JPH0422843B2 - - Google Patents
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- JPH0422843B2 JPH0422843B2 JP58223256A JP22325683A JPH0422843B2 JP H0422843 B2 JPH0422843 B2 JP H0422843B2 JP 58223256 A JP58223256 A JP 58223256A JP 22325683 A JP22325683 A JP 22325683A JP H0422843 B2 JPH0422843 B2 JP H0422843B2
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Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高濃度二酸化硫黄含有ガスより単体
硫黄を回収する装置に於いて、硫黄化合物含有ガ
ス中の炭素質ダスト及びその他のダストを除去す
る為の精製方法に関するものである。
硫黄を回収する装置に於いて、硫黄化合物含有ガ
ス中の炭素質ダスト及びその他のダストを除去す
る為の精製方法に関するものである。
高濃度二酸化硫黄含有ガスより単体硫黄を回収
する装置に於いて、特に、炭素質材を利用した二
酸化硫黄還元反応と、クラウス触媒を利用したク
ラウス反応とを採用した場合、二酸化硫黄還元反
応器より後段に設置したクラウス反応炉に導入す
る硫黄化合物含有ガス中には、炭素質粉末より構
成されたダストが、一般的に、２〜４ｇ／Ｎm3、
さらに悪化した場合には、約６ｇ／Ｎm3含有され
る場合がある。この様なダストを含んだ硫黄化合
物含有ガスをクラウス反応炉に導入した場合、次
の様な重大なトラブルが発生する事が確認されて
いる。
する装置に於いて、特に、炭素質材を利用した二
酸化硫黄還元反応と、クラウス触媒を利用したク
ラウス反応とを採用した場合、二酸化硫黄還元反
応器より後段に設置したクラウス反応炉に導入す
る硫黄化合物含有ガス中には、炭素質粉末より構
成されたダストが、一般的に、２〜４ｇ／Ｎm3、
さらに悪化した場合には、約６ｇ／Ｎm3含有され
る場合がある。この様なダストを含んだ硫黄化合
物含有ガスをクラウス反応炉に導入した場合、次
の様な重大なトラブルが発生する事が確認されて
いる。
すなわち、(1) ダストによるクラウス触媒層の
目詰り、(2) クラウス触媒のカーボン付着による
性能劣化、(3) ダストによる、生成した単体硫黄
の純度低下、(4) 前記(1)，(2)項に基づく単体硫黄
回収率の低下といつたトラブルが発生する。
目詰り、(2) クラウス触媒のカーボン付着による
性能劣化、(3) ダストによる、生成した単体硫黄
の純度低下、(4) 前記(1)，(2)項に基づく単体硫黄
回収率の低下といつたトラブルが発生する。
又、硫黄の収率を多少、犠牲にして、クラウス
反応器を設置せず、硫黄コンデンサーのみとした
場合に於いても、生成硫黄中にダストが多量に混
入するため、特別な硫黄精製装置が必要となる。
反応器を設置せず、硫黄コンデンサーのみとした
場合に於いても、生成硫黄中にダストが多量に混
入するため、特別な硫黄精製装置が必要となる。
このような問題を解決するため、二酸化硫黄還
元反応器を出た硫黄化合物含有ガスを回収した硫
黄の一部を用いて洗浄する方法も知られている
が、この場合もダスト等が蓄積した循環硫黄の処
理が問題となる。
元反応器を出た硫黄化合物含有ガスを回収した硫
黄の一部を用いて洗浄する方法も知られている
が、この場合もダスト等が蓄積した循環硫黄の処
理が問題となる。
本発明の目的は、上記の様なトラブル及び、プ
ロセスの複雑化といつた事態を、全て解決した硫
黄化合物含有ガスからのダスト除去精製方法を提
供することにある。
ロセスの複雑化といつた事態を、全て解決した硫
黄化合物含有ガスからのダスト除去精製方法を提
供することにある。
本発明者らは上記の目的が、回収液状硫黄を循
環させる精製装置において、ダストを含む処理ガ
スを、液状硫黄の噴霧液滴の液膜を通過させ、ダ
ストが蓄積した液状硫黄は二酸化硫黄還元反応器
に送つて処理することにより達成されることを見
出し、本発明に到達した。
環させる精製装置において、ダストを含む処理ガ
スを、液状硫黄の噴霧液滴の液膜を通過させ、ダ
ストが蓄積した液状硫黄は二酸化硫黄還元反応器
に送つて処理することにより達成されることを見
出し、本発明に到達した。
すなわち、本発明の要旨とするところは、高濃
