JPS599533B2 - ジオキシジフエニルの製造法 - Google Patents
ジオキシジフエニルの製造法Info
- Publication number
- JPS599533B2 JPS599533B2 JP53018159A JP1815978A JPS599533B2 JP S599533 B2 JPS599533 B2 JP S599533B2 JP 53018159 A JP53018159 A JP 53018159A JP 1815978 A JP1815978 A JP 1815978A JP S599533 B2 JPS599533 B2 JP S599533B2
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- Japan
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- dioxydiphenyl
- alkali
- reaction
- caustic
- salt
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は４ ・ ４’−ジオキシジフェニルの工業的に
有利な製造方法に関する。
有利な製造方法に関する。
４ ・ ４’−ジフェニルジスルホン酸類をアルカリ溶
融して４ ・ ４’ −ジオキシジフェニルをえる方法
は種々知られている。
融して４ ・ ４’ −ジオキシジフェニルをえる方法
は種々知られている。
この溶融反応は苛性アルカリの溶融温度以上でスルホン
酸塩基１モル当り２モル以下の苛性アルカリを用いて行
われるが、フエニルスルホス酸の場合と異なり僅かの過
剰程度では収率は低く、生成物が高温においても溶融し
ないためかくはん困難である。一方、４ ・ ４’−ジ
フェニルジスルホン酸当りの苛性アルカリのモル比を過
剰にして反応を行えば操作も容易で収率も満足されるが
、アルカリの消費が大きく、排水の発生量が多いので経
済的、環境的に不利である。これらを解決するため多く
の工夫が行われている。このうち米国特許第２３６８３
６１は次のごとく述べている。すなわち通常モル比でス
ルホン酸塩基１ケに対して苛性ソーダ７モルを必要とす
るのに対し該特許ではジフェニルジスルホン酸とベンゼ
ンモノスルホン酸の混合物を苛性ソーダで溶融反応を行
なうときは苛性ソーダのモル比を大巾に縮少することが
できる。例えばジフェニルジスルホン酸（４１〜４３％
）、ベンゼンスルホン酸（５１〜５３％）、硫酸（０．
５〜４．５％）、ジフェニルスルホン（０．６〜６％）
よりなる混合スルホン酸を中和して反応を行なう。この
ときのスルホン酸塩基に対する苛性ソーダのモル比は１
■３．５でありベンゼンスルホン酸ソーダの溶融反応を
併行させることにより溶融及びかくはんを容易ならしめ
たものである。しかしこの方法はフェノールの副生を余
儀なくするので安価なフェノールの製造法が存在する現
在では有利ではない。また等開昭５１−５２１４２号公
報においては４ ・ ４’−ジフェニルスルホン酸ソー
ダ粉体にフレーク苛性ソーダを常に粉体を維持させなが
ら添加し反応を行つている。しかしこの方法は反応にお
いて発生する水分により、また僅かな温度上昇によつて
も部分的に溶融状態となり凝結するので高温を保ちなが
ら粉体を維持することは操作上容易ではなくまた収率も
高くない。本発明者等は４・４′−ジオキシジフエニル
アルカリ塩が濃厚な苛性アルカリ溶液に難溶性であるこ
とに着目し、工業的に極めて有利に４・４′−ジオキシ
ジフエニルを製造する方法を見出した。
酸塩基１モル当り２モル以下の苛性アルカリを用いて行
われるが、フエニルスルホス酸の場合と異なり僅かの過
剰程度では収率は低く、生成物が高温においても溶融し
ないためかくはん困難である。一方、４ ・ ４’−ジ
フェニルジスルホン酸当りの苛性アルカリのモル比を過
剰にして反応を行えば操作も容易で収率も満足されるが
、アルカリの消費が大きく、排水の発生量が多いので経
済的、環境的に不利である。これらを解決するため多く
