JPS5952729B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JPS5952729B2 JPS5952729B2 JP3270579A JP3270579A JPS5952729B2 JP S5952729 B2 JPS5952729 B2 JP S5952729B2 JP 3270579 A JP3270579 A JP 3270579A JP 3270579 A JP3270579 A JP 3270579A JP S5952729 B2 JPS5952729 B2 JP S5952729B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heater
- sheathed heater
- heating device
- spacer
- heating chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Electric Stoves And Ranges (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電熱装置付高周波加熱装置における電熱ヒータ
の絶縁構造に関するものである。
の絶縁構造に関するものである。
従来より電熱装置付高周波加熱装置においては、金属パ
イプに発熱線を配し絶縁粉末剤を充填してなるシーズヒ
ーターが多く用いられているが、シーズヒーターと本体
加熱室の絶縁においては、熱絶縁と共に高周波照射によ
る放電をも防止する必要があり、その構造は複雑なもの
であり、問題点も多かった。
イプに発熱線を配し絶縁粉末剤を充填してなるシーズヒ
ーターが多く用いられているが、シーズヒーターと本体
加熱室の絶縁においては、熱絶縁と共に高周波照射によ
る放電をも防止する必要があり、その構造は複雑なもの
であり、問題点も多かった。
以下第１図と共に従来例を説明する。
被加熱物１はマグネトロン２から照射される高周波によ
り加熱されると共に上部シーズヒーター３と下部シーズ
ヒーター４による対流加熱も可能としている。
り加熱されると共に上部シーズヒーター３と下部シーズ
ヒーター４による対流加熱も可能としている。
５は耐熱性誘電体からなるヒーターのスペーサーであり
、金属ビス６により加熱室７の底部に固定されている。
、金属ビス６により加熱室７の底部に固定されている。
８は金属製被加熱物載置台、９は回転支持台、１０は電
動機、１１はドアーである。
動機、１１はドアーである。
この構成においては、加熱室底面に金属ビスが突出して
いる為、ビス先端とヒーター間の電界密度は高くなり、
無負荷運転時には放電現象が生じる。
いる為、ビス先端とヒーター間の電界密度は高くなり、
無負荷運転時には放電現象が生じる。
又、ヒータースペーサーの四部に食品カス等がたまり炭
化後、異常加熱され、ヒータースペーサーを破戒する等
の欠点があった。
化後、異常加熱され、ヒータースペーサーを破戒する等
の欠点があった。
そこで本発明は簡単な構成で、か・る欠点を解消し波及
的に数多くの効果を生みだすものであり、以下第２〜４
図と共にその一実施例を説明する。
的に数多くの効果を生みだすものであり、以下第２〜４
図と共にその一実施例を説明する。
被加熱物１はマグネトロン２から照射される高周波加熱
と、上シーズヒーター３及び下シーズヒーター４による
対流加熱が可能である。
と、上シーズヒーター３及び下シーズヒーター４による
対流加熱が可能である。
８は金属性被加熱物載置台で、磁石式回転支持台９、磁
石式回転機構１２及び電動機１０により、回転自在とな
っている。
石式回転機構１２及び電動機１０により、回転自在とな
っている。
５は下シーズヒーター４と加熱室７間の絶縁を確保する
為の耐熱性誘電体からなるスペーサーであり、下シーズ
ヒーター４の曲げ加工後にシーズヒーターに通し、その
後シーズヒーターの所定部分のみ断面プレス加工するこ
とにより、シーズヒーターに対し所定の位置に回転自在
に取付けられている。
為の耐熱性誘電体からなるスペーサーであり、下シーズ
ヒーター４の曲げ加工後にシーズヒーターに通し、その
後シーズヒーターの所定部分のみ断面プレス加工するこ
とにより、シーズヒーターに対し所定の位置に回転自在
に取付けられている。
又、上記スペーサー５は前記金属性被加熱物載置台８の
下面より下に位置し、かつ、開放時のドアー１１の上面
よりは上に位置している。
下面より下に位置し、かつ、開放時のドアー１１の上面
よりは上に位置している。
又、加熱室７の底壁は絞り加工により、略円形の凹部を
有し、凹部に前記下シーズヒーター４、ヒータースペー
サー５、磁石式回転支持台９を収納している。
有し、凹部に前記下シーズヒーター４、ヒータースペー
サー５、磁石式回転支持台９を収納している。
又、下ヒータ−４は加熱室７に対し着脱自在となついる
。
。
８は被加熱物載置台で、熱効率を高める為に、表面にホ
ーローを施した金属を使用している。
ーローを施した金属を使用している。
このような構成によれば加熱室底面に金属突起物がない
ので加熱室と下シーズヒーター間の電界は、はぼ均一
に分布し、下シーズヒーターの局部加熱や放電事故は防
止できる。
ので加熱室と下シーズヒーター間の電界は、はぼ均一
に分布し、下シーズヒーターの局部加熱や放電事故は防
止できる。
又、ヒータースペーサー、及びその取付構造は簡単であ
り、安価な高周波加熱装置となる。
