JPS5945966B2 - 磁気光学光偏向器ビ−ム再結合装置 - Google Patents
磁気光学光偏向器ビ−ム再結合装置Info
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- JPS5945966B2 JPS5945966B2 JP55183668A JP18366880A JPS5945966B2 JP S5945966 B2 JPS5945966 B2 JP S5945966B2 JP 55183668 A JP55183668 A JP 55183668A JP 18366880 A JP18366880 A JP 18366880A JP S5945966 B2 JPS5945966 B2 JP S5945966B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
- G02F1/292—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection by controlled diffraction or phased-array beam steering
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Description
【発明の詳細な説明】
概要
磁気光学光偏向器システムの共役偏向光ビームを平行に
する装置および方法が開示される。
する装置および方法が開示される。
この装置は、中心が除去された２つの収れん半裁レンズ
を含む。２つの収れん半裁レンズは、磁気光学光偏向器
の平面に垂直に投射する光ビームの中心に沿つて中心が
整列されるように重ねてオリエントされる。
を含む。２つの収れん半裁レンズは、磁気光学光偏向器
の平面に垂直に投射する光ビームの中心に沿つて中心が
整列されるように重ねてオリエントされる。
収れんレンズは、２つの平行な共投光ビームをスクリー
ンまたは検出器上にて焦点を結ばせるために、平行な共
投光ビームの光軸においてオリエントされる。本発明の
背景 Ｅ．Ｊ．ＴＯｒＯｋ等の米国特許第３７５２５６３号明
細書において、回折格子として磁気薄膜におけるストラ
イプ領域を利用する磁気光学光偏向器システムが説明さ
れている。
ンまたは検出器上にて焦点を結ばせるために、平行な共
投光ビームの光軸においてオリエントされる。本発明の
背景 Ｅ．Ｊ．ＴＯｒＯｋ等の米国特許第３７５２５６３号明
細書において、回折格子として磁気薄膜におけるストラ
イプ領域を利用する磁気光学光偏向器システムが説明さ
れている。
薄膜の平面からの光ビームの偏向角度は、薄膜の平面に
おける直流磁界の強さを変化させることにより、または
薄膜の平面に垂直な直流磁界の強さを変化させることに
より変化される。ストライプ領域のオリエンテーシヨン
は、薄膜の平面における直流磁界の方向を変化させるこ
とによつて変化されるが、薄膜ヒステリシスは、ストラ
イプ領域に直角にオリエントされる交流チクル（Ｔｌｃ
ｋｌｅ）磁界によつて克服される。垂直に投射する光ビ
ームは、単一の第０次光ビーム（垂直投射光ビームの光
軸に沿つてオリエントされる）および１対の共役第１次
光ビーム（新しい光軸に沿つて偏向される光ビームであ
る）を発生するために薄膜形成回折格子によつて回折さ
れる。第１次光ビームの１つは、主要な偏向光ビームと
呼ばれるが、他は共役偏向光ビームと呼ばれる。第１次
光ビームの各々は、２つの共投光軸に沿つて指向される
総計の偏向光強さの５０％を含む。Ｇ．Ｆ．Ｓａｕｔｅ
ｒ等の米国特許第４１４８５５６号において、Ｅ．Ｊ．
ＴＯｒＯｋ等の米国特許第３７５２５６３号の磁気薄膜
回折格子を利用する磁気光学光偏向システムが説明され
ているが、それでは、光は光フアイバ伝送線路によつて
伝送される。
おける直流磁界の強さを変化させることにより、または
薄膜の平面に垂直な直流磁界の強さを変化させることに
より変化される。ストライプ領域のオリエンテーシヨン
は、薄膜の平面における直流磁界の方向を変化させるこ
とによつて変化されるが、薄膜ヒステリシスは、ストラ
イプ領域に直角にオリエントされる交流チクル（Ｔｌｃ
ｋｌｅ）磁界によつて克服される。垂直に投射する光ビ
ームは、単一の第０次光ビーム（垂直投射光ビームの光
軸に沿つてオリエントされる）および１対の共役第１次
光ビーム（新しい光軸に沿つて偏向される光ビームであ
る）を発生するために薄膜形成回折格子によつて回折さ
れる。第１次光ビームの１つは、主要な偏向光ビームと
