JPS5949755A - 金属から成る歯科用嵌植体 - Google Patents
金属から成る歯科用嵌植体Info
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- JPS5949755A JPS5949755A JP58145810A JP14581083A JPS5949755A JP S5949755 A JPS5949755 A JP S5949755A JP 58145810 A JP58145810 A JP 58145810A JP 14581083 A JP14581083 A JP 14581083A JP S5949755 A JPS5949755 A JP S5949755A
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- A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、嵌植体が頬内に埋設される本来の嵌植体物質
とこの本来の嵌植体物質と上部構造との間の結合部を造
りかつ粘膜切口の領域を取囲む上部構造を担持する部分
とから成り、ブリッジの形で設けられ同様に金属を含ん
でいる単個の或いは多数の歯冠或いは歯冠部分から成る
上記の上部構造を固定するだめの、金属から成る嵌イＶ
（体に関する。
とこの本来の嵌植体物質と上部構造との間の結合部を造
りかつ粘膜切口の領域を取囲む上部構造を担持する部分
とから成り、ブリッジの形で設けられ同様に金属を含ん
でいる単個の或いは多数の歯冠或いは歯冠部分から成る
上記の上部構造を固定するだめの、金属から成る嵌イＶ
（体に関する。
上記の様式の嵌植体は久しい以前から公知であり、色々
な形状で設けられる。この場合本来の嵌植体物質の形状
はねじ状であるか、或、いけねじの形から派生された形
状である。形状にはまだ葉状の形状、を或いは一一一−
最近提案嬬れたことであるがｍ−中空の円筒形の形状で
あるのもある。このような嵌植体は本来の嵌植体物質か
ら成る以外に粘膜を経て口腔へ通じる結合を造る他の部
分から成る。この部分は嵌植体物ｉＪ（と一体に形成さ
れていてよく、しかも部分的に後になって始めて第二の
手術の際に本来の嵌枦体物質にねじ込まれるか、或いシ
、１．との嵌植物上に通常の様式で固定されることがで
きる。嵌植体のＩＩ ｌｉ′ｉ’ｊ内にで人出するこの
部分上に上部構造が載、５Ｊ−ら７１る。との１部構造
ケよｒ１ｉｔ個の歯冠から成つ−〔いるか、ｙＩ■いｄ
大抵はぞ数の歯冠を担持しているブリッジから成る。即
ちこの場合この低植体は槁脚歯として働く。
な形状で設けられる。この場合本来の嵌植体物質の形状
はねじ状であるか、或、いけねじの形から派生された形
状である。形状にはまだ葉状の形状、を或いは一一一−
最近提案嬬れたことであるがｍ−中空の円筒形の形状で
あるのもある。このような嵌植体は本来の嵌植体物質か
ら成る以外に粘膜を経て口腔へ通じる結合を造る他の部
分から成る。この部分は嵌植体物ｉＪ（と一体に形成さ
れていてよく、しかも部分的に後になって始めて第二の
手術の際に本来の嵌枦体物質にねじ込まれるか、或いシ
、１．との嵌植物上に通常の様式で固定されることがで
きる。嵌植体のＩＩ ｌｉ′ｉ’ｊ内にで人出するこの
部分上に上部構造が載、５Ｊ−ら７１る。との１部構造
ケよｒ１ｉｔ個の歯冠から成つ−〔いるか、ｙＩ■いｄ
大抵はぞ数の歯冠を担持しているブリッジから成る。即
ちこの場合この低植体は槁脚歯として働く。
従来の全域から成る嵌４ｉＣ体は大抵の場合本来の低植
体物質と上部構造を４Ｌ！持（〜でいる部分および歯λ
・Ｌとの間に導′…５的な結合が４Ｌ：しる。この全体
構造にあっていずれかの場ツタ１で異〃る金に’＝４が
使用された場合、電解液の働きをする唾液および同様に
電ｊｌ＋’ｆ、 ｉｌ’ｊ、として働く境を接する組織
部分とが相互作用ｔ７て電気的な要素が形成される。
体物質と上部構造を４Ｌ！持（〜でいる部分および歯λ
・Ｌとの間に導′…５的な結合が４Ｌ：しる。この全体
構造にあっていずれかの場ツタ１で異〃る金に’＝４が
使用された場合、電解液の働きをする唾液および同様に
電ｊｌ＋’ｆ、 ｉｌ’ｊ、として働く境を接する組織
部分とが相互作用ｔ７て電気的な要素が形成される。
一般におよび公知の低植体の大抵のものにあって低植体
自身その成分が同種類の金属から成っているので、一般
