JPS5933952B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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JPS5933952B2
JPS5933952B2 JP4085177A JP4085177A JPS5933952B2 JP S5933952 B2 JPS5933952 B2 JP S5933952B2 JP 4085177 A JP4085177 A JP 4085177A JP 4085177 A JP4085177 A JP 4085177A JP S5933952 B2 JPS5933952 B2 JP S5933952B2
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JP
Japan
Prior art keywords
support shaft
heating chamber
rotating body
rotating
mounting table
Prior art date
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Expired
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JP4085177A
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English (en)
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JPS53125644A (en
Inventor
佳男 三本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP4085177A priority Critical patent/JPS5933952B2/ja
Publication of JPS53125644A publication Critical patent/JPS53125644A/ja
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  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はターンテーブル方式の高周波カロ熱装置に関す
るもので、その目的とするところは、加熱ムラが少なく
、かつターンテーブルの回転トルクの大きい高周波加熱
装置を提供することにある。
いわゆるターンテーブル式といわれる高周波加熱装置で
は、加熱室内底面に食品を載せる載置台を設け、それを
回転させることで、加熱室内に発生する定在波により生
ずる明確な電界の強弱分布からくる被加熱物の加熱ムラ
を少なくしようとするものである。従来、ターンテーブ
ル方式の高周波加熱装置においては、第1図に示すよう
に、加熱室1’の底面における一辺aと他の辺bは同一
長さに形成され、ターンテーブル2’の回転中心oは上
記加熱室1の底面における中心点上に位置している。第
2図は上記加熱室1’においてa方向に3、b方向に3
、c方向に0の定在波が存在する場合の水平断面上電界
分布を示すものである。このままでは同図に示すように
電界の強弱差が大であるので、従来より加熱室1’底面
の中央にターンテーブル2’を設置している。第3図は
上記ターンテーブル構造において、該ターンテーブル回
転後のターンテーブル上における累積電界強度を示すも
のである。ここで第2図中の1辺aと1辺bは同寸法で
あるから、上記加熱室底面に表われる定在波の電界最大
点から他の電界最大点までの距離λI/ 2(a)、λ
9/2(b)はそれぞれ同距離となりやすい。すなわち
この状態でターンテーブルを回転させても、第3図に示
すようにターンテーブルの中心点0の近辺は極度に強く
、該中心点0から遠ざかるに従がい電界強度は同心円状
に大きく変化する。したがつて上記ターンテーブル上の
ほぼ全面におよぶような扁平な被加熱物を加熱した場合
は、第3図に示すような同心円状の加熱ムラが生じ都合
の悪いものであつた。又、複数鳥 の被カロ熱物を加熱
する場合においてもそれらの被加熱物をターンテーブル
の中心から少しでも異なつた距離に載置して加熱すれば
、上記複数の被加熱物の加熱完了時刻はそれぞれ異なつ
てしまう等、加熱ムラ対策として極めて不完全なもので
あ・ つた。以下、磁気結合を利用した従来のターンテ
ーブル方式の高周波加熱装置の具体構成を第4図を参照
して説明する。
図において、1は本体ケース、2は加熱室3の前面に開
閉自在に設けられた扉でハンドル4が設けられている。
5は高周波発振器で、ここから発振された高周波は加熱
室上板6に装着された導波管7の内部を通り、加熱室上
板6の開口部8を抜けて加熱室3内に供給される。