呼ばれるが、他は共役偏向光ビームと呼ばれる。第１次
光ビームの各々は、２つの共投光軸に沿つて指向される
総計の偏向光強さの５０％を含む。Ｇ．Ｆ．Ｓａｕｔｅ
ｒ等の米国特許第４１４８５５６号において、Ｅ．Ｊ．
ＴＯｒＯｋ等の米国特許第３７５２５６３号の磁気薄膜
回折格子を利用する磁気光学光偏向システムが説明され
ているが、それでは、光は光フアイバ伝送線路によつて
伝送される。
この磁気光学光偏向システムにおいて、光ビームは、入
力光フアイバによつて磁気薄膜の第１表面に垂直に投射
し、それから、所望の磁界を磁気薄膜に供給することに
よつて、磁気薄膜の第２および反対表面上の出力光フア
イバのうちの選択されたものに接続される。共役反射光
ビームは、それらの関連する出力光フアイバを経て、光
学カプラーによつて一緒に加えられて、関連出力フアイ
バの両方における光強さの和を単一出力フアイバに与え
る。本発明は、レンズを使用して光フアイバ伝送線路の
使用によるロスおよび制限なしに、共役偏向光ビームを
最初に平行にし、それからそれらを結合することによつ
て、共役偏向光ビームを結合する装置および方法に関す
る。本発明の要約 本発明の磁気光学光偏向器システムは、単一の収れんレ
ンズから形成されうる等しい焦点距離の２つの収れん半
裁レンズを含み、それらの中心は除去され、直径に沿つ
て半分にカツトされうる。
力光フアイバによつて磁気薄膜の第１表面に垂直に投射
し、それから、所望の磁界を磁気薄膜に供給することに
よつて、磁気薄膜の第２および反対表面上の出力光フア
イバのうちの選択されたものに接続される。共役反射光
ビームは、それらの関連する出力光フアイバを経て、光
学カプラーによつて一緒に加えられて、関連出力フアイ
バの両方における光強さの和を単一出力フアイバに与え
る。本発明は、レンズを使用して光フアイバ伝送線路の
使用によるロスおよび制限なしに、共役偏向光ビームを
最初に平行にし、それからそれらを結合することによつ
て、共役偏向光ビームを結合する装置および方法に関す
る。本発明の要約 本発明の磁気光学光偏向器システムは、単一の収れんレ
ンズから形成されうる等しい焦点距離の２つの収れん半
裁レンズを含み、それらの中心は除去され、直径に沿つ
て半分にカツトされうる。
２つの収れん半裁レンズは、次のようにオリエントされ
る、すなわち、それらの光学軸が共通で磁気光学光偏向
器の平面に対して共通な且つ垂直な光軸と重ね合わせら
れ、それらの中心は磁気光学光偏向器の平面に垂直に投
射する光ビームの中心と整列され、２つの収れん半裁レ
ンズは単一の収れん半裁レンズの焦点距離の２倍に等し
い距離だけ相互に離され、磁気光学光偏向器の平面に最
も近く配置される収れん半裁レンズは、単一の収れん半
裁レンズの焦点距離に等しい距離だけ磁気光学光偏向器
からはなされる。
る、すなわち、それらの光学軸が共通で磁気光学光偏向
器の平面に対して共通な且つ垂直な光軸と重ね合わせら
れ、それらの中心は磁気光学光偏向器の平面に垂直に投
射する光ビームの中心と整列され、２つの収れん半裁レ
ンズは単一の収れん半裁レンズの焦点距離の２倍に等し
い距離だけ相互に離され、磁気光学光偏向器の平面に最
も近く配置される収れん半裁レンズは、単一の収れん半
裁レンズの焦点距離に等しい距離だけ磁気光学光偏向器
からはなされる。
附加的な収れんレンズが、平行な共投光ビームの光軸に
おいてオリエントされることができ、その光軸はそれに
対して平行であり、収れんレンズの焦点平面にあるスク
リーンまたは検出器上に２つの平行な共投光ビームを焦
点をして結ばせる。実施例の説明 第１図を参照すると、従来技術の磁気光学光偏向システ
ムが示される。
おいてオリエントされることができ、その光軸はそれに
対して平行であり、収れんレンズの焦点平面にあるスク
リーンまたは検出器上に２つの平行な共投光ビームを焦
点をして結ばせる。実施例の説明 第１図を参照すると、従来技術の磁気光学光偏向システ
ムが示される。
この磁気光学光偏向器システムにおいて、比較的広い光
ビーム１０が磁気薄膜１２の近似表面に直角に射突する
。磁気薄膜１２は、回折格子として作用するために複数
のストライプ領域を利用する。偏向器１２は、その遠い
側にミラー１４を有する。このミラー１４は実質的に１
００％の反射率を有し、それによつてそこを通過する光
ビーム１０の部分は、回折格子形成磁気薄膜１２を通し
てもどるように反射される。磁気薄膜の平面からの光ビ
ームの偏向角度は、ストライプ領域フアラデ一効果磁気
