JPS5940770Y2 - wafer carrier - Google Patents

wafer carrier

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JPS5940770Y2
JPS5940770Y2 JP9664578U JP9664578U JPS5940770Y2 JP S5940770 Y2 JPS5940770 Y2 JP S5940770Y2 JP 9664578 U JP9664578 U JP 9664578U JP 9664578 U JP9664578 U JP 9664578U JP S5940770 Y2 JPS5940770 Y2 JP S5940770Y2
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JP
Japan
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wafer carrier
wafer
support
semiconductor
held
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JP9664578U
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Japanese (ja)
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JPS5512694U (en
Inventor
将昭 貞森
Original Assignee
三菱電機株式会社
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Publication date
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Description

【考案の詳細な説明】 この考案は複数枚の半導体ウニ・・を平行状態に収容保
持するウェハキャリヤに関するものである。
[Detailed Description of the Invention] This invention relates to a wafer carrier that accommodates and holds a plurality of semiconductor urchins in parallel.

半導体ウェハ、殊KLS I用の半導体ウェハば、製造
時の取扱い回数を減じ、かつ製造規模に比較して生産量
を増すなどの生産性向上の立場から、近年特にウェー・
口径を大きくする傾向にあり、例えば口径4ないし5イ
ンチもしくはそれ以上の口径に達しようとしている。
Semiconductor wafers, especially semiconductor wafers for KLSI, have recently become more and more popular in order to improve productivity by reducing the number of times they are handled during manufacturing and increasing production volume relative to the manufacturing scale.
There is a trend towards larger diameters, for example reaching diameters of 4 to 5 inches or more.

また一般に半導体装置の製造に際して欠くことのできな
い工程として、ウェー・に対する熱酸(Is不純物拡散
、金属薄膜形成後の熱処理などがなされる。
Further, in general, indispensable steps in the manufacture of semiconductor devices include thermal acid (Is impurity diffusion) and heat treatment after forming a metal thin film on the wafer.

こ\で従来の半導体ウェハの取扱い手段とその熱処理に
つき、第1図トよび第2図を参照して述べる。
Conventional means for handling semiconductor wafers and their heat treatment will now be described with reference to FIGS. 1 and 2.

第1図は半導体ウェハの取扱いのためのウェハキャリヤ
を示しており、この第1図K>いてウェハキャリヤ1は
、各々に櫛歯状の支持溝1bを有する1対のアルミダイ
キャスト製の支持板1a。
FIG. 1 shows a wafer carrier for handling semiconductor wafers, and the wafer carrier 1 consists of a pair of aluminum die-cast supports each having a comb-like support groove 1b. Board 1a.

1aを設け、各支持板1a、 1aを各々の支持溝ib
、ibを対向させるようにして、スペーサlc、1cK
より結合させたものであり、複数枚の半導体ウェハ2を
、各支持溝1b、lb間に跨がらせて各々平行に挿入保
持し得るようになってかり、この状態で半導体ウェハを
一括して各製造工程に流すよ5にしている。
1a, and each support plate 1a is connected to each support groove ib.
, ib to face each other, spacers lc, 1cK
It is possible to insert and hold a plurality of semiconductor wafers 2 in parallel across the support grooves 1b and 1b, and in this state, the semiconductor wafers can be inserted and held in parallel. I set it to 5 to flow it to each manufacturing process.

そして特に不純物拡散などの熱処理工程においては、第
2図に示されているように、ウェハキャリヤ1によって
運ばれてきた各半導体ウェハ2を、例えば石英製のボー
)3に積載し直して石英管からなる熱処理管4に挿入さ
せるようにしているのである。
Particularly in the heat treatment process such as impurity diffusion, each semiconductor wafer 2 carried by the wafer carrier 1 is reloaded onto a quartz tube 3, for example, as shown in FIG. It is inserted into the heat treatment tube 4 consisting of the following.

