JPS5982162A - ベリリウムと金属との密閉体及びその製造方法 - Google Patents
ベリリウムと金属との密閉体及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ベリリウム体が、ベリリウムの膨張係数に近
い値の膨張係数を有する金属を成形してなる他の金属物
体に対して気密に密閉された構成の金属間密閉体に関す
る。また、本発明はか\る密閉体の製造方法にも関する
。
い値の膨張係数を有する金属を成形してなる他の金属物
体に対して気密に密閉された構成の金属間密閉体に関す
る。また、本発明はか\る密閉体の製造方法にも関する
。
発明の背景技術
ベリリウム体が他のベリリウム体若しくは他の金属物体
に気密に接合された構成の金属間密閉体は当該分野でよ
く知られているところである0バンク7、 (1(an
ks )等の米国特許第3090117号には、銀アル
ミニウム合金をロウ付金属として用い、ロウ付は作業中
にリチウムハロゲン化物を7ラツクスとして使用するロ
ウ付によってべIJ IJウム金属部品同士を接合する
方法が開示されている。この方法が困難である主な点は
、リチウムとベリリウムとが反応し易いために、該密閉
体が特に高温では却って短い寿命を呈する点にある07
)ギンv ン(Atkj、n5on )の米国特許第3
083451号には、ベリリウムとモネルメタルのよう
なベース金属との間にロウ付によって密閉体を製造する
方法が示されている0ロウ付合金としては銀銅パラジウ
ム合金を用いるのが好ましい0そのロウ付方法は数個の
工程で実施される0ベリリウム金属、ロウ付ハンダ及び
ベース金属からなる組立体は、真空中で、まず830℃
と840℃の間の温度に、次いで910℃の温度に加熱
され、その後急速に700℃の温度に冷却されるOこの
方法は、加熱と冷却の数段階を必要とする複雑な方法で
ある点に問題がある0加えて、第2欄第49行〜第51
行に示すように、得られた接合を700℃を超える温度
に供することができなし)0 アトキンソンの米国特許第310529’4号にはベリ
リウムのロウ付方法が示されており、ベリ・リウムは、
まず分解アンモニア雰囲気中で工゛ンチングされ、次い
で高温シアン化物浴中で処理される。その後、銅の層を
エツチング表面に電気メ・ンキし、次いでこの銅−メッ
キ領域は、真空若しくは水素雰囲気中でそのノ・ンダの
液相化温度を超える温度でロウ付を行うことによってベ
ース金属フレームに接合される0 この方法の欠点は、非常に有毒でかつ周囲に危険な青化
浴を使用する必要があることである。更には、ベリリウ
ム表面と電気メツキ銅層との接合を完全たらしめるため
に高温でロウ何を行う必要がある。
に気密に接合された構成の金属間密閉体は当該分野でよ
く知られているところである0バンク7、 (1(an
ks )等の米国特許第3090117号には、銀アル
ミニウム合金をロウ付金属として用い、ロウ付は作業中
にリチウムハロゲン化物を7ラツクスとして使用するロ
ウ付によってべIJ IJウム金属部品同士を接合する
方法が開示されている。この方法が困難である主な点は
、リチウムとベリリウムとが反応し易いために、該密閉
体が特に高温では却って短い寿命を呈する点にある07
)ギンv ン(Atkj、n5on )の米国特許第3
083451号には、ベリリウムとモネルメタルのよう
なベース金属との間にロウ付によって密閉体を製造する
方法が示されている0ロウ付合金としては銀銅パラジウ
ム合金を用いるのが好ましい0そのロウ付方法は数個の
工程で実施される0ベリリウム金属、ロウ付ハンダ及び
ベース金属からなる組立体は、真空中で、まず830℃
と840℃の間の温度に、次いで910℃の温度に加熱
され、その後急速に700℃の温度に冷却されるOこの
方法は、加熱と冷却の数段階を必要とする複雑な方法で
ある点に問題がある0加えて、第2欄第49行〜第51
行に示すように、得られた接合を700℃を超える温度
