JPS595627A - パタ−ン修正装置 - Google Patents
パタ−ン修正装置Info
- Publication number
- JPS595627A JPS595627A JP57113901A JP11390182A JPS595627A JP S595627 A JPS595627 A JP S595627A JP 57113901 A JP57113901 A JP 57113901A JP 11390182 A JP11390182 A JP 11390182A JP S595627 A JPS595627 A JP S595627A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- color
- aperture
- monitor
- pattern
- specific color
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/72—Repair or correction of mask defects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体装置の製造に使用されるホトマスクのパ
ターン修正装置に関するものである。
ターン修正装置に関するものである。
半導体装置の製造に使用されるホトマスクはパターンの
形成後に検査を行ない、パターンの不良筒所（パターン
欠陥）を修正する必要がある。この修正に際しては近年
レーザビームを利用した修正法が提案されており、この
ためマスクのパターンを目視しながらパターン欠陥にレ
ーザビームを照射させる構成が必要とされている。この
ようなものとして、従来ではテレコツパレータ方式のも
のや白黒ＴＶモニタ方式のもの、或いはカラーＴＶモニ
タ方式のもの等が採用されているが、テレコンパレータ
方式はＴＶモニタに電気的に信号ラインを発生させてレ
ーザ照射域を決定するアパーチャに対応させるものであ
るために、アパーチャを回転させて斜めパターンとした
ときにはこれに信号ラインを対応させることができない
という問題がある。また、白黒ＴＶやカラーＴＶを使用
したモニタ方式のものは、アパーチャの回転等に対応で
きるという利点を有するもののアパーチャの境界を明暗
コントラストや色濃度差で表わしているために、境界を
明瞭に識別することが困難で、アパーチャ像、即ち修正
範囲な確認することが離しいとい５間融がある。
形成後に検査を行ない、パターンの不良筒所（パターン
欠陥）を修正する必要がある。この修正に際しては近年
レーザビームを利用した修正法が提案されており、この
ためマスクのパターンを目視しながらパターン欠陥にレ
ーザビームを照射させる構成が必要とされている。この
ようなものとして、従来ではテレコツパレータ方式のも
のや白黒ＴＶモニタ方式のもの、或いはカラーＴＶモニ
タ方式のもの等が採用されているが、テレコンパレータ
方式はＴＶモニタに電気的に信号ラインを発生させてレ
ーザ照射域を決定するアパーチャに対応させるものであ
るために、アパーチャを回転させて斜めパターンとした
ときにはこれに信号ラインを対応させることができない
という問題がある。また、白黒ＴＶやカラーＴＶを使用
したモニタ方式のものは、アパーチャの回転等に対応で
きるという利点を有するもののアパーチャの境界を明暗
コントラストや色濃度差で表わしているために、境界を
明瞭に識別することが困難で、アパーチャ像、即ち修正
範囲な確認することが離しいとい５間融がある。
したがって本発明の目的はＴＶモニタにアパーチャ像を
明瞭に写し出してその境界をはっきりさせ、これにより
修正範囲を容易に確認することができるパターン修正装
置を提供することにある。
明瞭に写し出してその境界をはっきりさせ、これにより
修正範囲を容易に確認することができるパターン修正装
置を提供することにある。
この目的な達成するために本発明はアパーチャを特定色
にて照明する一方、カラーＴＶモニタにはこの特定色を
強調する色処理回路を設け、アパーチャ像を特定色にて
明瞭にＴＶモニタに写し出すように構成している。
にて照明する一方、カラーＴＶモニタにはこの特定色を
強調する色処理回路を設け、アパーチャ像を特定色にて
明瞭にＴＶモニタに写し出すように構成している。
以下１本発明を図示の実施例により説明する。
図は本発明装置の全体構成図であり、１は例えばガラス
基板にＣｒ等の金属薄膜にて所定のパターンな形成した
ホトマスクである。このホトマスク１はＸＹテーブル２
等にて支持されて平面Ｘ。
基板にＣｒ等の金属薄膜にて所定のパターンな形成した
ホトマスクである。このホトマスク１はＸＹテーブル２
等にて支持されて平面Ｘ。
Ｙ方向の位置が変化されると共に、その背後（下側）に
はし／ズ３１反射ミラー４、白色光源５からなるマスク
