JP2944573B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JP2944573B2
JP2944573B2 JP14771097A JP14771097A JP2944573B2 JP 2944573 B2 JP2944573 B2 JP 2944573B2 JP 14771097 A JP14771097 A JP 14771097A JP 14771097 A JP14771097 A JP 14771097A JP 2944573 B2 JP2944573 B2 JP 2944573B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、トリミング回路を
備えた半導体集積回路に関し、特にトリミング前にトリ
ミング後の動作状態を確認可能なトリミング回路を含
む。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit having a trimming circuit, and more particularly to a trimming circuit capable of confirming an operation state after trimming before trimming.

【0002】[0002]

【従来の技術】図2は、特開平4−243158号に記
載されたMOSFETを使用するトリミング回路の回路
図である。図2において参照符号1はトリミング回路、
2は定電圧回路、3はトリミング用データ入力回路、4
はデコーダ回路を示している。トリミング回路1の配線
D、E、Fとデコーダ回路4の同符号の配線とが接続さ
れる。また、図5は、各種のトリミング回路方式に従っ
て採用されるトリミングの事前確認や、トリミング実行
の手順を示したフローチャートである。
2. Description of the Related Art FIG. 2 is a circuit diagram of a trimming circuit using a MOSFET described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-243158. In FIG. 2, reference numeral 1 denotes a trimming circuit,
2 is a constant voltage circuit, 3 is a trimming data input circuit, 4
Indicates a decoder circuit. The wirings D, E, F of the trimming circuit 1 and the wirings of the same sign of the decoder circuit 4 are connected. FIG. 5 is a flowchart showing a procedure for performing preliminary confirmation of trimming adopted according to various trimming circuit methods and executing the trimming.

【0003】図2の回路において、先ず事前確認段階で
は、トリミング用データ入力回路3のCLK端子から入
力されるパルスの個数に応じて、トリミング回路部1か
らの配線D、E、F上の各制御信号が、デコーダ回路4
を通して8個のMOSFETM27〜34のON、OF
Fを制御し、その結果、定電圧回路2の出力電圧VRが
決定される。
In the circuit shown in FIG. 2, first, in the preliminary confirmation stage, each of the wirings D, E, and F from the trimming circuit unit 1 is controlled according to the number of pulses input from the CLK terminal of the trimming data input circuit 3. When the control signal is supplied to the decoder circuit 4
ON, OF of 8 MOSFETs M27-34 through
F. As a result, the output voltage VR of the constant voltage circuit 2 is determined.

【0004】この出力電圧VRが目標電圧範囲に入って
いるならば、そのときの配線D、E、F上の制御信号の
ON、OFF状態を固定すべく、トリミング回路1中の
抵抗溶断用パッドF1、F2、F3のうちの選択された
ものに大電流を流して、MOSFET M22、M2
4、M26のゲートに接続されている駆動用抵抗R2
1、R22、R23の中から選択されたものを電気的に
溶断することにより、トリミングを実行する。
If the output voltage VR is within the target voltage range, the pad for resistance fusing in the trimming circuit 1 is fixed to fix the ON / OFF state of the control signal on the wirings D, E and F at that time. A large current is applied to a selected one of F1, F2, and F3, and MOSFETs M22, M2
4. A driving resistor R2 connected to the gate of M26.
1, trimming is performed by electrically fusing selected one of R22 and R23.

【0005】例えば、事前確認段階で配線Dの電位のみ
がHiレベルで他はLoレベルのとき出力電圧VRが目
標電圧範囲に入ったとすれば、パッドF2、F3に大電
流を流してR22、R23を溶断する。すなわち、事前
確認で最適のトリミングの組み合わせを決定してからト
リミングを実行することができるので、実際のトリミン
グは1回で済ますことができる。つまり、図5(A)の
トリミング手順に従うものである。
For example, if the output voltage VR enters the target voltage range when only the potential of the wiring D is at the Hi level and the others are at the Lo level in the prior confirmation stage, a large current flows through the pads F2 and F3 and R22 and R23 Fusing. That is, since the trimming can be executed after determining the optimum combination of the trimmings in advance, the actual trimming can be performed only once. That is, it follows the trimming procedure of FIG.

【0006】なお、従来のこの種のトリミング回路に
は、上記図2に示したもの以外にも、抵抗に並列に接続
したツェナーダイオードやポリシリコンフューズ抵抗を
選択的に破壊することによりトリミングを行うものがあ
る。図3はツェナーダイオードを用いた例、図4はポリ
シリコンフューズ抵抗を用いた例である。
In this type of conventional trimming circuit, trimming is performed by selectively destroying a Zener diode or a polysilicon fuse resistor connected in parallel with the resistor, in addition to the one shown in FIG. There is something. 3 shows an example using a Zener diode, and FIG. 4 shows an example using a polysilicon fuse resistor.

