JPS5976868A - 溶射用マスク - Google Patents
溶射用マスクInfo
- Publication number
- JPS5976868A JPS5976868A JP57187839A JP18783982A JPS5976868A JP S5976868 A JPS5976868 A JP S5976868A JP 57187839 A JP57187839 A JP 57187839A JP 18783982 A JP18783982 A JP 18783982A JP S5976868 A JPS5976868 A JP S5976868A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- spraying
- coating
- parts
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/01—Selective coating, e.g. pattern coating, without pre-treatment of the material to be coated
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ｔｉｔ定の部分にα、属或いはセラミック等
のＯＮ粉末を溶射してｔη良を形成せしめる際に使用さ
れる溶射用マスクに関するものである。
のＯＮ粉末を溶射してｔη良を形成せしめる際に使用さ
れる溶射用マスクに関するものである。
一般にフレーム溶射又はプラズマ溶射（以下溶射という
）によって損気的絶縁□性物質の向にＩ９ｒ定のパター
ンの金属ｌル腺を形成せしめて屯気回銘として便用する
場合、或いは金属又はセラミック等ＵＪ表面（／Ｊ １
ｊｌｒ定の部分に異種の金属又はセラミック酌腺を）１
ヅ成ゼしめて耐熱性、耐熱（純性等を局部的しこ改良す
る場合等には、所定すｊパターンに打抜か１ｔπ（’Ｊ
扱いを南する溶射用マスクｃ以下マスクとイウ）をｋ
ｍ溶射１に当て、こＵ）マスク…Ｊに偵粉！牛浴敵の金
）Ａ又はセラミックを溶射し、上記口抜都のパターンの
浴ｍＪ劇を形成せしめてい句。
）によって損気的絶縁□性物質の向にＩ９ｒ定のパター
ンの金属ｌル腺を形成せしめて屯気回銘として便用する
場合、或いは金属又はセラミック等ＵＪ表面（／Ｊ １
ｊｌｒ定の部分に異種の金属又はセラミック酌腺を）１
ヅ成ゼしめて耐熱性、耐熱（純性等を局部的しこ改良す
る場合等には、所定すｊパターンに打抜か１ｔπ（’Ｊ
扱いを南する溶射用マスクｃ以下マスクとイウ）をｋ
ｍ溶射１に当て、こＵ）マスク…Ｊに偵粉！牛浴敵の金
）Ａ又はセラミックを溶射し、上記口抜都のパターンの
浴ｍＪ劇を形成せしめてい句。
上記ＲＪ則Δわなう場合為１史用するマスクσ」冊には
ＩＫ接牛浴社の金属又はセラミックの粉末か当って（’
Ｊ’Ｘ＋＋するので、上記マスクには、■イ＼Ｊイ」し
た金ｈ−＋４ 又はセラミックか＊１Ｊ−εし易いこと
。す２００〜３ ” ”Ｃ” ｍｋ’Ｑ ＲＪ Ｘ−ａ
コト６ ＱＩＪ’ ｈｔ’ｆｂ分をｚめた寸ｆＦ！Ａ
ｌｌしか／、［いこと。［有］反復便用出米る１１ｕ４
久注を有１″ること。■舘皐寺によって（段１口しない
口と。
ＩＫ接牛浴社の金属又はセラミックの粉末か当って（’
Ｊ’Ｘ＋＋するので、上記マスクには、■イ＼Ｊイ」し
た金ｈ−＋４ 又はセラミックか＊１Ｊ−εし易いこと
。す２００〜３ ” ”Ｃ” ｍｋ’Ｑ ＲＪ Ｘ−ａ
コト６ ＱＩＪ’ ｈｔ’ｆｂ分をｚめた寸ｆＦ！Ａ
ｌｌしか／、［いこと。［有］反復便用出米る１１ｕ４
久注を有１″ること。■舘皐寺によって（段１口しない
口と。
■使用力θ、７）・容易であること。等（／Ｊ性値か蜜
求８ス−している。
求８ス−している。
ところで、一般に使用されているマスクとしては、ｓｓ
幽敗、ＳＵＳ銅板侍σ−〕ぶ肩Ｉ３板、ガラステープ、
シリコンゴム、板溶射…Ｊに（ｊする粘土駒す」屋４ｉ
ｊ等かある。しかし、上記１／Ｊ ４Ａ＊ｌこよってつ
くらｒｔｙ’マ゛スクは、いずれも貿求己７’Ｌイ）す
べての１重質を唐足丁＾ものでなく、金属板はｍ対物か
付ん□して勅配しに＜＜、除夫丁イ）ＵＪに時間か７７
％力・す、力）つ変形し・他は耐久性か劣り、かつ変ル
か倣し＜ａ返えし使／ｌＪか出来ない寺の不ｆｉｔｓ合
がある。
幽敗、ＳＵＳ銅板侍σ−〕ぶ肩Ｉ３板、ガラステープ、
シリコンゴム、板溶射…Ｊに（ｊする粘土駒す」屋４ｉ
ｊ等かある。しかし、上記１／Ｊ ４Ａ＊ｌこよってつ
くらｒｔｙ’マ゛スクは、いずれも貿求己７’Ｌイ）す