に供することができなし)0 アトキンソンの米国特許第310529’4号にはベリ
リウムのロウ付方法が示されており、ベリ・リウムは、
まず分解アンモニア雰囲気中で工゛ンチングされ、次い
で高温シアン化物浴中で処理される。その後、銅の層を
エツチング表面に電気メ・ンキし、次いでこの銅−メッ
キ領域は、真空若しくは水素雰囲気中でそのノ・ンダの
液相化温度を超える温度でロウ付を行うことによってベ
ース金属フレームに接合される0 この方法の欠点は、非常に有毒でかつ周囲に危険な青化
浴を使用する必要があることである。更には、ベリリウ
ム表面と電気メツキ銅層との接合を完全たらしめるため
に高温でロウ何を行う必要がある。
アダムス(Aclams )等の米国特許第342oq
78号にはベリリウムを他のベリリウム体又は他の材料
にロウ伺する方法が示されており、ジルコニウム又はチ
タンの薄い層がベリリウムの表面(こ真空メッキされ、
高純度アルミニウムをロウ付イ゛イ料として用い、ロウ
付は1.550”F−I G 50”pの間の湿度、好
ましくはt・730 =cで行われる0これにも問題が
あって、それは次の事実、即ち、チタン及びジルコニウ
ム層とベリリウム層との間では真空メッキ過稈中に良好
で堅固な結合が形成されないことがら、ベリリウム表面
とチタン若しくはジルコニウム層との間に堅固な結合を
形成するため並びにロウ付結合を極端な温度で安定なも
のにするため、ロウ付作梁中、表面の温度を非常に高い
温度にもちきたすことが必要であるという事実に起因す
るものである。
78号にはベリリウムを他のベリリウム体又は他の材料
にロウ伺する方法が示されており、ジルコニウム又はチ
タンの薄い層がベリリウムの表面(こ真空メッキされ、
高純度アルミニウムをロウ付イ゛イ料として用い、ロウ
付は1.550”F−I G 50”pの間の湿度、好
ましくはt・730 =cで行われる0これにも問題が
あって、それは次の事実、即ち、チタン及びジルコニウ
ム層とベリリウム層との間では真空メッキ過稈中に良好
で堅固な結合が形成されないことがら、ベリリウム表面
とチタン若しくはジルコニウム層との間に堅固な結合を
形成するため並びにロウ付結合を極端な温度で安定なも
のにするため、ロウ付作梁中、表面の温度を非常に高い
温度にもちきたすことが必要であるという事実に起因す
るものである。
バー マン(Herman、 ) (7)米国特許第8
779721号には2個のベリリウム体をロウ付によっ
て接合する方法が示されており、ベリリウム表面上に銀
とニッケルの各層が順次載置される。このロウ付は高温
で、例えば14・00 ℃で行われる。
779721号には2個のベリリウム体をロウ付によっ
て接合する方法が示されており、ベリリウム表面上に銀
とニッケルの各層が順次載置される。このロウ付は高温
で、例えば14・00 ℃で行われる。
発明の概要
本発明の目的は、室温で安定であるばがってなく、70
0℃を超える温度を含む非常に高い温度でも安定なベリ
リウムと金属との密閉体を提供することにある。
0℃を超える温度を含む非常に高い温度でも安定なベリ
リウムと金属との密閉体を提供することにある。
本発明の他の目的は、ハンダ付作業を適度な温・度で実
施することができるベリリウムと金属との密閉体の形成
方法を提供丈ることにある。
施することができるベリリウムと金属との密閉体の形成
方法を提供丈ることにある。
本発明のこれらの目的並びに他の目的は以下に説明する
ところから明らかとなろう。
ところから明らかとなろう。
本発明により、ベリリウム体とベリリウムの膨張係数に
近い値の膨張係数を有する金属を成形してなる他の金属
物体とで構成される優れた金属間密閉体は、該他の金属
物体に接合されるべきベリリウムの表面上にハンダ付に
先立って3層の金属被覆を具備ゼしめるという新規な方
法によって形成できることが判明した。
近い値の膨張係数を有する金属を成形してなる他の金属
物体とで構成される優れた金属間密閉体は、該他の金属
物体に接合されるべきベリリウムの表面上にハンダ付に
