JPS5965443A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPS5965443A
JPS5965443A JP57176662A JP17666282A JPS5965443A JP S5965443 A JPS5965443 A JP S5965443A JP 57176662 A JP57176662 A JP 57176662A JP 17666282 A JP17666282 A JP 17666282A JP S5965443 A JPS5965443 A JP S5965443A
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JP
Japan
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flip
transistor
inverter
flop
output
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JP57176662A
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Japanese (ja)
Inventor
Yutaka Hatano
裕 波多野
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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Abstract

PURPOSE:To input an evaluation signal of desired level to the desired node of the main circuit by providing the main circuit and a flip-flop on one substrate and by selectively irradiating the P-N junction of transistor for driver of flip-flop with a beam. CONSTITUTION:A flip-flop 20 is combined as a redundancy circuit to a semiconductor integrated circuit using a static shift register 100 as the main circuit, these are integrated on the same semiconductor substrate and wiring is carried out so that an output of the flip-flop 20 is supplied to the node of shift register 100. When the P-N junction between the drain and substrate of transistor 21b is irradiated with a laser beam, even if an MOS transistor 21b is OFF, a junction current flows, a connecting point 24 is set to a low level, a driver transitor 22b of inverter 22 is OFF, and an output point of 23 of flip-flop 20 becomes high level. When the P-N junction of transistor 22b is irradiated with the beam, an output becomes low level.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は半導体集積回路に係り、特に回路評価のため
のいわゆる冗長回路の構成に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to semiconductor integrated circuits, and particularly to the configuration of so-called redundant circuits for circuit evaluation.

〔発明の技術的背景〕[Technical background of the invention]

半導体集積回路の特性を評価するため又は故障診断を厳
密に行うために回路の適当な部分(以下。
In order to evaluate the characteristics of a semiconductor integrated circuit or to perform precise failure diagnosis, an appropriate part of the circuit (hereinafter referred to as

ノードとする。)へ外部から電気信号を入力させる必要
がある。この評価又は診断を迅速また容易にするため評
価用の信号を入力するための回路いわゆる冗長回路を主
回路と共に半導体基板に組込んだ集積回路も°各種知ら
れている。
Let it be a node. ) requires inputting an electrical signal from the outside. In order to speed up and facilitate this evaluation or diagnosis, various types of integrated circuits are known in which a circuit for inputting evaluation signals, a so-called redundant circuit, is built into a semiconductor substrate along with a main circuit.

例えば、第1図に等節回路で示す様な回路診断法が従来
知られている。この方法は2つの直列に接続したMOS
)ランジスタ11 、12から成るインノ々−タJO比
おいて、ドライバ用トランジスタ12のドレイン基板間
のPN接合13にレーザビーム19を照射するようにな
っている。
For example, a circuit diagnosis method as shown in FIG. 1 using an equinodal circuit is conventionally known. This method uses two MOS connected in series.
) In the inverter JO ratio consisting of transistors 11 and 12, a laser beam 19 is irradiated onto the PN junction 13 between the drain substrate of the driver transistor 12.

この方法によJlば、前記PN接合13にレーザビーム
を照射しハイレベル″1”にある出力端子150レベル
を、入カ輻1子14のレベルに関係プよく、ローレベル
″0 ++に変更するものである。
According to this method, the PN junction 13 is irradiated with a laser beam and the output terminal 150 level, which is at high level "1", is changed to low level "0++" depending on the level of the input signal 14. It is something to do.

〔背qt技体工の問題点〕[Problems with back qt technique and physical training]

この様な回路1¥〉陶1法は、Iff積回路内(こテス
トプローブ用の・ξラドを設けるfも訪4c’>ものに
比べて集+、b’(,1すを上げることができて望まし
い。
This kind of circuit 1¥〉Ten 1 method can raise the concentration +, b'(, 1) in the Iff product circuit (compared to the case where ξrad is provided for this test probe). It is possible and desirable.

しかしながら、レベル変更がハイレベルからローレベル
に変更できるだけであり、j労の変更ができず、を手直
のノードtこEE:t8.の信号を与えることかで・\
なかった。
However, the level can only be changed from high level to low level, and the level cannot be changed. By giving a signal of
There wasn't.

