JPS5973408A - 二酸化塩素の製法及び装置 - Google Patents

二酸化塩素の製法及び装置

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JPS5973408A
JPS5973408A JP58165291A JP16529183A JPS5973408A JP S5973408 A JPS5973408 A JP S5973408A JP 58165291 A JP58165291 A JP 58165291A JP 16529183 A JP16529183 A JP 16529183A JP S5973408 A JPS5973408 A JP S5973408A
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chlorine
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JP58165291A
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モ−リス・シ−・ジエイ・フレデツト
ジエラルド・カウリ−
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Erco Industries Ltd
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    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B11/00Oxides or oxyacids of halogens; Salts thereof
    • C01B11/02Oxides of chlorine
    • C01B11/022Chlorine dioxide (ClO2)
    • C01B11/023Preparation from chlorites or chlorates
    • C01B11/025Preparation from chlorites or chlorates from chlorates without any other reaction reducing agent than chloride ions

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は二酸化塩素の製造及び廃水の処理における二酸
化塩素の使用に関する。
二酸化塩素を使用して廃水を消毒処理することは周知で
あp1塩素を使用するよシ有利であることも既知である
中位の社会集団の自治体汚水処理プラントでは代表的に
は200〜1000kg7日のような比較的少量の二酸
化塩素が必要である。
米国特許第り、、2go、irq号明細書には塩素酸ナ
トリウム溶液を二酸化硫黄と反応洛中で向流式に大気圧
未満の圧力下で反応させて約l〜3ppfの二酸化塩素
δロ度をもつ二酸化塩素水溶液を生成させる小規模自動
化二酸化塩素製造プラントを記載している。
この先行技術の操作は幾つかの欠点をもつ。
この先行技術の方法は他の二酸化塩素発生方法が塩素酸
塩に基づいて40〜70%よシはるかに高い収率をあげ
ることができるのに比べて約60〜70%の二酸化塩素
の収率という比較的低い収率をもつ。
この先行技術の方法は少量の空気の存在下で二酸化塩屋
の製造を行うから、二酸化塩素を溶解させるには吸収塔
を使用することが必要となる。多くのプロセス制御要素
がこの先行技術の方法を保守作業なしの自動操作に自動
化するために必要である。これらの要因は二酸化塩素生
産量当シのプラントの資本コストを比較的高価なものと
なす。
迅速、効果的且つ効率よく廃水、を処理するための二酸
化塩素の発生に使用できる他の二酸化塩素発生反応もあ
る。カナダ特許第!r’lJ、AIIt号は塩素酸ナト
リウム、塩化ナトリウム、及び7〜13規定の範囲の高
酸性度の硫酸を大気圧下約3θ℃の温度で反応させて二
酸化塩素と塩素とを生成させることからなる二酸化塩素
発生器を記載している。空気を反応媒体に通すことによ
ってガス状生成物を反応媒体から剥離し、空気で希釈さ
れた生成物ガス流を造っている。
この後者の方法は一般に米国特許第6λ!0.1!;9
号の方法よシ高収率で二酸化塩素を生成するが、なおあ
る種の欠点があって、この欠点のためにこの後者の方法
