁界を発生する第1超電導コイ
ルアセンブリと、この第1超電導コイルアセンブリに電
気的に直列接続されて第2磁界を発生する第2超電導コ
イルアセンブリとを備えた磁石装置でおって、使用時に
第1.第2超電導コイルアセンブリのそれぞれは、対応
成分が+1は同程度の強度である磁界を発生し、両アセ
ンブリは一様な合成磁界を作用空間内に与え、第2磁界
は磁石装置の外部で第1磁界に対抗することを特徴とす
る磁石装置が提供される。
この発明は、外部シールドを付加する必要がなく、かつ
作用空間内に有用な(すなわち大きな強度の)一様な磁
界を発生できる自蔵型磁石装置を提供する。先に述べた
ように、従来コイルを用いたシールドが提案されたが、
これらのコイルは小さな外部磁界を発生してしまう。し
かるにこの発明では、第2超電導コイルアセンブリが遮
へい磁界を与えるばかりでなく、作用空間内の合成磁界
に大きく寄与する。両コイルアセンブリの高次磁界項が
零となるように平衡するので、磁界の一様性が得られる
。原理的には、両コイルアセンブリが一様な磁界を与え
て、これらコイルアセンブリを重合せたときに結果が一
様になるように、第15第2コイルアセンブリを別個に
ノ々ランスさせることができる。そして作用空間内の合
成磁界は、両コイルアセンブリによる発生磁界間の零次
類の差にもとづいて発生する。このため孔内磁界の一様
性の制御(f−かなり向上させることができる。
2個超電導コイルアセンブリが電気的に直列に接続され
ている点が、この発明のさらに重要な利点である。この
ために、第1超電導コイルアセンブリに流れる電流を変
えて孔内磁界の強さを変化させると、第2磁界も充分な
量だけ自動的に変化するので、同程度のシールドを行う
ことができる。換言すれば遮へい系は直線性を有する。
NMR撮像に必要な慣界強度および高精度磁界を与える
ために、超電導コイルアセンブリを用いる。コイルの超
電導状態を得るには、従来の低温または冷凍技術を用い
て4.2に程度の極低温までコイルを冷却する。そして
コイルを継続動作状態にして、雑音磁界を防ぐようにす
るとよい。
この発明による磁石装置全体の大きさは、冷却装置を含
めても従来の非線へい磁石を装置を若干上回るにすぎな
い。
この発明の自蔵型磁石装置は、据付は費用を低減できる
利点を有する。
さらに第2超電導コイルアセンブリを用いると遮へい作
用を高精度で行うことができ、作用空間内の磁界の一様
性を低下させることがない。
また遮へい磁界は、実際上作用空間内の磁界の制御に寄
与する。さらに従来の鉄板シールドを用いたものに比し
、シールド効果を向上できる。
通常第2超電導コイルアセンブリに流れる電流の方向は
、第1超電導コイルアセンブリでの電流の方向と反対で
ある。
この発明による磁石装置の最も簡単な構成では、第1、
第2コイルアセンブリはそれぞれ単一コイルからカシ、
2個のコーfルが電気的に直列に接続される。
好ましくは第1、第2コイルアセンブリの一方または両
方が、コイルの軸線に垂直な磁石装置中央面に対して、
対称的に配置された複数個の同軸コイルを含むことであ
る。
2個の超電導コイルアセンブリを使用すると、使用時に
かなりの応力が発生するという問題を伴う。しかしなが
ら、コイル巻線内の磁界の値が全体として非線へい磁石
の値となるように、第2超電導コイルアセンブリを配置
することによって、上記応力を相当程度低減できる。そ
して作用空間内に正味の磁界を与えるのに必要な電流増
加分のみが、巻線内の作用力を増加させる。
if、第2コイルアセンブリが両方とも複数個のコイル
を含む場合、典型的には、2本の軸線を一致させると共
に2個の中央面も一致させる。これによp作用空間(磁
石装置の孔)内の合成磁界をきわめて簡単に一様化でき
る。さらに第2超戒導コイルアセンブリのコイルの内側
半径を、第1超電導コイルアセンブリのコイルの外側半