の工夫が行われている。このうち米国特許第２３６８３
６１は次のごとく述べている。すなわち通常モル比でス
ルホン酸塩基１ケに対して苛性ソーダ７モルを必要とす
るのに対し該特許ではジフェニルジスルホン酸とベンゼ
ンモノスルホン酸の混合物を苛性ソーダで溶融反応を行
なうときは苛性ソーダのモル比を大巾に縮少することが
できる。例えばジフェニルジスルホン酸（４１〜４３％
）、ベンゼンスルホン酸（５１〜５３％）、硫酸（０．
５〜４．５％）、ジフェニルスルホン（０．６〜６％）
よりなる混合スルホン酸を中和して反応を行なう。この
ときのスルホン酸塩基に対する苛性ソーダのモル比は１
■３．５でありベンゼンスルホン酸ソーダの溶融反応を
併行させることにより溶融及びかくはんを容易ならしめ
たものである。しかしこの方法はフェノールの副生を余
儀なくするので安価なフェノールの製造法が存在する現
在では有利ではない。また等開昭５１−５２１４２号公
報においては４ ・ ４’−ジフェニルスルホン酸ソー
ダ粉体にフレーク苛性ソーダを常に粉体を維持させなが
ら添加し反応を行つている。しかしこの方法は反応にお
いて発生する水分により、また僅かな温度上昇によつて
も部分的に溶融状態となり凝結するので高温を保ちなが
ら粉体を維持することは操作上容易ではなくまた収率も
高くない。本発明者等は４・４′−ジオキシジフエニル
アルカリ塩が濃厚な苛性アルカリ溶液に難溶性であるこ
とに着目し、工業的に極めて有利に４・４′−ジオキシ
ジフエニルを製造する方法を見出した。
本発明は溶融状態を保つのに充分な過剰量の苛性アルカ
リを用い４・４′−ジフエニルジスルホン酸の溶融反応
を行ない、これに４・４′−ジオキシジフエルアルカリ
塩を殆んど溶解しないかあるいは僅かに溶解しかつ未反
応の苛性アルカリを溶解するに足る量の水を加え、未反
応の苛性アルカリを溶解し、４・４′−ジオキシジフエ
ニルアルカリ塩および副生する亜硫酸アルカリ塩を不溶
物として沢別し、これより４・４′−ジオキシジフエニ
ルを収得し、さらに必要に応じて沢過した苛性アルカリ
水溶液を脱水し次回のアルカリ溶融反応に使用すること
を特徴とする４・４′−ジオキシジフエニルの製造方法
に関する。こｋで４・４′−ジオキシジフエニルアルカ
リ塩を殆んど溶解しないかあるいは僅かに溶解しかつ未
反応の苛性アルカリを溶解するに足る水の量とは沢液と
して分離される苛性アルカリの濃度が５５〜１５％を示
す量が適当であり、生成物の溶解による損失、苛性アル
カリ水溶液の沢過性を考慮し適量を選ぶことが望ましい
。
リを用い４・４′−ジフエニルジスルホン酸の溶融反応
を行ない、これに４・４′−ジオキシジフエルアルカリ
塩を殆んど溶解しないかあるいは僅かに溶解しかつ未反
応の苛性アルカリを溶解するに足る量の水を加え、未反
応の苛性アルカリを溶解し、４・４′−ジオキシジフエ
ニルアルカリ塩および副生する亜硫酸アルカリ塩を不溶
物として沢別し、これより４・４′−ジオキシジフエニ
ルを収得し、さらに必要に応じて沢過した苛性アルカリ
水溶液を脱水し次回のアルカリ溶融反応に使用すること
を特徴とする４・４′−ジオキシジフエニルの製造方法
に関する。こｋで４・４′−ジオキシジフエニルアルカ
リ塩を殆んど溶解しないかあるいは僅かに溶解しかつ未
反応の苛性アルカリを溶解するに足る水の量とは沢液と
して分離される苛性アルカリの濃度が５５〜１５％を示
す量が適当であり、生成物の溶解による損失、苛性アル
カリ水溶液の沢過性を考慮し適量を選ぶことが望ましい
。
また過剰の苛性アルカリは、スルホン酸塩１ケ当り７モ
ル以上で２０モル以下が好ましい。
ル以上で２０モル以下が好ましい。
本発明の方法によれば溶融反応において４・４′−ジフ
エニルジスルホン酸塩に対して多量の苛性アルカリを使
用するため攪拌が容易であり、混合も均一であるので４
・４′−ジオキシジフエニルが高収率、高純度でえられ
る。更に過剰の苛性アルカリは分離して循環使用ができ
るので苛性アルカリの消費が少ないばかりでなく廃水の
発生が少ない点でも、残存の苛性アルカリを含む反応生
