JPS5994222A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS5994222A JPS5994222A JP20405482A JP20405482A JPS5994222A JP S5994222 A JPS5994222 A JP S5994222A JP 20405482 A JP20405482 A JP 20405482A JP 20405482 A JP20405482 A JP 20405482A JP S5994222 A JPS5994222 A JP S5994222A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layers
- alloy film
- amorphous alloy
- magnetic head
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/147—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores being composed of metal sheets, i.e. laminated cores with cores composed of isolated magnetic layers, e.g. sheets
- G11B5/1475—Assembling or shaping of elements
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
２・ジ
産業上の利用分野
本発明は、磁気ヘッドに関し、特に歩留りが良好な高周
波用磁気ヘッドに関するものである。
波用磁気ヘッドに関するものである。
従来例の構成とその問題点
従来より磁気ヘッドにおいて基板上に軟磁性合金を蒸着
もしくはスパック−法により形成し、その層間を５ｉ０
２等で絶縁し多層膜化することにより高周波特性が改善
されることが知られていた。
もしくはスパック−法により形成し、その層間を５ｉ０
２等で絶縁し多層膜化することにより高周波特性が改善
されることが知られていた。
しかしながらこのような多層膜の磁気ヘッドは未だ実用
化されていない。その理由として、磁気ヘッドの加工工
程に不可欠なギャップ形成がガラス接着等の高温での処
理や切断工程などを伴うためこの層間の５ｉ０２部に大
きな歪みが生じ、層間の剥離や、コア部の一部がチッピ
ングを起すことが上げられる。
化されていない。その理由として、磁気ヘッドの加工工
程に不可欠なギャップ形成がガラス接着等の高温での処
理や切断工程などを伴うためこの層間の５ｉ０２部に大
きな歪みが生じ、層間の剥離や、コア部の一部がチッピ
ングを起すことが上げられる。
発明の目的
本発明の目的は、上述の様なヘッド加工時に生ずる諸問
題を解決し、歩留りが良好な高周波用磁気ヘッドを提供
することである。
題を解決し、歩留りが良好な高周波用磁気ヘッドを提供
することである。
発明の構成
３ノ、ジ
発明の構成
本発明の磁気へラドコアの少なくとも磁気テープと接す
るキャンプ近傍が多層の非晶質合金膜より構成されてな
り、前記非晶質合金膜間にこの非晶質合金膜よりも薄い
フォルステライト層を有するものである。
るキャンプ近傍が多層の非晶質合金膜より構成されてな
り、前記非晶質合金膜間にこの非晶質合金膜よりも薄い
フォルステライト層を有するものである。
本発明の磁気ヘッドの実施態様として、ＣＯを主成分と
する非晶質合金膜間の絶縁に、フォルステライト膜を用
い、基板が熱膨張係数９０Ｘ１０ ’、、。
する非晶質合金膜間の絶縁に、フォルステライト膜を用
い、基板が熱膨張係数９０Ｘ１０ ’、、。
１３０Ｘ１０−７ノ℃のガラスを用いたものが考えられ
る。また、基板にフェライトとガラスとの複合体を用い
ガラスの熱膨張係数を９０×１０−７／′ｃ〜１３０Ｘ
１０−７ノ℃にすることが望ましいことがわかった。
る。また、基板にフェライトとガラスとの複合体を用い
ガラスの熱膨張係数を９０×１０−７／′ｃ〜１３０Ｘ
１０−７ノ℃にすることが望ましいことがわかった。
実施例の説明
以下具体的に実施例を用いて本発明の説明を行う。
（実施例１）
熱膨張係数α＝１２０Ｘ１０ ’／’ｃ （以下α−
１２０のように略記する）ガラス基板上に００８３Ｆｅ
２Ｎｂ１５なる組成の１層の厚さが１０μｍの非晶質合
金膜を３層、スパッター法により形成した。
１２０のように略記する）ガラス基板上に００８３Ｆｅ
２Ｎｂ１５なる組成の１層の厚さが１０μｍの非晶質合
金膜を３層、スパッター法により形成した。
この際、非晶質合金膜層間に厚さ約０．２μｍのＳｉＯ
□膜をやはりスパッター法により形成し、非晶質合金層
間の絶縁をはかった。又ＳｉＯ□のかわりに、フォルス
テライト、アルミナ、アルミナチタンカーパイ）ＳｉＣ
で同様に絶縁を施したものを作製し、これらを４ｏｏ″
Ｃ：３０分熱処理した後、切断加工を行ない膜のはく離
、チッピングを生じない歩留りを調べだ。以上の実験結
果を下表に示すＯ 第１表 ５・・−ジ 以上の実験結果より７オルステライトで層間絶縁したも
のが極めて優れた歩留シを示すことがわかった。
□膜をやはりスパッター法により形成し、非晶質合金層
間の絶縁をはかった。又ＳｉＯ□のかわりに、フォルス
テライト、アルミナ、アルミナチタンカーパイ）ＳｉＣ
で同様に絶縁を施したものを作製し、これらを４ｏｏ″
Ｃ：３０分熱処理した後、切断加工を行ない膜のはく離
、チッピングを生じない歩留りを調べだ。以上の実験結
果を下表に示すＯ 第１表 ５・・−ジ 以上の実験結果より７オルステライトで層間絶縁したも