的な事例にあっては歯冠内に使用される金属がとの電Ｗ
ｒ作用を受ける細胞の形成の主役をなす物質とみなされ
る。１．１の領域内でのこのような電解作用を受ける細
胞の現出は４′ｔに、との細胞によって誘因される電流
束の−・部分が粘膜およびこれに境を接する歯冠の組織
ｆ：通して走るとき傷害が生じる。即ちその時細胞膜の
極化が生じる。この極化は病的な変化を招く。更に、拐
料の移動が生じる。この利料の移動は濃度の平衡のずれ
を招き、したがってもはや嵌植体の表面に境を接するｍ
織の全領域内において最適な生理的な摩動は不可能とな
る。
自身その成分が同種類の金属から成っているので、一般
的な事例にあっては歯冠内に使用される金属がとの電Ｗ
ｒ作用を受ける細胞の形成の主役をなす物質とみなされ
る。１．１の領域内でのこのような電解作用を受ける細
胞の現出は４′ｔに、との細胞によって誘因される電流
束の−・部分が粘膜およびこれに境を接する歯冠の組織
ｆ：通して走るとき傷害が生じる。即ちその時細胞膜の
極化が生じる。この極化は病的な変化を招く。更に、拐
料の移動が生じる。この利料の移動は濃度の平衡のずれ
を招き、したがってもはや嵌植体の表面に境を接するｍ
織の全領域内において最適な生理的な摩動は不可能とな
る。
これは寸だ、嵌植体に直かに接する周囲内において組織
変性を銹起する。このことが時期伺早なωミ植体損失の
一興をになう。もちろん、この作用は特に、多数の嵌植
体が多数のブリッジ管端にわたって結合される際法外な
結果を招く。
変性を銹起する。このことが時期伺早なωミ植体損失の
一興をになう。もちろん、この作用は特に、多数の嵌植
体が多数のブリッジ管端にわたって結合される際法外な
結果を招く。
なぜなら、顎の大きな領域を全く非生理的な方法で電気
の流れが＃ｆ、逸するからである。
の流れが＃ｆ、逸するからである。
上記のような問題点のｆＪ開策はセラミックの嵌植体、
即ち非導電性の嵌植体の使用によって達せられる。しか
し、寸法の点でおよび機排゛的な安定性の理由から金属
嵌植体を使用しなければならない場合もある。このこと
は特に、その人体適合性の点で例えば高純度で爵１破壊
性の酸化アルミニウムセラミック制におけると類似して
好都合な金属が存在すれば可能となる。このことに適合
する最も重要々金属はチタンである。
即ち非導電性の嵌植体の使用によって達せられる。しか
し、寸法の点でおよび機排゛的な安定性の理由から金属
嵌植体を使用しなければならない場合もある。このこと
は特に、その人体適合性の点で例えば高純度で爵１破壊
性の酸化アルミニウムセラミック制におけると類似して
好都合な金属が存在すれば可能となる。このことに適合
する最も重要々金属はチタンである。
寸だ若干の高チタン含有−縫を持つ合金も該当する。
本発明の課題は、金属から成る嵌植体を使用する際、上
部構造の領域内に本来の低植体に使用されているとは異
る金属を使用した場合でも電解的な作用によって浸され
る細胞の形成を阻止することである。
部構造の領域内に本来の低植体に使用されているとは異
る金属を使用した場合でも電解的な作用によって浸され
る細胞の形成を阻止することである。
上記の課題を解決するため、嵌植体と上部構造との間に
これら両者を電気的に相互に絶縁するセラミック利から
成る部分が設けられる。
これら両者を電気的に相互に絶縁するセラミック利から
成る部分が設けられる。
このセラミック利から成る絶縁作用をする部分を粘膜切
口の高さに設けるのが有利である。
口の高さに設けるのが有利である。
この構成の変形として、絶縁作用を行う部分は粘膜切口
の領域内で周囲を走る溝を備えている。
の領域内で周囲を走る溝を備えている。
本発明による低植体の利点は、歯冠に使用される金属と
本来の嵌植体の金属との間の電解的作用を行う要素の形
成が、これら両金属間に金属の７７ネ電件の結合、し７
だがって電気的庁短絡が生成する程度には行わわないこ
とである。これにより、この電解的な作用を受ける細胞
から起るであろうどんな組織の変性も十分に回避される
。この組織の変性が嵌植体のゆるみの原因となることも
あるので、このゆるみの原因となるであろう両関与並素
の−が回避されるか或いは少くとも極端に低減される。
本来の嵌植体の金属との間の電解的作用を行う要素の形
成が、これら両金属間に金属の７７ネ電件の結合、し７
だがって電気的庁短絡が生成する程度には行わわないこ
とである。これにより、この電解的な作用を受ける細胞