径よpも大きくする。特に同軸コイルを用いた場合の利
点として、第1コイルアセンブリ(磁石)と第2コイル
アセンブリ(シールド)との間のバランスをとることが
できるので、磁石アセンブリとシールドアセンブリとを
別個に考えた場合には、一様な磁界が得られず両者を一
緒に働らかせたときのみ、−株化が達成されるといった
点をあげることができる。
1実施例の場合、第1.第2超電導コイルアセンブリは
それぞれ6個の超電導コイルを含み、第1超電導コイル
アセンブリを構成するコイルが、第2超電導コイルアセ
ンブリを構成するコイルの半径方向内側に設けられ、コ
イル全体が同軸的に配置されると共に、コイルの軸線に
垂直な共通中央面に対して対称的に配置される。
上述の磁石装置により得られる特に軸方向でのシールド
作用は、通常の実際上の目的に対して充分である。しか
しながらある場合には、少なくとも第1超電導コイルア
センブリの周りに設けた磁性材のシールドをさらに付加
するとよい。すなわちこの付加シールドは、半径方向周
縁磁界を一層低減する。この付加シールドは例えば第2
超電導コイルアセンブリの周囲、好ましくは第1、第2
コイルアセンブリの間に配設する。またこの付加シール
ドを第2超電導コイルアセンブリのコイルに隣接させる
とよい。このような配置は、第2超電導コイルアセンブ
リを支持する巻枠を上記付加シールドとして用いること
によシ、きわめて簡単に実現できる。
付加シールドを鉄製にすれば、第2コイルアセンブリ中
の高価な超電導体の量を低減できる。
1.5Tの孔内磁界に対し、6000ky−の鉄量です
むから低減効果は顕著である。
必要に応じて作用空間の両端に隣接配置したさらに他の
付加コイルアセンブリを設ければ、シールド作用をさら
に向上できる。これらの付加コイルアセンブリは、第1
、第2超電導コイルアセンブリが付加コイル位置で発生
する合成磁界と対抗して打消すように設けられる。そし
てこれら付加コイルアセンブリが発生する必要磁界は比
較的小さいので、通常抵抗性コイルのものを用いる。こ
のため大きな低温槽を用いなくても、コイルの直径を大
きくできる。しかし付加コイルアセンブリを超電導性の
ものとじてもよく、その場合第1、第2B電導コイルア
センブリと電気的に直列に接続する。
以下実施例を用いて、この発明による磁石装置と、この
磁石装置を組込んだNMR装置につき詳細に説明する。
第1図は磁石装置lの一部切欠分解図を示す。
磁石装置1は、軸線4を有する孔3からなる磁石作用空
間を形成する円筒状巻型2を備え、この巻型2はガラス
繊維エポキシ合成材からなっている。巻型2の半径方向
外側には、軸線4と同軸のアルミニウム製円筒状巻枠5
が配置されている。軸線4に垂直な装置中央面6に対し
て、それぞれ対称に配置された3組のコイル対hp:。
BB’およびcd (合計6組)を巻枠5に設ける(第
2図)。典型的には、コブル対の各コイルA、A’〜C
9dは■型合全超電導体の細いよシ線と、通常の良導電
体母材と、付勢電圧および障害電圧を絶縁する電気絶縁
面とで構成され、超電導体よυ線は母材中に整然とした
アレイ状に埋設される。各コイルの位置および巻数につ
いては後で述べる。コイル対の各コイルA、A’〜c、
dは、一方が他方の半径方向内側に位置するよう分離し
て巻回されている。これらのコイルをワックス組成材中
に埋設してからクランシリング(図示せず)で取巻く。
そして各コイル対を巻枠5の各環状リゾ対5A、5B等
の間に配設する。コイルのわずかな移動によって微量の
熱が発生し、超電導状態の破壊(クエンチングとして知
られている)に到るので、使用中のコイル巻線の移動は
問題であり、これを防ぐためにワックス組成材とリブと
を設けているのである。コイル対Aへ′〜CC’の間隔
は小さいから、隣接コイル間で軸方向に作用し、約20