は自動化した水処理操作に使用するのに適さない。生成
物ガス流中に大量の希釈空気が存在するためにそれに対
応して大きな吸収塔が二酸化塩素を水に溶解するために
必要で、ちる。更に、この方法をとも収率で二酸化塩素
を得るためには二酸化塩素発生器中の反応媒体の滞留時
間が比較的長いことが必要であるから二酸化塩素発生器
の容Wが大きくなる。これらのコクの要因は二酸化塩素
生産針当シのプラントの資本コストを相対的に高価なも
のとなす。
この先行技術の操作では二酸化塩素の希釈ガスとして空
気を使用するけれども、この方法は泡立ちやすいこと;
すなわち二酸化塩素の自然分解が起り・やすいことが知
られている。この方法のこの現象は装置を損傷する可能
性があること、及び有毒ガスの放出のために人為的調整
をしない自動化操作では望ましくない。
カナダ特許第に2左、0g4を号明詞沓は大気圧未満の
圧力下の沸点に高酸性度反応媒体を保つことによって二
酸化塩素及び塩素の希釈ガスとしてのスチームを含む生
成物ガス流を生成させ、反応容器中に酸性硫酸ナトリウ
ムを析出させる以外はカナダ特許第53り、!ざデ号の
方法と類似の方法を記載している。
酸性硫酸ナトリウムは取扱いが物理的に困難でアシ、比
較的保守作業を要しないように意図される小規模プラン
ト中でこの塩が生成することは著るしい火点である。更
に、反応容器中に塩が析出すると塩をスラリーの形態て
除去すること、及び反応媒体から結晶を分離するための
濾過器、結晶を分熱した反応媒体の再循環ポンプ及び再
循環配管が必要となる。これらのすべての事項はカナダ
特許第f 2 g、0ざダ号の方法を使用するプラント
の全資本コスト中のかなシの率を占めるものとなる。
小規模の二酸化塩素製造用上述の先行技術を使用する場
合の該先行技術の火点はカナダ特許第に413,119
号及び第ざ、2に、0ざダ号の方法を修正することによ
って解決できることが意外にも発見された。
この発明によれば塩素酸ナトリウムと塩化ナトリウムと
の溶液と硫酸とを反応帯域に供給して反応帯域中の高酸
性度反応媒体から二酸化塩素と塩素とを反応帯域を大気
圧未満の圧力に減圧して水の蒸気、二酸化塩素及び塩素
からなるガス状混合物を取出し、廃反応媒体を反応帯域
から取出し反応帯域中の硫酸ナトリウムの晶出を回避す
ることからなる二酸化塩素発生方法が提供される。
空気を反応帯域に供給しないから吸収塔及び吸収塔に関
連する資本コストの必要が回避される。このようにして
被処理水を反応帯域に減圧を生じさせるのに使用する減
圧エゼクタに直接供給するから二酸化塩素溶液貯蔵の必
要はなくなる。
反応帯域を減圧にすることによって泡立ちが生ずる二酸
化塩素分圧未満の二酸化塩素分圧が維持され、装置が故
障しても有毒ガスが大気中に漏出することはない。
更に、この発明の方法は米国特許第4t、l!rO,/
L;9号の方法で達成される収率よりはるかに高い収率
を達成するのにカナダ特許第jダJ、!119号の方法
よシはるかに短い滞留時間で操作できるから必要発生器
寸法を小さくでき、全体の資本コストを低減できる。
反応媒体が硫酸ナトリウムによシ飽和されない濃度条件
下で操作することによシ、また反応媒体を反応帯状から
取出すことによって反応帯域中で酸性硫酸ナトリウムの
沈殿が回避され、従って沈殿処理問題及びそれに関連し
た装置の設置を回避できる。
本発明方法は約410 ’Q以下ないし約コ!℃の比較
的低温度で操作できる。所望により、反応媒体の温度を
反応媒体に実質上濃厚な状態で通常供給される硫酸反応
剤の希釈熱から得られる温度であってもよい。
これらの反応温度で生成物ガス流中に存在する水の蒸気
は反応帯域中で二酸化塩素の発泡の可能性を最小するの
には充分でないほど高い分圧をもつから空気の不在また
は他の添加希釈剤の不在下では反応帯域中の蒸気空間を
最小にすることが必要である。
減圧下の系の場合、液相中のガスが膨張し反応帯域から
の液相の除去が制御できないほどに促進され、それによ
って反応帯域中の蒸気相空間が増大し、泡立ちの危険が
増大する傾向がおる。二酸化塩素生成速度/反応庇体表
面積の比は従って反応媒体のそのような訃とぅを防止す
るように制御される。約3o分の滞留時間では二酸化塩
累住成速度/反応媒体表面積の比は約0105g7分/
cm!が最大値である。
本発明の方法を実れする好適な仕方では反応媒体を加熱
して同−反応媒体表面積尚シより高い二酸化塩素生成速
度を達成させる。反応媒体は一般に約、25”Q〜約?