【0007】図3の回路によってトリミングを行う際、
ツェナーダイオードD1〜D3のどれを選択して破壊す
ればよいかは、トリミング用パッドIN11、IN12
間、IN12、IN13間等を計算上で短絡してみるこ
とで判断できる。すなわち、事前確認で最適のトリミン
グの組み合わせを計算で決めてからトリミングを行うこ
とができる。そのため、実際のトリミングは1回で済ま
せることができる。つまり図5(A)のトリミング手順
に従う。しかし、回路動作中にIN11、IN12間、
IN12、IN13間等を実際に短絡してみることは、
原理的には可能であるが、回路が複雑になりコストアッ
プにつながるので実用的でない。
When trimming is performed by the circuit of FIG.
Which of the Zener diodes D1 to D3 should be selected and destroyed depends on the trimming pads IN11 and IN12.
, IN12, IN13, etc., can be determined by short-circuiting in calculation. That is, the trimming can be performed after the optimum combination of the trimmings is determined by calculation in advance. Therefore, the actual trimming can be completed only once. That is, the trimming procedure shown in FIG. However, during the circuit operation, between IN11 and IN12,
The actual short circuit between IN12 and IN13 is
Although possible in principle, it is not practical because the circuit becomes complicated and leads to an increase in cost.

【0008】図4の回路では、計算上での事前確認は図
3の回路と同様に可能である。しかし、ポリシリコンフ
ューズ抵抗を溶断することによりトリミングを行うの
で、その状態を事前に試してみることができない。
In the circuit of FIG. 4, prior confirmation in calculation is possible as in the circuit of FIG. However, since the trimming is performed by fusing the polysilicon fuse resistor, the state cannot be tested in advance.

【0009】このように、図3及び図4に示すトリミン
グ回路では、回路を動作させた状態でトリミング後の状
態を事前に確認することが、事実上又は原理的に不可能
であるという問題点がある。図2の回路は、このような
従来技術の問題点に対する一つの解決手段としての意義
を有するものである。
As described above, in the trimming circuits shown in FIGS. 3 and 4, it is practically or in principle impossible to confirm the trimmed state in advance while the circuit is operating. There is. The circuit shown in FIG. 2 has significance as one solution to such a problem of the related art.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかし、図2の回路で
は、抵抗を一旦溶断してしまうと元の状態に復帰するこ
とができないので、事前にトリミング後の状態を確認す
るには、トリミング用データ入力回路3のような事前確
認専用の回路を必要とし、またそのような事前確認用回
路のために、データ入力用パッドCLKのような余分な
パッドを必要とするという問題点があった。
However, in the circuit shown in FIG. 2, once the resistor has been blown, it cannot be returned to the original state. There is a problem that a circuit dedicated to the preliminary confirmation such as the data input circuit 3 is required, and an extra pad such as the data input pad CLK is required for such a circuit for the preliminary confirmation.

【0011】本発明が解決しようとする課題は、トリミ
ング回路を備える半導体集積回路において、トリミング
の事前確認のための専用回路や、そのための余分なデー
タ入力用パッドを有することなく、トリミング前にトリ
ミング後の動作状態を確認可能とすることである。
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit having a trimming circuit without a dedicated circuit for prior confirmation of the trimming and an extra data input pad for the trimming without trimming. The later operation state can be confirmed.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記の課題は、目的とす
る半導体集積回路が、定電圧回路と、該定電圧回路をト
リミングするトリミング回路とを備える半導体集積回路
であって、前記定電圧回路が、トリミング対象となる相
互に直列に接続された複数の制御対象素子と、該制御対
象素子の夫々に対応して配設され、各制御対象素子の両
端にソース及びドレインが接続された第1のMOSトラ
ンジスタとを有してなり、前記トリミング回路が、前記
第1のMOSトランジスタのそれぞれに対応するバイポ
ーラ型トランジスタおよび第2のMOSトランジスタの
組を含み、前記バイポーラ型トランジスタのエミッタが
接地され、コレクタが前記第1のMOSトランジスタの
ゲートに接続され、ベースが定電流源及び制御信号入力
用パッドに接続され、前記第2のMOSトランジスタの
ソースが電源電位に接続され、ゲートがゲート制御電位
に接続され、ドレインが前記第1のMOSトランジスタ
のゲート及び前記バイポーラ型トランジスタのコレクタ
に共通接続されることにより達成される。
The object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit comprising a constant voltage circuit and a trimming circuit for trimming the constant voltage circuit. Are arranged in correspondence with a plurality of serially connected control target elements to be trimmed and each of the control target elements, and have a first and a source and a drain connected to both ends of each control target element. Wherein the trimming circuit includes a set of a bipolar transistor and a second MOS transistor corresponding to each of the first MOS transistors, and an emitter of the bipolar transistor is grounded; A collector is connected to the gate of the first MOS transistor, and a base is connected to a constant current source and a control signal input pad. This is achieved by connecting the source of the second MOS transistor to the power supply potential, connecting the gate to the gate control potential, and connecting the drain to the gate of the first MOS transistor and the collector of the bipolar transistor. Is done.