照明系を有し、マスク１を白色光で照明するようにして
いる。また、ホトマスク１の上側にはし／ズ６およびハ
ーフミラ−７を設置し、ホトマスク１の側方呪装置した
レーザ発振器８からのレーザビームな反射しかつホトマ
スク１上に結像してパターン欠陥シレーザエネルギにて
修正することができる。９はこのレーザビームの光路上
に配置した４枚のシャッタ１０からなるア／クーチャで
あり２各シヤツタ１０を図示矢印方向に移動調整するこ
とにより各シャッタ１０で画成される空隙領域な変化さ
せ、この領域に相当するレーザビームを通過させてホト
マスク上に照射させる。
はし／ズ３１反射ミラー４、白色光源５からなるマスク
照明系を有し、マスク１を白色光で照明するようにして
いる。また、ホトマスク１の上側にはし／ズ６およびハ
ーフミラ−７を設置し、ホトマスク１の側方呪装置した
レーザ発振器８からのレーザビームな反射しかつホトマ
スク１上に結像してパターン欠陥シレーザエネルギにて
修正することができる。９はこのレーザビームの光路上
に配置した４枚のシャッタ１０からなるア／クーチャで
あり２各シヤツタ１０を図示矢印方向に移動調整するこ
とにより各シャッタ１０で画成される空隙領域な変化さ
せ、この領域に相当するレーザビームを通過させてホト
マスク上に照射させる。
また、このアパーチャ９の背後にはＩ・−フミラー１１
を配置し７．このノ＼−フミラー１１に対向配置した反
射ミラー１２および特定色光源１３とを有するアパーチ
ャ照明系にてアパーチャ９を照明し。
を配置し７．このノ＼−フミラー１１に対向配置した反
射ミラー１２および特定色光源１３とを有するアパーチ
ャ照明系にてアパーチャ９を照明し。
前記アパーチャの領域を通過した照明光なホトマスク１
上に到達させている。この特定色光［１３は例えばｔ−
１，、Ｇ、Ｂ等のカラーＴＶの三原色のいずれか一つを
遺択して発光させているが、本例のように白色光源１４
と色フィルタ１５な組合わせたものであってもよい。
上に到達させている。この特定色光［１３は例えばｔ−
１，、Ｇ、Ｂ等のカラーＴＶの三原色のいずれか一つを
遺択して発光させているが、本例のように白色光源１４
と色フィルタ１５な組合わせたものであってもよい。
一方、ｌｉＪ記ホトマスク１上の／Ｓ−フミラー７上に
は反射ミラー１６を配置し１反射ミラー１６の反射像を
カラーＴＶカメラ１７にて撮像するようにしている。そ
して、このカラーＴＶカメラ１７はカラーＴＶモニタ１
８上にホトマスクｌの表面パターンを写し出すが、カメ
ラ１７とモニタ１８との間には前記特定色の色信号をｆ
ｉｉ調する色処理回路１９を介装し、その特定色の発色
が強くなるようにしている。
は反射ミラー１６を配置し１反射ミラー１６の反射像を
カラーＴＶカメラ１７にて撮像するようにしている。そ
して、このカラーＴＶカメラ１７はカラーＴＶモニタ１
８上にホトマスクｌの表面パターンを写し出すが、カメ
ラ１７とモニタ１８との間には前記特定色の色信号をｆ
ｉｉ調する色処理回路１９を介装し、その特定色の発色
が強くなるようにしている。
以上の構成によれば、ホトマスク１の修正に際しては先
ずホトマスク照明系を作動してホトマスク１を白色光で
背後から照明すると共にカメラ１７にてホトマスク１の
パター７を撮影してこれをモニタ１８上に写し出す、そ
して、ＸＹテーブル２を作動してホトマスク１をＸＹ移
動することにより、パターン修正箇所Ｐｘをモニタ１８
に写し出す。次いでアパーチャ照明系し作動させること
により、特定色の光はアパーチャ９の領域を透過した光
のみがハーフミラ−７、レンズ６にてホトマスク１上に
照射され、ホトマスクで反射した上でカメラ１７にて撮
像される。これにより、モニタ１８にはアパーチャ９の
領域を示す矩形のパターンＰａが前記ホトマスクパター
７と重なって写し出され、したがって各シャッタ１０を
移動して領域を変化させることによりパターン修正箇所
な′必要十分な範囲で包囲する。このとき、アノ（−チ
ャ９の照明光は特定色であり、しかもカメラ１７とモニ
タ１８の間にはこの特定色を強調する色処理回路１９を
介装しているので、モニタに写し出されるアパーチャの
領域〕ζター／は特定色が強調された色彩の画像となり
、ホトマスクツ（ターンと比較して極めてコントラスト
が高くて境界部の明瞭な画像となるつしたがって、パタ
ーン修正箇所に対するアパーチャの設定を極めて容易に
かつ迅速に行なうことができるのである。アノく−チャ
の設定後にレーザ発振器を駆動して）くターン修正箇所
にレーザビームを照射し、修正な行なうことは言うまで
もないつ ここで、前記特定色を適宜変えることにより。
ずホトマスク照明系を作動してホトマスク１を白色光で
背後から照明すると共にカメラ１７にてホトマスク１の
パター７を撮影してこれをモニタ１８上に写し出す、そ
して、ＸＹテーブル２を作動してホトマスク１をＸＹ移