度二酸化硫黄含有ガスを炭素質材を利用した二酸
化硫黄還元反応器を通して還元し、還元反応器を
出た硫黄化合物含有ガスをクラウス反応炉で処理
する高濃度二酸化硫黄含有ガスより単体硫黄を回
収する方法に於いて、還元反応器を出た硫黄化合
物含有ガスを、回収した液状硫黄の一部を循環さ
せて洗浄し、硫黄化合物含有ガス中の炭素質を主
とするダストを除去し、ダストを捕集した後の汚
れた循環硫黄の一部を定期的、あるいは、連続的
に抜き出し、前記二酸化硫黄還元反応装置に導入
し、該反応器内にて硫黄を蒸発させる事を特徴と
する硫黄化合物含有ガスのダスト除去精製法を提
供することにある。
度二酸化硫黄含有ガスを炭素質材を利用した二酸
化硫黄還元反応器を通して還元し、還元反応器を
出た硫黄化合物含有ガスをクラウス反応炉で処理
する高濃度二酸化硫黄含有ガスより単体硫黄を回
収する方法に於いて、還元反応器を出た硫黄化合
物含有ガスを、回収した液状硫黄の一部を循環さ
せて洗浄し、硫黄化合物含有ガス中の炭素質を主
とするダストを除去し、ダストを捕集した後の汚
れた循環硫黄の一部を定期的、あるいは、連続的
に抜き出し、前記二酸化硫黄還元反応装置に導入
し、該反応器内にて硫黄を蒸発させる事を特徴と
する硫黄化合物含有ガスのダスト除去精製法を提
供することにある。
以下、本発明をさらに詳細に説明する。
第１図は本発明方法に基く、一実施例のフロー
を示す。１は炭素質材を充填した二酸化硫黄還元
反応器であつて高濃度二酸化硫黄を含有する原料
ガスは、炭素質素材還元材と反応して硫黄、硫化
水素、硫化カルボニル等に還元され、次いでガス
冷却器２にて冷却された後、ダスト除去精製装置
３に導かれる。炭素質材は灰および未反応炭素質
材として排出される。ダスト除去精製装置３では
後続の硫黄回収工程５より、循環硫黄ポンプ４を
経て供給され、ダスト除去精製装置３内に噴霧さ
れる液状硫黄の液滴と、硫黄化合物含有ガスを並
流域は向流接触させることにより、該硫黄化合物
含有ガス中の、炭素質を主とするダストが除去さ
れる。この工程により精製されたガスはさらに次
の硫黄回収工程５にて硫黄を回収された後排ガス
として排出される。回収された硫黄は主には製品
硫黄とし、そして一部は循環ポンプ４により、循
環硫黄として、精製工程３へ導かれ循環使用され
る。循環硫黄の一部は定期的あるいは連続的に抜
き出し、二酸化硫黄還元反応器に送つて処理され
る。
を示す。１は炭素質材を充填した二酸化硫黄還元
反応器であつて高濃度二酸化硫黄を含有する原料
ガスは、炭素質素材還元材と反応して硫黄、硫化
水素、硫化カルボニル等に還元され、次いでガス
冷却器２にて冷却された後、ダスト除去精製装置
３に導かれる。炭素質材は灰および未反応炭素質
材として排出される。ダスト除去精製装置３では
後続の硫黄回収工程５より、循環硫黄ポンプ４を
経て供給され、ダスト除去精製装置３内に噴霧さ
れる液状硫黄の液滴と、硫黄化合物含有ガスを並
流域は向流接触させることにより、該硫黄化合物
含有ガス中の、炭素質を主とするダストが除去さ
れる。この工程により精製されたガスはさらに次
の硫黄回収工程５にて硫黄を回収された後排ガス
として排出される。回収された硫黄は主には製品
硫黄とし、そして一部は循環ポンプ４により、循
環硫黄として、精製工程３へ導かれ循環使用され
る。循環硫黄の一部は定期的あるいは連続的に抜
き出し、二酸化硫黄還元反応器に送つて処理され
る。
第２図は、本発明の方法に用いるダスト除去精
製装置の望ましい実施態様例の説明図である。第
２図において、１はダスト除去精製装置、２は循
環硫黄ドラム、３は循環硫黄ポンプ、４は硫黄ス
プレー、５は硫黄液レベル調節器、６は硫黄液レ
ベル調節弁、７は循環硫黄温度調節器、８は冷媒
流量調節弁、１１は硫黄化合物含有ガス（処理ガ
ス）、１２は精製ガス、１３は新しい液状硫黄、
１４は汚れた循環硫黄を示す。
製装置の望ましい実施態様例の説明図である。第
２図において、１はダスト除去精製装置、２は循
環硫黄ドラム、３は循環硫黄ポンプ、４は硫黄ス
プレー、５は硫黄液レベル調節器、６は硫黄液レ
ベル調節弁、７は循環硫黄温度調節器、８は冷媒
流量調節弁、１１は硫黄化合物含有ガス（処理ガ
ス）、１２は精製ガス、１３は新しい液状硫黄、
１４は汚れた循環硫黄を示す。
第２図においてダスト除去精製装置１は、その
内部に、処理ガス中に液状硫黄を噴霧するスプレ
ー４を、１段ないし、複数段、望ましくは、２〜
４段備えており、かつ、下部には、循環する液状
硫黄の冷却及び温度調節を目的とする循環硫黄温