べての１重質を唐足丁＾ものでなく、金属板はｍ対物か
付ん□して勅配しに＜＜、除夫丁イ）ＵＪに時間か７７
％力・す、力）つ変形し・他は耐久性か劣り、かつ変ル
か倣し＜ａ返えし使／ｌＪか出来ない寺の不ｆｉｔｓ合
がある。
本発明は、上記ｔ／Ｊ事ＩＷに輸み、要求され＾１゛べ
ての注１（をははミルする溶射用マスクを提供すること
を目的とするもので、７１ｒ定σ」パターンに口抜かれ
たｉＪ抜都を壱する金１４板の面に四フフ化エチレン儒
脂をコーティングしたものであ６゜以ト、本発明を図１
１ＪＪ ｒｉ：’ｉｉｊ；照して説明する。
ての注１（をははミルする溶射用マスクを提供すること
を目的とするもので、７１ｒ定σ」パターンに口抜かれ
たｉＪ抜都を壱する金１４板の面に四フフ化エチレン儒
脂をコーティングしたものであ６゜以ト、本発明を図１
１ＪＪ ｒｉ：’ｉｉｊ；照して説明する。
第１図および第２１３！Ｊは、本発明に係る溶射用マス
クＡ Ｃ／−Ｊ−実地例を示すもので、図中代号ｌは１
９１定のパターンに７１抜かれたｊ゛Ｊ抜酷１ａを有す
る金Ｈ仮である。口の金縞板ｌはマスクＡに柔軟性をム
ｆたせ、板溶射庫に対する蕾渭性をよくするため、υ５
朋程度のものか用いら２１．る。また刷買としては５Ｓ
ＵＳｉｌｌｌｈ銅等柚々な金属が映出出来るが安価で、
！■！！１１度な弾性と耐久性を有することから、主と
して５ｓａ１１か出いらｉＬる。上記金属ｆ！ｉｉの表
面に、四フフ化エチレン樹脂のコーティング層２か設け
ら７Ｌ１不殆明の溶射用マスクＡが構成２！わ、ている
。
クＡ Ｃ／−Ｊ−実地例を示すもので、図中代号ｌは１
９１定のパターンに７１抜かれたｊ゛Ｊ抜酷１ａを有す
る金Ｈ仮である。口の金縞板ｌはマスクＡに柔軟性をム
ｆたせ、板溶射庫に対する蕾渭性をよくするため、υ５
朋程度のものか用いら２１．る。また刷買としては５Ｓ
ＵＳｉｌｌｌｈ銅等柚々な金属が映出出来るが安価で、
！■！！１１度な弾性と耐久性を有することから、主と
して５ｓａ１１か出いらｉＬる。上記金属ｆ！ｉｉの表
面に、四フフ化エチレン樹脂のコーティング層２か設け
ら７Ｌ１不殆明の溶射用マスクＡが構成２！わ、ている
。
上記四フフ化エチレン樹脂のコーティングは、公知の方
法で灯なわＩＬるか、その−例をボせば次の辿りである
。
法で灯なわＩＬるか、その−例をボせば次の辿りである
。
先ず、上記蛍属ｉ：Ｉｉｌの良問をサンドブラストなど
によって研磨］°る。次いで四フッ化樹脂粉末をエナメ
ル化したブラ４７（例えは商品名、ホリフロンエナメル
ＩｃＫ／δＯり糸、ダイキン製）を吠イ９遁装し、１５
１．ｒ定の条件（上記ＥＫ／δ００においてＬ−１’１
０℃、ｌＯ分）によって乾燥しプライマ層２ａを形成せ
しめる。この場合ル成されたプライマ胎ｇａＵＪ厚２は
ｌ０〜２０μｍか好ましい。次に四フッ化樹脂エナメル
コーティング材（例えは曲品名、ポリフロンエナメルＫ
Ｋ ／ ’／ ０９ Ｂ Ｋ＋ダイキン製ンを吠付稙
装し、所定の条件で粘膜。
によって研磨］°る。次いで四フッ化樹脂粉末をエナメ
ル化したブラ４７（例えは商品名、ホリフロンエナメル
ＩｃＫ／δＯり糸、ダイキン製）を吠イ９遁装し、１５
１．ｒ定の条件（上記ＥＫ／δ００においてＬ−１’１
０℃、ｌＯ分）によって乾燥しプライマ層２ａを形成せ
しめる。この場合ル成されたプライマ胎ｇａＵＪ厚２は
ｌ０〜２０μｍか好ましい。次に四フッ化樹脂エナメル
コーティング材（例えは曲品名、ポリフロンエナメルＫ
Ｋ ／ ’／ ０９ Ｂ Ｋ＋ダイキン製ンを吠付稙
装し、所定の条件で粘膜。
焼＆（ＨＫ／ＹＯ９ｓＫｖｒ場合’ｉｏ”ｃ、ｔｓ分乾
燥。
燥。
３７０〜弘Ｑσ”Ｃ／ ０分曲焼成）して表面コーティ
ング層２ｂを形成せしめる。この場合、上記表面コーテ
ィング層の厚８はｌ０〜２０μｍか好ましい。
ング層２ｂを形成せしめる。この場合、上記表面コーテ
ィング層の厚８はｌ０〜２０μｍか好ましい。
なお、上記吹付′ｍ装の代りに刷毛塗り塗装をイボなっ
てもよいが、戯装むらが生じ、多少ｆｄ劃側の句膚性か
増加する。
てもよいが、戯装むらが生じ、多少ｆｄ劃側の句膚性か
増加する。
次に、実地例わよひ比較例を示して本発明の詳細な説明
する。
する。
実７ｍｔシ′り
第３図にボ丁ように椹流回鮪パターンｌａか設けられた
溶射用マスクＡをアルミニ９ム板８の上面か溶射その他
の方θくで設けられたＡＡ’ｔＯｓ よりなる屯％絶
縁増４となっている配電基板Ｂ上に缶に接せしめる。こ
の上方より溶射装置（例えば曲品名プラズマダイン５Ｇ
１００ガン）を用いて、／ＩＱメツシュバスの純銅粉を
プラズマ浴射した。
