JPS595595A - 薄膜el素子 - Google Patents

薄膜el素子

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JPS595595A
JPS595595A JP57114473A JP11447382A JPS595595A JP S595595 A JPS595595 A JP S595595A JP 57114473 A JP57114473 A JP 57114473A JP 11447382 A JP11447382 A JP 11447382A JP S595595 A JPS595595 A JP S595595A
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JP
Japan
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light
thin film
light emitting
emitting layer
layer
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JP57114473A
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JPH0318320B2 (ja
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浩司 谷口
柿原 良亘
康一 田中
隆 小倉
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Publication of JPS595595A publication Critical patent/JPS595595A/ja
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Granted legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は交流電界の印加に依ってE L (Elect
r。
Lum1nescence )発光を呈する薄膜EL素
子の構造に関し、特に外部発光効率を改善することを企
図するものである。
従来、交流動作の薄膜EL素子として、絶縁耐圧、発光
効率及び動作の安定性等を高めるために0、1−2.0
 w t%のMn  (あるいはCunAl!、Br等
)をドープしたZ n S J Z n S e  等
の半導体発光層をY2O3、TiO2等の誘電体動1摸
でサンドーイ獄/Lチした三層構造ZnS:Mn  (
又はZn5e  :Mn)EL素子が開発され、発光諸
特性の向上か確かめられて−る。この薄膜EL素子はK
Hz  の交流電界印加によって高輝度発光し、しかも
長寿命であるという特徴を有している。
またこの薄膜EL素子の発光に関しては印加電圧を昇圧
して−く過程と高電圧側より降圧して旨く過程で、同じ
印加電圧に対して発光輝度が異なるといったヒステリシ
ス特性を有していることが発見され、そしてこのヒステ
リシス特性を有する薄膜EL素子に印加電圧を昇圧する
過程に於いて、光、電界、熱等が付与される゛と薄膜E
L素子はその強度に対応した発光輝度の状態に励起され
、光、電界、熱等を1余去して元の状態に戻しても発光
輝度は高くなった状態で維持される、いわゆるメモリー
現象か表示技術の新たな利用分野を開拓するに到った。
薄膜EL素子の1例としてZnS:Mn  薄膜EL素
子の基本的構造を第1図に示す。
第1図に基−て薄膜EL素子の構造を具体的に説明する
と、ガラス基板1上KIn203.SnO2等の透明型
@2、さらにその上に積層してY2O,。
Ti0z  、Al2O3,5i3Na 、SiO2等
からなる第1の誘電体層3がスパッタあるいは電子ビー
ム蒸着法等により重畳形成されている。第1の誘電体層
3上にはZnS:Mn  焼結ペレットを電子ビーム蒸
着することにより得られるZnS  発光層4か形成さ
れている。この時蒸着用のZnS:Mn焼結ペレットに
は活性物質となるMnが目的に応じた濃度に設定された
ペレットが使用される。
Z、n S  発光層4上には第1の誘電体層3と同様
の柑料群より選定された材質から成る第2の誘電体層5
か積層され、更にその上にA4等から成る背面電極6が
蒸着形成されている。透明電極2と背面電極6は交流型
#7に接続され、薄膜EL素子が駆動される。
電極2.61mKAC電圧を印加すると、ZnS発光層
40両側の誘電体層2層5間に上記AC電圧が誘起され
ることになり、従ってZnS  発光層4内に発生した
電界によって伝導帯に励起されかつ加速されて充分なエ
ネルギーを得た電子が、直接Mn発光センターを励起し
、励起されたMn発光センターが基底状態に戻る際に黄
橙色の発光を行なう。即ち高電界で加速された電子がZ
nS 発光層4中の発光センターであるZnサイトに入
ったMn原子の電子を励起し、基底状態に落ちる時、略
々5850Aをピークに幅広め波長@域で、強−発光を
呈する。活性物質としてMn以外に希土類の弗化物を用
いた場合にはこの希土類に特有の緑色その他の発光色が
得られる。
しかしながら、上記構造の薄[EL素子に於いて、発光
層内部の出力光はその全てを外部に導出することは不可
