JPS5941954B2 - Manufacturing method of high-density ceramic sintered body - Google Patents

Manufacturing method of high-density ceramic sintered body

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JPS5941954B2
JPS5941954B2 JP57231678A JP23167882A JPS5941954B2 JP S5941954 B2 JPS5941954 B2 JP S5941954B2 JP 57231678 A JP57231678 A JP 57231678A JP 23167882 A JP23167882 A JP 23167882A JP S5941954 B2 JPS5941954 B2 JP S5941954B2
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glass
ceramic
hip
density
gas
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保夫 樋端
清久 江口
実 木下
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Agency of Industrial Science and Technology
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、高密度セラミック焼結体の製造に関し、更に
詳しくは高温静水圧下(以乍HIPという)で多孔質セ
ラミックス体を焼結して高密度セラミック焼結体を得る
新規な製造法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to the production of a high-density ceramic sintered body, and more specifically, the present invention relates to the production of a high-density ceramic sintered body by sintering a porous ceramic body under high temperature isostatic pressure (hereinafter referred to as HIP). Concerning a new manufacturing method for obtaining.

最近、セラミックスは極めて高い温度、高度の真空、大
きな応力、高腐食性などの苛酷な環境で使用される唯一
の材料として各種の難焼結性セラミック材料について開
発研究が盛んである。
Recently, as ceramics are the only materials used in harsh environments such as extremely high temperatures, high vacuums, large stresses, and high corrosivity, research and development on various ceramic materials that are difficult to sinter have been actively conducted.

特に省エネルギーを目的とした各種熱機関の熱効率改善
のためには熱機関の入口温度を飛躍的に向上させること
か求められ、その熱を失わないための効率のよい高温構
造材料が検討されてきている。
In particular, in order to improve the thermal efficiency of various heat engines for the purpose of energy conservation, it is required to dramatically increase the inlet temperature of the heat engine, and efficient high-temperature structural materials to prevent heat loss have been studied. There is.

ところが、かかる高温下で使用される材料は従来の耐熱
合金では満足な熱的、機械的強度が得られず、資源的に
も多量に産出するセラミックスの金属代替材料としての
期待は大きいものになりつつある現状である。
However, conventional heat-resistant alloys cannot provide sufficient thermal and mechanical strength for materials used under such high temperatures, and ceramics, which are abundantly produced in terms of resources, have great expectations as metal substitute materials. This is the current situation.

また、かかるセラミック材料は、耐摩耗性にも優れてい
るので、各種のダイカスト型材やノズル等の材料として
も注目されている。
Furthermore, since such ceramic materials have excellent wear resistance, they are attracting attention as materials for various die-casting shapes, nozzles, and the like.

かかるセラミック焼結体の製造としては、一般に熱間加
圧成形法いわゆるホットプレス法が好ましいとされてい
るが、この方法においてはセラミック素材を比較的単純
な形状の挿し型内で熱間加圧成形するため、例えばガス
タービン用翼車や機械用歯車などの複雑な形状部品を成
形製造することは困難であり、また用いる型材が黒鉛製
、アルミナ製などのため、熱間加圧圧力はせいぜい数百
気圧であって各種のセラミック焼結体製品製造には大き
な技術的制約となっている。
In general, it is said that hot pressing is preferable for manufacturing such ceramic sintered bodies, but in this method, a ceramic material is hot pressed in a mold with a relatively simple shape. For example, it is difficult to mold parts with complex shapes such as gas turbine impellers or mechanical gears, and since the mold materials used are made of graphite or alumina, hot pressing pressure is limited at best. The pressure is several hundred atmospheres, which is a major technical constraint for manufacturing various ceramic sintered products.

ところが、最近セラミック成形において、セラミック粉
末を所定形状に冷間加圧成形して得られる成形体又は該
成形体を予備焼結して得られる予備焼結体に、アルゴン
ガス(Arガヌ)、窒素ガス(N2ガス)等の高温高圧
ガス媒体を作用させて高密度化焼結させるHIP法が提
案されている。
However, recently, in ceramic molding, argon gas (Ar gas), A HIP method has been proposed in which high-temperature, high-pressure gas medium such as nitrogen gas (N2 gas) is used to sinter to increase the density.