動することにより、パターン修正箇所Ｐｘをモニタ１８
に写し出す。次いでアパーチャ照明系し作動させること
により、特定色の光はアパーチャ９の領域を透過した光
のみがハーフミラ−７、レンズ６にてホトマスク１上に
照射され、ホトマスクで反射した上でカメラ１７にて撮
像される。これにより、モニタ１８にはアパーチャ９の
領域を示す矩形のパターンＰａが前記ホトマスクパター
７と重なって写し出され、したがって各シャッタ１０を
移動して領域を変化させることによりパターン修正箇所
な′必要十分な範囲で包囲する。このとき、アノ（−チ
ャ９の照明光は特定色であり、しかもカメラ１７とモニ
タ１８の間にはこの特定色を強調する色処理回路１９を
介装しているので、モニタに写し出されるアパーチャの
領域〕ζター／は特定色が強調された色彩の画像となり
、ホトマスクツ（ターンと比較して極めてコントラスト
が高くて境界部の明瞭な画像となるつしたがって、パタ
ーン修正箇所に対するアパーチャの設定を極めて容易に
かつ迅速に行なうことができるのである。アノく−チャ
の設定後にレーザ発振器を駆動して）くターン修正箇所
にレーザビームを照射し、修正な行なうことは言うまで
もないつ ここで、前記特定色を適宜変えることにより。
例えば色フィルタ１５や色処理回路１９の特性を変化さ
せることによってモニタ１８におけるアノ（−チャの色
彩を変化させ、ホトマスクパターンの色彩に最も対比さ
れる色彩を選んで境界部な更に見易いものにすることも
できる。また、ホトマスク照明系はホトマスクの上面側
から照明を行なうようにしてもよい。この場合には被修
正物は透明物体でもなくてよ＜、シたがって牛導体ウェ
ーハの配線パターンの修正にも同様に適用することがで
きる。
せることによってモニタ１８におけるアノ（−チャの色
彩を変化させ、ホトマスクパターンの色彩に最も対比さ
れる色彩を選んで境界部な更に見易いものにすることも
できる。また、ホトマスク照明系はホトマスクの上面側
から照明を行なうようにしてもよい。この場合には被修
正物は透明物体でもなくてよ＜、シたがって牛導体ウェ
ーハの配線パターンの修正にも同様に適用することがで
きる。
以上のように本発明のパターン修正装置によれば、修正
範囲を決定するアパーチャを特定色にて照明すると共に
、カラーＴＶカメラ側にはその特定色を強調する色処理
回路を設けているので、ＴＶモニタには特定色で強調さ
れたアパーチャの領域パターンを写し出すことができる
ようＫなり、これによりパターン修正箇所に対するアパ
ーチャの境界な明瞭なものにしてアパーチャ合せを容易
にかつ迅速に行なうことができるという効果な奏する。
範囲を決定するアパーチャを特定色にて照明すると共に
、カラーＴＶカメラ側にはその特定色を強調する色処理
回路を設けているので、ＴＶモニタには特定色で強調さ
れたアパーチャの領域パターンを写し出すことができる
ようＫなり、これによりパターン修正箇所に対するアパ
ーチャの境界な明瞭なものにしてアパーチャ合せを容易
にかつ迅速に行なうことができるという効果な奏する。
図は本発明のパターン修正装置の全体構成図である。
１・・・ホトマスク、５・・・白色光源、８・・・レー
ザ発ｔ［，９・・・アパーチャ、１０・・・シャッタ、
１３・・・特定色光源、１７・・・カラーＴＶカメラ、
１８・・・カラー１’ Ｖモニタ、１９・・・色処理回
路、Ｐａ・・・アパーチャ領域パター７、Ｐｘ・・・パ
ターン修正箇所。
ザ発ｔ［，９・・・アパーチャ、１０・・・シャッタ、
１３・・・特定色光源、１７・・・カラーＴＶカメラ、
１８・・・カラー１’ Ｖモニタ、１９・・・色処理回
路、Ｐａ・・・アパーチャ領域パター７、Ｐｘ・・・パ
ターン修正箇所。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ホトマスクやウェーハ等のパターン修正箇所をＴＶ
カメラにて撮影しこれをモニタに写し出す一方、修正用
レーザの照射範囲を決定するアパーチャの領域パターン
を前記モニタに写し出して前記パターン修正箇所へのレ
ーザ照射範囲を調整し得るパターン修正装置において、
前記アパーチャの照明を特定色の光源にて行なう一方、
前記ＴＶカメラにはこの特定色を強調する色処理回路を
設けたことを特徴とするパターン修正装置。 ２、特定色はカラーＴＶの三原色としての光三原色のい
ずれか１つに設定してなる特許請求の範囲第１項記載の
パター７修正装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57113901A JPS595627A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | パタ−ン修正装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57113901A JPS595627A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | パタ−ン修正装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS595627A true JPS595627A (ja) | 1984-01-12 |