【0013】本発明の好適な態様のトリミング回路(以
下、「本回路」という)では、定電圧回路は出力電圧分
割回路を形成する直列制御対象素子の各々に第1のMO
Sトランジスタを並列に接続して構成され、これら第1
のMOSトランジスタのON、OFFに従って定電圧回
路の出力電圧VRが決定される。この場合、ON状態に
維持される第1のMOSトランジスタが並列接続された
制御対象素子がトリミングされ、OFF状態のそれはト
リミングされない。
In a trimming circuit according to a preferred embodiment of the present invention (hereinafter referred to as "the present circuit"), the constant voltage circuit includes a first MO in each of the serially controlled devices forming the output voltage dividing circuit.
S transistors are connected in parallel.
The output voltage VR of the constant voltage circuit is determined according to ON / OFF of the MOS transistor. In this case, the control target element to which the first MOS transistor maintained in the ON state is connected in parallel is trimmed, and the control target element in the OFF state is not trimmed.

【0014】どの制御対象素子をトリミングすれば定電
圧回路の出力電圧VRが目標電圧範囲に入るかを、実際
にトリミングを行う前に確認するには、制御信号入力用
パッドに0Vを与えればよい。こうすることにより、0
Vを印加したパッドがベースに接続されているバイポー
ラ型トランジスタがOFF状態となってそのコレクタ電
圧がHiレベルとなり、このコレクタがゲートに接続さ
れている第1のMOSトランジスタがON状態になる。
よって、その第1のMOSトランジスタが並列接続され
た制御対象素子がトリミングされた状態になる。このよ
うにして、どの素子をトリミングすればよいかが事前確
認されたならば、次に、そのトリミング状態を固定すべ
くトリミングを実行する。
In order to confirm which element to be controlled should be trimmed so that the output voltage VR of the constant voltage circuit falls within the target voltage range before actually performing the trimming, 0 V may be applied to the control signal input pad. . By doing so, 0
The bipolar transistor whose pad to which V is applied is connected to the base is turned off, the collector voltage of the bipolar transistor becomes Hi level, and the first MOS transistor whose collector is connected to the gate is turned on.
Therefore, the control target element to which the first MOS transistor is connected in parallel is in a trimmed state. When it is confirmed in advance which element should be trimmed in this way, next, trimming is executed to fix the trimming state.

【0015】トリミングの実行に際しては、ON状態に
維持すべき第1のMOSトランジスタに対応するバイポ
ーラ型トランジスタのエミッタ・ベース間に耐圧以上の
電圧を印加して破壊し、hfeを低下させる。こうする
ことにより、そのバイポーラ型トランジスタのベースに
接続されているパッドを開放しても、コレクタ電圧がH
iレベルに固定される。従って、このコレクタがゲート
に接続されている第1のMOSトランジスタがON状態
に固定され、トリミングが完成する。
When the trimming is performed, a voltage higher than the breakdown voltage is applied between the emitter and the base of the bipolar transistor corresponding to the first MOS transistor to be maintained in the ON state, and the bipolar transistor is destroyed to reduce hfe. By doing so, even if the pad connected to the base of the bipolar transistor is opened, the collector voltage becomes H
Fixed to i level. Therefore, the first MOS transistor whose collector is connected to the gate is fixed to the ON state, and the trimming is completed.

【0016】以上説明したように、本回路は実際に制御
対象素子をトリミングするために必要不可欠な回路及び
パッドのみを備えており、これらの回路及びパッドを共
用することにより、事前確認をも支障なく行うことがで
きる。
As described above, this circuit includes only circuits and pads that are indispensable for actually trimming the element to be controlled, and sharing these circuits and pads makes it difficult to check in advance. Can be done without.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】本発明の好適な実施形態として次
の(イ)〜(ホ)を挙げることができる。 (イ)第2のMOSトランジスタの電流駆動能力が、制
御信号入力用パッド開放時におけるバイポーラ型トラン
ジスタの電流駆動能力より小さくなるように、定電流源
の電流駆動能力とゲート制御電位を設定すること。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention include the following (a) to (e). (A) The current driving capability of the constant current source and the gate control potential are set so that the current driving capability of the second MOS transistor is smaller than the current driving capability of the bipolar transistor when the control signal input pad is opened. .

【0018】(ロ)制御信号入力用パッドを開放するこ
とで定電流源の電流を前記バイポーラ型トランジスタの
ベースに印加して前記バイポーラ型トランジスタをON
し、該バイポーラ型トランジスタの電流駆動能力より小
さい第2のMOSトランジスタの電流駆動能力に応じた
電流を、第2のMOSトランジスタのドレインからバイ
ポーラ型トランジスタを介して接地に流すことで第1の
MOSトランジスタをOFFし、これにより制御対象素
子を短絡することなく前後の他の制御対象素子と接続す
ること。
(B) By opening the control signal input pad, the current of the constant current source is applied to the base of the bipolar transistor to turn on the bipolar transistor.
Then, a current corresponding to the current driving capability of the second MOS transistor, which is smaller than the current driving capability of the bipolar transistor, is caused to flow from the drain of the second MOS transistor to ground via the bipolar transistor, thereby forming the first MOS transistor. Turning off the transistor, thereby connecting the control target element to another control target element before and after without short-circuiting the control target element.