0,000kyにも及ぶ大きな力に見合うように巻枠5
を構成しなければならない。さらに、巻枠5をできるだ
け軽くして磁石装置の全重量を低減し、できるだけ真円
筒状にする必要がある。
巻枠5に対し半径方向外側に第2のアルミニウム製巻枠
7を取付ける。この巻枠7には、後述のように磁石装置
の中央面6に対して対称的に配置された6個のシールド
コイルD−F(第2図)が設けられている。これらのコ
イルD〜Fは巻枠7の各リブ対7F 、7Eの間にコイ
ルA、A’〜c 、 c’と同様な方法で取付けられる
。この場合も、クランシリング(図示せず)とワックス
を用いてコイル巻縮の移動を抑えている。2組のコイル
内を反対方向に流れる電流が極めて大べな力を半径方向
に生じさせるから、クランシリングを設けることは特に
重要である。
コイルA−Fの巻線を超電導状態に置くためには、これ
らの巻線を約−4,2Kまで冷却する必要がある。この
温度はヘリウムの沸点であるから、2個の巻枠5,7を
、外側円筒壁8と、中央円筒部材9およびこれよりも半
径方向外側の1対の円筒部材10(第1図では片方のみ
が見える)を有する内側壁とで定められるヘリウム容器
内に置く。円筒部材9,10は環状ウェブ部材11で接
続して一体化する。そして1対のリング部材12を用い
てヘリウム容器を塞ぐ。
壁8、円筒部材9,10.11およびリング部材12[
tべてステンレス鋼でできている。タレット14内に設
けた注入口13を介して、ヘリウム容器へ液体ヘリウム
を供給する。
ヘリウム容器に対し半径方向外側および内側に、これと
同軸にアルミニウム製の円筒状放射シールド15 、1
5’が取付けられ、該シールド15 、 I 5’とヘ
リウム容器との間に排気空間16を形成する。シールド
15.15はタレット14内に設けた熱交換器(図示せ
ず)の媒介作用によりヘリウムと接触して冷却される。
この熱交換器は放射シールドl 5 、15’から熱を
抽出し、その熱をヘリウム容器内で気化している冷いヘ
リウムガスへ伝える。
またシールドl 5 、15’に対して半径方向外側お
よび内側に、これらと同軸にアルミニウム製の放射シー
ルド17 、17’が取付けられて排気空間18を形成
する。使用時シールド17゜17′に巻かれてタレット
14の宵口部19に接続された冷却管(図示せず)へ液
体窒素が供給される。最後にシールド17に対して同軸
にステンレス鋼製の円筒状外側ケース20が取付けられ
て真空空間21を形成する。アルミニウム製端板22〜
24で空間16,17,21の端部を塞ぎ、一方1対の
エンドリング25を内側シールド17’に装着する。第
1図には、一方の端板およびエンドリングのみしか図示
されていない。
熱負荷(損失)を少なくするため、各シールドを対応す
る取付板に装着されたガラス棒(図示せず)によって支
持する。これらの棒を3次元支柱アレイとして配設すれ
ば、0.04ワツト以下の熱洩れで4000 kgの磁
石を支持できる。
使用時ヘリウム容器には4.2にの液体ヘリウムが充填
される。液体ヘリウムが気化すると、生成されたガスが
タレット14内の熱交換器へ流入し、シールド15 、
 l 5’を約400Kまで冷却する。液体ヘリウムの
気化によシヘリウム容器壁は42°Kに保たれる。冷却
管(図示せず)中の液体窒素はシールド17 、17’
の温度を約77Kに保つ。この液体窒素の外被と空間1
6.18.21内の真空とが、ヘリウム容器の温度を4
.2Kに保持するのに役立っている。
空間16.18.21はタレット14内の弁(図示せず
)を介して大気に接続しているので、これらの空間を排
気できる。
コイルA−Fの配置を理解するには、円筒表面上に配設
された1組の円形共面コイルの中心における磁界を考え
るとよい。コイルを流れる各電流値に対し、上記磁界は
半径に比例する。
円筒孔内磁界(孔内磁界)eBo、磁石装置の外部点で