から起るであろうどんな組織の変性も十分に回避される
。この組織の変性が嵌植体のゆるみの原因となることも
あるので、このゆるみの原因となるであろう両関与並素
の−が回避されるか或いは少くとも極端に低減される。
本発明による嵌植体は色々な実施形が可能であり、これ
を図面により以下に酸１明する。しかし、この実施形に
限定されるものではない。
を図面により以下に酸１明する。しかし、この実施形に
限定されるものではない。
第１しｌ ＶＣおいて本来の嵌植体物質を符号１で示し
だ。この嵌植体物質はこの実施例で＆：１． ”ｌ’−
ｃ）な横幅のあるねじ山２を備えているう符号３で上部
構造を担持する部分を示しだ。符号４け本発明により導
入される電気的々絶縁作用を行うセラミック拐から成る
部分を示している・こ０部分の上には更に上部構造を固
定するだめの詳しく図示しなかった部分５が認められる
。第１図の場合、セラミック拐から成る絶縁作用を行う
部分４はホ１（方向で相前後して形成されている二つの
孔を備えており、これらの孔は嵌植体物質の十り１．１
部と一■一部構造を同定するだめの部分のＦ端部に設り
られているピンを収容−するのに役立つ。符−け６でこ
の領が（４で粘膜定着のだめにイリｊく溝を示１７た。
だ。この嵌植体物質はこの実施例で＆：１． ”ｌ’−
ｃ）な横幅のあるねじ山２を備えているう符号３で上部
構造を担持する部分を示しだ。符号４け本発明により導
入される電気的々絶縁作用を行うセラミック拐から成る
部分を示している・こ０部分の上には更に上部構造を固
定するだめの詳しく図示しなかった部分５が認められる
。第１図の場合、セラミック拐から成る絶縁作用を行う
部分４はホ１（方向で相前後して形成されている二つの
孔を備えており、これらの孔は嵌植体物質の十り１．１
部と一■一部構造を同定するだめの部分のＦ端部に設り
られているピンを収容−するのに役立つ。符−け６でこ
の領が（４で粘膜定着のだめにイリｊく溝を示１７た。
第２（ｖｌにおいて勾？、′１により、上部構造を担持
する？’？ｌ（分３をヒタ１．１部に（’ｔｒ！えてい
る本来のｉｌｐ ｔ：４体物質を示し７た。火に、この
場合も本発明による絶縁作用を行う゛・ヒラミック拐か
ら成る部分４が設けられており、この部分の」一方に口
、この実施例の、場６４５個のＮｑ冠７が固定されてい
る。この場合、嵌植体の、Ｆ部構造を担拗している部分
もセラミック拐から成る絶縁作用を行う部分内に突出し
ており、−力士部構造７はこの部分４の上方を指向して
いるビン状の延長部を囲繞しでいる。
する？’？ｌ（分３をヒタ１．１部に（’ｔｒ！えてい
る本来のｉｌｐ ｔ：４体物質を示し７た。火に、この
場合も本発明による絶縁作用を行う゛・ヒラミック拐か
ら成る部分４が設けられており、この部分の」一方に口
、この実施例の、場６４５個のＮｑ冠７が固定されてい
る。この場合、嵌植体の、Ｆ部構造を担拗している部分
もセラミック拐から成る絶縁作用を行う部分内に突出し
ており、−力士部構造７はこの部分４の上方を指向して
いるビン状の延長部を囲繞しでいる。
は咬だ切通しを備えている。との場合上部構造への結合
を造る部分３は袋状に形成された収容部を９；ＩＪえで
おり、この収容部内にセラミック利から成る絶縁作用を
行う本発明による部分４がピンでもって突出している。
を造る部分３は袋状に形成された収容部を９；ＩＪえで
おり、この収容部内にセラミック利から成る絶縁作用を
行う本発明による部分４がピンでもって突出している。
この部分４はまたその相対する側にピンを備えており、
このビン目上部構造の定着に役立つ部分５によって囲繞
されている。セラミック利から成る絶縁作用を行う部分
４はこの場合も粘膜定着のために役立つ広」囲をフしる
溝６を担持している。
このビン目上部構造の定着に役立つ部分５によって囲繞
されている。セラミック利から成る絶縁作用を行う部分
４はこの場合も粘膜定着のために役立つ広」囲をフしる
溝６を担持している。
粘膜切口の領域内におけるこのような溝は仙の嵌植体杼
Ｉｔ造の場合も有意義であることが証明されている。金
属嵌植体の本発明による構成は、粘膜切口の領域内にお
けるこの優れた構成を他の金属嵌植体にも利用すること
を司能にし、および同時に上部構造と嵌植体物質間の電
気的な分離を達しようとする本発明の目的を実現するこ
とを許容する。
Ｉｔ造の場合も有意義であることが証明されている。金
属嵌植体の本発明による構成は、粘膜切口の領域内にお