【0019】(ハ)制御信号入力用パッドに第1の電位
を印加し、バイポーラ型トランジスタを遮断状態にし、
第1のMOSトランジスタのゲートをONすることで、
制御対象素子の両端を短絡すること。また、該第1の電
位が0Vであること。
(C) applying a first potential to the control signal input pad to turn off the bipolar transistor;
By turning on the gate of the first MOS transistor,
Short-circuit both ends of the controlled element. In addition, the first potential is 0V.

【0020】(ニ)制御信号入力用パッドに第2の電位
を印加し、バイポーラ型トランジスタを破壊し、バイポ
ーラ型トランジスタの電流駆動能力を第2のMOSトラ
ンジスタの電流駆動能力より相対的に小さくなるように
した後、制御信号入力用パッドを開放し、電源電位を、
第2のMOSトランジスタを介して第1のMOSトラン
ジスタのゲートに入力することで第1のMOSトランジ
スタをONし、これにより制御対象素子の両端を短絡す
ること。また、該第2の電位がバイポーラ型トランジス
タのエミッタ・ベース間耐圧以上の電位であること。
(D) The second potential is applied to the control signal input pad to destroy the bipolar transistor, and the current driving capability of the bipolar transistor becomes relatively smaller than the current driving capability of the second MOS transistor. After that, the control signal input pad is released, and the power supply potential is
The first MOS transistor is turned on by inputting to the gate of the first MOS transistor via the second MOS transistor, thereby short-circuiting both ends of the control target element. Further, the second potential is a potential equal to or higher than the withstand voltage between the emitter and the base of the bipolar transistor.

【0021】(ホ)制御対象素子が抵抗であり、また、
制御対象の抵抗素子がトリミング用抵抗であること。
(E) The element to be controlled is a resistor, and
The resistance element to be controlled is a trimming resistor.

【0022】実施形態(イ)は、第1のMOSトランジ
スタの駆動回路中の第2のMOSトランジスタとバイポ
ーラ型トランジスタの電流駆動能力の設定に関する。第
2のMOSトランジスタの電流駆動能力はゲート制御電
位により決定され、制御信号入力用パッド開放時のバイ
ポーラ型トランジスタの電流駆動能力は、定電流源の電
流駆動能力により決定される。本実施形態では、第2の
MOSトランジスタの電流駆動能力が、制御信号入力用
パッド開放時におけるバイポーラ型トランジスタの電流
駆動能力より小さくなるように、ゲート制御電位と定電
流源の電流駆動能力とを設定する。
The embodiment (a) relates to the setting of the current driving capability of the second MOS transistor and the bipolar transistor in the driving circuit of the first MOS transistor. The current driving capability of the second MOS transistor is determined by the gate control potential, and the current driving capability of the bipolar transistor when the control signal input pad is opened is determined by the current driving capability of the constant current source. In the present embodiment, the gate drive potential and the current drive capability of the constant current source are adjusted so that the current drive capability of the second MOS transistor becomes smaller than the current drive capability of the bipolar transistor when the control signal input pad is opened. Set.

【0023】これにより、制御信号入力用パッド開放時
には、バイポーラ型トランジスタのコレクタ電流が、こ
れよりも電流駆動能力が小さく設定された第2のMOS
トランジスタのドレイン電流値以下制限され、従ってバ
イポーラ型トランジスタのコレクタ電圧はLoレベルと
なり、これが第1のMOSトランジスタのゲートに与え
られるから、第1のMOSトランジスタがOFF状態と
なる。
With this arrangement, when the control signal input pad is opened, the collector current of the bipolar transistor becomes smaller than that of the second MOS transistor having a smaller current driving capability.
The drain current value of the transistor is limited to a value less than the drain current value. Therefore, the collector voltage of the bipolar transistor becomes Lo level, which is applied to the gate of the first MOS transistor, so that the first MOS transistor is turned off.

【0024】上記に対して、制御信号入力用パッドに0
Vを印加するときは、バイポーラ型トランジスタがOF
F状態になり、そのコレクタ電圧はHiレベルとなり、
第1のMOSトランジスタがON状態となる。この状態
は当該第1のMOSトランジスタが並列接続された制御
対象素子がトリミングされた状態に相当するから、上記
の操作によりトリミング状態を復元可能に出現させるこ
とができる。
In contrast to the above, 0 is input to the control signal input pad.
When V is applied, the bipolar transistor
F state, the collector voltage becomes Hi level,
The first MOS transistor is turned on. Since this state corresponds to a state in which the control target element to which the first MOS transistor is connected in parallel is trimmed, the trimming state can be restored so as to be restored by the above operation.