〔発明(〕)目的〕 こC゛)1卆明(上、 J’、1.上の様な1彰来技4
「、Jの欠点ケ除去しようとして犬さ矛したもので3ち
り、(、E (−のレベルの1河りを主101!I′h
のf−〔覧の、鴨川に入力−4−るCとのできまた・j
%集時化の司T10な冗長回路乞aする半導体Jti 
ctt l!J路を#!e (I”することを′目的と
する。
[Purpose of invention ()] This C゛) 1 book (above, J', 1.
``I tried to remove J's flaws and was attacked by a dog.
f- [Looking at the input to Kamogawa-4-It happened with C.
Semiconductor JTI that requires T10 redundant circuits for % centralization
cttl! J road #! e (I”).

し発1]:1のt・、ε匁〕 この目的ケガ成するため、この発明によれば、所定の電
気的機能を有する主回路と、第1のインバータの出力が
第2のインバータの入力となり且つ第2のインバータの
出力が第1のインノ々−夕の入力となるようにしたフリ
ップフロップと、このフリップフロップの第1のインバ
ータの出力を前記主回路へ伝達する手段とを1つの半導
体基板上ニ具え、前記第1のインバータ又は第2のイン
バータにおけるドライJ用トランジスタを構成するPN
i合((対して選択的にビームを照射し前配主回11’
f’rの動作の良否を刊宇する様にする。
In order to achieve this purpose, the present invention provides a main circuit having a predetermined electrical function, and the output of the first inverter is connected to the input of the second inverter. A flip-flop in which the output of the second inverter becomes the input of the first inverter, and means for transmitting the output of the first inverter of this flip-flop to the main circuit are integrated into one semiconductor. a PN provided on the substrate and constituting a dry J transistor in the first inverter or the second inverter;
i (((The beam is selectively irradiated to
I will publish the quality of f'r's operation.

〔賢明の実槍uj〕[Wise Fruit Spear uj]

1反下、添付図面にIYってこの発明の実施例1を説明
する。
Embodiment 1 of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

第2図はこの発明の実用例を示すものでちり、M OS
 トランジスタ111\113,121〜123等から
I;(るスタティックシフトレノスタ010を主回ト・
マとする半導体集積回路にフリップフロップλ)を冗長
回路として組合せた回路構成を示している。
Figure 2 shows a practical example of this invention.
From the transistors 111\113, 121 to 123, etc.
This figure shows a circuit configuration in which a flip-flop λ) is combined with a main semiconductor integrated circuit as a redundant circuit.

同図によれば、フリップフロップ2oは、トラン)スタ
、21a 、 21bを直列接続した第1のイン・ζ−
メタ2J、トランジスタ22a、22bを直列接続した
第2のインバータ22とを具えて成る。負荷用MOSト
ランジスタ21a 、 22Hのドレイン及びゲートは
それぞれ電源V に接続されている。ドライノ々用トラ
ンジスタ21bのゲート1まトランジスタ22a。
According to the figure, the flip-flop 2o is a first inverter in which transistors 21a and 21b are connected in series.
The second inverter 22 includes a meta 2J and transistors 22a and 22b connected in series. The drains and gates of the load MOS transistors 21a and 22H are each connected to the power supply V. The gate 1 of the transistor 21b for dry nozzles and the transistor 22a.

22bの接続点器に接続されこの点23は、出力点とな
る。また、ドライバ用トランジスタ22bのゲートはト
ランジスタ21a 、 21bの接続点器に接続されて
いる。各ドライバ用トランジスタ21b 、 22bの
ソースは共通に電源V に接続さhている。
This point 23, which is connected to the connection pointer 22b, becomes an output point. Further, the gate of the driver transistor 22b is connected to a connecting point between the transistors 21a and 21b. The sources of each driver transistor 21b and 22b are commonly connected to a power supply V.

S 以上からするに、第1のインノ々−夕21の出力が第2
のインバータ220入力となり且つ第2のインバータ2
2の出力が第1のインバータ21の入力となこの様なフ
リップフロップ′21)を前記シフトレジスタ100と
共に半霞、体基板に集積し、どの発明によれば、後述す
る様に第1のインバータ21又は第2のインノ々−夕2
2におけるドライノ々用トランジスタ21b 、 22
bのドレイン基板間に形成されるPN接合に選択的にビ
ーム例えば元ビームを照射量るようにする。
S Based on the above, the output of the first innovator 21 is the output of the second
is the inverter 220 input and the second inverter 2
According to the invention, such a flip-flop '21) whose output is the input of the first inverter 21 is integrated on a semicircular substrate together with the shift register 100, and the output of the first inverter 21 is integrated as described below. 21 or the second Inno-Nou-Yu 2
Dry nose transistors 21b and 22 in 2
A beam, for example, an original beam, is selectively irradiated onto the PN junction formed between the drain substrate of b.

