JPS599505A - パタ−ン検査方法 - Google Patents

パタ−ン検査方法

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JPS599505A
JPS599505A JP57119480A JP11948082A JPS599505A JP S599505 A JPS599505 A JP S599505A JP 57119480 A JP57119480 A JP 57119480A JP 11948082 A JP11948082 A JP 11948082A JP S599505 A JPS599505 A JP S599505A
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Mitsuyoshi Okada
岡田 光由
Kenichi Geshi
下司 健一
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YAMATAKE ENG SERVICE KK
Azbil Corp
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Publication of JPS6314281B2 publication Critical patent/JPS6314281B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
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  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Image Analysis (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はパターン検査方法f二関する。
日本酒のびん等C二側う王冠のように検査対象物体の表
面に商標等が印刷されたものにあってはその製造過程に
おいて異種の王冠が混入してたり、印刷ミスや印刷の位
置ずれが生ずる。王冠の検査は、印刷が2次元のパター
ンであるから、王冠検査システムはパターン検査を行う
必要がある。すなわち、パターンの状態をみて、印刷ミ
ス、印刷ずれ、異種の王冠の混入等による異常パターン
の検知を行うことになる。このパターン検査Mlを構成
するトでもつとも問題になることは、このような円形状
の検査対象物体が製造ラインFを流れてくる時には、そ
のパターンの向きが第1図に示すようにランダムになる
ところにある。
2次元のパターン検査を行う時に使用するセンサは、一
般には工業用カメラ(ITV)2)−これに準する2次
元固体イメージセンサカメラである。
これらのセンサは画像を離散的なメツシュでとらえてい
る。このカメラにより得られるメツシュの画像にスライ
スレベルを設定して各メツシュの濃度情報を白〃)黒の
2値化(二して、これに信号処理を施してパターン検査
を行っている。第2図に2568256の分解能のカメ
ラによって得られンt画像の2値化の例を示す。なお2
値化はカメラが行うのではなくてカメラに接続する信号
処理回路が行う。製品によっては濃度情報を白か黒の2
値ではなくて、数層の濃度レベルをもって行うこともあ
る。
これらのマトリックス(1,j)@地の濃度情報ヨリコ
ンピュータを使ってパターン検査を行うが、パターン検
査のアルゴリズムは各対象、各メーカで様々で一言では
とても百い尽せない。最も古典的でよく使われる方法と
しては、前もって登録された基準パターンと、検査対象
であるサンプリングパターンの整合度合を求め、この整
合度合を表オ)す数値の他によって、サンプリングパタ
ーンが圧密範囲にあるか異常範囲にあるかを同定する方
法がある。これをパターンマツチング法と呼んでいる。
ところで、なぜ、パターンの向きがランダムになること
が間mなの〃)を説明する。パターンマツチング法で考
えるならば、検査パターンが回転させられていることを
許すと、これに対蛤するため基準パターンも一定角度毎
に逐次回転したものをメモリしておき、サンプリングパ
ターンとこの回転させられたすべての基準パターンとマ
ツチングを行い、最も整合した角度の基準パターンを求
める必要がある。もし、角度l°毎に基準パターンを回
