JPS5935156B2 - 赤外線放射材料 - Google Patents
赤外線放射材料Info
- Publication number
- JPS5935156B2 JPS5935156B2 JP13675079A JP13675079A JPS5935156B2 JP S5935156 B2 JPS5935156 B2 JP S5935156B2 JP 13675079 A JP13675079 A JP 13675079A JP 13675079 A JP13675079 A JP 13675079A JP S5935156 B2 JPS5935156 B2 JP S5935156B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- infrared emitting
- ceramic
- emitting material
- infrared
- coating film
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- Expired
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、加熱により遠赤外波長の電磁波を放射するセ
ラミックと該セラミックのバインダーおよび塗膜形成材
としての有機金属化合物からなる複合材料に関するもの
である。
ラミックと該セラミックのバインダーおよび塗膜形成材
としての有機金属化合物からなる複合材料に関するもの
である。
従来の赤外線放射材料は、周期律表の第２、３、４、５
周期に属する金属酸化物、あるいは炭化物、および成形
性向上のための可塑剤としての粘土からなるセラミック
にバインダーとしてセラミックフリット、ほうろう、ガ
ラス、耐熱有機塗膜からなつていた。
周期に属する金属酸化物、あるいは炭化物、および成形
性向上のための可塑剤としての粘土からなるセラミック
にバインダーとしてセラミックフリット、ほうろう、ガ
ラス、耐熱有機塗膜からなつていた。
これらの結合剤や粘土は赤外線の牧剤効率を低下させる
問題がある。また加水分解、重合により無機酸化物塗膜
を得る場合、収縮によるクラック発生、あるいは冷熱サ
イクルによるクラック発生の問題がある。本発明は、セ
ラミック原料中に粘土を含有することなく焼成し、粉体
化した赤外線放射セラミック粉末を有機金属中に分散し
、加水分解、重合により酸化物塗膜を形成することを特
徴とするもので、形成した塗膜自体も赤外線放射能にす
ぐれた材料とするとともに、クラック、剥離等の問題も
解消するものである。
問題がある。また加水分解、重合により無機酸化物塗膜
を得る場合、収縮によるクラック発生、あるいは冷熱サ
イクルによるクラック発生の問題がある。本発明は、セ
ラミック原料中に粘土を含有することなく焼成し、粉体
化した赤外線放射セラミック粉末を有機金属中に分散し
、加水分解、重合により酸化物塗膜を形成することを特
徴とするもので、形成した塗膜自体も赤外線放射能にす
ぐれた材料とするとともに、クラック、剥離等の問題も
解消するものである。
以下にその詳細を説明する。
一般式ＳｉｎＯｎＨ（ＯＲ）２ｎ＋２から生成した５１
０２膜は、放射波長域の短波長側を拡大することができ
、また、一般式ＴｉｎＯｎ−２（０Ｒ）２ｎ＋２から生
成したＴｉＯ２膜は、１０〜２０μ域の放射性能を向上
させることができる。このように塗膜形成成分は造膜機
能を有するがけでなく赤外線放射能力おもそなえており
、分散されている赤外線放射セラミックとあいまつて高
い放射率を得ることができる。赤外線放射セラミックと
しては熱膨張の非常に小さいジルコニア系セラミック２
を用い、かつ、放射特性との関係を種々検討した結果、
セラミック粉末：無機酸化物換算ビヒルクルはＳｉＯ２
の場合１００：１０〜５、ｔｉＯ２の場合１００：１５
〜２が最適であることを見出した。
０２膜は、放射波長域の短波長側を拡大することができ
、また、一般式ＴｉｎＯｎ−２（０Ｒ）２ｎ＋２から生
成したＴｉＯ２膜は、１０〜２０μ域の放射性能を向上
させることができる。このように塗膜形成成分は造膜機
能を有するがけでなく赤外線放射能力おもそなえており
、分散されている赤外線放射セラミックとあいまつて高
い放射率を得ることができる。赤外線放射セラミックと