度調節器７を有する熱交換器を内部に取り付けた
循環硫黄ドラム２を備えている。
内部に、処理ガス中に液状硫黄を噴霧するスプレ
ー４を、１段ないし、複数段、望ましくは、２〜
４段備えており、かつ、下部には、循環する液状
硫黄の冷却及び温度調節を目的とする循環硫黄温
度調節器７を有する熱交換器を内部に取り付けた
循環硫黄ドラム２を備えている。
スプレー４より噴霧される硫黄液滴と並流に、
ダスト除去精製装置上部より、場合によれば吹き
込まれた処理ガスは、スプレーにより形成される
液膜、望ましくは、噴霧密度の高いホロコーン・
タイプによる、液滴径0.6〜1.0mm、望ましくは、
0.75〜0.85mmの液滴により構成された液膜を通過
する事により、ガス中に含有されているダストが
除去され、精製される。
ダスト除去精製装置上部より、場合によれば吹き
込まれた処理ガスは、スプレーにより形成される
液膜、望ましくは、噴霧密度の高いホロコーン・
タイプによる、液滴径0.6〜1.0mm、望ましくは、
0.75〜0.85mmの液滴により構成された液膜を通過
する事により、ガス中に含有されているダストが
除去され、精製される。
この場合、循環する液状硫黄の温度を、ダスト
除去精製装置１下部の循環硫黄ドラム２中に備え
た、上記の熱交換器により、140〜160℃、望まし
くは、145〜155℃に温度調節し、かつ、その噴霧
量を、処理ガスとの液−ガス比を、２〜８／m3
（Act.）、望ましくは、2.5〜4.0／m3（Act.）に
流量調節する事により、上記の如きダスト除去機
能を達成すると同時に、液状硫黄及び、処理ガス
中の硫黄化合物の状態変化、例えば、蒸発、凝縮
等を調節している。
除去精製装置１下部の循環硫黄ドラム２中に備え
た、上記の熱交換器により、140〜160℃、望まし
くは、145〜155℃に温度調節し、かつ、その噴霧
量を、処理ガスとの液−ガス比を、２〜８／m3
（Act.）、望ましくは、2.5〜4.0／m3（Act.）に
流量調節する事により、上記の如きダスト除去機
能を達成すると同時に、液状硫黄及び、処理ガス
中の硫黄化合物の状態変化、例えば、蒸発、凝縮
等を調節している。
本実施態様例では処理ガスを精製装置上部より
硫黄液滴と並流に吹き込む方法を説明したが、本
発明の別の実施態様例においては、処理ガスは、
ダスト除去製精装置下部から噴霧される、硫黄液
滴と向流に吹き込まれる。
硫黄液滴と並流に吹き込む方法を説明したが、本
発明の別の実施態様例においては、処理ガスは、
ダスト除去製精装置下部から噴霧される、硫黄液
滴と向流に吹き込まれる。
又、本発明に基づく精製装置１に於いて、循環
する液状硫黄をダスト濃度は、時間と共に、処理
ガス中のダストを捕集する事により増加してい
く。そのまま、放置すると、スプレー・ノズル４
の目詰り、かつ、脱塵性能の低下、かつ、循環硫
黄用ポンプのローター、ケーシング等の摩耗の激
化という様なトラブルを引き起こす。
する液状硫黄をダスト濃度は、時間と共に、処理
ガス中のダストを捕集する事により増加してい
く。そのまま、放置すると、スプレー・ノズル４
の目詰り、かつ、脱塵性能の低下、かつ、循環硫
黄用ポンプのローター、ケーシング等の摩耗の激
化という様なトラブルを引き起こす。
この様なトラブルを解決する為に、本発明に基
づくダスト除去精製装置では、循環硫黄中のダス
ト濃度を一定の範囲内に抑える事を目的とした汚
れた循環硫黄の処理を行なつている。
づくダスト除去精製装置では、循環硫黄中のダス
ト濃度を一定の範囲内に抑える事を目的とした汚
れた循環硫黄の処理を行なつている。
即ち、循環硫黄中のダスト濃度を、２〜５％
（重量パーセント）望ましくは、２〜３％（重量
パーセント）の範囲内に抑える為に、循環硫黄中
より定期的、あるいは、連続的に、一定量の汚れ
た循環硫黄１４を抜き出すと同時に、既述の単体
硫黄回収装置５にて回収された新しい液状硫黄１
３を定期的、あるいは、連続的に補給する。
（重量パーセント）望ましくは、２〜３％（重量
パーセント）の範囲内に抑える為に、循環硫黄中
より定期的、あるいは、連続的に、一定量の汚れ
た循環硫黄１４を抜き出すと同時に、既述の単体
硫黄回収装置５にて回収された新しい液状硫黄１
３を定期的、あるいは、連続的に補給する。
但し、ここでいう新しい液状硫黄１３とは、ダ
ストを含んだ処理ガスに、まだ、接触していない
液状硫黄の事を意味する。さらに、抜き出された
汚れた循環硫黄１４は、単体硫黄回収装置５に、
別途、設置した二酸化硫黄還元反応器内に導入す
る事により、硫黄分を蒸発させ、かつ、残りの捕