先立って3層の金属被覆を具備ゼしめるという新規な方
法によって形成できることが判明した。
本発明によれば、これは、タンタル、ニオブ、ジルコニ
ウム、ハフニウム、チタン及びバナジウムから選ばれた
金属の薄い層をベリリウム金属層[j上に陰極スパッタ
リングし、この薄い第1の金属層上に耐火金属の層から
なる第2の金属層を陰極スパッタリングし、しかる後に
この耐火金属層上に易ロウイ1性金属の薄い陰極スパッ
タリング外層を載置することによって遂行されるもので
あるC好ましくは、第1の陰極スパッタリング層は約゛
1000人〜5000人の厚さを有し、第2の陰極スパ
ッタリング層は約4000λ〜10000人の厚さを有
し、第3の易ロウ付性金属の層からなる外層は約400
0人〜10000人の厚さを有する。
ウム、ハフニウム、チタン及びバナジウムから選ばれた
金属の薄い層をベリリウム金属層[j上に陰極スパッタ
リングし、この薄い第1の金属層上に耐火金属の層から
なる第2の金属層を陰極スパッタリングし、しかる後に
この耐火金属層上に易ロウイ1性金属の薄い陰極スパッ
タリング外層を載置することによって遂行されるもので
あるC好ましくは、第1の陰極スパッタリング層は約゛
1000人〜5000人の厚さを有し、第2の陰極スパ
ッタリング層は約4000λ〜10000人の厚さを有
し、第3の易ロウ付性金属の層からなる外層は約400
0人〜10000人の厚さを有する。
中間層を形成する耐火金属の例としては、モリブデンや
タングステンのような金属を用いることができる。外層
を形成する易ロウ付性金属の例としては、ニッケル及び
銅がある0 3つの金属層を載置した後、ベリリウム体は次いでその
被覆表面において、略同様の膨張係数を有する金属物体
に接合される0その2個の物体の接合はロウ付並びGこ
軟質)・ンダ付を含むノ・ンダ付によって遂行される。
タングステンのような金属を用いることができる。外層
を形成する易ロウ付性金属の例としては、ニッケル及び
銅がある0 3つの金属層を載置した後、ベリリウム体は次いでその
被覆表面において、略同様の膨張係数を有する金属物体
に接合される0その2個の物体の接合はロウ付並びGこ
軟質)・ンダ付を含むノ・ンダ付によって遂行される。
同様の膨張係数を有する金属物体の例としては、モネル
メタルの如き銅ニツケル合金、コーノクル(Kovar
)メタルの如き鉄、ニッケル及びコノくルト合金のよ
うな合金がある。
メタルの如き銅ニツケル合金、コーノクル(Kovar
)メタルの如き鉄、ニッケル及びコノくルト合金のよ
うな合金がある。
陰極スパッタリング作業は当該分野で知られている方法
であれば如何なる方法でも実施すること・ができる。特
に有効な方法は、ここに併わせで引用するブロンネス(
Bronnes )等の米国特許第3839267号第
3欄第50行〜第4 II#i第62第6ロ 陰極スパツタリングにより載置された層はベリリウム基
質に対する付着に優れた結合を形成せしめ、その結果、
載置された層とベリリウム体との間に安定な結合をもた
らすためGこは、ハンダ付作業中、必ずしも高温にする
必要がないことがわかる。種々のハンダ付技術を100
℃のように低い温度にて行うことができ、インジウム−
錫−力ドミニウム合金のような低融点ハンダを使用する
ことができる。
であれば如何なる方法でも実施すること・ができる。特
に有効な方法は、ここに併わせで引用するブロンネス(
Bronnes )等の米国特許第3839267号第
3欄第50行〜第4 II#i第62第6ロ 陰極スパツタリングにより載置された層はベリリウム基
質に対する付着に優れた結合を形成せしめ、その結果、
載置された層とベリリウム体との間に安定な結合をもた
らすためGこは、ハンダ付作業中、必ずしも高温にする
必要がないことがわかる。種々のハンダ付技術を100
℃のように低い温度にて行うことができ、インジウム−
錫−力ドミニウム合金のような低融点ハンダを使用する
ことができる。
もつとも、2個の物体間の密閉に強度を1冶保するため