9は加熱室底面で、この外底面には回転体10の回転支
持軸11が装着されている。
この回転体10は、,駆動源12に設けられた駆動プー
リ−13にベルト14により連結され支持軸11を中心
に回転し、加熱室外底面に対向して複数のローラー15
と磁気結合手段の1例である磁石16とを有しており、
またこの回転体10に対向して加熱室内底面側には回転
体10に設けられた磁石16により,駆動される回転載
置台17が設けられている。この回転載置台17は、複
数のローラー18が設けられた回転台19に回転自在に
載置されている。そしてその上面には被加熱物20を乗
せた受皿21が置かれ、また下面には磁気結合手段の1
例として、遮蔽板22とケース23で覆われた磁石24
が配置されている。この磁石24は回転体10の磁石1
6に対向して配置されており、両者間には吸引力が働く
ようになつている。したがつて回転体10が駆動源12
に設けられたプーリ一13を介してベルト5駆動される
と磁石24が設けられた回転載置台17はこの吸引力に
よつて,駆動される。また、この吸引力によつて回転体
10は加熱室底面9側に持ち上げられる為、ローラー1
5が加熱室外底面に対して接触回転するようになり、結
果的にこの回転体10は回転支持軸11に垂直に装着さ
れた状態になる。そしてこの状態においては回転体10
の磁石16と回転載置台17の磁石24との距離が常に
一定に保たれるので、各部における吸引力が安定し、こ
の結果回転載置台17は上下のがたつきなく回転する。
このように、ターンテーブルの回転中心が一定点にある
ものにあつては、第2,3図を用いて説明したように、
ターJャfーブル回転後のターンテーブル上の累積電界強
度は回転中心から同心円状に大きく変化しており、実使
用に当つての不都合さは前述した通りである。本発明は
簡単な構成で前述した欠点を解消するもので、以下一実
施例について第5図〜第14図を参照して説明する。
第5図において、加熱室底面25の外側に近接して設け
られた回転体10には加熱室外底面に対向して複数のロ
ーラー15と磁石16とが装着され、駆動源12の1駆
動軸26に固定されたプーリ−13にゴムから成る伸縮
自在のベルト27を介して連結されている。この回転体
10は回転支持軸28の周囲を回転するが、この支持軸
28の加熱室側には摺動部をなす摺動金具34が固定装
着されている。一方、加熱室外底面には、支持軸28の
ガイド用の長穴35を設け、摺動部を挟む役割をなす案
内金具36が固定装着されており、支持軸28は長穴3
5に沿つて動く。第5図で明らかな様に、回転体支持軸
28のシヤーシ一30側の周囲には金属等の剛体である
連接棒37に固定装着された継手38が回転自在に取付
けられ、他方の継手39は、支持軸駆動プーリ−29に
固定装着されたプーリ−ピン40の周囲に回転自在に取
付けられている。支持軸1駆動プーリ−29は本体シヤ
ーシ一30に固定装着された固定軸31の周囲を、1駆
動軸26に固定装着されたプーリ−32とベルト33に
より連結され回転,駆動する。第6図は、第5図から加
熱室を取り除き、本機構主要部を加熱室側から拡大斜視
した図である。
同図において、駆動軸26が回転を始めると同時にプー
リ−13と32が回り出し、ベルト27,33を駆動さ
せ、回転体10と支持軸駆動プーリ一29とを回転させ
る。この時、回転体10の回転中心である支持軸28は
、固定軸31とプーリ−ピン40の中心間距離の2倍の
長さを最大ストロークとする往復直線運動を行なう。つ
まり、回転体10は駆動軸26に対して、回転しながら
近ずき遠ざかる運動を繰り返す。このとき、回転体10
と駆動プーリ−13とを連結するベルト27に働く張力
は微妙に変化するが、ベルト27は伸縮自在のゴム製で
あること、回転体10の直径はその回転数、伝達トルク
等の関係から比較的大きいのでベルト27の全長も当然
長いものになり、支持軸28の移動(最大認)によるベ
ルト27の伸縮距離はベルト自身の持つ伸縮余裕値の中
に含まれるものであることから、回転体10はその位置
にかかわらず滑ることなく適正トルクを伝達して回転を
続ける。
本機構によれば回転体10は支持軸28を中心に回転し
、かつその回転中心である支持軸28もプーリ−ピン4
0との間に設けた連接棒37により、案内金具36の長
穴35をガイドに往復直線運動をする。よつて回転体1
0と加熱室底面25をはさんで磁気結合した回転載置台
17の回転中心は、回転体10の回転中心の軌跡と同様
の軌跡を加熱室内で描く。第7図は第2図と同様に加熱
室の水平断面上の電界分布を示すもので、図中のO点は
加熱室底面の中心位置を表わしている。回転載置台17
の回転中心は第7図における1の位置から2の位置へ2
から3、3から2へと片道λ9/2のストロークで往復
直線運動を続ける。ここで、回転載置台17の毎分回転
数が、支持軸駆動プーリ−29の毎分回転数に対して極