即ちHIP法はセラミック成形体もしくは予備焼結体を
高温高圧を加えることが可能な高圧容器内に入れ、50
0〜3000気圧のガス圧と1300〜2500°Cま
での温度を作用させ、高圧力、高温度の作用でセラミッ
クスをより等力的に加圧焼結するものである。
That is, in the HIP method, a ceramic molded body or pre-sintered body is placed in a high-pressure container capable of applying high temperature and high pressure.
A gas pressure of 0 to 3,000 atmospheres and a temperature of 1,300 to 2,500°C are applied, and ceramics are pressure-sintered more uniformly by the action of high pressure and temperature.

かかるHIP法は圧媒体としてArガヌあるいはN2ガ
スを使用するため、予備成形体もしくは予備焼結体の表
面がガス不透過性であることが必須とされている。
Since the HIP method uses Ar gas or N2 gas as a pressure medium, it is essential that the surface of the preformed body or presintered body be gas impermeable.

そのためセラミックへのHIP法の使用に当っては、■
予備成形体もしくは予備焼結体の密度が93係以上、好
ましくは95%以上に高密度化しガス不透過性とした成
形体に二次的にHIP法を作用させてより高密度化させ
る、■予備成形体もしくは予備焼結体の密度が9307
0以下の場合にはガス不透過性のカプセルに封入し、該
カプセル外部から高温高圧ガス圧を作用させて高密度化
させる、■前記■におけるカプセルの代りにガス不透過
性膜、例えばガラス状物質で被覆シールし、HIP処理
して高密度化させる等の公知の方法がある。
Therefore, when using the HIP method on ceramics,
The preformed body or presintered body is densified to a density of 93% or higher, preferably 95% or higher, and is made gas impermeable, and the HIP method is secondarily applied to the molded body to further increase the density. The density of the preformed body or presintered body is 9307
0 or less, the capsule is sealed in a gas-impermeable capsule, and the capsule is densified by applying high-temperature, high-pressure gas pressure from the outside of the capsule. There are known methods such as coating and sealing with a substance and HIPing to densify.

しかしながらこれらの方法にはいずれも難点がある。However, all of these methods have drawbacks.

即ち、前記■の方法では、セラミック素材を比較的高温
で2回焼結させることが必要であり、その結果セラミッ
ク成形に関しては相当高価となり、高付加価値のあるセ
ラミック素材に対してのみ利用価値が見い出されるに過
ぎない。
That is, in the method (2) above, it is necessary to sinter the ceramic material twice at a relatively high temperature, and as a result, ceramic molding becomes quite expensive, and the utility value is limited only to ceramic materials with high added value. It's just being discovered.

また前記■の方法は、一度の高温処理で焼結が可能であ
るため、前記■の方法に比し安価にセラミック成形体の
高密度化焼結が可能であるが、■の方法におけるカプセ
ル化によるHIP処理では複雑な形状を有する焼結体を
得ることは困難である。
In addition, method (1) allows sintering to be performed with a single high-temperature treatment, so it is possible to sinter the ceramic molded body to a higher density at a lower cost than method (2). It is difficult to obtain a sintered body having a complicated shape by the HIP process.

この点前記■の方法は、最終形状に近い状態でシール材
を被覆しHIP処理できる方法であり、最も期待されて
いる方法である。
In this regard, the method (2) above is the most promising method because it allows the HIP treatment to be performed by covering the sealing material in a state close to the final shape.

而して高圧ガス不透過性膜を形成し得るシール材として
パイレックスガラス、石英ガラス及びバイコールガラス
(高ケイ酸ガラス)が知られている。
Pyrex glass, quartz glass, and Vycor glass (high silicate glass) are known as sealing materials that can form a high-pressure gas-impermeable membrane.

しかしながら、前述の如く熱機関や高耐摩耗材料として
有力なセラミック素材には焼結温度1500℃以上を必
要とするものが多く、それ故今日までに知られているシ
ール材はいずれも不適当である。
However, as mentioned above, many ceramic materials that are effective as heat engines and highly wear-resistant materials require a sintering temperature of 1500°C or higher, and therefore, all sealants known to date are unsuitable. be.