能である。即ち、発光層中での発光は等方的であるが、
このうちの大部分が外部に取り出される途中の光学的界
面に於ける全反射により薄膜EL素子内部に閉じ込めら
れる。
透明電極、誘電体層、発光層の屈折率をそれぞれnTE
*nrNSLnEM  で表わし、n E M >n 
T E 5nrNs>1とすれば、素子面に対し全反射
臨界角6以上の発光角度をもつ光子は全て全反射され素
子内に閉じ込められる。この様子を第2図に示す。
、!−IJ ここでθはスネルの法則よりθ:S1n  −T、。
で与えられる。即ち、発光層内で立体角4πで放射され
た光のうち、立体角4z(,1−cosθ)の光のみ外
部に取り出される。外部発光強度B。
は内部発光強度Biにより次式で与えられる。
たとえばn I M−2,3(ZnSに相当)とすれば
、内部発光の90%が外部に導出されなくなり、内部に
閉じ込められる。
本発明は上記問題点に鑑み、(1)式が成立しない薄膜
発光素子の構造を確立し、内部発光効率でなく外部発光
効率を高めだ新規有用な薄膜EL素子を提供することを
目的とするものである。
以下、本発明を実施例に従って図面を参照しながら詳説
する。
第3図、第4図はそれぞれ本発明の1実施例を説明する
薄1漢E L素子の要部構成説明図である。
第3図に示す如く、透明電極2、誘電体層3゜54ト、
、゛^光層4の少なくとも1層に於いて可視光の散乱構
造となるような粒界を形成し、(1)式が成立しない構
造とする。@3図は発光層4内に散乱粒界8を形成した
例を示す。発光層4内の発光センターで発生した光は発
光層4内の散乱粒界8で多方向性となり、全反射されな
い方向へ進行した光が外部へ導出される。
あるいは透明電極2、誘電体層3,5、発光層4の少な
くとも一層の形成過程で第4図に示す如く界面を平坦と
せずに可視光が充分に散乱し得る凹凸形状の接合界面と
することにより(1)式が成立しない構造とする。
(1)式の成立しな−素子構造においては、全反射臨界
角6以上の放射角度をもつ光も素子内で乱反射により全
反射臨界角θより小さい放射角度をもった成分が生成さ
れて外部へ取り出される。
以上より(1)式の代わりに次式が成立する。
本発明による素子は外部光の入!iIJに対しても散乱
が生じるたぬ、いわゆる白濁を示す。
発光層4内の散乱粒界8は蒸着工程で蒸着材料を部分的
に分割形成することによりその分割境界面を散乱粒界8
とする方法等により形成される。
また接合界面の凹凸は研摩、エツチング等により容易に
形成される。
第5図は印加電圧対発光輝度(B−V)特性を示すグラ
フである。図中の曲線11は上記実施例の素子であり、
I2は鏡面反射を主とする従来の素子である。曲線lI
で明らかな如く上記実施例の薄暎EL素子は発光輝度の
著しい増加が達成されている。
以上詳説した如く、本発明によれば出力光の散乱反射構
造を素子内部に形成することにより、外部発光効率を著
しく増加することができる。
【図面の簡単な説明】
第“1図は薄1模EL素子の基本的構造を示す構成図で
ある。 @2図は出力光の進行過程を示す説明図である。 % 3.1図及び第4図はそれぞれ本発明の1実施例を
115m?る薄1摸EL素子の要部構成説明図である。 第5図は印加電圧対発光輝度特性を示す特性図である。 ■・・・ガラス基板、 2・・・透明電極、 3.5・
・・誘電体層、  4・・・発光層、  6・・・背面
電極、8・・・散乱粒界。 代理人 弁理士 福 士 愛 彦(他2名)第4 図 190     200     210      
220Gp no を圧イVノ 第5図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、電圧印加によりEL発光を呈する発光層を有する薄
    膜構造部を1対の電極間に介設して成る薄膜EL素子に
    於いて、前記薄]模構造部に出力先の散乱構造を形成し
    たことを1#徽とする薄膜EL素子。
JP57114473A 1982-06-30 1982-06-30 薄膜el素子 Granted JPS595595A (ja)

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JP57114473A JPS595595A (ja) 1982-06-30 1982-06-30 薄膜el素子

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JP57114473A JPS595595A (ja) 1982-06-30 1982-06-30 薄膜el素子

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JP2334695A Division JPH03225791A (ja) 1990-11-29 1990-11-29 薄膜el素子

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JPS595595A true JPS595595A (ja) 1984-01-12
JPH0318320B2 JPH0318320B2 (ja) 1991-03-12

Family

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