ここで、同図によれば、フリップフロップ加の出力点2
2はシフトレジスタ100のトランジスタ112に関す
るノードNDに接続しである。しかし、シフトレジスタ
100を構成するトランジスタ111〜行3,121〜
123のいずれかに関係する任意の1つのノードに7リ
ツプフロツプ加の出方を接続シテモヨイ。また、複数の
フリップフロッフヲ用意し任意複数□個のノー□ドに各
々の7リツプ70ツブの出力を接続するようにしてもよ
いのはもちろんのことである。
Here, according to the same figure, the output point 2 of the flip-flop addition
2 is connected to a node ND related to the transistor 112 of the shift register 100. However, the transistors 111 to rows 3 and 121 constituting the shift register 100
Connect the output of the 7 lip-flops to any one node related to any one of 123. It goes without saying that a plurality of flip-flops may be prepared and the outputs of each of the 7 and 70 flip-flops may be connected to any number of nodes.

尚、シフトレジスタ100はトランジスタ130’Y介
して入力信号Si  を入力しトランジスタ111〜1
13、 121〜123をクロック信号φ8.φ8′、
φb。
Note that the shift register 100 receives an input signal Si through the transistor 130'Y, and inputs the input signal Si through the transistors 111 to 1.
13, 121 to 123 are connected to a clock signal φ8. φ8′,
φb.

φb′で駆動することにより、出力端140から出力信
号S。を得るものである。
By driving with φb', an output signal S is output from the output terminal 140. This is what you get.

次に、この′実施例の動作を説明する。Next, the operation of this embodiment will be explained.

この発明忙よれば、第2図の様に、フリッゾフロツゾ加
をシフトレジスタ100と共に同一半導体基板に集積し
、この際7リツプフロツゾの出方がシフトレジスタ10
0のノードに供給される様に配線をしてすdく。この後
、第1のインバータ21又は第2のインノ々−夕22に
おけるドライバ用トランジスタ21b 、 22bのド
レイン−基板間に形成されるPN接合に選択的に元ビー
ム例えば1/−ザピームを照射するよ5にする。
According to this invention, as shown in FIG.
Wire it so that it is supplied to the 0 node. Thereafter, the original beam, for example, 1/-zabeam, is selectively irradiated onto the PN junction formed between the drain and substrate of the driver transistors 21b and 22b in the first inverter 21 or the second inverter 22. Make it 5.

’f’ilば、トランジスタ21bのドレイン−基板間
のPN接合にレーザビームを照明すると、MOSトラン
ジスタ211)がオフ状態であっても、九ビーム照射に
よってドレイン−基板間に接合電流が流れ、トランジス
タ21a 、 21bの接続点調はローレベル″0”と
なる。この結果、インバータ22のドライバ用トランジ
スタ22bはオフ状態となり、トランジスタ22a 、
 221)の接続点従ってフIJツブフロップ加の出力
点はハイレベル″1”トする。
If the PN junction between the drain and the substrate of the transistor 21b is irradiated with a laser beam, even if the MOS transistor 211) is in the off state, a junction current flows between the drain and the substrate due to the 9 beam irradiation, and the transistor The connection point between 21a and 21b becomes low level "0". As a result, the driver transistor 22b of the inverter 22 is turned off, and the transistors 22a,
The connection point of 221) and therefore the output point of the IJ block flop output high level "1".

逆に、インノ々−夕22のトランジスタ;22bのFレ
イ7−IHH間のPN接合にレーザビームを照射すると
、このトランジスタ22bがオフ状態にあっても、ドレ
イン−基板間の接合電流のためフリップ70ツブ20の
出力はローレベル″′O”トナル。
Conversely, when a laser beam is irradiated to the PN junction between the F-ray 7 and IHH of the transistor 22b of the transistor 22b, even if the transistor 22b is in the off state, it will flip due to the junction current between the drain and the substrate. The output of 70 Tsubu 20 is low level ``'O'' tonal.