o’Q、好適にはぐ。℃〜約7θ℃、そして最も好適に
は約110”Q〜約4θ℃の範囲の温度に加熱する。
反応媒体の温度が高くなるため水の蒸気の分圧が高くな
るから二酸化塀素が発泡する傾向は少くなる。この理由
は二酸化塩素の分圧が低下するからである。従って反応
帯域中の蒸気相空間を最小にする重要性は本発明のこの
態様では低くなる。
反応帯域にかけられる減圧は反応媒体を沸とうさせるよ
うな減圧であシ、反応媒体製とうのために通常約60u
Hfiないし約/6θrat Hfiである。沸点状態
では二酸化塩素は反応媒体から生成するスチームによ)
剥離されるから沸とう状態が好適である。反応媒体が沸
とうしていない時は減圧は通常約40 ts Hfiな
いし約/31關H9である。
以下に示例のための図を参照して本発明を更に具体的に
説明する。
まず最初に本発明方法の一実施態様の概略工程図である
第1図を参照すると、二酸化塩素発生器10へ塩素酸ナ
トリウム−塩化ナトリウム水溶液貯槽/り(貯槽/l)
から塩素酸ナトリウム−塩化ナトリウム水浴液が導管/
コを経て、また政硫酸貯槽/gρ鴫濃硫酸が導管/lを
経てそれぞれ導入され、二酸化塩素発生器/θ中で二酸
化塩素と塩素とが生成される。塩素酸ナトリウム−塩化
ナトリウム水溶液貯4W/グは必要に応じ導管コ0を経
てNa040.−Nail水溶液が補給され、−力源硫
酸貯槽/Eは必要に応じ導管−一により硫酸が補給され
る。
二酸化塩素発生器ioへ導管l乙にょ夛供給される硫酸
の濃度は広範囲に亘って変化する。
通常濃硫酸、好適には約93重量−以上の濃硫酸を使用
することが二酸化塩素発生器10から溢流する酸の損失
を最少となすために好適である。硫酸の供給にょシ反応
媒体中に約gないし約/J規定、好適には約9.3ない
し10規定ノ酸性度を生ずる。
導管/コ中の装入原料溶液中の塩素酸ナトリウム及び塩
化ナトリ9ムの濃度は反応媒体の他の条件釦依存して比
較的狭い範囲に変化できる。
本性を約lIO℃以下の反応媒体温度で行う時には塩素
酸ナトリウムと塩化ナトリウムの各々の濃度は約−65
〜約3.!毫ル、好適には約3.0〜約3・5モルで、
本流を約lIO℃〜約70℃の範囲の反応媒体温度で行
う時には前記濃度は各々が通常約/、 jモル−約コ、
3モル、好適には約へデ〜約コ、S七ルでおる。装入原
料流中の塩素イオン:塩素酸イオンモル比はこれら反応
剤イオンからの二酸化塩素生成の効率の低くならないよ
うにするために約i、os:t〜約t、tz:iの範囲
であるのが好適である。
これらの装入原料から生ずる反応媒体中の塩素酸ナトリ
ウム及び塩化ナトリウムの濃度は各々約0.orモル〜
約o、コモルである。前記反応剤の濃度は反応媒体から
未反応塩素酸ナトリウムの損失を最少とするためにでき
るだけ低い濃度に保つことが好ましい。
二酸化塩素発生器10中の反応媒体は好ましくは約kO
℃〜60°Cの好適温度に加熱され、同時に好ましくは
反応媒体を沸とうさせるために導管コダを介して反応帯
域は減圧される。
反応媒体は二酸化塩素発生器IOから生成物導管、2I
Iを経て溢流する。二酸化塩素発生器IO中の反応媒体
の滞留時間は(6it酸ナトリワムが飽和濃度にまで蓄
積されず、また反応剤が二酸化塩素と塩素とを生成する
のに充分な時間が得られれば厳密な制限は必要としない
。二酸化塩素発生器to中の反応媒体の滞留時間は小型
の二酸化塩素発生器ioを使用するときには代表的には
約30〜60分で、大型の二酸化塩素発生器を使用する
時は沈殿が生じない限シ前記滞留時間よシ長時間を使用
できる。
二酸化塩素発生器/θに生成物導管コダを経て減圧を施
すために生成物導管−グの下流側端部に減圧エゼクタ2
乙が備えられる。減圧エゼクタ2乙には導管−gから水
が供給され、この水は生成物導管コyを通って入るスチ
ームを凝縮させ且つ二酸化塩素と塩素とを溶解する。導
管−2g中に供給される水は二酸化塩素によ多処理され
るべき水流であ夛、処理ずみ水は減圧エゼクタ2乙の下
流側の導管30にuト出される。