けるこの優れた構成を他の金属嵌植体にも利用すること
を司能にし、および同時に上部構造と嵌植体物質間の電
気的な分離を達しようとする本発明の目的を実現するこ
とを許容する。
第１図は嵌植体物質が本質的にねじ状に形成されている
嵌植体、 第２図は本質的に片側が開いている円筒体から成る嵌植
体、 第６図はｂ」能な通常の構成による多数の葉状（１にわ
′を体。 図中符弓は、 １ ・・・本来の嵌植体物質 ２・・・ねじ山 ３・・・上部構造担持体 ４・・・絶縁作用を行う部分 第１図 第２図
嵌植体、 第２図は本質的に片側が開いている円筒体から成る嵌植
体、 第６図はｂ」能な通常の構成による多数の葉状（１にわ
′を体。 図中符弓は、 １ ・・・本来の嵌植体物質 ２・・・ねじ山 ３・・・上部構造担持体 ４・・・絶縁作用を行う部分 第１図 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 嵌植体が頬内に埋設される本来の嵌植体物質とこの
本来の嵌植体物質と上部構造との間の結合部を造りかつ
粘膜切口の領域を取囲む上部構造を担持する部分とから
成り、ブリッジの形で設けられ同様に金属を含んでいる
斤個の或いは多数の歯冠或いは歯冠部分から成る上記の
上部ｈ′ｑ造を同定するための、金属から成る嵌イ１α
体において、嵌植体と上部構造の間にこの両者を電気的
に相互から絶縁するセラミック利から成る部分が設けら
れていることを特徴とする、歯科用嵌植体。 ２、 セラミック利から成る絶縁作用を行う部分が粘膜
切口の高式に設けられている、特許請求の範囲第１川に
記載の歯科用嵌植体。 ３、 絶縁作用を行う部分が粘膜切口の％自域内で周囲
を走るｊｌｏ・？を有している、特許請求の範囲第２項
に記載の（’、ｉ ｉＩ用嵌植体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3230374.2 | 1982-08-14 | ||
| DE3230374A DE3230374C2 (de) | 1982-08-14 | 1982-08-14 | Zahnimplantat aus Metall |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5949755A true JPS5949755A (ja) | 1984-03-22 |
| JPS6143061B2 JPS6143061B2 (ja) | 1986-09-25 |
Family
ID=6170949
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58145810A Granted JPS5949755A (ja) | 1982-08-14 | 1983-08-11 | 金属から成る歯科用嵌植体 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4486178A (ja) |
| JP (1) | JPS5949755A (ja) |
| CH (1) | CH660553A5 (ja) |
| DE (1) | DE3230374C2 (ja) |
| FR (1) | FR2531624B1 (ja) |
| GB (1) | GB2125297B (ja) |
| IT (1) | IT1163884B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01119245A (ja) * | 1987-10-30 | 1989-05-11 | Kyocera Corp | インプラント部材 |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3682910D1 (de) * | 1985-08-10 | 1992-01-23 | Sanden Corp | Spiralverdichter mit einrichtung zur verdraengungsregelung. |
| US5071351A (en) * | 1986-07-02 | 1991-12-10 | Collagen Corporation | Dental implant system |
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