従って、外部に設けたビーム発生源からのビーム照射位
置の選択により、フリップフロップの出力を任意のレベ
ルとすることができ、主回路に所定のノードへ任意のレ
ベルの評価信号を供給することができる。
Therefore, by selecting the beam irradiation position from an external beam generation source, the output of the flip-flop can be set to any level, and an evaluation signal of any level can be supplied to a predetermined node in the main circuit. can.

第3図はこの発明の他の実施例を示すものであり、フリ
ップフロップIがCMOS構成となっている。
FIG. 3 shows another embodiment of the invention, in which the flip-flop I has a CMOS configuration.

同図によれば、負荷用PチャネルMO8)ランジスタ3
1a及びドライバ用NチャネルMO8)ランジスタ31
bから成る第1のインバータ31と、負荷用Pチャネル
MO8)ランジスタ32a及びドライバ用NチャネルM
OSトランジスタ32bから成る第2のインバータ32
とからフリップ70ツブ30を構成する。ここで、各ト
ランジスタ31a 、 31bのゲートは接続点33を
もって共通に接続され、また各トランジスタ32a 、
 32bのゲートは接続点34をもって共通に接続され
ている。こうして共通接続したゲートは互いに他のイン
バータの縦続接続点35 、36に接続されている。す
なわち、第1のインバータ31の出力が第2のインノ々
−夕32の入力となり且つ第2のインバータ32の出力
カー第1のインバータ310入力となるようになってい
る。また、接続点36はフリップフロップの出力端T。
According to the same figure, load P-channel MO8) transistor 3
1a and driver N-channel MO8) transistor 31
a first inverter 31 consisting of a first inverter 31 consisting of a load P-channel MO8) transistor 32a and a driver N-channel M
A second inverter 32 consisting of an OS transistor 32b
The flip 70 and the knob 30 are constructed from the above. Here, the gates of each transistor 31a, 31b are commonly connected at a connection point 33, and each transistor 32a,
The gates of 32b are commonly connected at a connection point 34. The commonly connected gates are mutually connected to the cascade connection points 35, 36 of other inverters. That is, the output of the first inverter 31 becomes the input of the second inverter 32, and the output of the second inverter 32 becomes the input of the first inverter 310. Further, the connection point 36 is the output terminal T of the flip-flop.

である。It is.

Cの様な構成のフリツゾフロツゾ関においてもトランジ
スタ31b又は32bのPN接合にレーザビームを選択
的に照射することにより、前述と向様の動作を達成する
ことができる0 以上の各実施例においては、評価プローブ用のノミラド
を設けることなく、MOS集積回路として冗長回路を組
込むことができるため主回路を有する基板の集績度を上
げることができる。
In each of the above embodiments, the same operation as described above can be achieved by selectively irradiating the PN junction of the transistor 31b or 32b with a laser beam even in the case of a fritzo having a configuration like C. Since a redundant circuit can be incorporated as a MOS integrated circuit without providing a Nomurad for an evaluation probe, the degree of integration of a board having a main circuit can be increased.

尚、MOS)ランジスタのチャネル型は説明の各場合と
逆としてもよいのはもちろんのことである。
It goes without saying that the channel type of the MOS transistor may be reversed in each case.

以上で説明したレーザビームの選択的照射は例えば第4
図に示す株にして実現することができる。
For example, the selective irradiation of the laser beam explained above
This can be realized with the stocks shown in the figure.

すなわち、評価すべき半導体集積回路41をソケットを
有する設置台42にセットし、信号源43かも所定の電
源電圧並びに信号を印加しておく。半導体集積回路41
は仁の発明に係るものであり例えば第2図の様な構成の
7リツプフロツプを含んでいる。
That is, the semiconductor integrated circuit 41 to be evaluated is set on the installation stand 42 having a socket, and the signal source 43 also applies a predetermined power supply voltage and signal. Semiconductor integrated circuit 41
The device is based on the invention by Jin, and includes, for example, a seven lip-flop constructed as shown in FIG.