り、安価な高周波加熱装置となる。
加熱室底壁にビスの穴や、ターンテーブルの回転軸の穴
等が全くなくなり、こぼれた液体が電動機等の絶縁を劣
化させるような心配はなくなった。
等が全くなくなり、こぼれた液体が電動機等の絶縁を劣
化させるような心配はなくなった。
下ヒータ−と磁石式回転支持台を加熱室から抜き取れば
、ヒータースペーサーも一緒に取り出すことになり、加
熱室底面には全く突起物が無くなるので、清掃が容易と
なる。
、ヒータースペーサーも一緒に取り出すことになり、加
熱室底面には全く突起物が無くなるので、清掃が容易と
なる。
被加熱物載置台を取り出す場合に持ち一］二ける必要は
なく前方へ引き出せば、スペーサーは回転可能であるか
ら、スペーサー上をころがるように引き出すことが出来
、調理の途中で出来具合を確認する場合の出入れが極め
て容易となる。
なく前方へ引き出せば、スペーサーは回転可能であるか
ら、スペーサー上をころがるように引き出すことが出来
、調理の途中で出来具合を確認する場合の出入れが極め
て容易となる。
又、−上述したような被加熱物載置台の出入れ時に、第
３図に示すように、被加熱物載置台が下シーズヒーター
に直接触れることがないので、下シーズヒーターを傷つ
けることがなく、安全性が向上する。
３図に示すように、被加熱物載置台が下シーズヒーター
に直接触れることがないので、下シーズヒーターを傷つ
けることがなく、安全性が向上する。
下シーズヒーターの周囲を囲むようにヒータースペーサ
ーは取付けであるので、下シーズヒーターと加熱室底壁
の絶縁距離を確保するだけでなく、下シーズヒーターと
金属性被加熱物載置台や磁石式回転支持台との絶縁も確
保できる。
ーは取付けであるので、下シーズヒーターと加熱室底壁
の絶縁距離を確保するだけでなく、下シーズヒーターと
金属性被加熱物載置台や磁石式回転支持台との絶縁も確
保できる。
加熱室底壁の凹部の前方傾斜面とスペーサーを対応芯さ
せることにより、振動等による下シーズヒーターの抜け
を防止するストッパーの効果もある。
せることにより、振動等による下シーズヒーターの抜け
を防止するストッパーの効果もある。
以上説明したように本発明は、簡単な構成で安全で清潔
な使い勝手のよい安価な電熱装置付高周波加熱装置を提
供するものである。
な使い勝手のよい安価な電熱装置付高周波加熱装置を提
供するものである。
第１図は従来の電熱装置付高周波加熱装置を示す断面図
、第２図は本発明の一実施例を示す高周波加熱装置の断
面図、第３図は同上要部拡大断面図、第４図は同上の下
シーズヒーターとヒータースペーサーを示す斜視図、第
５図は第４図におけるＡ、−Ａ線断面図である。 １・・・・・・被加熱物、２・・・・・・マグネトロン
、３・曲・上シーズヒーター、４・・・・・・下シーズ
ヒーター、５・・・・・・スペーザー
、第２図は本発明の一実施例を示す高周波加熱装置の断
面図、第３図は同上要部拡大断面図、第４図は同上の下
シーズヒーターとヒータースペーサーを示す斜視図、第
５図は第４図におけるＡ、−Ａ線断面図である。 １・・・・・・被加熱物、２・・・・・・マグネトロン
、３・曲・上シーズヒーター、４・・・・・・下シーズ
ヒーター、５・・・・・・スペーザー
Claims (1)
- １ 加熱室底部近傍に、シーズヒーターを加熱室に対し
着脱自在に設け、このシーズヒーターの前方に耐熱性誘
電体からなるスペーサーを上記シーズヒーターに対し回
転可能に取付けると共に、上記スペーサー上面は、加熱
室に着脱自在とした被加熱物載置台の下面に位置する構
成とした高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3270579A JPS5952729B2 (ja) | 1979-03-20 | 1979-03-20 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3270579A JPS5952729B2 (ja) | 1979-03-20 | 1979-03-20 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55126744A JPS55126744A (en) | 1980-09-30 |
| JPS5952729B2 true JPS5952729B2 (ja) | 1984-12-21 |
Family
ID=12366251
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3270579A Expired JPS5952729B2 (ja) | 1979-03-20 | 1979-03-20 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5952729B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57121813U (ja) * | 1981-01-23 | 1982-07-29 |
-
1979
- 1979-03-20 JP JP3270579A patent/JPS5952729B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55126744A (en) | 1980-09-30 |
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