JPS5950440A - レジスト膜の現像方法 - Google Patents

レジスト膜の現像方法

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Publication number
JPS5950440A
JPS5950440A JP16200282A JP16200282A JPS5950440A JP S5950440 A JPS5950440 A JP S5950440A JP 16200282 A JP16200282 A JP 16200282A JP 16200282 A JP16200282 A JP 16200282A JP S5950440 A JPS5950440 A JP S5950440A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
developing
soln
resist film
entire surface
Prior art date
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Pending
Application number
JP16200282A
Other languages
English (en)
Inventor
Eiji Nishikata
西形 英治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP16200282A priority Critical patent/JPS5950440A/ja
Publication of JPS5950440A publication Critical patent/JPS5950440A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3021Imagewise removal using liquid means from a wafer supported on a rotating chuck

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (a)  発(月の技術分51f 不発、1月ルジスト膜の3見イ線力法に係り、特にL/
シス)It的現像液の簡1ト方法の(攻善に関するもの
1・t=2る。
(1))拶術のfj+ Xi 精毘?II紹1加1拶神+ 、 4I K ’I’堺併
犯積回路の製造−1、7j4j T’ i 、基板にレ
ジストを塗布し、これを露光おまひル、4mし−こパタ
ー−・ニングするこ七が頻繁に行なわれている。同時に
経済性上高速化による特性σ〕向」を目的J: L、 
−Cノ’クーンの高集積化が進行し、+のたノア+y1
. l、フロートノのメ:、j ff1’で、均一でか
つ平滑なIj’、:+ ′C1[−: l+Vすること
さ同時に現像作業oyにおこる現像′Jtらをなぐずこ
とか要求いねている。
(c)  穿沫技術と間顯点 従才のトジスト膜現像力θ、について図面を参照してi
ζ)明する1、卯11ン1け従来の現像方法に使用する
現像装置の傭2略構成図であり同図において、]itレ
ジスト現像液を滴下するノスル、  21d基仇2・上
に塗布さ右だレジスト膜であり+ Fl’13已ノスル
1け基板3の回転中心の上方に位慣している。ルは前記
桿状ろを載せる載置台、5&′:i載置台4の]へ而に
配li1゛された具至ヂャンク、6はこの油卆チャ7ノ
ク5および賊賀台4分回転させる駆動モーター。
7はfi、1.細裂rri本体の側壁、8け飛散びハ、
た現像液を拮除するための参ト亀孔である。
上記従来の現像装置を用いてレジスト膜を現像する場合
、駆動モーター6を停J1シた状態で載置台4上に所定
のレジスト膜2が塗布された児板3を真空ブλ′ツク・
3にてaS固定し次いで駆’ftJ+−c−り−6に上
l′1基板;・罪をll+定の低速回転しながら基仇3
67)回転中心−1にdJ &’、l l’+ 11だ
ノズル]より郊板:i 1++111c 、f見イf1
.(イ: 4−、 m1’ l ツノr iJ”4”+
 2]%l (a)に示すこと< +、> ス111“
W” 2か’)3 、rll−\!l 7’jフi+、
 、9J:i ty> 中心if ’f’s、 像液(
1か間作・」イ、 こσ)Jうにし“C↓(オノシ回転
による遠心力とlす1督σ) J[J囮γイ’t il
:C11−F fl料てJ−)て同し1(b)に示4”
と、(< け、j (’1. (f’t dかし 二 
スト111戸2により一で中子[Jいlまた1、人様、
′〉曲]に全1111にa・桿1した四点1゛現仰どイ
シ尚トハひ回転に−fI:□ l L−’−Lj:定1
141間於オ゛何、−(世41(t・I−。
ハ翻・)で11訂g・を紳、マ2./回転に−1−1,
)−てル4現像液(]′を去(仁127・in j: 
、L i 111t+fiン14延ブ、L”C各烙・す
る。必曹に応1−. ’T l;itl、、−T l”
:j f、(4,’t+iz 回1+’、 fl 返i
−スl トK 、t ツ1基υ、・′・ 1σ))−:
−:ノ、ト11・+l シ!の現像→す(、了し微細j
z )<クーノか11成2)れる (以」のLtll、
