JPS5948766A - フオトマスク - Google Patents
フオトマスクInfo
- Publication number
- JPS5948766A JPS5948766A JP57158783A JP15878382A JPS5948766A JP S5948766 A JPS5948766 A JP S5948766A JP 57158783 A JP57158783 A JP 57158783A JP 15878382 A JP15878382 A JP 15878382A JP S5948766 A JPS5948766 A JP S5948766A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- polyvinylidene fluoride
- light
- circuit
- ultraviolet rays
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/60—Substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0002—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits for manufacturing artworks for printed circuits
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は）第１・マスクに関するものである。
近年、産業機器の発達は目覚しく、それと共に電気回路
を基板上に印刷したいわゆるプリント基板の使用＋１４
も増大している。従来、プリント基板は銅張り積層板の
−ににインクで回路を印刷し、インクの印刷されてない
部分の銅をエツチングにより取り除くことにより製造さ
れていた。しかし、近年、回路の集積度が高くなり、小
形化が求められる（即ち、回路の微少化）に従いインク
を印刷する方法では十分対応することが困難になってき
た。その為に透明板上に描いた回路を光を用いて銅張り
積層板上の感光性樹脂層に転写する方法が取られるよう
になっている。この際に用いられる回路図を描いた透Ｂ
ＪＴ板をフォトマスクと称する。フォトマスクとしては
光透過性が良く、かつ寸法安定性が良好なこと及び回路
）比較的容易に描く手段があること等が要求され、その
為に従来はガラス板あるいはポリエチレンテレフタレー
ト（以下ＰＥＴと１賂ず）ンートが用いられていた。
を基板上に印刷したいわゆるプリント基板の使用＋１４
も増大している。従来、プリント基板は銅張り積層板の
−ににインクで回路を印刷し、インクの印刷されてない
部分の銅をエツチングにより取り除くことにより製造さ
れていた。しかし、近年、回路の集積度が高くなり、小
形化が求められる（即ち、回路の微少化）に従いインク
を印刷する方法では十分対応することが困難になってき
た。その為に透明板上に描いた回路を光を用いて銅張り
積層板上の感光性樹脂層に転写する方法が取られるよう
になっている。この際に用いられる回路図を描いた透Ｂ
ＪＴ板をフォトマスクと称する。フォトマスクとしては
光透過性が良く、かつ寸法安定性が良好なこと及び回路
）比較的容易に描く手段があること等が要求され、その
為に従来はガラス板あるいはポリエチレンテレフタレー
ト（以下ＰＥＴと１賂ず）ンートが用いられていた。
ガラス板では一ヒ記条件を十分醒、Ｊたしているが、割
れやすいこと、重いこと等問題があり、高度に精密度が
要求される場合以外はＰＥＴシートが用いられている。
れやすいこと、重いこと等問題があり、高度に精密度が
要求される場合以外はＰＥＴシートが用いられている。
最近は更に回路の細密化が求められ、回路の線ｄ］に対
する精度も１．ａｍ以下が要求されるようになり、銅張
り積層板上に転写するのに用いる光も従来の白色光では
十分精度が得ら才１ないので、紫外線領域の光が用いら
れるようになつている。ところか、ＰＥＴでは３００ｎ
ｍ以下の波長の光をすべて吸収してし捷うため、精度に
対する要求に応えられなくなっており、改めて２００〜
ｂ マスク用材料が求められるに致った。即ち、フ第１・マ
スクとしては紫外線を良く通し、紫外線で変質１〜ない
ことが前記条件ｒ（加え要求されている。
する精度も１．ａｍ以下が要求されるようになり、銅張
り積層板上に転写するのに用いる光も従来の白色光では
十分精度が得ら才１ないので、紫外線領域の光が用いら
れるようになつている。ところか、ＰＥＴでは３００ｎ
ｍ以下の波長の光をすべて吸収してし捷うため、精度に
対する要求に応えられなくなっており、改めて２００〜
ｂ マスク用材料が求められるに致った。即ち、フ第１・マ
スクとしては紫外線を良く通し、紫外線で変質１〜ない
ことが前記条件ｒ（加え要求されている。
本発明者らｄ、かかる情況下にフォトマスク用材料につ
き鋭意検討した結果、ポリフッ化ビニリチン（以下ＰＶ
ＤＦと略す）が紫外線を良く通すことを見出し、更に研
究を続は遂に本発明を完成するに致った。
き鋭意検討した結果、ポリフッ化ビニリチン（以下ＰＶ
ＤＦと略す）が紫外線を良く通すことを見出し、更に研
究を続は遂に本発明を完成するに致った。
即ち、本発明に従って、ポリフッ化ビニリチンシートか
らなるフォトマスクが提供される。
らなるフォトマスクが提供される。