例えば、パイレックスガラスはアルカリ分を4係程度含
んでいるので、高温では粘度が低く、セラミック多孔体
への被覆は簡単であるが、多孔体内部へのガラスの侵入
が著しくHIP処理後のセラミック焼結体の機能が著し
く阻害されるという欠点を有している。
For example, Pyrex glass has an alkali content of about 4, so it has a low viscosity at high temperatures and is easy to coat on ceramic porous bodies, but the glass tends to penetrate into the porous body after ceramic firing after HIP treatment. It has the disadvantage that the function of the body is significantly inhibited.

また石英ガラスやバイコールガラスは、高温でも粘性が
非常に高く、パイレックスガラスの如き欠点を有してい
ないが、ガラス膜の形成には1500℃以上の高温が必
要であり、しかも該ガラスは1200〜1300℃で結
晶化が進み失透するので、HIP処理が可能なガス不透
過性石英ガラス及びバイコールガラス膜の被覆は困難で
あるという欠点を有している。
Furthermore, quartz glass and Vycor glass have very high viscosity even at high temperatures and do not have the drawbacks of Pyrex glass, but high temperatures of 1500°C or higher are required to form a glass film, and the glass Since crystallization progresses and devitrification occurs at 1300° C., it has the disadvantage that it is difficult to coat gas-impermeable quartz glass and Vycor glass films that can be subjected to HIP treatment.

本発明者らは、斯かる現状に鑑み従来のシール材の如き
欠点を有しない新規なシール材を開発すべく鋭意研究を
重ねた結果、高ケイ酸質多孔性ガラス又はその窒化物ガ
ラスが所望のシール材になり得ることを見い出した。
In view of the current situation, the inventors of the present invention have conducted extensive research to develop a new sealing material that does not have the drawbacks of conventional sealing materials, and have found that highly silicic acid porous glass or its nitride glass is desirable. discovered that it can be used as a sealing material.

本発明は斯かる知見に基づき完成されたものである。The present invention was completed based on this knowledge.

即ち本発明は、予備成形もしくは予備焼結したセラミッ
ク多孔体をシール材で被覆し、高温静水圧下に焼結処理
して高密度セラミック焼結体を製造する方法において、
シール材として高ケイ酸質多孔性ガラス又はその窒化物
ガラスを使用することを特徴とする高密度セラミック焼
結体の製造法に係る。
That is, the present invention provides a method for manufacturing a high-density ceramic sintered body by covering a preformed or presintered ceramic porous body with a sealing material and sintering it under high temperature isostatic pressure.
The present invention relates to a method for manufacturing a high-density ceramic sintered body, characterized in that a high-silicate porous glass or a nitride glass thereof is used as a sealing material.

本発明で用いられる高ケイ酸質多孔性ガラスは、110
0〜1200℃という比較的低温でガラス化し、かつ一
度無孔化すると石英と同じか又はそれ以上の高粘性を示
すため、セラミック多孔体表面に簡単にガス不透過性被
膜を形成することが可能であり、またセラミック多孔体
の内部にガラスが侵入してHIP処理後のセラミック焼
結体の機能を著しく阻害する恐れもない。
The high silicic acid porous glass used in the present invention is 110
It vitrifies at a relatively low temperature of 0 to 1200℃, and once it becomes non-porous, it exhibits a high viscosity equal to or higher than quartz, making it possible to easily form a gas-impermeable film on the surface of a porous ceramic material. Moreover, there is no fear that glass will enter the inside of the ceramic porous body and significantly impede the function of the ceramic sintered body after HIP treatment.

それ数本発明の方法によれば、セラミック体を最終成形
品形状に近い状態でHIP処理して容易に高密度焼結体
を得ることができる。
Furthermore, according to the method of the present invention, a high-density sintered body can be easily obtained by HIPing a ceramic body in a state close to the final molded product shape.