Family
ID=14623993
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57113901A Pending JPS595627A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | パタ−ン修正装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS595627A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6654572B2 (en) * | 2000-12-14 | 2003-11-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Image fixing device with phase controlled heaters |
-
1982
- 1982-07-02 JP JP57113901A patent/JPS595627A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6654572B2 (en) * | 2000-12-14 | 2003-11-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Image fixing device with phase controlled heaters |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH03211813A (ja) | 露光装置 | |
| TWI407248B (zh) | 光罩之檢查裝置、光罩之檢查方法、液晶裝置製造用光罩之製造方法以及圖案轉印方法 | |
| JPH07161617A (ja) | 走査型露光装置 | |
| JPH0429212B2 (ja) | ||
| JPH0140490B2 (ja) | ||
| TWI446105B (zh) | 光罩之製造方法、圖案轉印方法、光罩以及資料庫 | |
| KR101343147B1 (ko) | 포토마스크의 검사 장치, 포토마스크의 검사 방법, 액정장치 제조용 포토마스크의 제조 방법 및 패턴 전사 방법 | |
| JPH08262583A (ja) | 分割画像露光方法 | |
| US3751170A (en) | Method and apparatus for positioning bodies relative to each other | |
| JPH11295242A (ja) | Ｘ線基板検査装置とｘ線用可視光反射膜 | |
| JPS595627A (ja) | パタ−ン修正装置 | |
| JPH08247957A (ja) | 液晶基板又はｉｃウエハの外観検査用の欠陥検出方法及び欠陥検出装置 | |
| US4577957A (en) | Bore-sighted step-and-repeat projection alignment and exposure system | |
| JP2001215717A (ja) | 走査露光方法および走査型露光装置 | |
| JP3644311B2 (ja) | 投写レンズ検査装置および投写レンズ検査方法 | |
| JPS5870227A (ja) | フイルム検版装置 | |
| US6870597B2 (en) | Apparatus and method for optically projecting pixel-based image information onto a light-sensitive material | |
| JP2752528B2 (ja) | カラー液晶パネルの製造装置 | |
| JPH05343292A (ja) | 露光装置 | |
| JP3644309B2 (ja) | 投写レンズ検査装置および投写レンズ検査方法 | |
| JPH0621771B2 (ja) | 透明電極膜パターンの検出方法 | |
| JPS6217745B2 (ja) | ||
| KR20230004748A (ko) | 패턴 형성 장치 | |
| JPS6355513A (ja) | 光学装置 | |
| JPH0744357B2 (ja) | Ｉｃ位置決め装置 |