しては熱膨張の非常に小さいジルコニア系セラミック２
を用い、かつ、放射特性との関係を種々検討した結果、
セラミック粉末：無機酸化物換算ビヒルクルはＳｉＯ２
の場合１００：１０〜５、ｔｉＯ２の場合１００：１５
〜２が最適であることを見出した。
なおこれ以上では塗布後溶剤乾燥とともにクラックが発
生し、１０以上では塗膜が得られない。また熱処理につ
いては、１００℃以下で溶剤を蒸発させ３００〜４００
℃で１０−１５分熱処理（重合）するさとによつて良好
な耐クラック性を付与することができる。次に赤外放射
セラミックに関しては粘土を用いづに焼成することを特
徴としている。
生し、１０以上では塗膜が得られない。また熱処理につ
いては、１００℃以下で溶剤を蒸発させ３００〜４００
℃で１０−１５分熱処理（重合）するさとによつて良好
な耐クラック性を付与することができる。次に赤外放射
セラミックに関しては粘土を用いづに焼成することを特
徴としている。
即ち粘土を用いないと焼成源度を高くする欠点はあるが
焼成後粉砕するため成型形状はタブレット状のような簡
単な形状のものでよく成型性については考慮する必要は
ない。また高温における電気絶縁性の低下と赤外線牧射
特性の関連からジルコンは５０〜５９％の範囲とした。
前記ジルコンのみでは、１０〜２０μの波長域で故射率
の低下があるためこの領域で孜射率の高い酸化チタン１
５〜２０％の範囲で加えることにより改善できる。２０
％以上になると５５０℃付近の変態によりクラツクが発
生しやすくなることから不都合となり、１５％以下では
牧射率改善が顕著でない。
焼成後粉砕するため成型形状はタブレット状のような簡
単な形状のものでよく成型性については考慮する必要は
ない。また高温における電気絶縁性の低下と赤外線牧射
特性の関連からジルコンは５０〜５９％の範囲とした。
前記ジルコンのみでは、１０〜２０μの波長域で故射率
の低下があるためこの領域で孜射率の高い酸化チタン１
５〜２０％の範囲で加えることにより改善できる。２０
％以上になると５５０℃付近の変態によりクラツクが発
生しやすくなることから不都合となり、１５％以下では
牧射率改善が顕著でない。
炭化ジルコニウムを１０〜１５％加えることにより黒体
化でき、故射率を向上できる。クロム、マンガン、鉄、
コバルナ、ニツケル、銅、亜鉛の酸化物はいわゆる鉱化
剤であり、この中から選ばれた一種以上の鉱化剤１〜１
０％によりセラミツクの熱膨張係数を小さくし、クラツ
ク発生を防止できる。実施例 １ ＺｒＳ１０４５９ｗｔ％、ＺｒＣｌ５％、ＴｉＯ２２Ｏ
％、Ｃｒ２Ｏ３２％、ＭｎＯ２３％、Ｆｅ２Ｏ３ｌ％に
適量の水を加え、ボールミル中で混練後、一定水分まで
乾燥し、加圧成型後１４５０℃で焼成後粉砕し３００Ｍ
ｅｓｈ全通粉１００ｙをテトラブチルタネート２０％ミ
ネラルスピリツト溶液３０９に加え３本ロールで混練後
、３００φのアルミニウム板に塗布し１００℃で５時間
乾燥し４００℃で１０分熱処理した。
化でき、故射率を向上できる。クロム、マンガン、鉄、
コバルナ、ニツケル、銅、亜鉛の酸化物はいわゆる鉱化
剤であり、この中から選ばれた一種以上の鉱化剤１〜１
０％によりセラミツクの熱膨張係数を小さくし、クラツ
ク発生を防止できる。実施例 １ ＺｒＳ１０４５９ｗｔ％、ＺｒＣｌ５％、ＴｉＯ２２Ｏ
％、Ｃｒ２Ｏ３２％、ＭｎＯ２３％、Ｆｅ２Ｏ３ｌ％に
適量の水を加え、ボールミル中で混練後、一定水分まで
乾燥し、加圧成型後１４５０℃で焼成後粉砕し３００Ｍ
ｅｓｈ全通粉１００ｙをテトラブチルタネート２０％ミ
ネラルスピリツト溶液３０９に加え３本ロールで混練後
、３００φのアルミニウム板に塗布し１００℃で５時間
乾燥し４００℃で１０分熱処理した。
これを８００℃３０分、冷水中３０分を１サイクルとし
て３０サイクルの冷熱サイクル後、剥離は発生しなかつ
た。実施例 ２ 実施例−１で作成したセラミツク粉末をエチルシリケー
ト４０（日本コルコート製）５０％、イソプロピルアル
コール４５％、水４％、１ｖ０］％塩酸１％のビヒクル
組成物を３０℃で３時間反応させたビヒクル１０９に３
０９加え、三本ロールで混練後３００φのアルミ板に塗
布し、８０℃で３時間乾燥後３５０℃で１５分熱処理し
た。
て３０サイクルの冷熱サイクル後、剥離は発生しなかつ
た。実施例 ２ 実施例−１で作成したセラミツク粉末をエチルシリケー
ト４０（日本コルコート製）５０％、イソプロピルアル