本発明において、予備成形もしくはこれを予備焼結した
セラミック多孔体とは、n、I、TV族元素酸化物、炭
化物、窒化物又はほう化物を母材とするものである限り
なんら特定されるものではなく、例えばこれを一般公知
の成形法、即ち金型成形、ラバープレス成形、挿し出し
成形、射出成形等によって所定形状に成形したもの又は
これを通常のホットプレス法、常圧焼結法、窒化物や炭
化物においては反応焼結法等によって予備焼結して得ら
れる多孔質のセラミック成形体を広く使用できる。
In the present invention, the preformed or presintered ceramic porous body is not specified in any way as long as the base material is an oxide, carbide, nitride, or boride of an n, I, or TV group element. Rather, for example, it is molded into a predetermined shape by a generally known molding method, that is, mold molding, rubber press molding, insertion molding, injection molding, etc., or it is molded into a predetermined shape by a conventional hot pressing method, normal pressure sintering method, For nitrides and carbides, porous ceramic compacts obtained by preliminary sintering using a reaction sintering method or the like can be widely used.

また必要に応じこれらの成形工程中に加えられる各種バ
インダーの添加や焼結助剤として公知の添加物等の予め
の混合は、本発明ではなんら差し支えない。
Further, in the present invention, there is no problem with the addition of various binders and the pre-mixing of known additives as sintering aids, which are added during these molding steps as necessary.

また本発明で用いられるセラミック多孔体は、密度が9
3係以下のもので良く、これ以上の高密度予備成形体で
は本発明の方法を使用しなくてもHIP処理が可能であ
る。
Furthermore, the ceramic porous body used in the present invention has a density of 9
A preform having a density of 3 or less may be used, and a high-density preform having a density higher than this can be subjected to HIP treatment without using the method of the present invention.

密度が93係以下のセラミック多孔体であってそのあと
の処理中破損しない強度を保持できる成形体であれば本
発明の方法を適用できるが、密度が93係以上のセラミ
ック多孔体であっても本発明の方法を適用することは勿
論可能である。
The method of the present invention can be applied to any ceramic porous body with a density of 93 coefficients or less that can maintain strength to prevent breakage during subsequent processing, but even if it is a ceramic porous body with a density of 93 coefficients or higher. It is of course possible to apply the method of the invention.

本発明で用いられる高ケイ酸質多孔性ガラスはホウケイ
酸塩ガラスを熱処理してNa2O,B2O3相と5i0
2相に分相させ、可溶性のN a 20 、B 203
分を酸によって溶出させて作られるガラスである。
The highly silicate porous glass used in the present invention is produced by heat-treating borosilicate glass to form Na2O, B2O3 phases and 5i0
Separate into two phases, soluble Na 20 and B 203
It is a glass made by eluting the components with acid.

このガラスの化学組成は810294〜98 % 。The chemical composition of this glass is 810294-98%.

B2030.5〜5%、 A72030〜2% 、 N
a200.01%である。
B2030.5~5%, A72030~2%, N
a200.01%.

その細孔径は40〜2000人。細孔容積0.3〜1
cc / g 、細孔表面積50〜6oom/Iのもの
であって、大きな比表面をもつ反応性に富んだガラス素
材である。
Its pore size is 40-2000. Pore volume 0.3-1
cc/g, pore surface area of 50 to 6 oom/I, and is a highly reactive glass material with a large specific surface.

このものは1000〜1200℃に加熱すると無孔化し
て均一なガラスとなる。
When this material is heated to 1000 to 1200°C, it becomes non-porous and becomes a uniform glass.

本発明では上記ガラスをセラミック予備成形体もしくは
予備焼結した前記セラミック多孔体の表面に塗布する。
In the present invention, the glass is applied to the surface of the ceramic preform or the presintered ceramic porous body.

塗布法としては、水またはアルコールなどの溶媒中でス
ラリー状とし、この中へのドブ漬け、吹付け、ハケによ
る塗布等測れの方法でも良い。
The coating method may include making a slurry in a solvent such as water or alcohol, dipping it in the slurry, spraying, brushing, or other methods.