しかしてこのような場合、前記ウェハキャリヤ1は、作
業者の千5による支持板1a、laの握持力ん半導体ウ
ェハ2の延長上においてなされるようになっており、し
かも各支持板1a、1aの厚さもまた>Sむね10mn
前後であるために、ウニハロ径が4インチ程度であると
、ウェハキャリヤ1の握持面間隔は120+o+g近く
なり、またウニハロ径が5インチ程度であると、同様に
150m5近くなって、各々に作業者の手5によっては
片手で持運ぶのが困難であり、このために取扱い時点で
持運びのための機械装置が必要となり、無理に持運ぶと
取落してウェハを破損する惧れを生ずるなどの不都合が
あった。
However, in such a case, the wafer carrier 1 is held on an extension of the semiconductor wafer 2 without the grip force of the support plates 1a, 1a by the operator, and each support plate 1a, The thickness of 1a is also >S breast 10mm
Therefore, if the diameter of the sea urchin harrow is about 4 inches, the distance between the gripping surfaces of the wafer carrier 1 will be close to 120 + o + g, and if the diameter of the sea urchin harrow is about 5 inches, it will be close to 150 m5, and each work Depending on the person's hands 5, it is difficult to carry the wafer with one hand, and therefore a mechanical device is required to carry it at the time of handling, and if carried forcibly, there is a risk of it falling and damaging the wafer. There were some inconveniences.

そしてまた前記第2図□示す熱処理に際しては、ボー)
3に積載される半導体ウェハ2の積載方向を、熱処理管
4に導入されるガスの流れ方向6に対して平行にするこ
とが、ガスとの接触を良好にして処理効率を高める上で
肝要とされるが、前記ウェハキャリヤ1に保持される半
導体ウエノ)2の保持方向と、このボート3への半導体
ウェー・2の積載方向とが相反しているために、その移
し替えに困難を伴なうという欠点もあった。
Also, during the heat treatment shown in Figure 2 □,
It is important to make the loading direction of the semiconductor wafers 2 in the heat treatment tube 3 parallel to the flow direction 6 of the gas introduced into the heat treatment tube 4 in order to improve the contact with the gas and improve the processing efficiency. However, since the holding direction of the semiconductor wafers 2 held on the wafer carrier 1 and the loading direction of the semiconductor wafers 2 on the boat 3 are contradictory, it is difficult to transfer them. There was also a drawback.

この考案は前記のような従来の欠点を改善するため、作
業者の手によるウェハキャリヤの握持面に対して、この
ウェハキャリヤに挿入保持される半導体ウェハの保持方
向を平行とし、ウエノ・の収容枚数を握特に支障を来た
さない範囲としたものである。
In order to improve the above-mentioned conventional drawbacks, this invention makes the holding direction of the semiconductor wafer inserted and held in the wafer carrier parallel to the gripping surface of the wafer carrier by the operator's hand, and The number of sheets that can be accommodated is kept within a range that does not cause any problems.

以下この考案に係わるウニ・・キャリヤの実施例につき
、第3図ないし第6図を参照して詳細に説明する。
Hereinafter, embodiments of the sea urchin carrier according to this invention will be described in detail with reference to FIGS. 3 to 6.

第3図は一実施例によるウェハキャリヤを示してかり、
この実施例によるウェハキャリヤTは、各々片側に複数
個の支持溝rb、rbを有し、かつこれら支持溝Ib列
の延長上の両端部を握持面7c 、7cとした2個の支
持板7a、7aと、両側に複数個の支持溝re、7eを
有し、かつ同様にその延長上の両端部を握持面7f、7
fとした1個の支持板1dとを設け、支持板7dの各支
持溝7e、7eに、各支持板7a、?aの各支持溝7b
、7bを所定間隔で相対向させるように、各各にスペー
サ7gにより結合させたものである。
FIG. 3 shows a wafer carrier according to one embodiment;
The wafer carrier T according to this embodiment has two support plates each having a plurality of support grooves rb, rb on one side, and having gripping surfaces 7c, 7c at both ends of the extension of the row of support grooves Ib. 7a, 7a, and a plurality of support grooves re, 7e on both sides, and similarly gripping surfaces 7f, 7 on both ends of the extension thereof.
One support plate 1d is provided, and each support plate 7a, ?f is provided in each support groove 7e, 7e of the support plate 7d. Each support groove 7b of a
, 7b are connected to each other by spacers 7g so as to face each other at a predetermined interval.