のが極めて優れた歩留シを示すことがわかった。
（実施例２）
種々の基板上に１層の厚さ１０μｍの非晶質合金Ｃｏ８
３Ｆｅ２Ｎｂ、６をスパッター法によ９３層形成し、そ
の際各層間はスパッター法による厚さ約０．１μｍのフ
ォルステライト膜もしくは５ｉｎ２膜を形成することに
より絶縁をはかった。実施例１と同様の加工試験を行な
いその歩留シを調べた、結果を下表に示す。
３Ｆｅ２Ｎｂ、６をスパッター法によ９３層形成し、そ
の際各層間はスパッター法による厚さ約０．１μｍのフ
ォルステライト膜もしくは５ｉｎ２膜を形成することに
より絶縁をはかった。実施例１と同様の加工試験を行な
いその歩留シを調べた、結果を下表に示す。
（以下余白）
６１、ン
第２表
実験結果より層間にフォルステライトを用いた場合、歩
留シが基板に依存し、基板にはαが９０〜１３０のガラ
スかフェライトが適していることがわかる。一方層間に
５ｉｎ２を用いた場合、基板が何であれ歩留りが悪いこ
とがわかった。これは、膜の剥離及びチッピング現象は
主として合金膜と絶縁層との間で生じ、次に基板と合金
膜間で起るからだと考えられる。又基板にＭｎ−Ｚｎフ
ェライトとガラスとの複合体を用いる実験を行なったが
７・ジ αが９ｏ以下のガラスとフェライトを接合すると、ガラ
スもしくはフェライトにマイクロクラックが生じること
がわかった。αが９０以上で１３０以下のガラスとＭｎ
−Ｚｎフェライトの複合体基板上に非晶質合金の多層膜
をフォルステライトチ層間絶縁して形成したものの加工
試験結果は歩留り９５％以上であった。
留シが基板に依存し、基板にはαが９０〜１３０のガラ
スかフェライトが適していることがわかる。一方層間に
５ｉｎ２を用いた場合、基板が何であれ歩留りが悪いこ
とがわかった。これは、膜の剥離及びチッピング現象は
主として合金膜と絶縁層との間で生じ、次に基板と合金
膜間で起るからだと考えられる。又基板にＭｎ−Ｚｎフ
ェライトとガラスとの複合体を用いる実験を行なったが
７・ジ αが９ｏ以下のガラスとフェライトを接合すると、ガラ
スもしくはフェライトにマイクロクラックが生じること
がわかった。αが９０以上で１３０以下のガラスとＭｎ
−Ｚｎフェライトの複合体基板上に非晶質合金の多層膜
をフォルステライトチ層間絶縁して形成したものの加工
試験結果は歩留り９５％以上であった。
（実施例３）
α−１２０のガラス基板上に各種の非晶質合金膜を１層
の厚さ１０μｍで層間を０．１μｍのフォルステライト
膜で絶縁し、３層の膜を形成した。
の厚さ１０μｍで層間を０．１μｍのフォルステライト
膜で絶縁し、３層の膜を形成した。
これらを実施例１と同様の加工試験を行ない歩留シを調
べだ。結果を以下に示す。
べだ。結果を以下に示す。
第３表
実験結果よりＣＯ系非晶質合金膜を用いたものが優れた
歩留りを示すことがわかった。
歩留りを示すことがわかった。
（実施例４）
第１図に示したようにα＝１０４のガラス基板１上に層
間を厚さ０．１μｍのフォルステライト膜２で絶縁した
１層の厚さ１０μｍの非晶質合金Ｃｏｇ７Ｎ ｂｇ Ｚ
ｒ４の三層膜３を形成し、さらにこの三層膜をガラス
板１でサンドイッチしだ後、磁気キャップ４をガラス接
着剤６を設け、巻き線６を施してビデオテープレコーダ
用の磁気ヘッドを作成した。
間を厚さ０．１μｍのフォルステライト膜２で絶縁した
１層の厚さ１０μｍの非晶質合金Ｃｏｇ７Ｎ ｂｇ Ｚ
ｒ４の三層膜３を形成し、さらにこの三層膜をガラス
板１でサンドイッチしだ後、磁気キャップ４をガラス接
着剤６を設け、巻き線６を施してビデオテープレコーダ
用の磁気ヘッドを作成した。
第２図はＭ ｎ−Ｚ ｎ ７ ｚライト１″とα＝１２
０のガラス１′との複合基板を用いて第１図と同様の３
層膜を形成し、もう１枚のα−１２０のガラス基板１′
でサンドイッチした後、ガラス接着剤６により磁気ギャ
ップ４及び巻き線６を施して磁気ヘッドを構成した。
０のガラス１′との複合基板を用いて第１図と同様の３
層膜を形成し、もう１枚のα−１２０のガラス基板１′
でサンドイッチした後、ガラス接着剤６により磁気ギャ
ップ４及び巻き線６を施して磁気ヘッドを構成した。
このようにして得られた磁気ヘッドと、はぼ同じトラッ
ク幅を有し、コア材に単結晶Ｍｎ−ＺＨフェライトを用
いた従来のビデオテープレコーダ用磁９１＼−ジ 気ヘッドとの特性比較を、４ＭＨｚ における基準信
号の自己録再感度の相対比をメタルテープを使用して行
々うた。又同様に摺動ノイズの比較もあわせて行なった
。ただし結果は、フェライトヘッドをＯｄＢ とした相
対値で下表に示した。
ク幅を有し、コア材に単結晶Ｍｎ−ＺＨフェライトを用
いた従来のビデオテープレコーダ用磁９１＼−ジ 気ヘッドとの特性比較を、４ＭＨｚ における基準信
号の自己録再感度の相対比をメタルテープを使用して行
々うた。又同様に摺動ノイズの比較もあわせて行なった
。ただし結果は、フェライトヘッドをＯｄＢ とした相
対値で下表に示した。
（以下余白）
１０１・−ジ
１１ ｌ−うジ
上表に示したように得られた磁気ヘッドは優れた特性を
示すことがわかった。
示すことがわかった。
発明の効果
以上実施例を用いて示したように、本発明の磁気ヘッド
は、特性に優れ、歩留り良く製造できるもので工業上有
用なものである。
は、特性に優れ、歩留り良く製造できるもので工業上有
用なものである。
第１図、第２図はそれぞれ本発明の実施例における磁気
ヘッドの構成を示す図である。 １．１′・・・・・・ガラス基板、１′？・・・・・Ｍ
ｎ−Ｚｎフェライト、２・・・・・・フォルステライト
膜、３・・・・・・ＣｏＢ７ＮｂｇＺｒ４ の三層膜