この際スラリー中へ醋酸セルローズ。PVAなどの各種
の糊を0.1〜2係添加すると塗布後の性状を良くする
ことができる。
At this time, cellulose acetic acid is added to the slurry. By adding 0.1 to 2 parts of various glues such as PVA, the properties after coating can be improved.

塗布すべき厚さとしては約10μ以上、好ましくは10
0μ以上塗布するのがよいが、数mr/L以上厚くする
必要はない。
The thickness to be applied is about 10μ or more, preferably 10μ
It is preferable to apply a coating of 0μ or more, but it is not necessary to make it thicker than several mr/L.

ガラス粉を塗布したセラミック多孔体は複雑形状のもの
でもよく、これを通常900°C以上、望ましくは10
00〜1200°Cで焼成すれば該セラミック多孔体表
面にガス不透過性ガラス膜シールができHIP処理が可
能となる。
The ceramic porous body coated with glass powder may have a complex shape, and is usually heated at temperatures of 900°C or higher, preferably 10°C.
If fired at 00 to 1200°C, a gas-impermeable glass membrane seal can be formed on the surface of the ceramic porous body, allowing HIP treatment.

本焼成の際の雰囲気は何れの雰囲気でもよいが、大気中
又は不活性雰囲気で焼成すれば高ケイ酸質ガラスとなり
また窒素雰囲気又はアンモニア雰囲気及びその混合雰囲
気で焼成すると当該高ケイ酸質多孔性ガラスは無孔化す
るときに容易に窒化物ガラスとなる。
The atmosphere during the main firing may be any atmosphere, but firing in the air or an inert atmosphere will result in a highly silicic acid glass, and firing in a nitrogen atmosphere, an ammonia atmosphere, or a mixed atmosphere will result in the highly silicic acid porous glass. When glass becomes non-porous, it easily becomes nitride glass.

これらのガラスは、石英ガラス、バイコールガラスより
も粘度が高くなり、セラミック多孔体内部へのガラス分
の浸入量が低減され、表面層のみにガス不透過性シール
が可能となる。
These glasses have a higher viscosity than quartz glass and Vycor glass, and the amount of glass that penetrates into the ceramic porous body is reduced, making it possible to seal only the surface layer with gas impermeability.

石英ガラスでは、反応性が低く、前記処理では窒化物ガ
ラスとなり難い。
Quartz glass has low reactivity and is difficult to convert into nitride glass through the above treatment.

また本発明では、高ケイ酸質多孔質ガラス粉末を塗布す
るよりも、予め該ガラスを窒化し、窒化物ガラスとして
粉末を作り、前記方法でセラミック多孔体表面に塗布し
て加熱処理し、表面被覆シールすることによっても、同
様のHIP処理は可能である。
In addition, in the present invention, rather than applying a high silicic acid porous glass powder, the glass is nitrided in advance to form a powder as nitride glass, and the powder is applied to the surface of the ceramic porous body using the method described above and heat-treated. A similar HIP treatment is also possible by covering and sealing.

またガラス粉末をスラリー状として塗布後焼成してガス
不透過性ガラス被覆シールする方法では、HIP高圧容
器中でガラスによる被覆と焼結処理とを同時に行うこと
も可能で工程は非常に簡単となる。
In addition, in the method of applying glass powder as a slurry and baking it to seal the gas-impermeable glass, it is possible to perform the glass coating and sintering treatment at the same time in a HIP high-pressure container, making the process extremely simple. .

このほか高ケイ酸質多孔性ガラスもしくはそれを窒化し
た窒化物ガラス粉末中にセラミック多孔体を埋没し、8
00〜1100°Cで多孔体が破損しない程度の加圧で
ホットプレスし、ガス不透過性ガラス被覆シールを行う
方法も使用できる。
In addition, a ceramic porous body is buried in high silicic acid porous glass or nitride glass powder obtained by nitriding it.
It is also possible to use a method in which the porous body is hot-pressed at 00 to 1100° C. under a pressure that does not damage the porous body, and a gas-impermeable glass-coated seal is formed.

下記第1表に主なガラスの軟化点と高温粘性とを示す。Table 1 below shows the softening points and high temperature viscosity of main glasses.