なお図中7hは各支持溝7b 、7eを横切る方向に設
けた溝止めである。
In the figure, reference numeral 7h indicates a groove stopper provided in a direction across each of the support grooves 7b and 7e.

従ってこの第3図実施例の構成では、例えば支持溝7b
、7eの溝数を10個とし、かつ溝ピッチを4.8mm
とすると、各握持面7c、7cおよび7f 、7f間の
間隔71をおSよそ70mm程度とすることができるも
のであり、一方、各支持溝7b、7eの溝底間の間隔7
jば、保持しようとする半導体ウェハ2の口径に合わせ
て任意に設定できるために、このウェハキャリヤIをし
て、半導体ウェハ2の口径の大小に拘らず、作業者の千
5により容易かつ簡単に持運ぶことができるのであす、
シかも1台のウェハキャリヤlに保持する半導体ウェハ
2の個数も筐た、たとえ1組の支持溝rb、7e間で保
持する個数こそ限定されるが、これを複数組並列させる
ことで従来と同数もしくはそれ以上を保持し得るもので
ある。
Therefore, in the configuration of this embodiment in FIG. 3, for example, the support groove 7b
, the number of grooves in 7e is 10, and the groove pitch is 4.8 mm.
In this case, the distance 71 between the gripping surfaces 7c, 7c and 7f, 7f can be approximately 70 mm, while the distance 7 between the groove bottoms of the support grooves 7b, 7e can be approximately 70 mm.
For example, since the wafer carrier I can be arbitrarily set according to the diameter of the semiconductor wafer 2 to be held, the wafer carrier I can be used easily and easily by operators regardless of the diameter of the semiconductor wafer 2. You can carry it to the next day.
However, the number of semiconductor wafers 2 that can be held in one wafer carrier l is also limited. Even though the number of semiconductor wafers 2 that can be held between one set of support grooves rb and 7e is limited, by arranging multiple sets of these in parallel, it is possible to It can hold the same number or more.

そしてこの第3図実施例によるウェハキャリヤ7は、各
支持溝7b、7eK対して半導体ウェハ2を自動的に出
し入れするように使用できる。
The wafer carrier 7 according to the embodiment in FIG. 3 can be used to automatically take the semiconductor wafer 2 into and out of each of the support grooves 7b and 7eK.

この状態を第4図に示しである。This state is shown in FIG.

すなわちこの第4図にトいて、ウェハキャリヤ主は、ウ
ェハ振出人装置8に対して、その支持溝ピッチに相当し
て、上下作動可能なように水平に装着させておき、装置
8上に形成させたエアベアリング8a 、8aを作動さ
せることにより、前記従来のウェハキャリヤ1と全く同
様に使用できるのである。
That is, in FIG. 4, the main wafer carrier is mounted horizontally on the wafer dispenser device 8 so that it can move up and down, corresponding to the pitch of its support grooves, and the wafer carrier By operating the air bearings 8a and 8a, the wafer carrier 1 can be used in exactly the same way as the conventional wafer carrier 1 described above.

また第5図は他の実施例によるウェハキャリヤを示して
いる。
FIG. 5 also shows a wafer carrier according to another embodiment.

このウェハキャリヤ9ば、各々に両側に複数個の支持溝
9b、9bを有し、かつこれら支持溝rb列の延長上の
両端部に握持面9c。
This wafer carrier 9 has a plurality of support grooves 9b, 9b on both sides, and gripping surfaces 9c at both ends of the extension of the support grooves rb.