成物全量を中和する従来の方法に比して甚だ有利である
。つぎに実施例により詳細に説明する。
エニルジスルホン酸塩に対して多量の苛性アルカリを使
用するため攪拌が容易であり、混合も均一であるので４
・４′−ジオキシジフエニルが高収率、高純度でえられ
る。更に過剰の苛性アルカリは分離して循環使用ができ
るので苛性アルカリの消費が少ないばかりでなく廃水の
発生が少ない点でも、残存の苛性アルカリを含む反応生
成物全量を中和する従来の方法に比して甚だ有利である
。つぎに実施例により詳細に説明する。
実施例 １
苛性ソーダ１９７７（４．９３モル）を内容５００１１
１の鉄製の反応釜に入れ加熱溶融する。
１の鉄製の反応釜に入れ加熱溶融する。
これにジフエニルを硫酸化、中和してえられた４・４′
−ジフエニルジスルホン酸ナトリウム５５ｙ（純度８２
％）（０．１２６モル）をかくはんし乍ら約２０分を要
して装入後、３時間かくはんし３７０〜３８０℃に保ち
反応を完結させる。反応物は反応中通常のかくはん機に
より容易にかくはんされ、反応釜からの排出も液状で円
滑に行なうことができる。反応物を水２５０ｍ１と混合
し未反応の苛性ソーダを溶解し苛性ソーダ水溶液に不溶
解の４・４′−ジオキシジフエニルナトリウム塩および
ナトリウムサルファイドを沢過によりケーキとして分離
する。このケーキを温水７００ｄに溶解し少量の活性炭
で脱色後、２０％硫酸を加え結晶を析出させ、沢過、水
洗、乾燥、白色結晶状の４・４′−ジオキシジフエニル
２０．３７（０．１０９モル）（純度９９％以上）をえ
る。ケーキを分離した沢液は苛性ソーダ４０．３％を含
む水溶液３４１Ｖである。実施例 ２ 苛性ソーダ６０７および実施例１においてえられた４０
．３％苛性ソーダ溶液３４１ｒを反応釜内で煮詰める。
−ジフエニルジスルホン酸ナトリウム５５ｙ（純度８２
％）（０．１２６モル）をかくはんし乍ら約２０分を要
して装入後、３時間かくはんし３７０〜３８０℃に保ち
反応を完結させる。反応物は反応中通常のかくはん機に
より容易にかくはんされ、反応釜からの排出も液状で円
滑に行なうことができる。反応物を水２５０ｍ１と混合
し未反応の苛性ソーダを溶解し苛性ソーダ水溶液に不溶
解の４・４′−ジオキシジフエニルナトリウム塩および
ナトリウムサルファイドを沢過によりケーキとして分離
する。このケーキを温水７００ｄに溶解し少量の活性炭
で脱色後、２０％硫酸を加え結晶を析出させ、沢過、水
洗、乾燥、白色結晶状の４・４′−ジオキシジフエニル
２０．３７（０．１０９モル）（純度９９％以上）をえ
る。ケーキを分離した沢液は苛性ソーダ４０．３％を含
む水溶液３４１Ｖである。実施例 ２ 苛性ソーダ６０７および実施例１においてえられた４０
．３％苛性ソーダ溶液３４１ｒを反応釜内で煮詰める。
これに実施例１と同様に４・４′−ジフエニルジスルホ
ン酸ジナトリウム５５ｔ（純度８２％）を加え操作し４
・４′−ジオキシジフエニル２１．６Ｖをえる。Ｆ３液
の苛性ソーダ溶液はさらに次回の溶融反応に使用し同様
の結果をえた。実施例 ３苛性カリ５６．１７及び苛性
ソーダ１６０ｔの溶融混合物の中に４．４′−ジフエニ
ルジスルホン酸ジナトリウム９３，３７（純度９６％、
０．２５モル）をかくはんし乍ら３０分を要して装入し
た後３７０〜３８０℃に保ち攪拌下で３時間反応を継続
する。
ン酸ジナトリウム５５ｔ（純度８２％）を加え操作し４
・４′−ジオキシジフエニル２１．６Ｖをえる。Ｆ３液
の苛性ソーダ溶液はさらに次回の溶融反応に使用し同様
の結果をえた。実施例 ３苛性カリ５６．１７及び苛性
ソーダ１６０ｔの溶融混合物の中に４．４′−ジフエニ
ルジスルホン酸ジナトリウム９３，３７（純度９６％、
０．２５モル）をかくはんし乍ら３０分を要して装入し
た後３７０〜３８０℃に保ち攪拌下で３時間反応を継続
する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ４・４′−ジフェニルジスルホン酸又はその塩をア
ルカリ溶融し４・４′−ジオキシジフェニルを製造する
にあたり、過剰の苛性アルカリを用い反応を行ないたる
