JPS6010790A - 太陽電池の電極形成方法 - Google Patents

太陽電池の電極形成方法

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Publication number
JPS6010790A
JPS6010790A JP58120718A JP12071883A JPS6010790A JP S6010790 A JPS6010790 A JP S6010790A JP 58120718 A JP58120718 A JP 58120718A JP 12071883 A JP12071883 A JP 12071883A JP S6010790 A JPS6010790 A JP S6010790A
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JP
Japan
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plating
layer
electrode
nickel
oxide film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58120718A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeaki Tomonari
恵昭 友成
Toshiro Abe
敏郎 阿部
Yoshimitsu Tanaka
義光 田中
Kiyoshi Hosoya
清志 細谷
Shuichiro Yamaguchi
周一郎 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
Priority to JP58120718A priority Critical patent/JPS6010790A/ja
Publication of JPS6010790A publication Critical patent/JPS6010790A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0224Electrodes
    • H01L31/022408Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/022425Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明はffPP+型、又はnP型の太陽電池の電極を
無電解ニッケルメッキにより形成する方法に関する。
〔背景技術〕
無電解ニッケルメッキによる太陽電池電極形成において
、ニッケルメッキのつき方がn層上とP層上では異なり
CPP層上つきにくい)、npp+型の太陽電池におい
てはその電極形成条件の制御が非常に困難である。第1
図乃至第5図に電極形成の従来方法を示す。
図面において、(6)はP型基板、(21はP型基板【
6)の表面に形成されたn+層、161はP型基板(6
+の裏面に形成されたP+層、(11はn+層(2+上
の反射防止膜である。(4)は反射防止膜(11の窓(
ハを介してP型基板(2+上に設けられたニッケル電極
である。(81はP+層の裏面に設けられたニッケル電
極である。
尚、(45,(81はニッケル電極[41,(81上に
二次メッキで形成されたニッケル電極である。(91は
ニッケル電極(41上にもられた半田である。第1次工
程である一次メツキにおいて形成される*i(2]上の
メッキ層(41の厚さが特性に大きく影響を与え、厚す
ぎると第3図に示す第2工程であるシンタリング工程で
Pn接合の破壊を起こし、薄すぎると第3工程の二次メ
ッキにおいてメッキ層(4)にはがれが発生する。そこ
で適当な厚さく最大0.25μ程度)のメッキ層の形成
が必要であるが、n側をP側でのメッキのつき方が異な
るため、n側に適当量ついたとしてもP側では二次メッ
キの第5工程においてメッキ層の剥れが発生する。
〔発明の目的〕
本発明は太陽電池の電極形成方法における上記問題点の
改善を目的としたものであるが、特にn側・P側でのメ
ッキのつき方が異なることにより生じるP側のメッキの
剥れを改善するものである。
〔発明の開示〕
本発明の要旨とするところはnPP+型又はnP型の太
陽電池の電極を無電解ニッケルメッキにより形成する方
法において、n層側を酸化膜等によりマスキングするこ
とにより通常ニッケルメッキのつきにくいP土層側の電
極を先に形成し、その後n層側の電極を形成し、シンタ
リングの際のPn接合の破壊による特性劣化を防ぐこと
を特徴とする太陽電池電極形成方法である。
以下、本発明を第6図乃至第12図に図示せる一実施例
に基づいて説明する。図面に使用せる記号は上記従来例
において使用したものと同じ意味である。
本発明は@6図乃至第12図に示す如くメッキかつきに
くいP側の電極(81を先に形成し、その後n側の電極
(41を形成していくことによりP側電極(81の剥れ
を防ぐようにしたものである。以下各工程の説明を行う
。第1工程において、CVD法等によりn層側の表面に
酸化膜(10)を形成し、それをマスクしてP層側のみ
にニッケルメッキ等によりメッキを行う。第7図はこの
工程を示す。
この工程において酸化膜の代わりにマスク材としてフォ
トレジストを用いることも可能である。第2工程におい
てBHF (バッファ弗酸)等により酸化膜(10)を
除去する。マスキングによりフォトレジストを使用した
場合にはマイクロストリップにより除去する。第8図は
この状態を示す。
その後第9図乃至第11図に示す第3工程乃至第5工程
においてニッケルの無電、解メッキによる一次メツキ(
温浴89℃で1分間)並びにシンタリング(500℃で
20分間)を行い、しかるのち 1にニッケルの無電解
メッキによる二次メッキ(温浴89℃で5分間)を行な
いニッケル電極(41,(81を形成する。この際−次
メツキで形成されたニッケル電極(8)はさらにメッキ
厚を増す。
最後に第12図に示す第6エ程において半田ディツプに
よりニッケル電極(4+、 (8+上にはんだ層(91
を設け、太陽電池の電極形成の仕上げを行う。上記実施
例はnPP十型小型明した。
〔発明の効果〕
以上説明したメッキ工程を用いることにより、ffPP
+型又はnp型の太陽電池の電極形成を無電解メッキで
容易にかつ再現性よく形成することができる。特にP側
の剥れを大幅に改善できる点において多大の効果が期待
できるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第5図は無電解ニッケルメッキによる電極形
成方法の従来例を示す断面図、第6図乃至@12図は本
発明による電極形成方法の一実施例を示す断面図である
。 1・・・反射防止膜、2・・・n+拡散層、3・・・P
十裏面拡散層、4・・・無電解ニッケルメッキによるニ
ッケル電極、5・・・はんだ層、6・・・マ久l用酸化
膜。 第1図 第2図 第3図 、4゜ 第5図 第6゜ 第7図 第9図 第11図 第8図 第10図 ] 第12図 モデ丘。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. npp+型又はnP型の太陽電池の電極を無電解ニッケ
    ルメッキにより形成する方法において、n層側を酸化膜
    等によりマスキングすることによりP+層側の電極を先
    に形成し、その後n層側の電極を形成することを特徴と
    する太陽電池の電極形成方法。
JP58120718A 1983-06-30 1983-06-30 太陽電池の電極形成方法 Pending JPS6010790A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19937444C1 (de) * 1999-08-07 2001-01-18 Winkelmann & Pannhoff Gmbh Vorrichtung zur Verteilung von Kraftstoff für Kraftstoffeinspritzanlagen von Verbrennungsmotoren
WO2012029847A1 (ja) * 2010-08-31 2012-03-08 三洋電機株式会社 太陽電池セルの製造方法および太陽電池モジュールの製造方法

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JP5958765B2 (ja) * 2010-08-31 2016-08-02 パナソニックIpマネジメント株式会社 太陽電池セルの製造方法および太陽電池モジュールの製造方法

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