JPS5952425A - 磁気抵抗効果型ヘツド - Google Patents

磁気抵抗効果型ヘツド

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JPS5952425A
JPS5952425A JP16100482A JP16100482A JPS5952425A JP S5952425 A JPS5952425 A JP S5952425A JP 16100482 A JP16100482 A JP 16100482A JP 16100482 A JP16100482 A JP 16100482A JP S5952425 A JPS5952425 A JP S5952425A
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JP
Japan
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magnetic
magnetic material
flux density
shielding member
magnetoresistive head
Prior art date
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Pending
Application number
JP16100482A
Other languages
English (en)
Inventor
Masamichi Yamada
雅通 山田
Isao Oshima
大島 勲
Masakatsu Saito
斉藤 正勝
Yoshishige Miura
義從 三浦
Masaharu Kawase
川瀬 政春
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Priority to JP16100482A priority Critical patent/JPS5952425A/ja
Publication of JPS5952425A publication Critical patent/JPS5952425A/ja
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/33Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
    • G11B5/39Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
    • G11B5/3903Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、再生減磁を低減した短波長記録再生に好適な
磁気抵抗効果を有する磁気ヘッドに関する。
〔従来技術〕
近年の磁気記録の重要な課題は、いかに短波長領域の記
録再生を実現するかである。記録媒体に記録された信号
磁界に感磁し電気抵抗の変化どして出力する磁気抵抗効
果ヘッド(以下MRヘッノドする。)において、特に短
波長領域に有効な従来例としては、特公昭56−106
83号公報に示される磁気シールド付のMRヘッノドあ
る。
以下従来のMRヘッノド第1図、第2図を参照して説明
する。第1図はMRヘッノド要部断面図を示し%1は膜
厚0.04〜0.1μmのパーマロイ薄膜よりなる磁気
抵抗素子、2αはフェライト等から7よる磁気シールド
部材、 2hは膜厚数μ扉のパーマa、イ薄膜よりなる
磁気シールド部材、5は上記の磁気抵抗素子1を磁気バ
イアスするためのバイアス手段、4は記録媒体、5α、
 5bは絶蘇体である。磁気抵抗素子1は一対の磁気シ
ールド部材2α、 2h間にあるために、記録媒体4に
記録され□た短波長の信号を有効に再生することができ
る。
第2図は、第1図の平面図であり、同図の上端面が記録
媒体の摺約面と駁・つている。11は記録媒体からジご
生すイ)信号磁界である。一般に、磁気抵抗索子1は、
素子の長さ方向に一軸性の容易軸を持つように形成され
、その磁気特性(B−M特性)は磁界11を信号磁界1
1の方向に励磁した場合第3図の特性曲瞼6のようにな
る。一方、磁気シールド部材2bは。
7の磁気特性(B −111臣性)で示されるような等
方向あるいは、6で示されろ磁気抵抗素子1の磁気特性
と同程度のものとなる。その理由は磁気シールド部材2
bと磁気抵抗素子1は牛もにパーマロイ膜よりなってい
るためである。
このような構成の従来例では、外乱磁界が発生した場合
や、記録媒体の低波長の大信号を再生1−だ場合1M6
図に示すように屑の磁界が入ったと想定すると、磁気抵
抗素子1ではB2.磁気シールド部材2bではB、の磁
束密度(BI>82)となり、第2図に示すように磁気
シールド部材2bの記録媒体槽wJ面にB、の磁束密度
に相応する磁荷が発生する。このため、磁気シールド部
材2hが帯磁することにより。
短波長領域で最も問題となる再生減磁(該記録の短波長
領域のイ百号のレベルダウン)が生ずる欠点がある。
〔発明の目的〕
不発明の目的は、上記した従来技術の欠点をすくシ、短
波長領域で光分・圧用に耐え得るMRヘッノド提供する
にある。
〔発明の概要〕
本発明の特徴は磁気抵わ1:索子と磁気シールド部材の
少なくとも一方に一軸性の磁化容易軸を持たせたことに
あり、磁気シールド部材には非晶質磁性体または低磁束
密度の軟磁性体を用いたことである。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する。本発明