【0025】実施形態(ロ)は、実施形態(イ)が実施
された状態において、制御信号入力用パッドを開放する
ことに関する。本実施形態の動作は上述の通りである。
The embodiment (b) relates to opening the control signal input pad in the state where the embodiment (a) is carried out. The operation of the present embodiment is as described above.

【0026】実施形態(ハ)は、実施形態(イ)が実施
された状態において、制御信号入力用パッドに0Vを印
加することに関する。本実施形態はトリミングの事前確
認方法を述べたものであり、その動作は上述した通りで
ある。
The embodiment (c) relates to applying 0 V to the control signal input pad in the state where the embodiment (a) is implemented. This embodiment describes a method of confirming the trimming in advance, and the operation is as described above.

【0027】実施形態(ニ)は、制御信号入力用パッド
にバイポーラ型トランジスタのエミッタ・ベース間耐圧
以上の電位を印加することに関する。これにより、当該
バイポーラ型トランジスタは破壊され、hfeが低下す
る。これは、トリミングの実行に相当する操作である。
The embodiment (d) relates to applying a potential equal to or higher than the emitter-base breakdown voltage of the bipolar transistor to the control signal input pad. As a result, the bipolar transistor is destroyed, and hfe decreases. This is an operation corresponding to execution of trimming.

【0028】実施形態(ホ)は、制御対象素子が抵抗素
子よりなり、特に該抵抗素子がトリミングの対象である
ことを述べたものである。
The embodiment (e) describes that the element to be controlled is a resistance element, and in particular, the resistance element is an object to be trimmed.

【0029】[0029]

【実施例】以下に、添付図面を参照しつつ、本発明の好
適な一実施例について説明する。図1は、本実施例とし
ての半導体集積回路(以下、「例示回路」という)の内
部結線を示す回路図である。例示回路はトリミング回路
1と定電圧回路2を含む。
Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a circuit diagram showing internal connections of a semiconductor integrated circuit (hereinafter, referred to as an “exemplary circuit”) as the present embodiment. The example circuit includes a trimming circuit 1 and a constant voltage circuit 2.

【0030】トリミング回路1は上で第2のMOSトラ
ンジスタと称したPチャンネルMOSトランジスタM
4、M5、M6と、上でバイポーラ型トランジスタと称
したNPNトランジスタQ1、Q2、Q3と、定電流源
CI1、CI2、CI3と、制御信号入力用パッドIN
1、IN2,IN3と、配線D,E、Fとを備え、Pチ
ャンネルMOSトランジスタのソースは電源電位VDD
に、ゲートは制御電位VGに、ドレインは配線D,E、
Fのいずれか及びNPNトランジスタのコレクタに接続
され、NPNトランジスタのベースは定電流源と制御信
号入力用パッドとに共通接続され、エミッタは接地され
る。
The trimming circuit 1 is a P-channel MOS transistor M referred to above as a second MOS transistor.
4, M5, M6, NPN transistors Q1, Q2, Q3 referred to as bipolar transistors above, constant current sources CI1, CI2, CI3, and a control signal input pad IN
1, IN2, IN3, and wirings D, E, and F, and the source of the P-channel MOS transistor has a power supply potential VDD.
, The gate is at the control potential VG, the drain is the wiring D, E,
F is connected to the collector of the NPN transistor, and the base of the NPN transistor is commonly connected to the constant current source and the control signal input pad, and the emitter is grounded.

【0031】定電圧回路2は増幅器AMP1と、出力電
圧分割回路を構成する抵抗R1〜R5と、ソースとドレ
インがR1〜R3の各々に並列に接続されたNチャンネ
ルMOSトランジスタM1、M2、M3とを備え、Nチ
ャンネルMOSトランジスタM1、M2、M3のゲート
はそれぞれ配線D,E、Fに接続され、増幅器AMP1
には(+)入力としてのVrefが与えられ、(−)入
力として出力電圧VRが所定の分割比に分割された電圧
が与えられ、VR=Vref×(R1+R2+R3+R
4+R5)/(R1+R2+R3+R4)の関係があ
る。抵抗R1〜R3はトリミングの対象であり、トリミ
ングを行うことでVRを所望の値に調整することができ
る。
The constant voltage circuit 2 includes an amplifier AMP1, resistors R1 to R5 constituting an output voltage dividing circuit, and N-channel MOS transistors M1, M2 and M3 whose sources and drains are connected in parallel to R1 to R3, respectively. And the gates of the N-channel MOS transistors M1, M2, M3 are connected to wirings D, E, F, respectively, and the amplifier AMP1
Is supplied with Vref as a (+) input, and a voltage obtained by dividing the output voltage VR by a predetermined division ratio as a (−) input. VR = Vref × (R1 + R2 + R3 + R
4 + R5) / (R1 + R2 + R3 + R4). The resistors R1 to R3 are targets of trimming, and the trimming can adjust VR to a desired value.