の磁界(以下外部点磁界という)をBfとすると、内側
コイルA、X〜c 、 c’によル構成される磁石(M
)およびコイルD−Fにより構成される対抗磁石(A)
に関して、 B、p7BIA= RI B♂/BfA=R2 が得られる。ここで、B、?は磁石Mによる孔内磁界、
B/’は磁石Mによる外部点磁界、BoAは磁石Aによ
る孔内磁界、BfAは磁石Aによる外部点磁界、R1は
磁石Mから外部点壕での半径方向距離、R2は磁石Aか
ら外部点までの半径方向距離を表わす。
所定外部点での外部磁界を完全に打ち消すためには、B
fA = −Bt Mでなければならない。
またコイルの両アレイによる合成有効孔内磁界は、 BOM+(”oA) =BoM(” ”2/R1)とな
る。
よって一定の孔内磁界を得るのに、完全遮へい系は非運
へい磁石装置よシも大きな電流を必要とする。この電流
増加の影響によシ、コイル巻線中で導体に作用する力も
増大するので、先に述べたような対策が必要となるので
ある。
コイルA−Fの半径方向および軸方向位置は、孔3内の
磁界が選択値になると共に、孔全域に亘ってtlは一様
になるように選ばれる。さらにコイルの大きさと位置を
選択して、磁石装置の外部の磁界強度が特定値を超えな
いようにする。
各コイルA −Fの位置は4個の寸法によって決められ
る。これらの寸法は第2図に示すように(但しコイルC
に注目して示す)、内側半径a□、外側半径a2、コイ
ルが中央面6から軸4に並行に離間する最短距離す、お
よびコイルが中央面6から軸4に並行に離間する最長距
離す、である。
第2図かられかるようにコイルA−Fはすべて長方形横
断面を有する。
下の表1はコイルの直径が異なると、孔内磁界と周縁磁
界とがどのように変化するかを示す。
各ケースでコイルの半径はamで、1,432,664
アンペアターンを有するものとする。孔内磁界をB。と
じ、コイルの中央面内で半径400crnにおける周縁
磁界をBrで示し、コイルの軸に沿いコイルの中心から
400cIn離れた所での周縁磁界をB2で表わす。周
縁磁界はその2成分すなわちコイルの軸に並行な成分を
もって表わしである。
内側コイルとして例えば半径60αのコイルを選び、外
側コイルとしては内側コイルと半径方向でできるだけ接
近しているが、相応の周縁磁界となるよう若干弱い強度
のコイルを選ぶ。
例えば、主磁石の半径f 60 cmとすると、15、
OG Oガウスの孔内磁界および40.1ガウスの平均
周縁磁界を発生する(表1)。半径8゜αのシールドコ
イル自身が発生する孔内磁界は11.250ガウスで、
平均周縁磁界は73.1ガウスである。そして、シール
ドコイルは主コイルに対して極性が反対である。周縁磁
界が打消し合うように該周縁磁界を釣合わせるためには
シールドコイルのアンペアターンを40.l/73.1
だけ減少させて786,560アンペアターンにする必
要がある。しかしてシールドコイルが発生する孔内磁界
は6,176ガウスで、平均周縁磁界は40.1ガウス
である。したがって正味の孔内磁界は15,000−6
,176=8,823ガウスとなシ、正味の周縁磁界は
零となる。
第1図の磁石装置と共に用いるのに適した−連のコイル
の寸法例を以下の表2に示す。
(以下余白) この表で、巻線長さを除き、他の距離の単位は鑞である
。またコイルD−Fの巻数の前に付したマイナス符号は
、これらのコイルを流れる電流が他のコイルの電流に対
して反対方向であることを示す。
この具体的な構成によると、きわめて高い一様性を有す
ると共に、0.1 ppm 7時以下の磁界安定度の2
.0Tの孔内磁界を発生できる。429アンペアの電流
を用いて2.0Tの磁界が得られる3゜ コイル間の電気接続を第3図に示す。スイッチ27およ
び0.5オームの保吸抵抗28を介して、コイルD−F
と並列に電源26が接続される。各コイル群D−Fはコ