集されたダストは大部分は燃焼され該反応器下部
より排出される灰及び未燃炭素質材と共に排出さ
れるという方式で処理している。
ストを含んだ処理ガスに、まだ、接触していない
液状硫黄の事を意味する。さらに、抜き出された
汚れた循環硫黄１４は、単体硫黄回収装置５に、
別途、設置した二酸化硫黄還元反応器内に導入す
る事により、硫黄分を蒸発させ、かつ、残りの捕
集されたダストは大部分は燃焼され該反応器下部
より排出される灰及び未燃炭素質材と共に排出さ
れるという方式で処理している。
このようにすることにより取扱の難しい汚れた
硫黄の処理装置を設けることなく液状硫黄による
硫黄化合物含有ガスの洗浄を行うことができる。
硫黄の処理装置を設けることなく液状硫黄による
硫黄化合物含有ガスの洗浄を行うことができる。
実施例
処理ガス量30〜35Nm3／Hr、ガス温度300〜
400℃、ガス組成H2S3.5〜5.0vol％、SO21.5〜
3.0vol％、COS1.0〜1.5vol％、S21.5〜2.5vol％、
H2O20〜30vol％、CO220〜30vol％、N230〜
40vol％、CO4.0〜6.0vol％、H22.0〜3.0vol％、、
ダスト組成平均径約35μｍの粉コークス、ダスト
濃度４〜６ｇ／Ｎm3であるガスを、塔径200mmφ，
全高2400mmＨ、スプレー段数５段である本発明に
基づく精製装置により処理した場合の、液−ガス
比（Ｌ／Ｇ）と脱塵率の関係を第３図に示す。こ
の間、１時間当たり0.3〜0.5の循環硫黄を二酸
化硫黄還元反応基に戻して処理することにより、
安定した運転が可能であつた。
400℃、ガス組成H2S3.5〜5.0vol％、SO21.5〜
3.0vol％、COS1.0〜1.5vol％、S21.5〜2.5vol％、
H2O20〜30vol％、CO220〜30vol％、N230〜
40vol％、CO4.0〜6.0vol％、H22.0〜3.0vol％、、
ダスト組成平均径約35μｍの粉コークス、ダスト
濃度４〜６ｇ／Ｎm3であるガスを、塔径200mmφ，
全高2400mmＨ、スプレー段数５段である本発明に
基づく精製装置により処理した場合の、液−ガス
比（Ｌ／Ｇ）と脱塵率の関係を第３図に示す。こ
の間、１時間当たり0.3〜0.5の循環硫黄を二酸
化硫黄還元反応基に戻して処理することにより、
安定した運転が可能であつた。
ここで液−ガス〔／m3（Act.）〕に対する脱
塵率は、次式により求められる 脱塵率＝（入口ダスト量）−（出口ダスト
量）／（入口ダスト量）×100（％） 第３図よりあきらかなように、液−ガス比≒９
において、脱塵率は99.7％にも達している。
塵率は、次式により求められる 脱塵率＝（入口ダスト量）−（出口ダスト
量）／（入口ダスト量）×100（％） 第３図よりあきらかなように、液−ガス比≒９
において、脱塵率は99.7％にも達している。
第１図は本発明の方法に基く、一実施例のフロ
ーを示し、第２図は本発明のダスト除去精製装置
の望ましい実施例を説明する図、そして第３図は
本発明の実施例における、液−ガス比〔／m3
（Act.）と、脱塵率（％）の関係を示す。
ーを示し、第２図は本発明のダスト除去精製装置
の望ましい実施例を説明する図、そして第３図は
本発明の実施例における、液−ガス比〔／m3
（Act.）と、脱塵率（％）の関係を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 高濃度二酸化硫黄含有ガスを炭素質材を利用
した二酸化硫黄還元反応器を通して還元し、還元
反応器を出た硫黄化合物含有ガスをクラウス反応
炉で処理する高濃度二酸化硫黄含有ガスより単体
硫黄を回収する方法に於いて、還元反応器を出た
硫黄化合物含有ガスを、回収した液状硫黄の一部
を循環させて洗浄し、硫黄化合物含有ガス中の炭
素質を主とするダストを除去し、ダストを捕集し
た後の汚れた循環硫黄の一部を定期的、あるい
は、連続的に抜き出し、前記二酸化硫黄還元反応
装置に導入し、該反応器内にて硫黄を蒸発させる
事を特徴とする硫黄化合物含有ガスのダスト除去
精製法。 ２ 回収した液状硫黄を、140〜160℃に温度調節
した後、スプレー・ノズル等を利用して、硫黄化
合物含有ガス中に噴霧させる事により、ガス中の
炭素質ダストを除去する特許請求の範囲第１項記
載の方法。 ３ 液状硫黄の温度調節を、該精製装置下部の循
環硫黄ドラムの液中に浸液させた熱交換器により