エゼクタ2乙の水流が大気と接触する前に二酸化塩素と
塩素とが完全に溶解するようにエゼクタ2乙の端部にパ
イプを付加することはあっても、二酸化塩素と塩素との
実質上完全な溶解がエゼクタコロ中で行われるから有毒
ガスが逸出することはない。被処理水を消毒するために
必要な二酸化塩素の濃度は極めて低く、通常3g/j 
(gpj)以下である。従って、導管2g中の水温は環
境温度であってもよく、高濃度の二酸化塩素が必要なと
きは冷却が必要であるが、上記のような低濃度では冷却
は必要ではない。
二酸化塩素発生器10から溢流する液体をガス状反応生
成物と共にエゼクタ26中に通してもよく、該溢流中の
化学薬品の濃度は導管J。
中の被処理水の利用に著しい悪影響を及ぼすほどではな
い。或はまた、溢流反応媒体はこれを生成物導管、24
tから導管3コにより取出して廃棄してもよい。
さて第2図ないし第1図について述べると、これらの図
には第1図の操作で使用するのに適した二酸化塩素発生
器の構造が示されている。
二酸化塩素発生器IOは一般に垂直な円筒状体3λで、
上部封止部材、to及び下部封止部材36を備え、それ
らの間に反応媒体11Qを保持する反応帯域を構成する
室3gが区画される。
室3g内で下部封止部材J、 4から大体平行に上方に
向けて延びるダ個の排出管12がある。
図にはコ個の排出管を示した。これら排出管lコの各々
は上部開放端<<e及び排出管の下端近くの管壁に造ら
れた開口4t/、があり、排出管tコの各々にはその両
端で液体が自由に流れるようになっている。
加熱部材agは各排出管りλ内を軸方向に排出管ダコの
かなりの長さに延び、下部封止部材J6を貫通して二酸
化塩素発生器の外部に設けられた接続部30にまで突出
する。各加熱部材4Igの上端には放射状に突出するフ
ィン部材3コが備えられ、このフィン部材jコは排出管
弘コの内壁内の溝S4を内に延びる〇 加熱部材41gの表面積は熱を効率よく消散させるのに
充分な大きさをもち、それによって加熱部材4gの表面
温度が大きなガス泡及び二酸化塩素の分解が局部的に生
成しないような低温度に保たれるべきである。
加熱部材表面温度は約90℃以下で、且つ加熱部材と反
応媒体との間の温度差が加熱部材at上に硫酸ナトリウ
ムを晶出させ得ないような温度である。
導入管S6及びsgは二酸化塩素発生器IOの下端近く
の該発生器壁32を通って延び、室3g中の反応媒体q
o中に反応剤を供給する。
一方の導入管sbは導管12中の塩素酸ナトリウム−塩
化ナトリウム原料溶液に通じ、他方の導入管sgは導管
lダ中の硫酸原料に通ずる。
生成物導管コダを構成する排出管60は二酸化塩基発生
器IOの上端近くに設けられ、室3を中の反応媒体弘0
の上の蒸気相空間と通ずる。
反応媒体aOは排出管60を通って二酸化塩素発生器1
0から溢流する。
導管56及び5gを通って二酸化塩素発生器ioへ入る
反応剤の流速は二酸化塩素発生器lo中でのそれぞれ所
望の滞留時間及び所望の反応剤濃度が得られるように制
御される。排出導管62は所望により二酸化塩素発生器
/θの反応媒体を排出するために備えられる。
第1図に説明した全装置は以下に述べる種々のセンサ及
び手動操作または自動操作のための制御装置44を備え
る。
操作に際しては第1図に示す全装置は第S図の論理的流
れ図に規定された一連の所定の工程が逐次行われる。二
酸化塩素生成の開始と水処理の開始とは手動により、或
は水処理に対する要求に応答して行われる。
ある種のパラメータの検知された値は適当なセンサによ
り検討されて更に操作を進める前に許容範囲内にあるこ
とが確認される。下記第7表に検討パラメータ値、それ
らの正規の値及び使用したセンサを掲げる。
第1表 パラメータ   正規値  センサ 導管2g中の未処理水圧力 lθ〜j&okPa  P
S−g二酸化塩素発生器準備温度 36℃〜4’117
’CTIS  4二酸化塩素発生器加熱器 (低加熱)          作動   Tlo−7
これらのパラメータが許容範囲外であるならば装置は自