転するとなれば、360枚の基準パターンができること
C二なり、360回のマツチングをとるだめの計算時間
は大変なものになってし壕う。パターン検査装置が製品
化できるがどうかは処理時間が最大の決め手になる。コ
ンピュータを使えば何でもできるといった面もあるが、
物響二もよるがこの位の検査パターンレベルで数分もた
って答がでるような検査システムでは机上の空論と言え
、計算時間の大きさは画像処理技術を実用化する上での
成否を決定する最大の7アクタと言っても過言ではない
。なお、この王冠検査システムに要求されている検査速
度は通常5個/秒である以上の説明から、検査パターン
に回転の自由度があるということが、システム構成を考
える上で和尚重要でかつ困難な問題である。
この発明は、ライン上を流れてくる、原点を中心に回転
方向の自由度を与えられた2次元の広がりを屯つ検査対
象パターンの、識別及び欠陥等の検査に関するもので、
識別とは、基準パターンにたとえば「日本盛」 「菊正
宗」といった品種の異なる複数のパターンが登録されて
いて、検査パターンがこの内のどれであるかを同定する
ことである。
この発明の基本的な考え方は、回転に対し不変な径方向
の面積分布を識別パラメータと定義し、検査パターンの
面積分布を同心円状に配置された光電センサにより検知
して、前奄って登録されている基準パターンの面積分布
との類似度すなわち整合度合を求めることにより、検査
パターンの識別あるいは欠陥検査を実行するものである
前C二連べたように、検査パターンに回転の自由度があ
るということは検査システムを構成する上でかなり重要
なファクタである。
そこでこの発明では、パターンの回転に対し不変なパラ
メータである径方向の面積分布を定−し%識別パラメー
タとして用いることにしたものである。
この発明I:おいて面積分布f (rlとは第3図およ
び第4図に示すように中径r −r+△rに設定された
リング帯上の明暗状態に対応する量とポーする。
センサに工業用カメラを使い2値化画像を扱う場合響:
は、例えば、r〜r十△「のリング帯に含まれるサンプ
リング点数すなわちメツシュaNrO中に占める白の個
数Nr(qまたは黒の個数Nr(B)、あるいはその割
合すなわちN r Wl/ N rまたはN r (B
l/ N rが面積分布として定義できる。
この面積分布が、各パターンに特有なパターンを示すと
ともに、原点を中心とするパターンの回転に対し不変な
1次元のパターンであることが理解され工す。しかも2
次元のパターンを面積分布という1次元のパターンにす
るという情報圧縮の機能ももっている。
第6図置二示すように、工業用テレビカメラや2次元の
イメージセンサでとらえた検査パターンの(iej)番
地C二おいて1.fT”+1”の値を計算することでこ
の(+、3)@地があらかじめ設定されたどのリングに
属するかを判別して、各リング1:属する(i、j)番
地の濃度情報を累計たとえば2値化画像であれば明暗情
報の個数または比重等を累計して、面積分布を求めるこ
とができる。実行はすべてコンピュータで行う。
第7図に検査ステーションの構成図を示す。製造装置1
で製造された検査対象物体は、ベルトコンベアー2等の
搬送ラインによって検査ステージ日ン3へ導かれる。検
査ステーション3は検査対象物体を設定部4にセットし
て、ステップモードで階段的に逐次回転している。検査
は検査対象物体6が検査ゾーン5にある時打われる。こ
の検知は、検査ステーションの回転パルスか、別にセッ
トされた光電スイッチ等の位置決めgsJl!Fにより
行われる。このように検査ステーションを構成すること
で。
(1)検査ゾーンの頭上に配置されるセンサの幾何学原
点と検査パターンの幾何学原点を自動的に1合ゎせるこ
とにする。なおこのばあい、両方の原点が一致しないと
面積分布が意味をもたなくなる。
(2)ステップモードで動作させることで、−瞬検査パ
ターンヲ停止させる。これにエリ、センサでパターンを
読み込む時の移動ブレがなくなる。
検査ステーションは必ずしも第7図に示すもの■二は限
られない。例えば、第8図1−示すような検査ステーシ
ョンでもよい。すなわち、検査ステーション3はステッ
プモードではなくて一様な連続的な回転をしていて、検
査対象物体が検査ゾーン50PIT足の位置にきたこと
を、検査ステーションの回転パルスか、別にセットされ