には、ロウ付技術が最も有効であることが判明した。
には、ロウ付技術が最も有効であることが判明した。
銀−銅共晶合金の如きロウ付金属は部子に使用すること
ができる。パラジウム−銀−q11合金の如き他のロウ
付金属も、また簡単うこ使用することができる。
ができる。パラジウム−銀−q11合金の如き他のロウ
付金属も、また簡単うこ使用することができる。
ロウ付は、非酸比性雰囲気、好ましくは真空若しくは水
素雰囲気中で行われる。
素雰囲気中で行われる。
本発明の方法は、この方法により、ベリリウム体を25
0ミクロン乃至はそれ以下の薄さで他の金属物体に対し
て安全に密閉ぜしめることが可能であるという利点をも
たらすものである。
0ミクロン乃至はそれ以下の薄さで他の金属物体に対し
て安全に密閉ぜしめることが可能であるという利点をも
たらすものである。
他の利点としては、得られた密閉体は優れた熱的安定性
を有することが判明したことであり、得られたベリリウ
ムと金属との密閉体は、この密閉体に何らの損傷を来た
すことなく、室温から960℃程度の高温まで何回も繰
返し供することができる点が判明したことである。
を有することが判明したことであり、得られたベリリウ
ムと金属との密閉体は、この密閉体に何らの損傷を来た
すことなく、室温から960℃程度の高温まで何回も繰
返し供することができる点が判明したことである。
これらの利点は、高温度を発生するベリリウム窓付きX
線管において特に重要であり、その窓を可能な限り薄く
すると有利である0 本発、明の方法は、航空宇宙用として有利な構造昏こお
いてベリリウム密閉体を製造する際にも有利であって、
多くの場合、溶接技術を必要とせず、そのために結晶粒
の成長が少なく、シたがって、得られた構造は一層強固
である。
線管において特に重要であり、その窓を可能な限り薄く
すると有利である0 本発、明の方法は、航空宇宙用として有利な構造昏こお
いてベリリウム密閉体を製造する際にも有利であって、
多くの場合、溶接技術を必要とせず、そのために結晶粒
の成長が少なく、シたがって、得られた構造は一層強固
である。
好適な実施例
次に本発明について図面を参照しつつ一層詳細に説明す
る。
る。
約250ミクロンの厚さを有する円筒状ベリリウム窓1
をアセトンで脱脂し、メチルアルコール中のIFが5t
f6の溶液中で適度の攪拌をしつつ約1分間エツヂング
した。次いでこのベリリウム窓を新鮮なアルコールで洗
浄し、きれいな加圧不活性ガスを用いて吹付は乾燥した
。
をアセトンで脱脂し、メチルアルコール中のIFが5t
f6の溶液中で適度の攪拌をしつつ約1分間エツヂング
した。次いでこのベリリウム窓を新鮮なアルコールで洗
浄し、きれいな加圧不活性ガスを用いて吹付は乾燥した
。
上述のブロンネス等の米国特許第3482913号に記
載されている陰極スパッタリング技術を利用し−C1ベ
リリウム窓lの2つの平らな表面5の各々に対し、順次
、0.455ミクロン厚チタン層z、oQsミクロン厚
のモリブデン層8及び0.5ミクロン厚のニッケル層4
を付与した。このように被覆したべIJ IJウム窓1
を、次に、精密に嵌合スルコーパルメタルフレーム7の
対向表面6の間に介挿した。
載されている陰極スパッタリング技術を利用し−C1ベ
リリウム窓lの2つの平らな表面5の各々に対し、順次
、0.455ミクロン厚チタン層z、oQsミクロン厚
のモリブデン層8及び0.5ミクロン厚のニッケル層4
を付与した。このように被覆したべIJ IJウム窓1
を、次に、精密に嵌合スルコーパルメタルフレーム7の
対向表面6の間に介挿した。
次いで、銀−鋼合金ロウ付金属8をコーバルメ°タルフ
レーム7の表面と2つのニッケル外被覆4との間に挿入
した。得られた組立体のロウ付は、相互に加圧しつつ、
乾・1!■水素雰囲気中で約780℃の温度にて行った
。
レーム7の表面と2つのニッケル外被覆4との間に挿入
した。得られた組立体のロウ付は、相互に加圧しつつ、
乾・1!■水素雰囲気中で約780℃の温度にて行った