コール４５％、水４％、１ｖ０］％塩酸１％のビヒクル
組成物を３０℃で３時間反応させたビヒクル１０９に３
０９加え、三本ロールで混練後３００φのアルミ板に塗
布し、８０℃で３時間乾燥後３５０℃で１５分熱処理し
た。
これを実施例−１と同様の冷熱サイクルテストの結果ク
ラツク発生はなかつた。以上のようにして得られた赤外
線故射材料の孜射特性を図面に示す。
ラツク発生はなかつた。以上のようにして得られた赤外
線故射材料の孜射特性を図面に示す。
なお図中の１は実施例−１の、２は実施例−２の牧射特
性を示Ｌいずれも赤外線領域で良好な牧射エネルギー強
度を有している。以上説明したように本発明は赤外線故
射材料におけるセラミツクバインダならびに塗膜形成材
が赤外線の故射効率を落さず、しかもクラツク、剥離が
生じないものであり、その工業的価値の大きいものであ
る。
性を示Ｌいずれも赤外線領域で良好な牧射エネルギー強
度を有している。以上説明したように本発明は赤外線故
射材料におけるセラミツクバインダならびに塗膜形成材
が赤外線の故射効率を落さず、しかもクラツク、剥離が
生じないものであり、その工業的価値の大きいものであ
る。
図は本発明の赤外線孜射材料の相対牧射エネルギー強度
一波長特性図である。
一波長特性図である。
Claims (1)
- １ 一般式ＴｉｎＯｎ＿−＿１（ＯＲ）＿２＿ｎ＿＋＿
２（Ｒ：アルキル基、アリル基ｎ＞＿１）で示されるチ
タンエステル化合物および溶剤からなるビヒクルまたは
、一般式ＳｉｎＯｎ＿−＿１（ＯＲ）＿２＿ｎ＿＋＿２
（Ｒ：アルキル基、アリル基、ｎ≧＿１）で示されるシ
リケート化合物および水、溶剤、酸類からなるビヒケル
中に、重量比で５０〜５９％のジルコンと、１０〜１５
％の炭化ジルコニウムと、１５〜２０％の酸化チタンと
、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜
鉛の酸化物から選ばれた一種以上の鉱化剤１〜１０％か
らなるセラミック粉末を分散させ、加水分解、重合によ
り塗膜を形成させることを特徴とする赤外線放射材料
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13675079A JPS5935156B2 (ja) | 1979-10-22 | 1979-10-22 | 赤外線放射材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13675079A JPS5935156B2 (ja) | 1979-10-22 | 1979-10-22 | 赤外線放射材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5661782A JPS5661782A (en) | 1981-05-27 |
| JPS5935156B2 true JPS5935156B2 (ja) | 1984-08-27 |
Family
ID=15182625
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13675079A Expired JPS5935156B2 (ja) | 1979-10-22 | 1979-10-22 | 赤外線放射材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5935156B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3252609B2 (ja) * | 1994-07-19 | 2002-02-04 | 株式会社村田製作所 | セラミック原料粉体の製造方法 |
| CN110611964B (zh) * | 2018-06-14 | 2022-05-24 | 浙江汉纳新材料科技有限公司 | 具有ptc效应的加热膜材料及其制备方法 |
-
1979
- 1979-10-22 JP JP13675079A patent/JPS5935156B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5661782A (en) | 1981-05-27 |
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