た光電スイッチ等の位置決め信号を使って感知し、セン
サでパターンの読み込みを行う。この時、検査速度が遅
くて移動ブレが問題C:ならない時は通常の照明方法で
十分で、検査速度が速くて移動ブレが問題になる時は、
位置決め信号と同期してストロボ光を照射することで動
画像の静止化を行ってパターンの読み込みを実行すれば
よい。
第9図に検査パターンの面積分布を求めるためのセンサ
の構成を示す。センサは原点全中心とした同心円状に配
置された実質的に複数の入光帯7を有する工業用テレビ
あるいは2次元のイメージセンサまたは光電センサ等の
アナログセンサ8で構成される。そして第10図に示す
工うC二アナpグセンサとして光電センサを用いるばあ
いには光電セ/すの各入光帯7を分離するためにアイソ
レーションゾーン9が設けである。入光帯7の個数は検
査対象パターンを十分L〈表現できる個数になるように
設定する。
第11図1=信号処理の構成図を示す。検査対象物体6
が第7図および第8図の検査ステージ′iiI/3の検
査ゾーン5Iニセツトされているものとする。ランプ1
4からの光は検査対象物体6C二照射され、ここで反射
され、レンズ12を通して検査パターンioが、同心円
状の入光帯7,7を有する光電センサ8に結像される。
これらの電気出力は各入光’FI7に対応するプリアン
プ151:jり増11される。このプリアンプ15の出
力がこの検査パターン10の面積分布を表わす。
次に、得られた面積分布のパターンを、信号処理装置1
6を使って検査パターンの識別、欠陥検査を行う。信号
処理装置としてはたとえば第12図1=示すようなマイ
クロコンピュータ19を使って構成する方法がある。プ
リアンプ15の出力をマルチプレクサ17を介してアナ
ログ−ディジタルコンバータ8によりディジタル量に変
換して、イクロコンピュータ19のメモリに格納する。
これで検査パターン10の面積分布がマイクロコンピュ
ータ19のメモリに格納できる。ここで信号aは検査パ
ターン10が検査ゾーンにセットされたことを示す位置
決め信号で、信号すは検査ゾーンの検査対象物体6の有
無を検出する光電スイッチ等の信号である。信号aがオ
ンにガって位置決めが終了されたことが知らされ、がつ
この時の信号すがオン状態で検査対象物体6が有ること
が確認された時、面積分布のデータの読み込みを行う。
読み込まれたデータを使って、検査パターンの面積分布
と前もって登録されている基準パターンとの面積分布の
類似度を求める。この類似度を表わす量としてよく使わ
れるものにたとえば単純類似度b(さらに複雑な類似度
の定−もある)がある。この8を求めるのけマイクロコ
ンピュータ19にエリ実行される。ここではこの単純類
似度Sにより検査パターンの識別、欠陥検査を行う例に
ついてISl明する。単純類似度Sは、第13図に示す
ように検査パターンの面積分布P(1)と基準パターン
の面積分布Q(1)から、 という式で求まる。
先にも述べたよう1こ、面積分布が1次元パターンに力
っているため、この6の計算も2次元C二比べ非常に単
純1;なっている。Sは、P(1)とQ(1)が全く同
一のパターンであればl、全く相関の々いパターンであ
ればOとなり、その中間の類似度であれば1〜0の間の
値を示す。すなわち、類似度が高い程1に近い値を示す
ので、この8の値を用いることにより検査パターンの識
別、欠陥検査が行えることになる。単純類似度島を求め
る時、必ずしもすべての入光帯の番号(ilを選ぶ必要
はない、<ターンの特徴を最もよく表わす入光帯の番号
(1)を前もって調べておけば、このリングの出力に対
応する面積分布で8を計算すれば精度が上がることにな
る。
ここで識別とは、検査パターンがあらかじめ登録されて
いる複数の基準パターンのどれと最も高い類似度を示す
かを求めることじより、検査パターンが基準パターンの
どれであるかを同定するものである。たとえばに、B、
Oの面積分布が基準パターンとして登録されていて、検
査パターンとAとの単純類似度が最も大きい時、検査パ
ターンはAであると識別する。
また欠陥検査とは、製造ラインを流れてくるパターンが
1種類で、これと同一のパターンを基準パターンとして
登録しておき、単純類似度を求める。たとえば 0.8’−s’=1,0−+良品 0≦a(0,8→不良品 というようにシて欠陥検査が実行できる。
また、より信頼性を増すために次のような方法を付加す