本発明においてHIP処理の際の焼成条件としては特に
匍眼がなく広い範囲内で適宜選択することができるが、
通常1300℃以上の温度で、500〜3000気圧の
ガス圧の下にHIP処理するのがよい。
In the present invention, the firing conditions during HIP treatment are not particularly specific and can be appropriately selected within a wide range.
The HIP treatment is usually carried out at a temperature of 1300° C. or higher and a gas pressure of 500 to 3000 atm.

この高ケイ酸質多孔性ガラスを窒化して得られるガラス
被覆シール材は、HIP処理条件でも失透することがな
く、石英ガラス(1300℃以上で失透する)以上の粘
性をもち、高温焼結の必要な窒化物系、炭化物系、はう
化物系セラミック材料のHIP処理には最適のシール材
であり、セラミック多孔体からHIP処理して高密度焼
結体、特に最終成品形状にとられれない被覆シールが可
能であるため、最終成形形状に近い状態のHIP焼結成
形体が得られる特徴がある。
The glass-coated sealing material obtained by nitriding this highly silicic acid porous glass does not devitrify even under HIP treatment conditions, has a viscosity higher than that of quartz glass (which devitrifies at temperatures above 1300°C), and is sintered at high temperatures. It is an optimal sealing material for HIP processing of nitride-based, carbide-based, and ferride-based ceramic materials that require bonding. Since it is possible to cover and seal the HIP sintered body in a state close to the final molded shape, it is possible to obtain a HIP sintered body in a state close to the final molded shape.

以下に実施例及び比較例を挙げる。Examples and comparative examples are listed below.

実施例 1 si3N4粉末(Stark社製LC−10)に¥20
3−A1203系焼結助剤を8重量係添加し、十分混合
後3000気圧でラバプレス成形した。
Example 1 ¥20 for si3N4 powder (LC-10 manufactured by Stark)
8 parts by weight of 3-A1203 type sintering aid were added, and after thorough mixing, rubber press molding was carried out at 3000 atm.

これによって得られた嵩密度は63%、気孔率37係で
ある。
The bulk density thus obtained was 63% and the porosity was 37%.

これを高ケイ酸質多孔質ガラス粉末(細孔容積Q、3c
c/g、平均細孔径150人、細孔表面積180 mニ
ア g、平均粒径0.1 mm )と醋酸セルローズ1
%含有アルコール溶液で作ったスラリーにドブ漬けし、
表面に1mvt厚さの塗膜をつけた。
This is a high silicic acid porous glass powder (pore volume Q, 3c
c/g, average pore diameter 150 g, pore surface area 180 mnia g, average particle size 0.1 mm) and cellulose acetate 1
% in a slurry made with an alcohol solution,
A coating film with a thickness of 1 mvt was applied to the surface.

乾燥後このものをアンモニア浴を通したN2ガス流(流
速50cc/m1n)中12008C30分処理した。
After drying, it was treated with 12008C for 30 minutes in a flow of N2 gas (flow rate 50 cc/ml) through an ammonia bath.

処理した素材をHIP装置に入れ、第1図に示した昇温
スケジュールでHIP処理した。
The treated material was placed in a HIP device and subjected to HIP treatment according to the temperature increase schedule shown in FIG.

最終HIP条件は1800℃の温度、60分間、200
0気圧Arガス圧である。
Final HIP conditions were 1800°C temperature, 60 minutes, 200°C
The Ar gas pressure is 0 atm.

得られた結果を第2表に記す。The results obtained are shown in Table 2.

比較例 1 前記実施例1に記載した条件のセラミック多孔体を石英
ガラス粉末スラリーで塗布し、1300°C30分熱処
理した素材を実施例1と同様HIP処理した。
Comparative Example 1 A ceramic porous body under the conditions described in Example 1 above was coated with quartz glass powder slurry and heat treated at 1300° C. for 30 minutes.The material was then subjected to HIP treatment in the same manner as in Example 1.

