JPS60118609A - 硫黄化合物含有ガスのダスト除去精製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、高濃度二酸化硫黄含有ガスよシ単体硫黄を回
収する装置に於いて、硫黄化合物含有ガス中の炭素質ダ
スト及びその他のダストを除去する為の精製方法に関す
るものである。

高濃度二酸化硫黄含有ガスよシ単体硫黄を回収する装置
に於いて、特に、炭素質材を利用した二酸化硫黄還元反
応と、クラウス触媒を利用したクラウス反応とを採用し
た場合、二酸化硫黄還元反応器より後段に設置したクラ
ウス反応炉に導入する硫黄化合物含有ガス中には、炭素
質粉末よ多構成されたダストが、一般的に、２〜４９／
Ｎｄ、さらに悪化した場合には、約６２／Ｎ−含有され
る場合がある。この様なダストを含んだ硫黄化合物含有
ガスをクラウス反応炉に導入した場合、次の様な重大な
トラブルが発生する事が′ＷＩｌ認されている。

すなわち、１）ダストによるクラウス触媒層の目詰り、
２）クラウス触媒のカーボン刺着による性能劣化、３）
ダストによる。生成した単体硫黄の純度低下、４）前記
１）、　２）　項に基づく単体硫黄回収率の低下といっ
たトラブルが発生する。

又、硫黄の収率を多少、犠牲にして、クラウス反応器を
設置せず、硫黄コンデンサーのみとした場合に於いても
、生成硫黄中にダストが多量に混入するため、特別な硫
黄精製装置が必要となる。

本発明の目的は、上記の様なトラブル及び、プロセスの
複雑化といった事態を、全て解決した硫黄化合物含有ガ
スからのダスト除去精製方法を提供することにある。

本発明者らは上記の目的が、回収液状硫黄を循環させる
精製装置において、該液状硫黄の噴霧液滴の液膜をダス
トを含む処理ガスを通過させる手段により達成されるこ
とを見出し、本発明に到達した。

すなわち、本発明の賛旨とするところは、高濃度二酸化
硫黄含有ガスよシ単体硫黄を回収する方法に於いて、回
収した液状硫黄を用いて、硫黄化合物含有ガス中の炭素
質を主とするダストを除去する事を特徴とするダスト除
去方法を提供するところにある。

以下、本発明をさらに詳細にＮＳｔ明する。

第１図は本発明方法に基く、一実施例のフローを示す。

１は炭素質材を充填した二酸化硫黄還元反応器であって
高濃度二酸化硫黄を含有−４る原料ガスは、炭素質素材
還元剤と反応して硫黄、硫化水素、硫化カルボニル等に
還元され、次いでガス冷却器２にて冷却さハた後、ガス
精製装置３に導かれる。炭素質材は灰および未反応炭素
質材として排出される０ガス精製装置５では後続の硫黄
回収工程５よシ、循環硫黄ポンプ４を経て供給され、ガ
ス精製装置３内に噴霧される液状硫黄の液滴と、硫黄化
合物含有ガスを並流或は向流接触させることにより、該
硫黄化合物含有ガス中の、炭素質を主とするダストが除
去される。この工程によシ精製されたガスはさらに次の
硫黄回収工程５にて硫黄を回収された後排ガスとして排
出される。回収された硫黄は主には製品硫黄とし、そし
て一部は循環ポンプ４により、循環硫黄として、精製工
程３へ導かれ循環使用される。

第２図は、本発明の方法に用いるダスト除去精製装置の
望ましい実施態様例の説明図で凌）る。

第２図において、１は精製装置、２は循環硫黄ドラム、
３は循環硫黄ポンプ、４は硫黄スプレー、５は硫黄液レ
ベル調節器、６は硫黄液レベル調節弁、７は循環硫黄温
度調節器、８は冷媒流量調節弁、１１は硫黄化合物含有
ガス（処理ガス）、１２は精製ガス、１３は耕しい液状
硫黄、１４は汚れた循環硫黄を示す。

第１図において精製装置１す２、その内部に、処理ガス
中に液状硫黄を噴霧するスプレー４を、１段ないし、複
数段、望ましくは、２〜４段備えておシ、かつ、下部に
は、循環する液状硫黄の冷却及び温度調節を目的とする
熱交換器（循環硫黄温度調節器）７を内部に取り付けた
循環硫黄ドラム２を備えている。

スプレー４より噴霧される硫黄液滴と並流に、精製装置
上部よシ、場合によれば吹き込まれた処理ガスは、スプ
レーによ勺形成される液膜。

望ましくは、噴霧密度の高いホロコーン・タイプによる
、液滴径肌６〜１．０ｍ、望ましくは。

０．７５〜０．８５　ｒ、ｍの液滴にょ多構成された液
膜を通過する事によシ、ガス中に含有されているダスト
を除去するものである。

この場合、循環する液状硫黄の温度を、精製装置１′）
部の循環硫黄ドラム２中に備えた、上記の熱交換器７に
より、１４Ｑ〜１６０℃、望１しくは、１４５〜１５５
℃に温度調節し、かつ、その噴精量を、処理ガスとの液
−ガス比を。