9cを形成してなる同一形状の複数個の支持板9aを用
いたものであり、この実施例では各支持板9a相互の各
支持溝9bを前例と同様に、所定間隔で相対向するよう
にスペーサ9dで結合させ、かつ各支持溝9kl溝止め
9eを症して、1グループづXの半導体ウニ・・2を、
各グループ内では握持面9cVC平行するように保持さ
せると共に、複数グループを互いに並列するように配し
たものである。
In this embodiment, the supporting grooves 9b of each supporting plate 9a are arranged so as to face each other at a predetermined interval, as in the previous example. The semiconductor sea urchins . . . 2 in groups of
Within each group, the grip surfaces 9cVC are held parallel to each other, and a plurality of groups are arranged in parallel to each other.

こSでこの第5図実施例での利点は、前記第3図実施例
に対して、支持板9aの個数を簡単に増減できることで
あり、これによって1回に取扱う半導体ウェハ2の個数
、すなわちウェハのバッチ量が変更可能な点であって、
製造工程の組み替えを容易に行なえる特長がある。
The advantage of the embodiment shown in FIG. 5 is that the number of support plates 9a can be easily increased or decreased compared to the embodiment shown in FIG. The point is that the batch amount of wafers can be changed,
It has the advantage of making it easy to rearrange the manufacturing process.

そしてこの第5図実施例によるウェハキャリヤ主は、特
に前記した熱処理に際して、このウェハキャリヤ主に保
持されている半導体ウェハ2を、ボー[移し替える場合
に効果的に使用できる。
The wafer carrier according to the embodiment shown in FIG. 5 can be effectively used especially when transferring the semiconductor wafer 2 held by the wafer carrier during the heat treatment described above.

この状態を第6図に示しである。This state is shown in FIG.

すなわち、前記ウェハキャリヤAの出し入れ側上面四隅
部において、各々に位置決め用突起9fおよび穿孔9g
を配しておき、かつ全体をテフロンなどの耐楽品性材料
により構成させ、半導体ウェハ2を保持させた上で、こ
れを硝酸、弗酸などの化学薬品により表面処理し、つい
でこのウエノ・キャリヤ9に対して、第6図に示すよう
に、支持溝9bに対応する弧状支持溝10aならびに突
起9fK対応する穿孔10bを各々に形成したボート1
0を、各開口部が一致するように突起9fと穿孔10b
とを合わせて被嵌させ、これらを反転することによって
ウェハキャリヤ9に保持されていたすべての半導体ウェ
ハ2を、一括してボート10の弧状支持溝10aK移し
替えることができるのである。
That is, at the four corners of the upper surface of the wafer carrier A on the loading/unloading side, a positioning projection 9f and a perforation 9g are provided at each corner.
The entire structure is made of a wear-resistant material such as Teflon, and after holding the semiconductor wafer 2, the surface of the wafer 2 is treated with chemicals such as nitric acid and hydrofluoric acid. As shown in FIG. 6, for the carrier 9, a boat 1 is provided with an arcuate support groove 10a corresponding to the support groove 9b and a perforation 10b corresponding to the protrusion 9fK.
0, and the protrusion 9f and the perforation 10b so that each opening coincides.
By fitting them together and reversing them, all the semiconductor wafers 2 held on the wafer carrier 9 can be transferred to the arcuate support groove 10aK of the boat 10 at once.

なお渣た前記ウェハキャリヤ9rC形成した穿孔9gは
、同一形状の他のウニ・・キャリヤに移し替れるための
位置決めに利用するものである。
The perforations 9g formed in the residual wafer carrier 9rC are used for positioning when transferring to another wafer carrier of the same shape.