行う特許請求の範囲第１項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58223256A JPS60118609A (ja) | 1983-11-29 | 1983-11-29 | 硫黄化合物含有ガスのダスト除去精製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58223256A JPS60118609A (ja) | 1983-11-29 | 1983-11-29 | 硫黄化合物含有ガスのダスト除去精製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60118609A JPS60118609A (ja) | 1985-06-26 |
| JPH0422843B2 true JPH0422843B2 (ja) | 1992-04-20 |
Family
ID=16795245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58223256A Granted JPS60118609A (ja) | 1983-11-29 | 1983-11-29 | 硫黄化合物含有ガスのダスト除去精製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60118609A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11306818B2 (en) | 2016-01-15 | 2022-04-19 | Fallbrook Intellectual Property Company Llc | Systems and methods for controlling rollback in continuously variable transmissions |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110559804B (zh) * | 2018-06-05 | 2021-07-09 | 中国石油化工股份有限公司 | 烟气脱硫再生一体塔及烟气脱硫方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5719021A (en) * | 1980-07-08 | 1982-02-01 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Recovery of sulfur in dry type flue gas desulfurization apparatus |
| JPS58151308A (ja) * | 1982-03-04 | 1983-09-08 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Ｓｏ↓２還元反応器流出ガスの処理方法 |
-
1983
- 1983-11-29 JP JP58223256A patent/JPS60118609A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5719021A (en) * | 1980-07-08 | 1982-02-01 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Recovery of sulfur in dry type flue gas desulfurization apparatus |
| JPS58151308A (ja) * | 1982-03-04 | 1983-09-08 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Ｓｏ↓２還元反応器流出ガスの処理方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11306818B2 (en) | 2016-01-15 | 2022-04-19 | Fallbrook Intellectual Property Company Llc | Systems and methods for controlling rollback in continuously variable transmissions |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60118609A (ja) | 1985-06-26 |
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