この様な回路41に対し、レンズ系451反射t、!、
n 3F、及びレンズ系37を介してレーザ光源44か
らレーザビームAを照射する。この際、例えば別の光学
レンズ系(図示せず)を介してレーザビームAのスポラ
)Pを回路41を確認することは容易であり、門た回路
41の・リーンから、前述の様にビームを′□熱照射べ
き場所は分かるから、レーザビームを所定の位置に照射
することは容易である。もちろん、回路の照射すべき場
所に予めマークを設けておいてもよい。
For such a circuit 41, the lens system 451 reflects t,! ,
A laser beam A is irradiated from the laser light source 44 via the n 3F and the lens system 37. At this time, it is easy to check the circuit 41 for the spora (P) of the laser beam A through another optical lens system (not shown), and from the leak of the gated circuit 41, the beam can be detected as described above. Since the location to be irradiated with heat is known, it is easy to irradiate a predetermined location with a laser beam. Of course, marks may be provided in advance at locations on the circuit to be irradiated.

こうして、ビームが照射された際、設置台42を介して
得られる出力信号Bによって回路41を評価できる。
In this way, the circuit 41 can be evaluated by the output signal B obtained via the installation stand 42 when the beam is irradiated.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

この発明は1以上の様に構成することにより、任意のレ
ベルの評価信号を主回路の任意のノードに入力すること
ができる、また高梁fλ化の可能な冗長回路を有する半
導体集積回路を提供することができる。
The present invention provides a semiconductor integrated circuit having a redundant circuit in which an evaluation signal of any level can be input to any node of a main circuit and a high beam fλ can be achieved by configuring one or more of the above. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来の回路診断法を示す図、第2図はこの発明
の実施例の構成図、第3図はこの発明の他の実施例の回
路図、第4図はこの発明の実施例に係る半導体集積回路
の評価の様子を示す説明図である。 100・・・主回路、加、30・・・フリップ70ツブ
。 21 、31・・・第1のインノ々−タ%22 、32
・・・第2のインd−タ、  21a 、 22a 、
 31a 、 32a・・−負荷用トランジスタ、21
b 、 22b 、 31b 、 32b・・・ドライ
ツマ用トランジスタ。
Fig. 1 is a diagram showing a conventional circuit diagnosis method, Fig. 2 is a configuration diagram of an embodiment of the present invention, Fig. 3 is a circuit diagram of another embodiment of the invention, and Fig. 4 is an embodiment of the invention. FIG. 2 is an explanatory diagram showing how a semiconductor integrated circuit is evaluated. 100...Main circuit, addition, 30...Flip 70 knobs. 21, 31...first innovator%22, 32
...second inverter, 21a, 22a,
31a, 32a...-Load transistor, 21
b, 22b, 31b, 32b... transistors for dry knobs.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、所定の電気的機能を有する主回路と、第1のインノ
q−夕の出力が第2のインノ々・−夕の入力となり且つ
第2のインノ々−夕の出力が第1のインバータの入力と
なるようにしたフリップフロップと、このフリップフロ
ップの第1のインバータの出力を前記主回路へ伝達する
手段とを1つの半導体基板上に具え、前記第1のインバ
ータ又は第2のインバータにおけるドライバ用トランジ
スタを構成するPN接合に対して選択的にビームを照射
し前記主回路の動作の良否を判定する様にして成る半導
体集積回路。 2、特許請求の範囲第1項記載の回路において。 前記ドライバ用トランジ、スタはMO$トランジスタで
あり、前記PN接合はこのMOS)ランジスタのドレイ
ン及び前記半導体基板の間に構成するようにして成る半
導体集積回路。
[Claims] 1. A main circuit having a predetermined electrical function, the output of the first input becoming the input of the second input, and the output of the second input is provided as an input of the first inverter, and a means for transmitting the output of the first inverter of the flip-flop to the main circuit is provided on one semiconductor substrate, and the first inverter or A semiconductor integrated circuit configured to selectively irradiate a beam onto a PN junction constituting a driver transistor in a second inverter to determine whether the operation of the main circuit is good or bad. 2. In the circuit according to claim 1. The semiconductor integrated circuit is characterized in that the driver transistor and star are MO$transistors, and the PN junction is formed between the drain of the MOS transistor and the semiconductor substrate.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008097934A (en) * 2006-10-10 2008-04-24 Sony Ericsson Mobilecommunications Japan Inc Bidirectional slide switch device

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