偉力法4−スヒン現(、Q・力υ、と叶ふ)。尚飛酔さ
71だ訃現像液9′に1側壁′2k・て)だ−ノー(I
」1液孔8 K 、Lつて仙除される。
(7カしソ、か1−・−1述したノビン現像方法におい
てノイ1,41z:’+σ・中心111か自・側縁部に
拡かる現像1液の萌1ハIK−屋ひ中心部に供H)きれ
る現像r+sの新鮮度によつ−1、jJ−tJJ 、’
5の中心部のレジヌレζターンと一側縁部のレジストバ
クーンの寸法楯用に多少のバを生均 1、: J/梼・、つ全イ)の斥−な見、イeか!ll
jズ・1.いという問題かンf7.=−+Aこう (,11発1−!1.1σ)N的 体フC1シj4斗I的はかかる問題虞を解消17て均一
で′久)lニジたし・シスト)漢の3見像力IJ、り)
提供に多・る。
(o)  発I叫ぬ几IJ、成 本発明し」ノル板上に塗布さtまたレジスト肚の更イq
1ノア・ン入−(゛あづ−(lii托己県伏?: −l
 !ひ、しつつ、計〕Iわ゛・lクー゛回11.り中心
J″k・ゴ〕る線」−に11i′夕1−1シだゆ数の江
゛イiイつ簡−1臼−×(・j注1’l−i胃より1該
現像rf+を酪、−トして、01]酌井Jj+7全ii
1 +・こ孫tθした少1回転を佇tlL、1所ンi時
間於!?:i I−、、7尺いてい11転し1訃(見、
イ4(本を4(作ンさする一1稈が含−!h−(なるC
−とを稲徴とする。
(f)  46.11月の実施f列 置=1一本発1!11のす施例((ついてしl iR+
を参照・して貌ii1.l −i ル。第3 図11−
1本発明の一実MI+、例C〕、) L−ジスl」j、
’jの現像方法を実施するための現イ&7・装v1の秘
略イ1″(、戚。
図である。f、″a前図%jii1吋のバト多〕に−)
いでに同−勾すを1・ILtいる。回図例おいて駆動9
−−−クーロを9、LIt’ L、 ;’c′1.I;
 IJ?’t +% ’g(召4 )、K 所定ノL/
 シストll’zj 2かみ)′!在さt)たノ11、
法3を↓゛l草チー\ンク5にて吸着固定し、(”くし
)でWく小トコ−タ  6によ1)ノ、(板3を早′す
501)・川で低速回転し/・か1、基υバうの回1、
中心4j、il−[に119(・(C1])た杉・発、
の規1;0□−1イ葵が1i11  イ(、t ] 4
0具イIil: l−、−+、 なル1μイ* /?+
 ’01、ff1Q’t12 %:Mn L T、 X
’<it>l−F孔1.1 ’J、 リlI+1転J+
(’ ii、ス山・土に規(1,・液を滴下ずれ一″第
4図に示rことく、基板3全面上に略同時に現像液1.
3によで1て被覆さtL、 Ikい−C現像液の絽1−
1及(]回転を停Jしする。この、)、うにし−(約]
0秒聞h9枦1[2塗21Iき71にレジスト脆2を該
現像液13によって現イψし。
次U・で回転によって該現イ象沼−13を^(板7・向
上」二りfilf4j除夫1−C除煙1回転を停止する
1 引き続い1円用計浩J](1,1]より回転基鈑h
 1f1i−,1に現像液をIM 1− L、 T現像
をくりかλ−ゼけ、所望の均一なバクーシの形成かrl
、I能、と々る。fl、] Th’+ト孔の代りに中心
練土に細長い崗ト溝を設り−Cも同情の効果を得るこL
が−Cきる。
(g)  発1力の効果 すなわち基板の回転中心さ交わる線」−(・4611列
したG数の現イ(1液滴1・孔より該現像液を朗記基板
全曲に滴下して略同時に彼値されるこ吉により現像の1
141問3:(’、 (フ・よ0液の現悼を力か全面に
わたって均一となり、したがニー・て均一で安定1.た
レジスミ−膜の現(引力法か可能とカリ、高配9品の取
得率ff1lJ:りr、 IL′i’j’c+慴1歩留
向−■で大きな効牙を得ることがCきる4 4 し!+iTi+の簡1+々;悦り]ζ゛151し1
fdfr来の現像方法(てイd、用する現像装置の):
:を略イ14成し1.第2−kLにf:沫の現像方法を
説明するi’j &’) (Q 、9y +’:j” 
l’jl 1fll [”、第3図v1木発E3Jjt
7)一実施例のレゾノド1トさの現像方法を実1iiI
iするだめの現像装置σ)概l□i;彊、%D’j l
rl 、第4図1J木発明の一実施例を脱明するだめU
)要部断1Tii図である。
図におい−C,2ルジメ1−11桑、31づ基イ丸 コ
]i、I 現(4R#ll&l下孔、  1311」現
像?iVk示f。
第1図 第2図 (CI) 第3図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 厚板上に塗布孕れたレジスト膜の世、偉力法であって、
    前記基板を19j転しつつ、該第Ujの回転中心(!:
    交わる線上に配列した複数の」ν1便W号滴下孔りは簡
    (ζ溝より該現像液を滴1し一τ、 IIIF、e、基
    板全面に被ツした後、 li;1転を停止して所定時間
    放置し9次いで回転し、て該現像液を飛散させる寸、稈
    が茗1ねてなるζ々を特?L!lる【/ジフト11Qの
    現像方法。
JP16200282A 1982-09-16 1982-09-16 レジスト膜の現像方法 Pending JPS5950440A (ja)

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