のMRヘッノド構造は、第1図(DMRヘッドの構造と
ほぼ同一である。異なる点は、磁気シールド部材2bと
して数μmのトラック幅方向に容易軸を持つ、Co −
Nb 、 C。
−V 、 Co−Ta 、 Co−Tt 、 Co−T
a−Zr、    ’Co −No −Zr 系等の非
晶5に磁性薄膜をスパッタリング等の方法で形成したこ
とである。
または磁気シールド部材2bとして低磁束密度化を計る
ために少量のMO、J/?L 、 Cu 、 C’r。
V、IF’等をFt −Ni合金基材に含有した磁性薄
膜を用いたことである。以下、これらの実施例について
第1図を参照して説明する。
(第1の実施、例) 本実施例では磁気シールドの一方を成す磁性体基板2α
として、飽和磁束密1(Ba)が約4000G、保磁力
(Hc) o、10g 、7)低磁束密度のNi −Z
n系フェライト基板を用いている。基板上には0,5〜
0.5μ77L膜厚程度のSin、あるいはAt208
等の絶縁層を介して磁気抵抗素子1のFg −Ni合金
膜(80〜84% Ni )を蒸着あるいはスパッタリ
ングで磁場中で形成しである。
更に、磁気抵抗素子1を磁気バイアスする手段3を形成
した後、同じ<0.3〜0.5岬の膜厚の絶縁層を介し
て磁気シールド部材2bを蒸着あるいはスパッタリング
等で形成しである。
磁気シールド部材2bの形成時においても磁場中で形成
する方が、本実施例の効果が太きい。
ここでスパッタリングの条件(ガス圧、投入パワー、基
板温度、磁界強度方向等)や材料の組成を適切に選ぶこ
とにより、磁気シールド部材2hの磁気特性(B−H%
性)を制御することが可能である。
第4図は本発明の磁気シールドと磁気抵抗素子の磁気特
性を示−す特性図であり、8はC。
−Nb非晶質磁性薄膜を磁気シールド部材2bとした場
合の磁気特性曲線、6はパーマロイ膜よりなる磁気抵抗
素子の磁気特性曲線である。
パーマロイ族で形成した磁気抵抗素子1の異方性磁界H
k2は、形成榮件を変えても材料自体の限界から一般に
は2〜5工ルステツド程度である。それに比較してCo
 −Nb非晶質磁性薄膜よりなる磁気シールド部材2b
の異方性磁界Hk1は10工ルステツド程度にすること
が容易で E’に1> Hk2 の胸係式が実現できる。パーマロイ膜およびCo −I
Vb等の非晶質磁性薄膜の飽和蝋束密度は同程厩である
ため、外乱磁界等の磁界ff。
が本実施例の構成のMRヘッノド加わった時には、第4
図に見られるように磁気シールド部材2hの磁束密度B
sは磁気抵抗効果素子1の磁束密度B2より小さくなる
。従って、従来間ふとなった磁気シールド部材2b(D
記録媒体摺動面での磁局(はぼ磁束密度Bsに比例)の
発生が本実施例の構成では低減でき、短波長領域での再
生減磁の問題点キ解決することができる。
第5図は、Co −Nb系の非晶質磁性薄膜の異方性磁
界EkiをNh含有量(原子チ)の依存性を示す特性図
で、10はそれを関数として示したものである。ここで
Nbを10〜20%とすることによりパーマロイ族の場
合の異方性磁界H&2(%性9)より大きくすることが
できる。
尚5本実施例では磁気抵抗素子1を磁気ノくイアスする
手段6が一対の磁気シールド部材2α、 2h間隔内に
ある例を示したが永久磁石等による磁気バイアス手段を
上記磁気シールド部材間隔外に設ける構成とした場合で
も本発明の実施例の効果は全く変わらない。更に磁気シ
ールド部材2αはフェライト(Hc −0,01gの軟
磁性を示す)としたが、磁気シールド2αを磁気シール
ド2bと同一材料としても本発明の一実施例の効果は全
く変わらない。
(第2の実施例) 第1の実施例では磁気シールド部材として非晶質磁性材
を使用したものであるが、&i気シールド部材として低
磁束密度の軟磁性材を使用しても同様の効果を期待する
ことができる。その軟磁性材(磁気′シールド材)の例
を下表に示す。
(以下余白) 表には磁気シールド材の組成、Be、初透磁率(Jfi
)を余してあり、該表において各埴は、バルク材の値で
あるが、薄膜化すると一般的に、Bs 、 Miともに
低下する。表の材料以外でも、一般にF g −Ni合
金基材に、No 、 Mu。
C1L 、 Cr 、 Cr 、 V 、F等の含有量
を増すと13gが低くなり、F e −#シ合金膜(a
o〜84−旬の8000Gに比較して4000G程度の
低磁束密度の磁気シールド部材2bを得ることも可能で
ある。
第6図は本実施例の磁気抵抗素子1と、磁気シールド部
材2bのB−H%性を示す特性図である。磁界Hの方向
は第2図における矢印11の方向である。容易軸の方向
は共にトラック鴨方向(磁気抵抗効果素子の長手方間)
である。磁気抵抗素子1および磁気シールド部材2bの
異方性磁界Hkは約2〜5エルステツドで同程度であり
、B、5′の1直がそれぞれ叱2キ8000G、” B
iB中’4000G トナッテい7)。従ッ℃外乱磁界
等の磁界病が本実M例のMRヘッノド加わった時には第
6図のB、、B、の磁束密度が磁気抵抗素子1および磁
気シールド部材2bに励磁される。第6図のB−H特性
に見られるように磁気シールド部材2bは低磁束密度の
磁性体で構成されていることから、常にB、〉B。
の関係がなり立ち、従来問題となった。磁気シールド部
材2zの記録媒体摺動面での磁局(はぼ磁束密度B、も
しくは残留磁束密度B、に比例)の発生が低減でき、短
波長領域での再生減磁の問題点を解決することができる
尚本実施例では、磁気抵抗素子1を磁気バイアスする手
段は一対の磁気シールド部材2α。
2b間隔内にある例を示したが、永久磁石等の磁気バイ