ることも有効である。すなわち、面積分布はその絶対値
より径方向のパターンが重りな意味を持っていると考え
られる。面積分布は光源強度の変動があると絶対値は変
化するがパターンは変化しない。そこで第14図に示す
よう6二、面積分布を規格するために面積分布の割合x
/fr1を求め、これを本尚の面積分布として採用すれ
t1′環境の変化に対して強い検査システムとすること
ができる。信号処理装[+=マイクロコンピュータを使
用する場曾は、この規格化は簡単iニソフトウエアで実
行できる。
この発明は図形のu転6二対して不変なパラメータであ
る1iri梱分布を定義し、との0ili檀分布を識別
パラメータとするため1″−1回転方向に自由度のある
検査対象物体のパターンの識別、欠陥検査を容易C二実
行できる。
iた2次元のパターンを、面積分布という1次元のパタ
ーン口することで情報圧縮を実行するため、以後の識別
帆用を単純な処理ですますことができ、したがって処理
速度を要求される製品検査に非常C二有効である。
【図面の簡単な説明】
第1図は検査対象物体の状態を示す流れ図、第2図は従
来の検査方法を示すメツシュ画像のパターン図、第3図
は面積分布を説明するためのパターン図、第4図はs3
図における半径と明暗状態との関係を示すグラフ、第5
図は半径と面積分布との関係を示すグラフ、第6図は面
積分布を求める方法を説明する図、第7図および第8図
は検査ステーションの構成図、第9図および第1θ図は
センサの構成図、第11図および第12図は信号帆用の
構成図、第13図は単純類似度を説明するグラフ、第1
4図は面積分布を規格化するためのグラフである。 1・・・ll造装a、2・・・コンベア、3・・・検査
ステーション、4・・・設定部、5・・・検査ゾーン、
6・・・検査対象物体、7・・・入光帯、8・・・アナ
ログセンサ、9・・・アイソレーションゾーン、10・
・・検査パターン、12・・・レンズ、14・・・ラン
プ、15・・・プリアンプ、16・・・信号処理装置。 特許出願人 山武ハネウェル株式会社 (15) 第13図 ルの面積分布                   
  規樹しした洒博資分弗手続補正書C自発) 1、事件の表示 昭和 57年特許願第 119480  号3、 補正
をする者 事件との関係    特許出願人 住  所 氏 名銘祢)(666)山武ハネウェル株式会社(ほか
1名)4、代理人 住  所 〒151東京都渋谷区代々本2丁目11番1
2号本村ビル7階5f′、補正の対象 明細豐全文および図面 6X補正の内容 別紙のとおり 全文訂正明細書 1、発明の名称 パターン検査方法 2、特許請求の範囲 検査対象物体Eに記されたパターンを複数個の同心円帯
状に分割するとともに、上記パターンの各回心円帯にお
ける光学量に対応する値を検出することによってその値
の分布を求め、一方基準のパターンを複数個の同心円帯
状に分割するとともに、上記基準パターンの各回心円帯
における光学量に対応する値を検出することによってそ
の値の分布を求め、上記検査対象物体上に記されたパタ
ーンと上記基準のパターンの中心を一致させた状態で、
上記検査対象物体上のパターンの同心円帯の光学量の分
布を上記基準のパターンの同心円帯の光学量の分布と比
較するようにしたパターン検査方法。 3、発明の詳細な説明 この発明はパターン検査方法に関するものである。 日本酒のびん等に用いる王冠のような検査対象物体の表
面に商標等が印刷されたものにあっては、その製造T稈
において異種の王冠が混入したり、印刷ミスや印刷の位
置ずれが生ずる。このためこの王冠製造ラインにおいて
、印刷ミス、印刷ずれ、異種の王冠の混入等の異常を検
出する検査装置が要求されている。本発明は、このよう
な2次元に広がるパターンの識別あるいは正常・異常の
欠陥を検知するパターン検査方法に関するものである。 この王冠上に印刷されたパターンの検査装置を構成する
上でもつとも問題になることは、このような円形状の検
査対象物体が製造ライン上を流れてくる時には、そのパ
ターンの向きが第1図に示すように回転に対し不定にな
る点にある。 一般に2次元のパターン検査装置は、センサとして工業
用カメラ(ITV)かこれに準する2次元固体イメージ
センサを使い、これらのセンサによって得られるマトリ
ックス状の画像の画素(i、j)番地の法度情報や幾何