動的に停止され、欠陥パラメータを修正後に手動による
リセットを必要とする〇上記バ2メータが許容範囲内に
あれば逐次操作が始動する。二酸化塩素発生器への空気
洗気導管に設置された空気弁FV−/θは閉じられる。
次に二酸化塩素発生器圧力がセンサPI3−、tにより
検知されて該圧力が正常か否かを決定し、二酸化塩素発
生器加熱器を高加熱側に変え、反応媒体温度をセンサ’
、l”lo−7により検知して該温度が正常であるか否
かを決定し、蒸気温度はセンサ’l’1s−4により蒸
気温度が正常であるか否かを決定するために再使用する
下記第、2表に二酸化塩素発生器圧力及び温度の正常値
を掲げる: 第2表 パラメータ    正常値  センサ 二酸化塩素発生器圧力  40〜/AOmmHli  
P工s−s反応媒体温度    4tO〜706CTI
C−7蒸気温度      goη以下  Tl5−4
これらのパラメータが許容範囲内にあると導管/コ及び
16にある弁EV−1!及びgv−2を開いて化学薬品
の供給を開始する。同時にタイマが始動し、このタイマ
により二酸化塩素と塩素とが二酸化塩素発生器10内で
生成する期間が制御される。
二酸化塩素発生器io中の圧力及び温度はセンサP工S
−j%T工8−4 及びTlC−7により二酸化塩素の
発生中連続的に監視される。検知された二酸化塩素発生
器の圧力が高く、または検知された二酸化塩素発生器の
温度が高いが或はそれら両者であると二酸化塩素発生器
は停止される0 いま述べたばかりのような替報を発するような状態は起
らないとすると、タイマはそのサイクルを完了し、二酸
化塩素発生器ioはタイマにより予め定められた所望量
の二酸化塩素が製逸されると運転を停止する。二酸化塩
素発生器の運転の停止は弁EV−2及びEV−!を閉じ
ることによって反応剤の供給を停止し、二酸化塩素発生
器加熱器を低加熱側へ切換えることによって行われる。
弁KV−,2及びEV−1を閉じ加熱器を停止すると二
酸化塩素の発生は止まる。空気弁[’V−10を開いて
二酸化塩素発生器IOの蒸気相中に空気を引き入れ、ベ
ンチュリ2乙の作用下に二酸化塩素発生器IOから残存
二酸化塩素及び塩素を放出させる。
二酸化塩素発生器10は今や休止状態となり、所定時間
の経過法たは手動による二酸化塩素発生の回正に応答し
て二酸化塩素の製造が再び必要となるまでタイマは遊び
の状態となる。
二酸化j」に素発生器10の停止は沸とう反応媒体の場
合の方が非沸とう反応媒体の場合よりすみやかに行われ
る。この理由は二酸化塩素のスチームによる剥離により
反応媒体中の溶解二酸化塩素の濃度が約θ、−t gp
zに保たれるからである。
これに比して非沸とう反応媒体の場合には溶解二酸化塩
素濃度は約3〜3゜k gpJ、である。
従って、第1図に示した二酸化塩素発生系は廃水の処理
のための二酸化塩素及び塩素の製造を迅速に開始でき、
このような二酸化塩素及び塩素の製造を所望の製造速度
で所定の期間持続でき、二酸化塩素及び塩素の製造を迅
速且つ安全に停止できる。
米国特許第り、l!;0,139号の方法と比べて、相
対的に少ない自動制御を必要とするのにすぎず、本発明
の方法は米国特許第q、−3θ、/S9号の場合よりは
るかに容易に自動制御形で運転できる。
米国特許第グ、コ!; 0./ ji 9号の先行技術
で必要とされるような?F気も存在しないし、吸収塔も
必要としない。更に本発明の方法を使用して得られる二
酸化塩素の収率は先行技術の米国特許第ダ、230./
 59号の収率より扁い。
以下に例を掲げて本発明を説明する。
例7 ao℃、iiomml−1g、の圧力下で二酸化塩素を
3 kg 7時間の割で製造し、qsoookg/時間
の水を処理する非沸とう式二酸化塩素発生器10の場合
の第1図の系の物質収支を測定した。
種々のパラメータを下記第3表に述べる。
第3表 導管  2g  /u /G 、1.30化学薬剤(k
gi時間) NaC1,ji、/ 7    0..21.  θ、
+26NaCj1.0.              