イルA、A′〜c 、 c’と直列接続する。さらに、
0.5オームの保護抵抗29が全コイルA、A’〜c、
c’と並列に接続し、0.5オームの保匪抵抗30がコ
イルB 、 B’〜C1dと並列に接続している。
外側コイル群D−Fが磁石装置に及ぼす遮へい効果を第
4図に示す。15KGの孔内磁界を発生する非線へい磁
石装置の場合、磁石装置の中央面6から、10m離れ、
磁石装置の軸4から7.5m離れた位置で、IOCの強
度の外部磁界が発生する。これを第4図の曲線31で示
す。点線の曲線32は外部磁界強度が5Gに低下した位
置を示す。これに対し、第1、第2図の磁石装置による
と、曲線33,34のようにIOC,5Gに低下した外
部磁界強度位置が得られる。
第5図は別のコイル形状例でアリ、この場合内側コイル
A、A’%C,C’の代りに、2対のコイル35.36
を用いる。コイル35は4,098ターンの巻数を有し
、コイル360巻数は2.000ターンである。また、
コイルD−Fの代シに4,400ターンの1個のソレノ
イド37を用いる。このソレノイドは軸4から100m
離間し、中央面6の両側へ64の延在する。
一般に前掲の図に示した磁石装置の遮へいで充分である
が、ある場合には特別な遮へいを必要とする。このよう
な遮へいは例えば第6A、第6B図のように行う。この
例において、第1図と同じ磁石装置1を軸4に並行な4
枚の長方形状鉄板38で囲む。軸4に対して垂直な1対
の抵抗性コイル39を孔3の両端から離れた位置に設け
る。代表的にはコイル39は直径3mで50ターンを有
し、独立した電源(図示せず)から100〜150Aの
電流供給を受ける。
この構成によると、孔内磁界に大きな影響を及ばずこと
なく、さらに遮へい作用を改善できる。さらに磁石装置
をNMR撮像装置に使用する場合でも、コイル39が患
者の孔3への出入pをさまたげることがない。
巻枠7を鉄製にすることによって、第6A。
第6B図のような改善された装置を得ることができる。
このように第6A図の鉄板38を磁石装置1へ組込めば
、きわめてコンパクトな構造でコイルD−Fの遮へい効
果をかなシ向上できる。
上述の磁石装置の最も重要な応用例の1つとしてNMR
撮像装置への応用がある。第7図はNMR撮像装置のブ
ロック図を示し、磁石装置を除いては従来装置と同様で
ある。装置は電源(図示せず)を組込んだ磁石装置1を
備えている。ヘリウム容器と空間18への入口は適当な
供給源に接続され、この供給源の動作は従来形の低温制
御装置40により制御される。
巻型2に多数の勾配磁界コイルを設けであるので、孔3
を通って異なる磁界勾配が形成されてNMR撮像操作を
可能にする。勾配磁界コイルは超電導コイルではな〈従
来形のものである。
これらのコイルは、波形発生器43を介して制御論理回
路42により制御される駆動源41で駆動される。巻型
2にはRF(無線周波)エネルギを発生、受信するコイ
ル(図示せず)も装着されていて、分光計45に接続し
た増幅器44にRF発信機が接続される。NMR信号を
検出するfEF受信機も分光計45に接続される。分光
計45に接続した制御論理回路42によってRF /′
eルスの発生を制御する。分光計45からのNMRデー
タは、制御論理回路42で制御されるデータ果状装置4
6へ送られる。この装置46からのデータは論理処理回
路47へ供給される。
装置全体の制御は、従来のR8(レコード分離)232
インターフエースを介してオペレータ入力部49に接続
したコンピュータ48によって行われる。コンピュータ
に対する情報はディスク駆動機構50に蓄えられ、一方
、撮像操作の結果はコンピュータによって表示装置51
へ送られる。そして表示装置51は患者の人体スライス
をモニタ52上に表示する。
使用時、患者は2方向と呼ばれている磁石装置の軸線4
に沿って孔a内に横たわる。