学的位相情報等に信号処理を施すことによりパターン検
査を実行している。この信号処理内容であるパターン検
査のアルゴリズムは各対象、各メーカで様々であるが、
最もよく使われる方法としては前もって登録された基準
パターンと検査対象であるサンプリングパターンとの整
合度合を求め、この整合度合を表わス数値の値によって
サンプリングパターンの識別あるいは欠陥を検知するパ
ターンマツチング法がある。 11&にパターンの向きがランダムになることの問題点
を説明する。パターンマツチング法で考えるならば、検
査パターンが回転させられていることを許すと、これに
対処するため基準パターンも一定角度毎に逐次回転した
ものを用意しておき、サンプリングパターンとこの回転
させられたすべてノ基準パターンとマツチングを行い検
査を実行する必要がある。このため演算時間が長くなる
ことで、製造ライン上の検倉装置として実用に適さなく
なることが生じたり、演算時間の短縮のために高機能の
信号処理装Wを採用することで検査装置が非常に高価に
なるようなことが生ずる。パターン検査装置が実用化で
きるかは処理時間と価格により決定される点からみて、
このように検査パターンに回転の自由度があるというこ
とは、パターン検査装置を開発する上で非常に重要な問
題点となる。 この発明は、ラインFを流れてくる、原点を中心に回転
方向の自由度を与えられた2次元の広がりをもつ検査対
象パターンの識別あるいは欠陥の検査に関するものであ
る。この発明の基本的な考え方は、パターンの回転に対
し不変な属性値である面積分布を識別パラメータと定義
し、検査パターンの面積分布を検知しても、前もって登
録されている基準パターンの面積分布との類似度すなわ
ち整合度合を求めることにより、検査パターンの識別あ
るいは欠陥検査を実行するものである。 前にも述べたように、検査パターンに回転の自由度があ
るということが検査装置を構成する上でかなり重要な因
子である。そこでこの発明では、パターンの回転に対し
不変な属性値である面積分布を定−し、識別パラメータ
として用いることにした。 この発明においてパターンの面積分布とは、第2図およ
び第3図に示すように原点からの半径r〜r+Δrに設
定されたリング帯上の明暗状態に対応する量f (rl
の径方向への分布と定義する。 この面積分布が各パターンに特有なパターンを示すとと
もに、原点を中心とするパターンの回転に対し不変な1
次元のパターンであることが理解されよう。しかも2次
元のパターンを面積分布という1次元のパターンにする
という情報圧縮の機能ももっている。 次に第4図に検査ステーションの構成の例を示す。製造
装[11で製造された検査対象物体は、ベルトコンベア
2等の搬送ラインによって検査ステーション3へ導カレ
ル。検査ステージ日ン3は検査対象物体を設定部4にセ
ットして、ステップモードで階段的に逐次回転している
。検査は検査対象物体6が検査ゾーン5にある時打われ
る。この位置検出は検査ステーションの回転パルスか、
別にセットされた光電スイッチ等の位置決め信号により
行われる。このように検査ステーションを構成すること
で (1)検査ゾーンの頭上に配置されるセンサの幾何的原
点と検査パターンの幾何学的原点を自動的に合わせるこ
とができる。 (21ステツプモードで動作させることで、−瞬検査パ
ターンを停止させる。これにより、センサでパターンを
読み取る時の移動ブレがなくなる。 検査ステーションは第4図に示すものには限られない。 例えば第5図に示すような検査ステーションでもよい。 すなわち、検査ステーション3はステップモードではな
くて一様な連続的な回転をしていて、検査対象物体が検
査ゾーン5の所定の位置にきたことを、検査ステーショ
ンの回転パルスか別にセットされた光電スイッチ等の位
置決め信号を使って検出し、センサでパターンの読み込
みを行う。この時、検査速度が遅くて移動ブレが問題に
ならない時は通常の照明方法で、検査速度が速くて移動
ブレが問題になる時は位置決め信号と同期したストロボ
光を照射することで動画像の静止化を行ってパターンの
読み込みを実行すればよい。 第6図に検査パターンの面積分布を求めるためのセンサ
8の構成を示す。センサは原点を中心とする同心円状に
配置された被数の受光帯7を有することで構成される。 このセンリーとしては、例えば4s7図に示すように、