薄膜のストライプ領域の分離およびオリエンテーシヨン
を変化させることによつて２つのデイメイジヨンにおい
て変化される。磁気薄膜１２の遠い表面をミラー１４に
よつて被覆することによつて、各ストライプ領域を通過
する光は、高反射率ミラー１４によつて反射され、磁気
薄膜１２から逆方向に進み、それによつて、フアラデ一
回転を２倍にする。磁気薄膜１２は、投射光ビーム１０
（投射光ビーム１０の光軸１１に沿つて逆方向に向う単
一の第０次光ビームを形成する）を回折し、２つの共役
第１次光ビーム１６および１８を発生する。光ビーム１
６および１８の角度オリエンテーシヨンθは、磁気薄膜
１２に結合される磁界のオリエンテーシヨンおよび強さ
によつて決定される。光ビーム１６は主要な偏向光ビー
ムとして説明されるが、光ビーム１８は、共投光ビーム
として説明され、磁気薄膜１２およびその遠い側のミラ
ー１４に作用する投射光ビーム１０から発生される。こ
の磁気光学偏向器システムにおいて、主要な偏向光ビー
ム１６のみが長焦点距離レンズ２０に垂直に投射され、
そこから収れん光ビーム２２として放射される。この収
れん光ビーム２２は、スクリーン２４上の点に収れんす
る。共投光ビーム１８は利用されないので且つ総計の偏
向光強さの５０％は共役第１次光ビーム１６および１８
の各々にあるので、磁気薄膜１２によつて偏向される光
ビーム１０からの光エネルギの５００１）は、このシス
テムにおいて消費される。第２図を参照すると、３つの
異なる狭い光ビーム偏向角度に対する本発明を組込む磁
気光学光偏向器システムが図示されている。
ビーム１０が磁気薄膜１２の近似表面に直角に射突する
。磁気薄膜１２は、回折格子として作用するために複数
のストライプ領域を利用する。偏向器１２は、その遠い
側にミラー１４を有する。このミラー１４は実質的に１
００％の反射率を有し、それによつてそこを通過する光
ビーム１０の部分は、回折格子形成磁気薄膜１２を通し
てもどるように反射される。磁気薄膜の平面からの光ビ
ームの偏向角度は、ストライプ領域フアラデ一効果磁気
薄膜のストライプ領域の分離およびオリエンテーシヨン
を変化させることによつて２つのデイメイジヨンにおい
て変化される。磁気薄膜１２の遠い表面をミラー１４に
よつて被覆することによつて、各ストライプ領域を通過
する光は、高反射率ミラー１４によつて反射され、磁気
薄膜１２から逆方向に進み、それによつて、フアラデ一
回転を２倍にする。磁気薄膜１２は、投射光ビーム１０
（投射光ビーム１０の光軸１１に沿つて逆方向に向う単
一の第０次光ビームを形成する）を回折し、２つの共役
第１次光ビーム１６および１８を発生する。光ビーム１
６および１８の角度オリエンテーシヨンθは、磁気薄膜
１２に結合される磁界のオリエンテーシヨンおよび強さ
によつて決定される。光ビーム１６は主要な偏向光ビー
ムとして説明されるが、光ビーム１８は、共投光ビーム
として説明され、磁気薄膜１２およびその遠い側のミラ
ー１４に作用する投射光ビーム１０から発生される。こ
の磁気光学偏向器システムにおいて、主要な偏向光ビー
ム１６のみが長焦点距離レンズ２０に垂直に投射され、
そこから収れん光ビーム２２として放射される。この収
れん光ビーム２２は、スクリーン２４上の点に収れんす
る。共投光ビーム１８は利用されないので且つ総計の偏
向光強さの５０％は共役第１次光ビーム１６および１８
の各々にあるので、磁気薄膜１２によつて偏向される光
ビーム１０からの光エネルギの５００１）は、このシス
テムにおいて消費される。第２図を参照すると、３つの
異なる狭い光ビーム偏向角度に対する本発明を組込む磁
気光学光偏向器システムが図示されている。
この実施例において、入来光３０の光線は、その光軸３
２に沿つて磁気薄膜３４の近似表面に垂直に射突するよ
うに指向される。３つの異なる時間において且つ薄膜３
４に結合される３つの異なる磁界強さによつて、薄膜３
４およびミラー３６は、関連する異なる偏向角度θ１，
θ２，θ３において、主要な光線４０，４２および４４
とそれらの共投光線４１，４３および４５をそれぞれ発
生する。
２に沿つて磁気薄膜３４の近似表面に垂直に射突するよ
うに指向される。３つの異なる時間において且つ薄膜３
４に結合される３つの異なる磁界強さによつて、薄膜３
４およびミラー３６は、関連する異なる偏向角度θ１，
θ２，θ３において、主要な光線４０，４２および４４
とそれらの共投光線４１，４３および４５をそれぞれ発
生する。
単一の収れんレンズから形成される２つの収れん半裁レ