【0032】トリミング回路1では、定電流源CI1、
CI2、CI3の電流駆動能力をそれぞれI1、NPN
トランジスタQ1、Q2、Q3のコレクタ電流駆動能力
をI2(=hfe×I1)、PチャンネルMOSトラン
ジスタM4、M5、M6のソース・ドレイン電流駆動能
力をI3として、制御信号入力用パッドIN1、IN
2,IN3が開放のときI3<I2となるように、定電
流源CI1、CI2、CI3の電流駆動能力I1及びP
チャンネルMOSトランジスタM4、M5、M6のゲー
ト制御電位VGを設定する。
In the trimming circuit 1, the constant current sources CI1,
The current driving capabilities of CI2 and CI3 are I1 and NPN, respectively.
Control signal input pads IN1 and IN, where the collector current driving capability of transistors Q1, Q2 and Q3 is I2 (= hfe × I1), and the source / drain current driving capability of P-channel MOS transistors M4, M5 and M6 is I3.
2, the current driving capabilities I1 and P2 of the constant current sources CI1, CI2, and CI3 such that I3 <I2 when IN3 is open.
The gate control potential VG of the channel MOS transistors M4, M5, M6 is set.

【0033】こうすることにより、制御信号入力用パッ
ド開放時には、NPNトランジスタQ1、Q2、Q3の
コレクタ電流I2は強制的にI3と同値になるから、そ
のコレクタ電圧はLoレベルとなり、これにゲートが接
続されている定電圧回路2中のNチャンネルMOSトラ
ンジスタM1、M2、M3はOFF状態となる。この状
態では抵抗R1〜R3は短絡されることなく前後の他の
制御対象素子と接続される。つまり、この状態ではトリ
ミングは行われない。
By so doing, when the control signal input pad is opened, the collector current I2 of the NPN transistors Q1, Q2, Q3 is forced to have the same value as I3, so that the collector voltage becomes Lo level, and the gate is The N-channel MOS transistors M1, M2, M3 in the connected constant voltage circuit 2 are turned off. In this state, the resistors R1 to R3 are connected to other control target elements before and after without being short-circuited. That is, no trimming is performed in this state.

【0034】トリミングの事前確認を行うときは、選択
した制御信号入力用パッドに0Vを印加し、NPNトラ
ンジスタQ1、Q2、Q3のうち対応するもののベース
電圧を0Vにする。選択されたNPNトランジスタが遮
断状態となるから、そのコレクタ電圧がHiレベルとな
り、定電圧回路2中のNチャンネルMOSトランジスタ
のうち対応するものがON状態となる。この状態では抵
抗R1〜R3のうち対応するものがは短絡される。つま
り、この状態では仮のトリミング状態が出現する。これ
により、0Vを印加する制御信号入力用パッドをどのよ
うな組み合わせで選択すれば、定電圧回路2の出力電圧
VRが所望の値になるかを、トリミングの実行前に知る
ことができる。
When the trimming is checked in advance, 0V is applied to the selected control signal input pad, and the base voltage of the corresponding one of the NPN transistors Q1, Q2, Q3 is set to 0V. Since the selected NPN transistor is turned off, the collector voltage of the selected NPN transistor becomes Hi level, and the corresponding one of the N-channel MOS transistors in the constant voltage circuit 2 is turned on. In this state, the corresponding one of the resistors R1 to R3 is short-circuited. That is, in this state, a temporary trimming state appears. As a result, it is possible to know beforehand the execution of the trimming whether the combination of the control signal input pads to which 0V is applied and the output voltage VR of the constant voltage circuit 2 becomes a desired value.

【0035】次に、トリミングの実行時には、上記のよ
うにして事前確認された組み合わせにより、該当する制
御信号入力用パッドからNPNトランジスタのベース・
エミッタ間に耐圧以上の電圧を印加することにより、選
択されたNPNトランジスタを破壊して、図6のよう
に、そのhfeを低下させる。これにより制御信号入力
用パッドを開放しても破壊されたNPNトランジスタの
コレクタ電圧はHiレベルに保たれるから対応する定電
圧回路2中のNチャンネルMOSトランジスタが常にO
N状態となり、トリミング状態が固定される。
Next, when the trimming is executed, the base and NPN transistor of the NPN transistor are supplied from the corresponding control signal input pad by the combination confirmed in advance as described above.
By applying a voltage higher than the breakdown voltage between the emitters, the selected NPN transistor is destroyed and its hfe is reduced as shown in FIG. As a result, even if the control signal input pad is released, the collector voltage of the destroyed NPN transistor is maintained at the Hi level, so that the corresponding N-channel MOS transistor in the constant voltage circuit 2 is always turned on.
The state becomes N, and the trimming state is fixed.