結果を第2表に記す。得られる焼結体は緻密化が進行し
ていないことが第2表かられかる。
The results are shown in Table 2. Table 2 shows that the obtained sintered body was not densified.

実施例 2 SiC粉末(不二見製+5ooo)を前記実施例1と同
様ラバープレス成形した。
Example 2 SiC powder (manufactured by Fujimi +5ooo) was rubber press molded in the same manner as in Example 1 above.

嵩密度は58係である。The bulk density is 58.

これに高ケイ酸質多孔質ガラス粉末より作ったスラリー
をハケを用いて塗布し、乾燥後NH3浴を通したN2ガ
ヌ(流速50cc/m1n)雰囲気中、1200℃で処
理して得た素材を第2図で示すHIPスケジュールで焼
結した。
A slurry made from highly silicic acid porous glass powder was applied to this using a brush, and after drying, it was processed at 1200°C in an atmosphere of N2 gas through an NH3 bath (flow rate 50cc/m1n). was sintered according to the HIP schedule shown in FIG.

結果を第2表に示す。The results are shown in Table 2.

この表には石英ガラス粉末で同様処理を行ったものも併
記した。
In this table, quartz glass powder subjected to the same treatment is also listed.

実施例 3 si3N4粉末に前記実施例1と同様¥203−A12
03系助剤を12重量係加え、ラバプレス後、9.8気
圧N2下1800℃で1時間常圧焼結した。
Example 3 Same as Example 1 for si3N4 powder ¥203-A12
03 type auxiliary agent was added in an amount of 12 weight, and after rubber pressing, normal pressure sintering was performed at 1800° C. for 1 hour under 9.8 atmospheres of N2.

成形密度は91%相対密度であった。The compacted density was 91% relative density.

この表面に一つは前記実施例1と同様の方法で高ケイ酸
質多孔質ガラス粉末を塗布し熱処理したもの、もう一つ
はホットプレス型中で高ケイ酸質多孔質ガラス粉末中に
埋没させ1000℃、10分間100kg/傭キ加圧し
てガラスシールしたものを作った。
One is coated with high silicic acid porous glass powder and heat treated in the same manner as in Example 1, and the other is embedded in high silicic acid porous glass powder in a hot press mold. A glass-sealed product was prepared by applying a pressure of 100 kg/kg for 10 minutes at 1000°C.

これを実施例1と同様のHIP処理スケジュールでHI
P焼結した。
This was performed using the same HIP processing schedule as in Example 1.
P was sintered.

その結果を第2表に示した。同時に常圧焼結体でガラス
シールしていないHIP処理結暖も示した。
The results are shown in Table 2. At the same time, HIP-treated sintered bodies without glass sealing were also shown.

実施例 4 Z r C、Z r B (何れもCerac社製)の
16000C10分 200 kg/cI?Lの条件下
ホットプレス成形したものはそれぞれ相対密度は77係
、83%である。
Example 4 Z r C, Z r B (both manufactured by Cerac) 16000C 10 minutes 200 kg/cI? The relative densities of those hot press molded under the conditions of L are 77% and 83%, respectively.

実施例1と同様の処理によって得られた結果を第2表に
示しである。
Table 2 shows the results obtained by the same treatment as in Example 1.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はS i3 N4系セラミツクスのHIP焼成ス
ケジュールを示したものであり、第2図はSiC系セラ
ミックスのHIP焼成スケジュールを示したものである
FIG. 1 shows the HIP firing schedule for Si3N4 ceramics, and FIG. 2 shows the HIP firing schedule for SiC ceramics.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 予備成形もしくは予備焼結したセラミック多孔体を
シール材で被覆し、高温静水圧下に焼結処理して高密度
セラミック焼結体を製造する方法において、シール材と
して高ケイ酸質多孔性ガラス又はその窒化物ガラスを使
用することを特徴とする高密度セラミック焼結体の製造
法。
1 In a method of producing a high-density ceramic sintered body by covering a preformed or presintered ceramic porous body with a sealing material and sintering it under high temperature isostatic pressure, a high-silicate porous glass is used as the sealing material. Or a method for producing a high-density ceramic sintered body, characterized by using the nitride glass.
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