下の表3は従来の非線へい磁石装置と、第1図に示す磁
石装置との代表的な寸法比較を示している。1$、字は
1mの直径の孔で1.5Tの孔内磁界に対するものでち
る。
表 3
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の実施例の一部切欠分解斜視図、第
2図は、第1図のものの超電導コイルの位置を説明する
ための図、第3図は、第2図の超電導コイル間の電気的
接続を示す回路図、第4図は、第1図のものの軸線と中
央面との交点で定めた原点からの距離に対する磁界強度
の変化を、非線へい磁石装置と、第1図のものとに対し
て示すグラフ、第5図は、この発明の第2実施例におけ
るコイル配置を説明するための図、第6A、第6B図は
、それぞれこの発明の第3実施例の端面および側面を示
す概要図、第7図は、第1図のものを組込んだNMR装
置のブロック図である。 l・・・磁石装置 3・・・作用空間 4・・・コイルの軸m 6・・・中央面7・・・巻枠 
38・・・シールド 第1頁の続き 優先権主張 [相]1%瀉4月11日[相]イギリ@発
 明 者 イーアン リーチ マ クドーガル 0発 明 者 ディピッド ブラック ス(GB)[相]8400684 イギリス国、オクスフオード、チャールベリ、リーズ 
ハイツ 1幡地

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、第1磁界を発生する第1超電導コイ々アセンブリ(
    AA’〜Cd)と、この第1超電導コイルアセンブリに
    電気的に直例に接続されて第2磁界を発生する第2超電
    導コイルアセンブリ(D−F)とを備えた磁石装置(1
    )であって第1、第2超電導コイルアセンブリは対応成
    分がほぼ同程度の強度である磁界を発生し、両アセンブ
    リは一様表合成磁界を作用空間(3)内に与え、第2磁
    界は磁石装置(1)の外部で、第1磁界に対抗すること
    を特徴とする磁石装置。 2、特許請求の範囲第1項において、第1超電導コイル
    アセンブリはコイルの軸線(4)に垂直な磁石装ffi
     (Llの中央面(6)に対して、対称的に配置された
    複数個の同軸コイル(A、A′〜c、c’)を備えてい
    る磁石装置。 3、特許請求の範囲第1項または第2項において、第2
    超電導コイルアセンブリはコイルの軸線(4)に垂直な
    磁石装置(1)の中央面(6)に対して対称的に配置さ
    れた複数個の同軸コイル(D−F)を備えている磁石装
    置。 4、特許請求の範囲第2項または第3項において、第1
    、第2超電導コイルアセンブリのコイルの軸線は一致し
    ている磁石装置。 5、特許請求の範囲第1項、第2項、第3項または第4
    項において、少なくとも第1超電導コイルアセンブリの
    周囲に磁性材のシールド(38)が設けられている磁石
    装置。 6、特許請求の範囲第5項において、シールドは第2超
    電導コイルアセンブリを支持する巻枠(71で構成され
    ている磁石装置。 7、 特許請求の範囲第5項または第6項において、シ
    ールド(38,7)は鉄製である磁石装置。 8、特許請求の範囲第1項、第2項、第3項、第4項、
    第5項、第6項または第7項において、作用空間(3)
    の両端部に隣接配置され、この配置位置において第1%
    第2コイルアセンブリが発生する合成磁界に対抗する1
    対の付加コイル(39)が設けられている磁石装置。
JP59238233A 1983-11-11 1984-11-12 磁石装置 Granted JPS60123756A (ja)

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