以上詳述したようにこの考案によるときは、握持面間隔
以内に含1れる複数の半導体ウェー・の面を握持面と平
行にしたものであるから、たとえ大口径の半導体ウェハ
を保持する場合でも、このウェハキャリヤを作業員が片
手で握持して持運ぶのに支障を生ずることがなく、従っ
て特に持運びのための機械装置を必要としないほか、ウ
ェハキャリヤにおける半導体ウェハの保持方向とボート
にむける半導体ウェハの保持方向が同一であるため熱処
理[iしてボートへの移し替えが容易となり、さらに全
体構成も簡単で安価に提供できるなどの特長を発揮し得
るものである。
As detailed above, when using this invention, the surfaces of the plurality of semiconductor wafers included within the gripping surface interval are made parallel to the gripping surface, so even if a large diameter semiconductor wafer is held, Even if the wafer carrier is held in one hand, it will not be a problem for a worker to hold and carry the wafer carrier with one hand, and therefore no special mechanical device is required for carrying it. Since the holding direction of the semiconductor wafer toward the boat is the same, it is easy to transfer the semiconductor wafer to the boat after heat treatment, and the overall structure is simple and can be provided at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来のウェハキャリヤを示す斜視図、第2図は
半導体ウェハを熱処理する場合の態様を示す説明図、第
3図はこの考案に係わるウェハキャリヤの一実施例を示
す斜視図、第4図は同上ウェハキャリヤの使用例を示す
斜視図、第5図はこの考案の他の実施例によるウェハキ
ャリヤを示す斜視図、第6図は同上ウニ・・キャリヤの
他の使用例を示す斜視図である。 2−・・・・・半導体ウェハ、7,9−・・・・・ウェ
ハキャリヤ、7 a 、 7 d 、 9a=支持板、
7b、7e。 9b・・・・・・支持溝、7c 、7f 、9c・・・
・・・握持面、7g、9d・・・・・・スペーサ、7h
y 9 e・・・・・・溝止め。
FIG. 1 is a perspective view showing a conventional wafer carrier, FIG. 2 is an explanatory view showing a mode in which a semiconductor wafer is heat-treated, and FIG. 3 is a perspective view showing an embodiment of a wafer carrier according to this invention. Fig. 4 is a perspective view showing an example of use of the same wafer carrier, Fig. 5 is a perspective view showing a wafer carrier according to another embodiment of the invention, and Fig. 6 is a perspective view showing another example of use of the same urchin carrier. It is a diagram. 2-...Semiconductor wafer, 7,9-...Wafer carrier, 7a, 7d, 9a=support plate,
7b, 7e. 9b...Support groove, 7c, 7f, 9c...
...Gripping surface, 7g, 9d...Spacer, 7h
y 9 e・・・Groove stopper.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 各々に複数個の支持溝を有し、かつこれらの支持溝列の
延長上の両端部を握持面とし、との握持面間隔を作業者
の手で握持てきる大きさとした少なくとも2個の支持板
を設けると共に、この支持板を各支持溝が相対向するよ
うにして着脱自在に結合させ、各支持溝間に半導体ウニ
・・を、握持面に平行するように並列させて保持させる
ことを特徴とするウェハキャリヤ。
At least two pieces, each having a plurality of support grooves, and both ends of the extension of these support groove rows being used as gripping surfaces, and the distance between the gripping surfaces being large enough to be gripped and held by an operator's hand. A support plate is provided, and this support plate is detachably connected with each support groove facing each other, and semiconductor sea urchins are held between each support groove in parallel to the gripping surface. A wafer carrier characterized by:
JP9664578U 1978-07-12 1978-07-12 wafer carrier Expired JPS5940770Y2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9664578U JPS5940770Y2 (en) 1978-07-12 1978-07-12 wafer carrier

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9664578U JPS5940770Y2 (en) 1978-07-12 1978-07-12 wafer carrier

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5512694U JPS5512694U (en) 1980-01-26
JPS5940770Y2 true JPS5940770Y2 (en) 1984-11-20

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ID=29030720

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JP9664578U Expired JPS5940770Y2 (en) 1978-07-12 1978-07-12 wafer carrier

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