【0036】なお、上記の説明ではバイポーラ型トラン
ジスタとしてNPNトランジスタをを挙げたが、PNP
トランジスタも同様に使用できる。また、本実施例では
定電圧回路2の出力電圧VRを調整する場合を挙げた
が、OPアンプの入力オフセット電圧のゼロ調整に用い
ても同等の効果が得られる。
In the above description, an NPN transistor has been described as a bipolar transistor.
Transistors can be used as well. In this embodiment, the case where the output voltage VR of the constant voltage circuit 2 is adjusted has been described. However, the same effect can be obtained even when the output voltage VR is used for zero adjustment of the input offset voltage of the OP amplifier.

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明によれば、トリミングの事前確認
専用の回路やそのための余分なデータ入力用パッドを設
けることなく、トリミング前にトリミング後の動作状態
を確認することができる。
According to the present invention, the operation state after trimming can be confirmed before trimming without providing a circuit dedicated to the preliminary confirmation of the trimming or an extra data input pad therefor.

【0038】また、本発明の半導体集積回路は、トリミ
ング対象素子の個数に応じたNチャンネルMOSトラン
ジスタ、NPNトランジスタ、PチャンネルMOSトラ
ンジスタ、定電流源、及びトリミング用パッドという、
従来例と比較して少ない素子数で実現することができ
る。特に、ツェナーダイオード、あるいはポリシリコン
フューズ抵抗をトリミングする方式のものに較べ、これ
らが保有しない上記の利点に加えて、パッドを1個削減
できる。
Further, the semiconductor integrated circuit according to the present invention includes an N-channel MOS transistor, an NPN transistor, a P-channel MOS transistor, a constant current source, and a trimming pad corresponding to the number of trimming target elements.
This can be realized with a smaller number of elements than in the conventional example. In particular, compared to a Zener diode or a method of trimming a polysilicon fuse resistor, one pad can be reduced in addition to the above advantages not possessed by these.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例を示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of the present invention.

【図2】トリミングの従来技術を説明する回路図であ
る。
FIG. 2 is a circuit diagram illustrating a conventional technique of trimming.

【図3】ツェナーダイオードをトリミングする従来技術
を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a conventional technique for trimming a Zener diode.

【図4】ポリシリコンフューズ抵抗をトリミングする従
来技術を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a conventional technique for trimming a polysilicon fuse resistor.

【図5】トリミング手順を示す工程系統図である。FIG. 5 is a process flow chart showing a trimming procedure.

【図6】実施例におけるNPNトランジスタのトリミン
グ前後の特性説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of characteristics before and after trimming of the NPN transistor in the example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…トリミング回路 2…定電圧回路 3…トリミング用データ入力回路 4…デコーダ回路 M1〜M3…NチャンネルMOSトランジスタ M4〜M6…PチャンネルMOSトランジスタ Q1〜Q3…NPNトランジスタ CI1〜CI3…定電流源 IN1〜IN3…制御信号入力用パッド R1〜R5…抵抗 AMP1…増幅器 REFERENCE SIGNS LIST 1 trimming circuit 2 constant voltage circuit 3 trimming data input circuit 4 decoder circuit M1 to M3 N channel MOS transistor M4 to M6 P channel MOS transistor Q1 to Q3 NPN transistor CI1 to CI3 constant current source IN1 ~ IN3 ... Control signal input pad R1 ~ R5 ... Resistance AMP1 ... Amplifier