本発明に用いるＰＶＤＦとは、フッ化ビニリデンの重合
物であり、共重合可能なビニル化合物５０重計係以下と
の共重合物も含む。更に、ＰＶＤＦにはその性質を改善
するためＰＶＤＦと相溶性のあるポリマーを５０重ｆｉ
ｔ％以下を添加しても−良い。また必要に応じ、安定剤
、可塑剤、着色剤、界面活性剤、帯電防市剤等を添加し
ておくことが望せしい。
物であり、共重合可能なビニル化合物５０重計係以下と
の共重合物も含む。更に、ＰＶＤＦにはその性質を改善
するためＰＶＤＦと相溶性のあるポリマーを５０重ｆｉ
ｔ％以下を添加しても−良い。また必要に応じ、安定剤
、可塑剤、着色剤、界面活性剤、帯電防市剤等を添加し
ておくことが望せしい。
ＰＶＴ）Ｆ’を７−トとするには、押出し法、カレンダ
ー法、溶媒キャスト法等公知の加工法によることができ
る。また、Ｐ Ｖ’ Ｄ Ｆシートは少なくとも１軸方
向に延伸することによりＰＶＤＦの結晶性が増しシート
の硬度が向上し、かつ厚み精度が得られるようになるの
で、延伸したものの方が好捷しい。ＰＶＤＦ’を延伸／
−］・とするためには通常の押出し、延伸法で良く、延
伸法にはロール法、テンター法、チューブラ−法等があ
り、いずれも可能である。又、−軸延伸としてはたて、
よこ、又他の軸いずれでも良く、二軸以上の延伸として
は逐次、同時いずれでも良い。延伸温度としては１００
〜２５０℃、好ましくは１２０〜１８０℃で、延伸倍率
（面積倍率）が２倍以−ヒより好ましくは２．５〜１０
倍が適当である。
ー法、溶媒キャスト法等公知の加工法によることができ
る。また、Ｐ Ｖ’ Ｄ Ｆシートは少なくとも１軸方
向に延伸することによりＰＶＤＦの結晶性が増しシート
の硬度が向上し、かつ厚み精度が得られるようになるの
で、延伸したものの方が好捷しい。ＰＶＤＦ’を延伸／
−］・とするためには通常の押出し、延伸法で良く、延
伸法にはロール法、テンター法、チューブラ−法等があ
り、いずれも可能である。又、−軸延伸としてはたて、
よこ、又他の軸いずれでも良く、二軸以上の延伸として
は逐次、同時いずれでも良い。延伸温度としては１００
〜２５０℃、好ましくは１２０〜１８０℃で、延伸倍率
（面積倍率）が２倍以−ヒより好ましくは２．５〜１０
倍が適当である。
ＰＶＤＦは紫外線透過性が良好で、耐紫外線・１′１．
にも＃’ｉ Ｉ’ｔでいる。史にＰＶ ｌ） Ｆはポリ
４フツ化エチレン等の他のフッ素樹脂に比べ加工性に優
れ、有機溶媒との相互作用も有している。
にも＃’ｉ Ｉ’ｔでいる。史にＰＶ ｌ） Ｆはポリ
４フツ化エチレン等の他のフッ素樹脂に比べ加工性に優
れ、有機溶媒との相互作用も有している。
かような性質を有するＰＶＤ＋”ソートをフォ回路の精
度か良好となる。
度か良好となる。
以下実施例により本発明を説明する。
実施例１
ポリフッ化ビニリチン（クレハ化学株式会社製、＋（Ｆ
プリマー）を口径４０ｍｍ（ｊの押出機により３００
℃で押出し、Ｔ型の口金を通し厚さ３００ ／＋ ｍの
７−トを得た。この／−１・を１３０℃に加熱したクロ
ームメッキされたロール」二を通し加熱し、２本のロー
ルの間でたて方向に２．５倍延伸し、次いて１５０’Ｃ
のオーブン中で再加熱し、よこ方向に２，５倍延伸した
。これにまり合訓約６倍の延伸倍率となり、）９さ約６
０ ／Ｉ ｍの延伸フィルムをイ（Ｉた。この延伸フィ
ルムの厚み精度−一±５係であった。また、このフィル
１、の光透過率を第１図に示す。
プリマー）を口径４０ｍｍ（ｊの押出機により３００
℃で押出し、Ｔ型の口金を通し厚さ３００ ／＋ ｍの
７−トを得た。この／−１・を１３０℃に加熱したクロ
ームメッキされたロール」二を通し加熱し、２本のロー
ルの間でたて方向に２．５倍延伸し、次いて１５０’Ｃ
のオーブン中で再加熱し、よこ方向に２，５倍延伸した
。これにまり合訓約６倍の延伸倍率となり、）９さ約６
０ ／Ｉ ｍの延伸フィルムをイ（Ｉた。この延伸フィ
ルムの厚み精度−一±５係であった。また、このフィル
１、の光透過率を第１図に示す。
この延伸フィルムはフォトマスクとして良好であった。
比較のだめＰＥＴノート（厚さ約６０ ／ｌ ｒｎ ）
の光透過率も第１図に示し／こ。
の光透過率も第１図に示し／こ。
第１図にみられるように、Ｐ Ｖ Ｄ Ｆ ／−（□は
紫外線をよく透過し、Ｐ Ｅ Ｔ ／−１・ては困難な
短波長の光での焼付けが可能である。
紫外線をよく透過し、Ｐ Ｅ Ｔ ／−１・ては困難な
短波長の光での焼付けが可能である。
丑だ、Ｐ Ｖ Ｄ Ｆ ン−ｔ□はＩＣ，ＬＳＩ等の製
作にも）第１・マスクとして用いうろことけ勿論である
。
作にも）第１・マスクとして用いうろことけ勿論である
。
第１図はＰＶＤＦ／−ト（符号１）及びＰＥＴンーシー
（符号２）の光透過率を示す図である。 なお、４ｔ〜軸は光の波長（λ、ｑｉ位ｎｍ）であり、
縦軸は光透過率（Ｔ１単位係）である。 特許出願人 三井東圧化学株式会社
（符号２）の光透過率を示す図である。 なお、４ｔ〜軸は光の波長（λ、ｑｉ位ｎｍ）であり、
縦軸は光透過率（Ｔ１単位係）である。 特許出願人 三井東圧化学株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ｌ ポリフッ化ビニリチンソートからなるフォトマスク
。 ２ ポリフッ化ビニリデンン−１・が少なくとも１軸方
向に延伸されたものである特許Ｊ＋ ＞Ｊ（の範囲第１