２〜８　ｔ／ｉ　（Ａｃｔ、　）　、望ましくは、２．
５〜４．Ｏ１／ｒｒ！　（Ａｃｔ、　）に流量調節する
事にょシ、上記の如きダスト除去機能を達成すると同時
に、液状硫黄及び、処理ガス中の硫黄化合物の状態変化
、例えば、蒸発、凝縮等を調節している。

本実施態様例では処理ガスを精製装置上部より硫黄液滴
と並流に吹き込む方法を説明したが、本発明の別の実施
態様例においては、処理ガスは、′ｆＩｔ製装置下部か
ら噴霧される、硫黄液滴と向流に吹き込まれる。

又、本発明に基づく精製装置１に於いて、循環する液状
硫黄のダスト濃度は、時間と共に、処理ガス中のダスト
を捕集する事によシ増加してい〈０そのまま、放置する
と、スプレー・ノズル４の目詰り、かつ、脱塵性能の低
下、かつ、循環硫黄用ポンプのローター、ケーシング等
の摩耗の激化という様なトラブルを引き起こす。

この様なトラブルを解決する為に、本発明に基づく精製
装置では、循環硫黄中のダスト濃度を一定の範囲内に抑
える事を目的とした汚れた循環硫黄の処理を行なってい
る。

即ち、循環硫黄中のダスト濃度を、２〜５チ（重量パー
セント）望ましくは、２〜３チ（重量パーセント）の範
囲内に抑える為に、循環硫黄中より定期的、あるいは、
連続的に、一定量の汚れた循環硫黄１４を抜き出すと同
時に、既述の単体硫黄回収装置５にて回収された新しい
液状硫黄１３を定期的、あるいは、連続的に補給する。

但し、ここでいう新しい液状硫黄１３とは、ダストを含
んだ処理ガスに、まだ、接触していない液状硫黄の事を
意味する。さらに、抜き出された汚れた循環硫黄１４は
、単体硫黄回収装置５に、別途、設置した二酸化硫黄還
元反応器内に導入する事により、硫黄分を蒸発させ、か
つ、残シの捕集されたダストは大部分は燃焼され該反応
器下部より排出される灰及び未燃炭素質材と共に排出さ
れるという方法で処理しているＯ 実施例 処理ガス量ｓ　ｏ　〜３　ｓ　Ｎｍ’／Ｈｒ、ガス温度
３００〜４００℃、ガス組成Ｈ２８３，５〜５．ＯＶＯ
Ｉ　係。

８０２１、ｓ　〜３．０　ＶＯＩ　％、Ｃｏｓ　１．Ｑ
　〜１．ｓ　Ｍｏ１％。

３２　［５〜２．５　ｖｏｌ　％、　Ｈ２Ｏ２０〜３　
０　ｖｏ１％。

ＣＯ２２０〜３　０　ｖｏｗ　９６．　Ｎ２　３　０〜
４　０　ｖｏ１％。

Ｃｏ　４．０〜６−Ｑ　ｖｏｌ　％、Ｈ２２，０〜ｉｎ
　ｖｏｌ　％。

ダスト組成　平均径的３５μｍの粉コークス。

ダスト濃度４〜６ｖ／Ｎ−であるガスを１、塔径２００
馴φ、全高２，４００　ｍＨ、スプレー段数５段である
本発明に基づく精製装置によシ処理した場合の、液−ガ
ス比（Ｌ／Ｇ　）と脱塵率の関係を第３図に示す。

ここで液−ガス比（１／ｒｒ？　（Ａｃｔ、　）　）　
に対する脱塵率は、次式によりめられる 第３図よりあきらかなように、液−ガス比中９ＶＣ，お
いて、脱塵率は９９．７％にも達している０

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の方法に基く、一実施例のフローを示し
、第２図は本発明のダスト除去精製装置の望ましい実施
例を説明する図、そして第３図は本発明の実施例におけ
る、液−ガス比（ｔ／ｒｒ？　（Ａｃｔ、　））　と、
脱塵率（％）の関係を示す。 代理人　内　１）　明 代理人　萩　原　亮　− 第１図 １１硫笛化合物含何カス 第１頁の続き ０発　明　者　伊　藤　義　部　東京都中央区社内

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）高濃度二酸化硫黄含有ガスよシ単体硫黄を回収する
   方法に於いて、回収した液状硫黄を用いて、硫黄化合物
   含有ガス中の炭素質を主とするダストを除去する事を特
   徴とするダスト除去方法。 ２）回収した液状硫黄を、１４０〜１６０℃。 望ましくは、１４５〜１５５℃に温度調節した後、スプ
   レー・ノズル等を利用して、硫黄化合物含崩ガス中に噴
   霧させる事によシ、ガス中の炭素質ダストを除去する特
   許請求の範囲第一項記載の方法。 ３）液状硫黄の温度調節を、該精製装置下部の循環硫黄
   ドラムの液中゛に浸液させた熱交換器によシ行う特許請
   求の範囲第一項記載の方法０４）ダストを捕集した後の
   汚れた循環硫黄を定期的、あるいは、連続的に抜き出し
   、抜き出した汚れた循環硫黄を、該単体硫黄回収装置に
   、別途、設置した二酸化硫黄還元反応器に導入し、該反
   応器内にて硫黄を蒸発させる事による汚れた循環硫黄の
   処理方法を含む特許請求の範囲第一項記載の方法。