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 定電圧回路と、該定電圧回路をトリミン
グするトリミング回路とを備える半導体集積回路であっ
て、 前記定電圧回路が、トリミング対象となる相互に直列に
接続された複数の制御対象素子と、該制御対象素子の夫
々に対応して配設され、各制御対象素子の両端にソース
及びドレインが接続された第1のMOSトランジスタと
を有してなり、前記トリミング回路が、前記第1のMO
Sトランジスタのそれぞれに対応するバイポーラ型トラ
ンジスタおよび第2のMOSトランジスタの組を含み、 前記バイポーラ型トランジスタのエミッタが接地され、
コレクタが前記第1のMOSトランジスタのゲートに接
続され、ベースが定電流源及び制御信号入力用パッドに
接続され、 前記第2のMOSトランジスタのソースが電源電位に接
続され、ゲートがゲート制御電位に接続され、ドレイン
が前記第1のMOSトランジスタのゲート及び前記バイ
ポーラ型トランジスタのコレクタに共通接続されたこと
を特徴とする半導体集積回路。
1. A semiconductor integrated circuit comprising: a constant voltage circuit; and a trimming circuit for trimming the constant voltage circuit, wherein the constant voltage circuit includes a plurality of control targets connected in series to be trimmed. And a first MOS transistor disposed corresponding to each of the control target elements and having a source and a drain connected to both ends of each control target element, wherein the trimming circuit includes the first MOS transistor. MO of 1
A set of a bipolar transistor and a second MOS transistor corresponding to each of the S transistors, wherein an emitter of the bipolar transistor is grounded;
A collector is connected to a gate of the first MOS transistor, a base is connected to a constant current source and a control signal input pad, a source of the second MOS transistor is connected to a power supply potential, and a gate is connected to a gate control potential. And a drain connected in common to a gate of the first MOS transistor and a collector of the bipolar transistor.
【請求項2】前記第2のMOSトランジスタの電流駆動
能力が、前記制御信号入力用パッド開放時における前記
バイポーラ型トランジスタの電流駆動能力より小さくな
るように、前記定電流源の電流駆動能力と前記ゲート制
御電位を設定した請求項1記載の半導体集積回路。
2. The current driving capability of the constant current source and the current driving capability of the bipolar transistor when the current driving capability of the second MOS transistor is smaller than the current driving capability of the bipolar transistor when the control signal input pad is opened. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein a gate control potential is set.
【請求項3】前記制御信号入力用パッドを開放すること
で前記定電流源の電流を前記バイポーラ型トランジスタ
のベースに印加して前記バイポーラ型トランジスタをO
Nし、該バイポーラ型トランジスタの電流駆動能力より
小さい前記第2のMOSトランジスタの電流駆動能力に
応じた電流を、前記第2のMOSトランジスタのドレイ
ンから前記バイポーラ型トランジスタを介して前記接地
に流すことで前記第1のMOSトランジスタをOFF
し、これにより前記制御対象素子が短絡されることなく
前後の他の素子と接続される、請求項2記載の半導体集
積回路。
3. The control signal input pad is opened to apply the current of the constant current source to the base of the bipolar transistor, thereby turning on the bipolar transistor.
N, causing a current according to the current driving capability of the second MOS transistor, which is smaller than the current driving capability of the bipolar transistor, to flow from the drain of the second MOS transistor to the ground via the bipolar transistor. Turns off the first MOS transistor
3. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein the control target element is connected to another element before and after without being short-circuited.
【請求項4】前記制御信号入力用パッドに第1の電位を
印加して前記バイポーラ型トランジスタを遮断状態に
し、前記第1のMOSトランジスタのゲートをONする
ことで前記制御対象素子の両端を短絡する、請求項1乃
至3記載の半導体集積回路。
4. A bipolar transistor is cut off by applying a first potential to the control signal input pad, and the gate of the first MOS transistor is turned on to short-circuit both ends of the control target element. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein
【請求項5】前記第1の電位が0Vである、請求項4記
載の半導体集積回路。
5. The semiconductor integrated circuit according to claim 4, wherein said first potential is 0V.
【請求項6】前記制御信号入力用パッドに第2の電位を
印加して前記バイポーラ型トランジスタを破壊し、前記
バイポーラ型トランジスタの電流駆動能力を前記第2の
MOSトランジスタの電流駆動能力より相対的に小さく
なるようにした後、前記制御信号入力用パッドを開放
し、前記電源電位を、前記第2のMOSトランジスタを
介して前記第1のMOSトランジスタのゲートに入力す
ることで前記第1のMOSトランジスタをONし、これ
により前記制御対象素子の両端を短絡する、請求項1乃
至5記載の半導体集積回路。
6. A bipolar transistor is destroyed by applying a second potential to said control signal input pad, and the current driving capability of said bipolar transistor is made relatively higher than the current driving capability of said second MOS transistor. Then, the control signal input pad is opened, and the power supply potential is input to the gate of the first MOS transistor via the second MOS transistor, whereby the first MOS transistor is opened. 6. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein a transistor is turned on, thereby short-circuiting both ends of the control target element.
【請求項7】前記第2の電位が、前記バイポーラ型トラ
ンジスタのエミッタ・ベース間耐圧以上の電位である、
請求項6記載の半導体集積回路
7. The device according to claim 1, wherein the second potential is a potential equal to or higher than an emitter-base breakdown voltage of the bipolar transistor.
A semiconductor integrated circuit according to claim 6.
【請求項8】前記制御対象素子が抵抗である、請求項1
乃至7記載の半導体集積回路。
8. The device according to claim 1, wherein said controlled element is a resistor.
8. The semiconductor integrated circuit according to any one of claims 7 to 7.
【請求項9】前記制御対象の抵抗素子がトリミング用抵
抗である、請求項1乃至8記載の半導体集積回路。
9. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the resistance element to be controlled is a trimming resistor.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JP5012731B2 (en) * 2002-08-28 2012-08-29 富士通セミコンダクター株式会社 Semiconductor integrated circuit device and method for adjusting semiconductor integrated circuit device
JP4960619B2 (en) * 2005-10-31 2012-06-27 新日本無線株式会社 Laser trimming circuit and trimming method thereof
JP5546361B2 (en) 2010-06-10 2014-07-09 セイコーインスツル株式会社 Semiconductor integrated circuit with variable resistance circuit

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9601440B2 (en) 2013-03-19 2017-03-21 Fuji Electric Co., Ltd. Method for manufacturing semiconductor device and exposure mask used in the same method
US9318433B2 (en) 2013-04-16 2016-04-19 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device

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