溶射用マスクＡをアルミニ９ム板８の上面か溶射その他
の方θくで設けられたＡＡ’ｔＯｓ よりなる屯％絶
縁増４となっている配電基板Ｂ上に缶に接せしめる。こ
の上方より溶射装置（例えば曲品名プラズマダイン５Ｇ
１００ガン）を用いて、／ＩＱメツシュバスの純銅粉を
プラズマ浴射した。
溶射条１１ｆ−は、アルゴンｆｆＨｉｊｉ ： ３ ｆ
ｊｌ／ｍｉｎ 、 フ５ ｘマ）ＮＬ流＝７５θＡ１
プラズマ嵐圧：３０Ｖ、粉木供帽垣ニアθシ／ｗｉｎで
あった。また、溶射皮膜すの厚８＆ま８３μｍとなるよ
うＬした。
ｊｌ／ｍｉｎ 、 フ５ ｘマ）ＮＬ流＝７５θＡ１
プラズマ嵐圧：３０Ｖ、粉木供帽垣ニアθシ／ｗｉｎで
あった。また、溶射皮膜すの厚８＆ま８３μｍとなるよ
うＬした。
浴則抜第ψ図（示Ｔように、マスクＡを外すと、絶縁１
曽４上に納の溶射皮膜５による嵐気回路が形成され、マ
スクＡ上に１９層した溶射材５ａは簡単に脱落した。ま
た、この操作におけるマスクＡの 仏温反は取部１００
”Ｃであった。
曽４上に納の溶射皮膜５による嵐気回路が形成され、マ
スクＡ上に１９層した溶射材５ａは簡単に脱落した。ま
た、この操作におけるマスクＡの 仏温反は取部１００
”Ｃであった。
上記操作によってマスクＡを反復便用した。マスクＡ（
／Ｊ蟲良は２１０’Ｃとなったか、溶射物σ」付虐も形
状寸法の変化もなく、常に精度のよい屯気回路か形成さ
れた。
／Ｊ蟲良は２１０’Ｃとなったか、溶射物σ」付虐も形
状寸法の変化もなく、常に精度のよい屯気回路か形成さ
れた。
比較例
四７ツ化エチレン樹脂コーティングを行なわないＳＳＳ
吸殻みによるマスクを用いた他は実施例と同じ操作を行
なった。その結果、マスク番こ…が強−に付着し、剥ｌ
ＩＭＴるのに人手を朝し、かつ変形が顔しく、強度を壇
して変形を防止するため、ｊ、ｔざｌ關以上のＳＳ−仮
を使用しなけれはならなかった。このためマスクの柔軟
性が失なわＴ１５、マスクとしての取扱いか出姐であつ
茫。
吸殻みによるマスクを用いた他は実施例と同じ操作を行
なった。その結果、マスク番こ…が強−に付着し、剥ｌ
ＩＭＴるのに人手を朝し、かつ変形が顔しく、強度を壇
して変形を防止するため、ｊ、ｔざｌ關以上のＳＳ−仮
を使用しなけれはならなかった。このためマスクの柔軟
性が失なわＴ１５、マスクとしての取扱いか出姐であつ
茫。
以上述べたように本発明に係る溶射用マスクは、ｆ＃刹
拐の付着かないので容易に反復便用出来、まＴ：培い御
飯か使用出来るので柔軟性に吊み、マスクとして使い易
い等多くの長所？ｉ：有するものである〇
拐の付着かないので容易に反復便用出来、まＴ：培い御
飯か使用出来るので柔軟性に吊み、マスクとして使い易
い等多くの長所？ｉ：有するものである〇
第１図は一部破脚「した溶射用マスクの１を親図、第２
図は第１図の１−引矢規断向図、第３図は配梅り＝板上
に也流回路膜を形成する場合の断面図、第μ図は第３図
のマスクを除去した場合の肋曲図である。 ｌ・・・・・・金蜆仮（ｓｓｙｙ４板）、ｌａ・・団・
ｒ」抜部、２”°°・“・四フッ化靭脂コーティング層
、２ｒａ・・・・・・プライマ層、２ｂ・・・・・・表
向コーティング層、Ａ・・・・・・溶射７１Ｊマスク。 第１図 第２図
図は第１図の１−引矢規断向図、第３図は配梅り＝板上
に也流回路膜を形成する場合の断面図、第μ図は第３図
のマスクを除去した場合の肋曲図である。 ｌ・・・・・・金蜆仮（ｓｓｙｙ４板）、ｌａ・・団・
ｒ」抜部、２”°°・“・四フッ化靭脂コーティング層
、２ｒａ・・・・・・プライマ層、２ｂ・・・・・・表
向コーティング層、Ａ・・・・・・溶射７１Ｊマスク。 第１図 第２図
Claims (1)
- １９ｒ定のパターンに］」抜かれた打抜品を有−する金
Ｉｕ４９ｔの外聞を四フフ化エチレン佃脂によってコー
ティングしたＣとを特徴とする溶射用マスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57187839A JPS5976868A (ja) | 1982-10-26 | 1982-10-26 | 溶射用マスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57187839A JPS5976868A (ja) | 1982-10-26 | 1982-10-26 | 溶射用マスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5976868A true JPS5976868A (ja) | 1984-05-02 |
Family
ID=16213128