ンズ５０および５２はそれらの中心が除去され、それら
の光軸が磁気薄膜３４の平面に直角になるように重畳さ
れ、それらの中心は、垂直投射光線３０の中心もしくは
光軸３２と一直線になされる。収れん半裁レンズ５０は
、その焦点距離だけ磁気薄膜３４の平面から離れるよう
に位置され、３つの共投光線４１，４３および４５をし
て入来光線に対して平行に射出せしめる。これらの共投
光線４１，４３および４５は、収れん半裁レンズ５２に
指向される。収れん半裁レンズ５２は、共投光線４１，
４３および４５の各々をしてレンズ５２の焦点５３を通
過せしめ、従つて、関連する主要な光線４０，４２およ
び４４と平行ならしめ、共投光線４０′，４２′、およ
び４４７を形成する。共投光線４０／，４２′および４
４′は、それらの関連する主要な光線４０，４２および
４４と平行になる。第３図を参照すると、第２図の線３
−３に沿つて取られる第２図の磁気光学光偏向器システ
ムが図示される。第３図は、収れん半裁レンズ５０が、
磁気薄膜３４の平面に垂直に投射される光ビームの中心
（その中心は光軸３２として示される）と一致するよう
に整列される光軸をもつようにオリエントされることを
示す。また収れん半裁レンズ５０における半円形開口５
１が図示される。線または表面５０，５１は光軸３２の
周りに同心的に図示される。第４図を参照すると、単一
の広い光ビームに対する第２図の実施例が図示される。
ンズ５０および５２はそれらの中心が除去され、それら
の光軸が磁気薄膜３４の平面に直角になるように重畳さ
れ、それらの中心は、垂直投射光線３０の中心もしくは
光軸３２と一直線になされる。収れん半裁レンズ５０は
、その焦点距離だけ磁気薄膜３４の平面から離れるよう
に位置され、３つの共投光線４１，４３および４５をし
て入来光線に対して平行に射出せしめる。これらの共投
光線４１，４３および４５は、収れん半裁レンズ５２に
指向される。収れん半裁レンズ５２は、共投光線４１，
４３および４５の各々をしてレンズ５２の焦点５３を通
過せしめ、従つて、関連する主要な光線４０，４２およ
び４４と平行ならしめ、共投光線４０′，４２′、およ
び４４７を形成する。共投光線４０／，４２′および４
４′は、それらの関連する主要な光線４０，４２および
４４と平行になる。第３図を参照すると、第２図の線３
−３に沿つて取られる第２図の磁気光学光偏向器システ
ムが図示される。第３図は、収れん半裁レンズ５０が、
磁気薄膜３４の平面に垂直に投射される光ビームの中心
（その中心は光軸３２として示される）と一致するよう
に整列される光軸をもつようにオリエントされることを
示す。また収れん半裁レンズ５０における半円形開口５
１が図示される。線または表面５０，５１は光軸３２の
周りに同心的に図示される。第４図を参照すると、単一
の広い光ビームに対する第２図の実施例が図示される。
実際の光ビームは有限の横断面を有し、すなわち比較的
広いので、第４図は、第３図の実際的な実施例に対して
、２つの収れん半裁レンズ５０および５２は、焦点距離
の２倍ほど隔てられねばならない。これは、光軸６２に
沿つて磁気薄膜３４の表面に垂直に指向される比較的広
い入来光ビーム６０が、磁気薄膜３４およびミラー３６
によつて回折される時、比較的広い主要な偏向光ビーム
６４および共役偏向光ビーム６５を発生するからである
。それで、収れん半裁レンズ５０は、比較的広い共投光
ビーム６５を点６６に収れんする。その点６６は、収二
れん半裁レンズ５０と５２の中間の焦点平面上にある。
逆の方法にて、収れん半裁レンズ５２は、比較的広い発
散する共投光ビーム６５を比較的広い平行な共投光ビー
ム６８になるように平行にする。光ビーム６８は、光軸
７０′に沿つて指向され乏る。光軸７０′は主要な偏向
光ビーム６４の光軸７０に平行である。第５図を参照す
ると、２つの共投光ビームを結合し且つデイスプレイす
るために、光を平行にする長焦点距離レンズ７６および
デイスプレイ・ス５クリーン７４を組込んだ第４図の実
施例が図示される。
広いので、第４図は、第３図の実際的な実施例に対して
、２つの収れん半裁レンズ５０および５２は、焦点距離
の２倍ほど隔てられねばならない。これは、光軸６２に
沿つて磁気薄膜３４の表面に垂直に指向される比較的広
い入来光ビーム６０が、磁気薄膜３４およびミラー３６
によつて回折される時、比較的広い主要な偏向光ビーム
６４および共役偏向光ビーム６５を発生するからである
。それで、収れん半裁レンズ５０は、比較的広い共投光
ビーム６５を点６６に収れんする。その点６６は、収二