後、４・４′−ジオキシジフェニルアルカリ塩を殆んど
溶解しないかあるいは僅かに溶解し、かつ未反応の苛性
アルカリを溶解するに足る量の水を加え苛性アルカリを
溶解し、４・４′−ジオキシジフェニルアルカリ塩およ
び副生する亜硫酸アルカリ塩を不溶物として濾別し、こ
れより４・４′−ジオキシジフェニルを収得することを
特徴とする４・４′−ジオキシジフェニルの製造法。 ２ 不溶物を濾別した苛性アルカリ水溶液を脱水し次回
のアルカリ溶融反応に使用する特許請求の範囲第１項記
載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53018159A JPS599533B2 (ja) | 1978-02-21 | 1978-02-21 | ジオキシジフエニルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53018159A JPS599533B2 (ja) | 1978-02-21 | 1978-02-21 | ジオキシジフエニルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54112844A JPS54112844A (en) | 1979-09-04 |
| JPS599533B2 true JPS599533B2 (ja) | 1984-03-03 |
Family
ID=11963821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53018159A Expired JPS599533B2 (ja) | 1978-02-21 | 1978-02-21 | ジオキシジフエニルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS599533B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4324926A (en) * | 1980-03-06 | 1982-04-13 | Buffalo Color Corporation | Process for the purification of 4,4' dihydroxydiphenyl |
| DE3303220A1 (de) * | 1983-02-01 | 1984-08-02 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur gleichzeitigen gewinnung von 4-hydroxydiphenyl und 4,4'-dihydroxydiphenyl |
| JPS63119432A (ja) * | 1986-11-07 | 1988-05-24 | Kureha Chem Ind Co Ltd | ４，４′−ジヒドロキシビフエニルの製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5119735A (ja) * | 1974-08-10 | 1976-02-17 | Taoka Chemical Co Ltd | Hokozokusurupponsaneno arukaryojusuruhoho |
-
1978
- 1978-02-21 JP JP53018159A patent/JPS599533B2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5119735A (ja) * | 1974-08-10 | 1976-02-17 | Taoka Chemical Co Ltd | Hokozokusurupponsaneno arukaryojusuruhoho |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54112844A (en) | 1979-09-04 |
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