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57187839A Pending JPS5976868A (ja) | 1982-10-26 | 1982-10-26 | 溶射用マスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5976868A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61199538A (ja) * | 1985-02-28 | 1986-09-04 | Achilles Corp | エンボスロ−ルの製造方法 |
| JPH053696A (ja) * | 1991-06-26 | 1993-01-08 | Nippon Koshuha Kogyo Kk | 圧延ミルモータの過負荷出力表示警報装置 |
| EP1236896A2 (en) * | 2001-03-02 | 2002-09-04 | Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki | Compressor piston |
| US6669781B2 (en) * | 1997-09-23 | 2003-12-30 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for improving stencil/screen print quality |
| CN104041185A (zh) * | 2012-01-12 | 2014-09-10 | 大日本印刷株式会社 | 蒸镀掩模的制造方法及有机半导体元件的制造方法 |
| KR101456099B1 (ko) * | 2013-05-13 | 2014-11-03 | 주식회사 펨빅스 | 무 바인더 세라믹 코팅 메탈마스크 |
| WO2015042982A1 (en) * | 2013-09-30 | 2015-04-02 | Hewlett-Packard Development Company,L.P. | Coatings of metal surfaces |
| CN112689687A (zh) * | 2018-10-09 | 2021-04-20 | 深圳市柔宇科技股份有限公司 | 掩膜板及掩膜板涂层的制备方法 |
-
1982
- 1982-10-26 JP JP57187839A patent/JPS5976868A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61199538A (ja) * | 1985-02-28 | 1986-09-04 | Achilles Corp | エンボスロ−ルの製造方法 |
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| US6669781B2 (en) * | 1997-09-23 | 2003-12-30 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for improving stencil/screen print quality |
| US7476277B2 (en) | 1997-09-23 | 2009-01-13 | Micron Technology, Inc. | Apparatus for improving stencil/screen print quality |
| EP1236896A2 (en) * | 2001-03-02 | 2002-09-04 | Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki | Compressor piston |
| EP1236896A3 (en) * | 2001-03-02 | 2003-07-16 | Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki | Compressor piston |
| US6705207B2 (en) | 2001-03-02 | 2004-03-16 | Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki | Piston type compressor |
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