。
得られた金属間密閉体は、室温と960℃の間を何回と
なく繰返し供した場合でも、気密で、かつ堅固であるこ
とが認められた。
なく繰返し供した場合でも、気密で、かつ堅固であるこ
とが認められた。
以上、特定の実施例並びに応用例を参照しつつ本発明を
説明したが、特許請求の範囲に記載した本発明の精神及
び範囲を逸脱しない限り、他の態様も可能であることは
当業者にとって明らかであろう。
説明したが、特許請求の範囲に記載した本発明の精神及
び範囲を逸脱しない限り、他の態様も可能であることは
当業者にとって明らかであろう。
図面は本発明によって製造されたベリリウムと金属との
密閉体についての軸方向における拡大横断面図である。 1・・ベリリウム窓 2〜4 ・被覆層 7 フレーム 8 ロウ付金属 − − 1= ツー− − 7 7=−
密閉体についての軸方向における拡大横断面図である。 1・・ベリリウム窓 2〜4 ・被覆層 7 フレーム 8 ロウ付金属 − − 1= ツー− − 7 7=−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 L タンタル、ニオブ、ジルコニウム、ハフニウム、チ
タン及びバナジウムからなる群から選ばれた金属の薄い
第1の陰極スパッタリング層と、耐火金属の薄い陰極ス
パッタリング中間層と、易ロウ付性金属の薄い陰極スパ
ッタリング外層とを表面上に有するベリリウム体で構成
されていて、該外層が、ベリリウムの膨張係数に少なく
とも近い値の膨張係数を有する金属を成形してなる金属
物体と気密に密閉されている金属間密閉体。 λ タンタル、ニオブ、ジルコニウム、ハウニウム、チ
タン及びバナジウムからなる群から選ばれた金属の約0
.1〜0.5ミクロン厚の第1の陰極スパッタリング層
と、耐火金員の約0.4〜1.0ミクロン厚の陰極スパ
ッタリング中間層と、易ロウ付性金属の約0.4〜1.
0ミクロン厚の陰極スパッタリング外層とを表面に有す
るベリリウム体で構成されていて、該外層が、ベリリウ
ムの膨張係数に近い値の膨張係数を有する金属を成形し
てなる金属物体と気密に密閉されている金属間密閉体0
8、 該耐火金属はモリブデン及びタングステンからな
る群から選ばれたものである、特許請求の範囲2記載の
金属間密閉体。 表 該易ロウ付性金属はニッケル及び銅からなる群から
選ばれたものである、特許請求の範囲1.2及び8記載
の金属間密閉体。 6、 該金属物体は鉄、ニッケル及びコバルト合金若し
くはニッケル及び銅合金を成形してなり、該第1の陰極
スパッタリング層は約0.455ミクロン厚チタン層で
あり、該陰極スパッタリング中間層は約0.8ミクロン
厚のモリブデン層であり、並びに該陰極スパッタリング
外層は約0.5ミクロン厚のニッケル層である、特許請
求の範囲4記載の金属間密閉体。 6 ベリリウム体を、ベリリウムの膨張係数に近い値の
膨張係数を有する金属を成形してなる金属物体に対して
気密に密閉する方法であって、次の工程、 a)該べ’J IJウム体の清浄な表面部分上に、タン
タル、ニオブ、ジルコニウム、ハフニウム、チタン及び
バナジウムからなる群から選ばれた金属の第1の薄い層
を陰極スパッタリングにより付与する、 b)耐火金属の薄い中間層を陰極スパッタリングにより
付与する、 C)該中間層上に易ロウ付性金属の薄い外層を陰極スパ
ッタリングにより付与する、d)並びにしかる後、非酸
化性雰囲気中で該べIJ IJウム体の該被覆表面を該
金属物体にハンダ付けする、 の工程からなる方法。 78 該耐火金属はモリブデン及びタングステンから
なる群から選ばれたものである、特許請求の範囲6記載
の方法。 8、 該第1の層の厚さは約0.1〜0.5ミクロンで
あり、該中間層の厚さは約0.4〜1.0ミクロンであ
り、並びに該外層の厚さは約0.4〜1.0ミクロンで
ある、特FF Nf!求の範囲7記載の方法。
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