、４・・・・・・磁気ギャップ、６・・・・・・ガラス
接着剤、６・・・・・・巻き線。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名品
五 図
ヘッドの構成を示す図である。 １．１′・・・・・・ガラス基板、１′？・・・・・Ｍ
ｎ−Ｚｎフェライト、２・・・・・・フォルステライト
膜、３・・・・・・ＣｏＢ７ＮｂｇＺｒ４ の三層膜
、４・・・・・・磁気ギャップ、６・・・・・・ガラス
接着剤、６・・・・・・巻き線。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名品
五 図
Claims (4)
- （１）磁気へラドコアの少くとも磁気テープと接するギ
ャップ近傍が基板と多層の非晶質合金膜より構成されて
なり、゛前記非晶質合金膜間にこの非晶質合金膜よりも
薄いフォルステライト層を有することを特徴とする磁気
ヘッド。 - （２） 基板が熱膨張係数９０ Ｘ １０−’ 〜１
３０Ｘ１０−’／℃のガラスよりなることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド。 - （３） 基板がフェライトと熱膨張係数が９０Ｘ１０
’〜１３０Ｘ１０ ’ ／’Ｃ
のガラスとの複合体より々ることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の磁気ヘッド。 - （４）非晶質合金膜がコバルトを主成分に含むことを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20405482A JPS5994222A (ja) | 1982-11-19 | 1982-11-19 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20405482A JPS5994222A (ja) | 1982-11-19 | 1982-11-19 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5994222A true JPS5994222A (ja) | 1984-05-30 |
Family
ID=16483980
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20405482A Pending JPS5994222A (ja) | 1982-11-19 | 1982-11-19 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5994222A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61187109A (ja) * | 1985-02-15 | 1986-08-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘツド |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54116663A (en) * | 1978-03-03 | 1979-09-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic device |
| JPS5645202A (en) * | 1979-09-19 | 1981-04-24 | Hitachi Ltd | Rolling mill |
| JPS5774817A (en) * | 1980-10-24 | 1982-05-11 | Canon Inc | Manufacture of core for magnetic head |
| JPS5778616A (en) * | 1980-10-31 | 1982-05-17 | Canon Inc | Manufacture of core for magnetic head |
-
1982
- 1982-11-19 JP JP20405482A patent/JPS5994222A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54116663A (en) * | 1978-03-03 | 1979-09-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic device |
| JPS5645202A (en) * | 1979-09-19 | 1981-04-24 | Hitachi Ltd | Rolling mill |
| JPS5774817A (en) * | 1980-10-24 | 1982-05-11 | Canon Inc | Manufacture of core for magnetic head |
| JPS5778616A (en) * | 1980-10-31 | 1982-05-17 | Canon Inc | Manufacture of core for magnetic head |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61187109A (ja) * | 1985-02-15 | 1986-08-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘツド |
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