れん半裁レンズ５０と５２の中間の焦点平面上にある。
逆の方法にて、収れん半裁レンズ５２は、比較的広い発
散する共投光ビーム６５を比較的広い平行な共投光ビー
ム６８になるように平行にする。光ビーム６８は、光軸
７０′に沿つて指向され乏る。光軸７０′は主要な偏向
光ビーム６４の光軸７０に平行である。第５図を参照す
ると、２つの共投光ビームを結合し且つデイスプレイす
るために、光を平行にする長焦点距離レンズ７６および
デイスプレイ・ス５クリーン７４を組込んだ第４図の実
施例が図示される。
この実施例において、主要な偏向光ビーム６４および平
行にされた共投光ビーム６８は、長焦点距離Ｆ７６を有
する収れんレンズ７６に垂直に投射する。収れんレンズ
７６は、出現する主要な３偏向光ビーム６４′および平
行にされた共役偏向光ビーム６８′をスクリーン７４上
の点７２に焦点を結ばせる。スクリーン７４は、収れん
レンズ７６の焦点平面にオリエントされる。第６図を参
照すると、２つの収れん複合半裁レンズを組込んだ第４
図の実施例が図示される。
行にされた共投光ビーム６８は、長焦点距離Ｆ７６を有
する収れんレンズ７６に垂直に投射する。収れんレンズ
７６は、出現する主要な３偏向光ビーム６４′および平
行にされた共役偏向光ビーム６８′をスクリーン７４上
の点７２に焦点を結ばせる。スクリーン７４は、収れん
レンズ７６の焦点平面にオリエントされる。第６図を参
照すると、２つの収れん複合半裁レンズを組込んだ第４
図の実施例が図示される。
複合レンズ８０および８２は同一の設計である。複合レ
ンズ８０および８２は、実質的に減少されたレンズ収差
を生じることが分つた。そして第５図に例示されるスク
リーン７４上のもつと鋭く限定された点７２を生じた。
ンズ８０および８２は、実質的に減少されたレンズ収差
を生じることが分つた。そして第５図に例示されるスク
リーン７４上のもつと鋭く限定された点７２を生じた。
第１図は従来の磁気光学光偏向器システムを図示し、第
２図は３つの異なる狭い光ビーム偏向角度に対する本発
明を組込んだ磁気光学光偏向器システムであり、第３図
は第２図の線３−３に沿つて取られた第２図の磁気光学
光偏向システムであり、第４図は単一の広い光−ビーム
に対する第２図の実施例であり、第５図は尤を平行にす
る長焦点距離レンズおよびデイスプレイ゜スクリーンを
使用して、２つの共投光ビームを結合し且つデイスプレ
イする第４図の実施例であり、第６図は異なる設計の２
つの収れん半裁レンズを使用した第４図の実施例である
。 符号の説明、１０：光ビーム、１１：光軸、１２：磁気
薄膜、１４：ミラ一 １６：光ビーム、１８：光ビーム
、２０：レンズ、２２：収れん光ビーム、２４：スクリ
ーン、２６：焦点、３０：入来光、３２：光軸、３４：
磁気薄膜、３６：ミラ一、４０，４１，４２，４３，４
４，４５：光線、５０，５２：半裁レンズ、５３：焦点
、６０：入来光ビーム、６２：光軸、６４，６５，６８
：光ビーム、６６：焦点、７０，７０′：光．軸、７２
：焦点、７４：スクリーン、７６：レンズ、８Ｑ８２：
複合レンズ。
２図は３つの異なる狭い光ビーム偏向角度に対する本発
明を組込んだ磁気光学光偏向器システムであり、第３図
は第２図の線３−３に沿つて取られた第２図の磁気光学
光偏向システムであり、第４図は単一の広い光−ビーム
に対する第２図の実施例であり、第５図は尤を平行にす
る長焦点距離レンズおよびデイスプレイ゜スクリーンを
使用して、２つの共投光ビームを結合し且つデイスプレ
イする第４図の実施例であり、第６図は異なる設計の２
つの収れん半裁レンズを使用した第４図の実施例である
。 符号の説明、１０：光ビーム、１１：光軸、１２：磁気
薄膜、１４：ミラ一 １６：光ビーム、１８：光ビーム
、２０：レンズ、２２：収れん光ビーム、２４：スクリ
ーン、２６：焦点、３０：入来光、３２：光軸、３４：
磁気薄膜、３６：ミラ一、４０，４１，４２，４３，４
４，４５：光線、５０，５２：半裁レンズ、５３：焦点
、６０：入来光ビーム、６２：光軸、６４，６５，６８
：光ビーム、６６：焦点、７０，７０′：光．軸、７２
：焦点、７４：スクリーン、７６：レンズ、８Ｑ８２：
複合レンズ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 回折格子と、 上記回折格子の近似表面に垂直に且つ入力光軸に沿つて
入射する入力レーザ光ビームの源と、上記回折格子の遠
い側にあつて、上記入力レーザ光ビームを上記回折格子