   9.0g         0.93  093
にJ’、02!r!r C1,ff12.7g  2.7g 11、So、             コク。夕 、
2/、3 2/、JH20(液体)    qsooo
  J/     /、、2  J/、57!0.2(
1,3 H2O(ガス)2.0 例λ 乙0°Cで/ / OmmHiの圧力下で二酸化塩素を
skg/時間の割テ製造し、qsOookg/時間の水
を処理する沸とう式二酸化塩素発生器10に対する第1
図の系の物質収支を測定した。
種々のパラメータを下記の第り表に示す。
第り表 化学薬剤(/cg/時間) Na(4g、/7    0.2&  。、ムNaCり
、08                     ワ
、og           o、q3   o、q、
ycr、o、                、  
 。
0f22.7g  +2.71 H2SO,,2qj  、2/、、?  コ43H20
(液体)    qsooo  、71It、a   
at、、t7Sθ36.5 H2O(ガス)              /jji
に比べて例コのより高温度の操作は/3# 7時間の水
を余計に必要としたのにすぎないが、二酸化塩素の分圧
がJ4mmからqmmに大巾に低下し、従って泡発生の
可能性に対する安全限度が改善された点で顕著な差異が
ある。
例3 減圧下に約6θ℃に加熱された反応媒体を含有する円筒
形二酸化塩素発生器中で二酸化塩素を製造した。塩素酸
ナトリウムと塩化ナトリウムとの溶液を連続的に流し、
硫酸も連続的に流して反応媒体を二酸化塩素発生器から
溢流させたO 2つの直径の二酸化塩素発生器を使用し、液を二酸化塩
素発生器の容積の約発まゝで満して得られ、た結果を大
きな直径の二酸化塩素発生器であるが高さが低くなり、
液が二酸化塩素発生器を満した加熱されなかった二酸化
塩素発生器の結果と比較した。結果を下記第3表に示す
:第S表 10.2    .7     !r?/    りθ
     O,θ610.1 3  、t  g9 7
0 0.θ6* 10.2  /  !  92  コs  o、or?
j  /  、t  7コ 21 0.//?、A /
  !f gコ 、2.to、ll*この実験は加熱せ
ず、且つガス相空間なしで行った0第j表の結果は沸と
う式反応器における製造速度/反応器直径の比は若干収
率は低下するが著しく増大したことを示す0 この開示のまとめとして、本発明は廃水処理、水冷却及
び潜在的に食用水の二酸化塩素処理の新規な操作を提供
するものである。本発明の範囲内で改変が可能であるこ
とを理解されたい。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の方法の一実施例の概略70−シートを
示す図、第2図は第7図の方法に使用する二酸化塩素発
生器の概略縦断面図、第3図は第2図の二酸化塩素発生
器に使用される加熱管の拡大図、第q図は第3図の加熱
管の端部平面図、第3図は第1図の方法の自動操作の論
理流れダイアグラムである。図中: lθ・・二酸化塩素発生器、/e、−・(塩素酸ナトリ
ウム−塩化ナトリウム水溶液)貯槽、lざ・・(硫酸)
貯槽、コロ・・エゼクタ、4to・・反応媒体、ダざ・
・加熱部材。 手続補正書 昭和 が年 1C83日 特許庁長官殿 1、 事件の表示 昭和sr年特許願第14!、2り/ 号2、 発明の名
称 二酸化塩素の製法及び装置 3、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称    エルク・インダストリーズ・リミテッド4
、代理人 図面の浄書(内容に変更なし)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 l 食散規定度が&j−/コ規定の硫酸含有反応媒体中
    で塩素イオンによシ塩素酸イオンを還元することによっ
    て反応帯域中で二酸化塩素を製造する方法において、 (a)  反応帯域に減圧をかけて水の蒸気、二酸化塩
    素及び塩素のガス状混含物を取出し、(b)  塩素酸
    イオン、塩素イオン及び硫酸を反応帯域に供給し、反応
    帯域から使用ずみ反応媒体を取出し、 (0)  反応媒体中の副生物硫酸塩の濃度を反応媒体
    中の飽和濃度未満に維持するように反応帯域中の反応媒
    体の滞留時間を制御することを特徴とする二酸化塩素の
    製法。 ユ 反応媒体の温度がコj’Q〜70℃で、反応帯域の
    圧力を40〜/ 60myxHllの大気圧未満の圧力