受光帯7として太陽電池のような光電変換素子を、各受
光帯7を分離する目的で設けるアイソレージ田ンゾーン
9を介して同心円状に配置するような光電センサが考え
られる。あるいはセンサとして工業用テレビカメラ+2
次元の固体イメージセンサを用いることも考えられる。 T業用テレビカメラや2次元の固体イメージセンサを使
う場合には、第8図に示すように検査パターンの(ム、
j)番地において、原点からの距離に対応するq〒〒の
値を計算することでこの(+、3)番地があらかじめ設
定されたどの受光帯7に属するかを判別して、各受光帯
7の濃度情報を累計し、あるいは2値化画像であれば各
受光帯の明暗情報の個数を累計して面積分布を求めるこ
とができる。 この演算処理はコンピュータにより行うことができる。 このようなセンサ8を用いることで、第9図に示すよう
な検査パターンの面積分布を求めることができる。ここ
でセンサ8の受光帯7の個数及び幅の値は検査対象パタ
ーンを十分よく表現できるような値に設定する。 以下本発明では、第7図に示した光電センサを使い面積
分布を検知することで、検査パターンの識別あるいは欠
陥の検査を行う一例について説明する。第10図に信号
処理の構成図を示す。検査対象物体6が第4図あるいは
第5図の検査ステーション3の検査ゾーン5にセットさ
れ”Cいるものとする。ランプ14からの光は検査対象
物体6に照射され、ここで反射され、レンズ12を通し
て検査パターン10が、同心円状に配置された受光帯7
,7を有する光電センサ8に結像される。受光帯7の光
電変換素子によって変換させられた入射光強度に対応す
る電気出力は、各受光帯7に対応するプリアンプ15に
より増幅される。このプリアンプ15の出力がこの検査
パターン10の面積分布を表わす。 次に信号処理装置16を使って、得られた面積分布のパ
ターンから検査パターンの識別あるいは欠陥検査を実行
する。信号処理装置としてはたとえば第11図に示すよ
うなマイクロコンピュータ19を使って構成する方法が
ある。プリアンプ15の出力をマルチプレクサ17を介
してアナログ−ディジタルコンバータ18によりディジ
タル量に変換してマイクロコンピュータ19のメモリに
格納する。ここで信号aは検査パターン10が検査ゾー
ンにセットされたことを示す位置決め信号で、信号すは
検査ゾーンの検査対象物体6の有無を検出する光電スイ
ッチ等の信号である。信号aがオンになつ−〔位置決め
が終了されたことが知らされ、かつこの時の信号すがオ
ン状態で検査対象物体6が存在することが確認された時
、面積分布のデータの読み込みを行う。次に読み込遣れ
たデータを使って、検査パターンの面積分布と前もって
登録されている基準パターンの面積分布との整合度合を
求める。この整合度合を表わす量としてよく使われるも
のにたとえば単純類似度Sがある。この8を求めるのは
マイクロコンピュータ19により実行される。ここでは
この単純類似度Sを求めることにより、検査パターンの
識別あるいは欠陥検査を行う例について説明する。単純
類似度8は、第12図に示すように検査パターンの面積
分布の要素Plilと基準パターンの面積分布の要素Q
(皿)から、 という式で求まる。ここで1は各受光帯の番号を示す。 先にも述べたように、面積分布が1次元パターンになっ
ているため、このSの計算も2次元に比べ非常に簡単に
なる。 sは、P(ilとQ(ilが全く同一のパターンであれ
ば1、全く相関のないパターンであれば0となり、その
中間の類似度であれば1〜0の間の値を示す。すなわち
、類似度が高い程1に近い値を示すので、この8の値を
用いることにより検査パターンの識別あるいは欠陥検査
が行えることになる。 ここで識別とは、検査パターンがあらかじめ登録されて
いる複数の基準パターンのどれと最も高い類似度を示す
かを求めることにより、検査パターンが基準パターンの
どれであるかを同定することである。また欠陥検査は、
製造ラインを流れてくるパターンが1種類でこれと同種
のパターンを基準パター/とじて登録しておき、単純類
似度を求めて、たとえば 0.8≦8!I’l、0 →良品 0≦S < O,S  →不良品 という判定により実行で八る。 以Fの説明において単純類似度8を求める時に、必ずし
もすべての受光帯7の番号(ム)を選ぶ必要はない。バ
ター/の特gIを最もよく表わす受光帯の番−号11)