を通して反射し返して、上記入力光軸に沿つて反射し返
された単一の第０次光ビームと一対の共役第１次光ビー
ムとを発生するミラーと、単一の収れんレンズの中央が
除去され、しかる後それが直径に沿つて半截されて形成
された一対の収れん半截レンズと、を含み、上記二つの
収れん半截レンズは、それらの平面が上記回折格子の平
面と平行になるよう、それらの中心が上記入力光軸と整
列するよう、そして最も近い収れん半截レンズが上記回
折格子の平面から１焦点距離だけ離れて位置し、二つの
収れん半截レンズが２焦点距離だけ離れて位置するよう
に整列されて配向されている、光偏向糸。 ２ 上記回折格子が、平行な複数のストライプ領域を有
するファラデー効果磁気薄膜である、上記１記載の光偏
向系。 ３ 上記ミラーが、上記回折格子の遠い側にあつて、上
記入力レーザ光ビームを上記回折格子を通して反射し返
して、上記入力光軸に沿つて反射し返された単一の第０
次光ビームと、上記回折格子の平面から角度θ（ここで
θは０゜と９０゜との間）で偏向された一つの主偏向光
ビームと一つの共役偏向光ビームとして定義される一対
の共役第１次光ビームと、を発生する実質的に１００％
反射ミラーである、上記１又は２記載の光偏向系。 ４ 上記収れん半截レンズの対の各々が、単一の収れん
レンズの中心から円形部分を除去し、しかる後直径に沿
つて半截されることによつて形成されることにより規定
された収れん半截レンズである、上記１乃至３の内何れ
か一項記載の光偏向系。 ５ 回折格子、 上記回折格子の近似表面付近に垂直に且つ入力光軸に沿
つて入射する入力レーザ光ビームの源と、上記回折格子
の遠い側にあつて、上記入力レーザ光ビームを上記回折
格子を通して反射し返して、上記入力光軸に沿つて反射
し返された単一の第０次光ビームと一対の共役第１次光
ビームとを発生するミラーと、単一の収れんレンズの中
央が除去され、しかる後それが直径に沿つて半截されて
形成された一対の収れん半截レンズと、を含み、上記二
つの収れん半截レンズは、それらの平面が上記回折格子
の平面と平行になるよう、それらの中心が上記入力光軸
と整列するよう、そして最も近い収れん半截レンズが上
記回折格子平面から１焦点距離だけ離れて位置し、二つ
の収れん半截レンズが２焦点距離だけ離れて位置するよ
うに重ねられて配向されている光偏向系を有し、該光偏
向系によつて一対の平行な共役光ビームの光軸に平行に
光軸を配向してそれらの光軸内に配向された更なる集光
手段を含んでいる、光偏向器ビーム再結合装置。 ６ 上記回折格子が、平行な複数のストライプ領域を有
するファラデー効果磁気薄膜である、上記５記載の光偏
向器ビーム再結合装置。 ７ 上記ミラーが、上記回折格子の遠い側にあって、上
記入力レーザ光ビームを上記回折格子を通して反射し返
して、上記入力光軸に沿つて反射し返された単一の第０
次光ビームと、上記回折格子の平面から角度θ（ここで
θは０゜と９０゜との間）で偏向された一つの主偏向ビ
ームと一つの共役第１次光ビームと、を発生する実質的
に１００％反射ミラーである、上記５又は６記載の光偏
向器ビーム再結合装置。 ８ 上記収れん半截レンズの対の各々が、単一の収れん
レンズの中心から円形部分を除去し、しかる後直径に沿
つて半截されることによつて形成されることにより規定
された収れん半截レンズである、上記５乃至７の内何れ
か一項記載の光偏向器ビーム再結合装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US108917 | 1979-12-31 | ||
| US06/108,917 US4281905A (en) | 1979-12-31 | 1979-12-31 | Magneto-optic light deflector beam recombination apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56101127A JPS56101127A (en) | 1981-08-13 |
| JPS5945966B2 true JPS5945966B2 (ja) | 1984-11-09 |
Family
ID=22324798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55183668A Expired JPS5945966B2 (ja) | 1979-12-31 | 1980-12-24 | 磁気光学光偏向器ビ−ム再結合装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4281905A (ja) |