      −□となす特許請求の範囲第1項記載の製法。 3 反応媒体の温度がlIO°C以下で、反応媒体が反
    応帯域を実質上溝してなるりt許請求の範囲第一項記載
    の製法。 嘱 反応媒体をlIOυ〜70”Qの温度に加熱し、大
    気圧未満の圧力が反応媒体を沸とうさせる値である特許
    請求の範囲第一項記載の製法。 3 反応媒体を30−/、O”Qに加熱する特許請求の
    範囲第9項記載の製法。 ム 工程(1))で各々/−j〜3jモ54)14度を
    もち且つ塩素イオン:塩素酸イオンのモル比が1.θj
         −:/〜l〜t/よ:lの塩素酸ナトリウム
    と塩化ナトリウムからなる水溶液を反応帯域に供給し、
    工程(0)において塩素酸ナトリウムと塩化ナトリウム
    との濃度をo、oよ〜θ、コモルに保つ特許請求の範囲
    第1項記載の製法。 7 反応帯域での反応媒体の滞留時間が30〜60分で
    ある特許請求の範囲第1項ないし第6項のいずれかに記
    載の製法。 く 使用ずみ反応媒体を二酸化塩素と塩素とが通る排出
    口を通して反応帯域から溢流させる特許請求の範囲第1
    項ないし第7項のいずれかに記載の製法。 デ エa (a)において、大気圧未満の圧力を減圧エ
    ゼクタによシ反応帯域にかけ、二酸化塩素及び塩素によ
    υ処理される水が減圧エゼクタを通って流れることから
    なる特許請求の範囲第1項ないし第g項のいずれかに記
    載の製法。 10  二酸化塩素及び塩素の製造を要求に従って開始
    及び停止し、(1)反応帯域の反応媒体の温度を検知し
    て36℃〜IIO”Cの温度に゛し、(11)未処理水
    の圧力を検知して圧力が11410〜s g □kPB
    にし、冊反応帯域の圧力を検知して60〜/AOmvx
    H9の圧力とし、(■)反応媒体の加熱を開始し、反応
    媒体の温度を検知してlIOυ〜70℃とし、(V)反
    応帯域への硫酸の流れを開始して二酸化塩素製造装置流
    れを維持しs (vD反応帯域へ塩素酸ナトリウムと塩
    化ナトリウムとの水溶液の流れを開始して、二酸化塩素
    の製造中核水溶液の流れを維持し、&1;必要な量の二
    酸化塩素の製造が完了したら反応媒体の加熱を止め、反
    応帯域への硫酸の流れを止め、反応帯域への塩素酸ナト
    リウムと塩化ナトリウムとの水溶液の流れを止め、減圧
    エゼクタによシかけられる減圧の作用下に反応帯域中に
    空気を流入させることがらhる特許請求の範囲第2項記
    載の製法。 ii  (a)垂直な円筒状中空体32、該中空体の下
    部封止部36近くの中空体3.2の壁を通って延びる中
    空体3コ中の水性反応剤の流れを供給するだめの反応剤
    導入口/2及び/A、及び上部封止部′M止遣3グの近
    にあるガス状生成物及び使用ずみ水性反応媒体を中空体
    3コから取出すだめの7個の排出口A o 、 (b)
    下部封止部3Aから排出口6Qの方へ上に向いて延びる
    少くとも1個の棒状加熱部材q g s (c)加熱部
    材ygを囲んで下部封止部における液体導入ログ6から
    加熱部材ytの上端の上で排出口6θの下に位置する開
    放液体排出口ayまで延びる各加熱部拐ql用の排出管
    412を備えてなることを特徴とする二酸化塩素製造装
    置。 lユ 加熱部材aXを排出管ダλから離して保つための
    加熱部材titrの上端近くに設けられたスペーサ5コ
    を備える特許請求の範囲の第1/項記載の装置。 /ユ q個の加熱部材lIgが存在する特許請求の範囲
    第1/項または第72項記載の装置。 ハ 中空体3−から選択的に反応媒体を排出するための
    通常閉じられた排出導管6コが下部封止部36を通って
    延びる特許請求の範囲第1/項ないし第73項のいずれ
    かに記載の装置。 lマ  洗気用空気を中空体3コに選択的に供給するた
    めの、通常閉じられた洗気用空気導入口6Qが上部封止
    部3亭の近くの中空体3コの壁を通って延びる特許請求
    の範囲第1/項ないし第1弘項のいずれかに記載の装置
    。 /&  水エゼクタコロが動作可能に排出口63に接耘
    してなる特許請求の範囲第1/項ないし第1j項のいず
    れかに記載の装置。
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