項記載のフォトマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57158783A JPS5948766A (ja) | 1982-09-14 | 1982-09-14 | フオトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57158783A JPS5948766A (ja) | 1982-09-14 | 1982-09-14 | フオトマスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5948766A true JPS5948766A (ja) | 1984-03-21 |
Family
ID=15679234
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57158783A Pending JPS5948766A (ja) | 1982-09-14 | 1982-09-14 | フオトマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5948766A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4729846A (en) * | 1986-01-17 | 1988-03-08 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing lepidocrocite |
| WO2002093261A1 (en) * | 2001-05-14 | 2002-11-21 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Use of partially fluorinated polymers in applications requiring transparency in the ultraviolet and vacuum ultraviolet |
| US6770404B1 (en) | 1999-11-17 | 2004-08-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ultraviolet and vacuum ultraviolet transparent polymer compositions and their uses |
| US6824930B1 (en) | 1999-11-17 | 2004-11-30 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ultraviolet and vacuum ultraviolet transparent polymer compositions and their uses |
-
1982
- 1982-09-14 JP JP57158783A patent/JPS5948766A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4729846A (en) * | 1986-01-17 | 1988-03-08 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing lepidocrocite |
| US6770404B1 (en) | 1999-11-17 | 2004-08-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ultraviolet and vacuum ultraviolet transparent polymer compositions and their uses |
| US6824930B1 (en) | 1999-11-17 | 2004-11-30 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ultraviolet and vacuum ultraviolet transparent polymer compositions and their uses |
| WO2002093261A1 (en) * | 2001-05-14 | 2002-11-21 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Use of partially fluorinated polymers in applications requiring transparency in the ultraviolet and vacuum ultraviolet |
| US7438995B2 (en) | 2001-05-14 | 2008-10-21 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Use of partially fluorinated polymers in applications requiring transparency in the ultraviolet and vacuum ultraviolet |
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