| JP (1) | JPS5945966B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4476465A (en) * | 1982-08-30 | 1984-10-09 | Litton Systems, Inc. | Magneto-optic display generator |
| US4600270A (en) * | 1984-04-25 | 1986-07-15 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Beam recombination via cylindrical mirror |
| US4803429A (en) * | 1986-09-15 | 1989-02-07 | California Institute Of Technology | Recovering polarization of light of arbitrary polarization propagating through distoring medium by phase conjugation reflection back through said medium |
| US7106105B2 (en) * | 2004-07-21 | 2006-09-12 | Fairchild Semiconductor Corporation | High voltage integrated circuit driver with a high voltage PMOS bootstrap diode emulator |
| JP4757244B2 (ja) * | 2006-08-23 | 2011-08-24 | 富士通株式会社 | 光ゲートアレイ装置及び光ゲートアレイモジュール |
| US7948680B2 (en) | 2007-12-12 | 2011-05-24 | Northrop Grumman Systems Corporation | Spectral beam combination using broad bandwidth lasers |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1020797B (de) * | 1957-04-09 | 1957-12-12 | Dr August Wetthauer | Optisches Messgeraet nach dem Autokollimationsverfahren |
| US3611181A (en) * | 1968-10-10 | 1971-10-05 | United Aircraft Corp | Laser diffraction grating coupling mirror |
| US3768889A (en) * | 1971-08-04 | 1973-10-30 | Austin Co | Optical system having diverting means |
| US3752563A (en) * | 1971-09-01 | 1973-08-14 | Sperry Rand Corp | Magnetic film stripe domain diffraction |
| US3905675A (en) * | 1973-02-15 | 1975-09-16 | Honeywell Inc | Optical systems having stop means for preventing passage of boundary wave radiation |
-
1979
- 1979-12-31 US US06/108,917 patent/US4281905A/en not_active Expired - Lifetime
-
1980
- 1980-12-24 JP JP55183668A patent/JPS5945966B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56101127A (en) | 1981-08-13 |
| US4281905A (en) | 1981-08-04 |
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