アス手段を上韻蝋気シールド部材…]隔外に設ける構成
とした場合でも1本発明の実施例の効果は全く変わらな
い。更に1本実施例では磁気シールド部材2bとしてP
g −Ni合金基材の磁性薄膜を取り上けたが、磁気抵
抗素子に用いるFe−温合金膜の磁束密度より小さい磁
束密度を有する磁性膜であれはよい。例えば、低磁束密
度の非晶質薄膜を用いても本実施例の効果は全く変わら
ない。史に磁気シールド部材2αはNi −Znフェラ
イト基板としたが、磁気シールド部材2hと同一の材料
を用いてもよいことは第1の実施例と同様である。
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明によれは、磁気シールド部材の
少なくとも一方に、−軸性の容易軸を持たせ磁性体とし
ているため、短波長領域での磁気シールドの帯磁による
再生減磁を低減し1元分に使用に耐え得るMRヘッノド
得ることができる。
【図面の簡単な説明】
纂1図は本発明の説明に供するMRヘッノド要部断面図
、第2図はその平面図、第3図は従来の磁気シールドと
磁気抵抗素子の磁気特性図、鵠4図は本発明の一実施例
の磁気シールドと磁気抵抗素子の磁気特性図、第5図は
Co −Nb非品質磁性薄膜の異方性出界Hk、のNh
9有電の依存性のデータを示す%性1.第6図は本発明
の他の実施例の磁気シールドと磁気抵抗素子の磁気!時
性図である、 1・・・磁気抵抗効果素子 2α、 2b・・・磁気シールド部材 4・・・記録媒体 5a 、 5b・・・絶縁体 代理人弁理士 薄 1)利 幸 、Δフk。 遣 (国 蓋2口 13 凹 第4図 嶌 5 叱 )1   ら    じ]

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 記録媒体上に磁化された領域として記録されてい
    る複数の波長の磁気的データの垂直成分を読取るために
    読取られるべき記録データの最短波長より短い間隔をお
    いて対面して設けられ、各々の端部が同一平面内におか
    れた一対の磁気シールド部材と、上記間隔内に配置され
    上記シールド部材端部と同一平面内に一端をおかれた磁
    気抵抗素子よりなる磁気ヘッドにおいて、上記磁気シー
    ルド部材の少なくとも一方な一軸性の磁化容易軸を持つ
    磁性体としたことを特徴とする磁気抵抗効果型ヘッド。 2、 上記磁性体が非晶質磁性体であることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載の磁気抵抗効果型ヘッド。 五 上記磁性体は該磁性体の磁化容易軸の方向が、トラ
    ック幅方向と平行でありかつ該磁性体の異方性磁界Hk
    1 と上記磁気抵抗素子の異方性磁界Hk、とには Hkl〉Hk。 の関係が成り立つことを特徴とする特許請求の範囲第1
    または第2項記載の磁気抵抗効果型ヘッド。 4、 上記の一軸性の容易軸を持つ磁性体は、 C。 −Nb 、 Co−V 、 Co−Ta、 Co −T
    i 、 Co −Ta −Zr 、 Co −No −
    Zr系9等の非晶質磁性薄膜であることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項〜第6項のいずれか記載の磁気抵抗
    効果型ヘッド。 5、上記磁性体が低磁束密度の軟磁性材であることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気抵抗効果型ヘ
    ッド。 & 上記磁気シールド部材に使用される低磁束密度の軟
    磁性材がFg−h”i合金基材に少なくもNo 、 M
    n 、 Cu 、 Cr 、 V 、 F等のいずれか
    を含有しくいる磁性薄膜であることを特徴とする特許請
    求の範囲第5項記載の磁気抵抗効来世ヘッド。
JP16100482A 1982-09-17 1982-09-17 磁気抵抗効果型ヘツド Pending JPS5952425A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01107006U (ja) * 1988-01-06 1989-07-19
US5473492A (en) * 1993-03-03 1995-12-05 Tdk Corporation Magnetic head including a reproducing head utilizing a magnetoresistance effect and having a magnetic shielding film containing nitrogen
CN112432588A (zh) * 2020-12-08 2021-03-02 电子科技大学 一种通过磁饱和特性测量吸波涂层厚度的方法

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JPH01107006U (ja) * 1988-01-06 1989-07-19
US5473492A (en) * 1993-03-03 1995-12-05 Tdk Corporation Magnetic head including a reproducing head utilizing a magnetoresistance effect and having a magnetic shielding film containing nitrogen
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