を1g11もって調べておき、この受光帯の出力に対応
する1IIiN1分布で8’!rift算すれは精Kが
七がることになる。またより信頼性を増すために次のよ
うな方法を付加することも有効である。すなわち、面積
分布はその絶対値よりパターンの方が重要な意味をもつ
と考えられる。たとえば面積分布は光源強度の変動があ
ると絶対値は変化するがパターンは変化しない。そこで
第13図に示すように、面積分布を規格化するために面
積分布の要素の割合f l / ’!’ f iを求め
、これを新たに面積分布として採用すれば環境の変化に
対して強い検査システムとすることができる。 この発明は図形の回転に対して不変な属性値である面積
分布を定−し、この面積分布を識別パラメータとするた
めに、回転方向に自由度のある検査対象物体のパターン
の識別あるいは欠陥検査を容易に実行できる。また2次
元のパターンを、面積分布という1次元のパターンにす
ることで情報圧縮を実行するため、以後の識別処理を単
純な処理ですますことができ、したがって処理速度を要
求される製品検査に非常に有効である。 4、図面の簡単な説明 第1図は検査対象物体の状態を示す流れ図、第2図は面
積分布を説明するためのパターン図、第3図は第2図に
おける半径と明暗状態との関係を示すグラフ、第4図お
よび第5図は検査ステーションの構成図、第6図および
第7図はセンサの構成図、第8図は面積分布を求める方
法を説明する図、第9図は半径と面積分布との関係を示
すグラフ、第10図および第11図は信号処理の構成図
、第12図は単純類似度を説明するグラフ、第13図は
面積分布を規格化するためのグラフである1・・・製造
装置、2・・・コンベア、3・・・検査ステーション、
4・・・設定部、5・・・検査ゾーン、6・・・検査対
象物体、7・・・受光帯、8・・・アナログセンサ、9
・・・アイソレーションゾーン、lO・・・検査ノぐタ
ーン、12・・・レンズ、14・・・ランプ、15・・
・プリアンプ、16・・・信号処理装置。 特 許 出 願 人  山武ノ)ネウエル株式会社第1
図 第  ′32 図 第 \S図 1m  3  図         第  9  図第
  12  図 歩た査ノPJ9−フの           急子;儒
31ン0面端分弗 第 X4図 第 X5図 第 X6図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 検査対象物体上に記されたパターンを複数個の同心円状
    に分割するとともC二各同心円上I:おける上記パター
    ンの光学量I:対応する値を検出することによってその
    伽の分布量を求め、一方基準のパターンを複数個の同心
    円状に分割するとともに各同心円上における上記基準の
    パターンの光学量に対応するイmを検出することによっ
    てその値の分布量を求めて、これを基準分布量とし、上
    記検査対象物体上に記されたパターンと、上記基準のパ
    ターンの中心を一致させた状態で上記検査対象物体上の
    パターンの分布量を上記基準のパターンの分布量と比較
    するようにしたパターン検査方法。
JP57119480A 1982-07-08 1982-07-08 パタ−ン検査方法 Granted JPS599505A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60207004A (ja) * 1984-03-31 1985-10-18 Toshiba Corp 表面欠陥検査装置
JPS6175205A (ja) * 1983-09-27 1986-04-17 Niyuurii Kk 異種模様の缶の検出方法及びその装置
JPH05143731A (ja) * 1991-11-22 1993-06-11 Sankyo Seiki Mfg Co Ltd 円形パターン識別方法および装置
JPH0773332A (ja) * 1992-05-29 1995-03-17 Wakutangu Rashikia 画像認識装置及び方法
JP2005043235A (ja) * 2003-07-23 2005-02-17 Fuji Xerox Co Ltd 印刷物検査装置、及び印刷物検査プログラム

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