めて大きくなるように設定すれば、回転載置台17の各
位置での累積電界強度を見ることができる。回転載置台
17の回転中心が第7図における1,2、そして3にあ
る時の回転載置台17上の累積電界強度をそれぞれ第8
図〜第10図のbに示す。第8〜11図における円の軌
跡は載置台17上の電界の強い位置を示している。これ
らの図から、回転載置台17上の電界強度は位置によつ
て大きく変化していることがわかる。第11図は1〜3
の3点での累積電界強度を合成したもの、つまり回転載
置台17の回転中心が回転を何回か終えた後の、載置台
上の総累積電界強度を示すもので、第3図に比べると電
界の強弱差は非常に小さくなつており、全く平均化し極
めて均一な加熱が可能となる。このようにすれば焼けム
ラの著しい改善はなされる。次に第5,6図かられかる
ように、回転体10の回転中心を移動させるためには、
ベルト27の張力、回転載置台17と被加熱物20の重
量、加熱室に対向する複数のローラー15並びに18の
接触抵抗などより支持軸駆動プーリ一のトルクが大きい
ことが必要となり、この時、支持軸28に固定装着され
た摺動金具34と、加熱室外底面と案内金具36との摩
擦力はプーリ一回転の大きな抵抗となり、支持軸28の
スムーズな移動の大きな障害となる。
そこで本発明においては、第12図に示すように、回転
体の支持軸28の上部には複数の開孔41を有する平板
状の摺動金具34を固定装着し、その開孔41には、テ
フロン、ポリプロピレン等比較的摩擦係数の小さい、滑
りの良い合成樹脂で一体成形された摺動部材42の凸起
43を圧入している。
したがつて摺動金具34を有する支持軸28と摺動部材
42とは一体化され、支持軸28のガイドをなす長穴3
5を有する案内金具36により、加熱室底面25との間
に挟み込まれる形で取付けられる。この状態を第13図
に示す。同図かられかるように、摺動部材37には、支
持軸28と案内金具36の長穴35との摩擦を避ける為
に、支持軸の周囲にボス状の凸部44を有し、金属同志
の接触を防いでいる。この際、第14図に示す様に案内
金具36の段差寸法Aは、摺動部材37の高さBよりも
大きいことが必要で、その差(A−Bの値)は小さいほ
ど、回転体の良好な移動は得られ易い。以上のように本
発明によれば、駆動体である回λ9転体の支持軸の移動
距離を最大n(λ9は使用波長)としているので、著し
い焼ムラの改善が可能となり、また摺動部を摩擦抵抗の
少ない金属と合成樹脂との組み合わせで構成したので、
金属同志で構成したものに比べその接触抵抗を大巾に減
少させることが可能となり、被加熱物がかなりの重量物
となつた場合でも、回転体をスムーズに動かすことがで
きることから回転載置台を容易に移動することができ、
しかも構造簡単なことから安価に提供することが可能な
高周波加熱装置を実現することができるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来例を示す加熱室の一部破断斜視図、第2図
は同加熱室断面上の電界分布仮想図、第3図は同ターン
テーブル回転後における累積電界分布仮想図、第4図は
従来の高周波加熱装置の全代断面図、第5図は本発明の
高周波加熱装置にかかる回転載置台移動機構の全体断面
図、第6図は同主要機構部品の斜視図、第7図は加熱室
断面上の電界分布仮想位置に対する回転載置台の回転中
心の軌跡を示す図、第8〜10図のaはそれを1,2,
3の位置ごとに分割した図で、bはそれぞれの位置での
累積電界強度仮想図、第11図は総累積電界強度仮想図
、第12図は本発明の移動機構の要部の位置関係を示す
斜視図、第13図は同組立断面図、第14図は部品の寸
法を示す図である。 3・・・・・・加熱室、10・・・・・・回転体、16
,24・・・・・・磁石、17・・・・・・回転載置台
、25・・・・・一加熱室底面、28・・・・・・支持
軸、29・・・・・・支持軸1駆動プーリ一、36・・
・・−・案内金具、37・・・・・・連接棒、42・・
・・・・摺動部材。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 加熱室内底面側に回転自在に設けられた調理物用回
    転載置台を、加熱室外底面に近接して設けられた回転体
    との磁気結合により回転駆動させる構成とし、原動側で
    ある前記回転体は支持軸駆動プーリーに運接棒を介して
    連結した支持軸に回転自在に装備し、この支持軸は加熱
    室外底面に装着した案内金具に往復移動自在に装備し、
    かつ回転体の支持軸もしくは案内金具の少なくとも一方
    に合成樹脂製摺動部材を装備し、支持軸を片道(λg)
    /2(λgは使用波長を示す)の範囲で往復移動させて
    従動側の回転載置台の回転中心を移動させる構成とする
    とともに前記摺動部材には案内金具に設けられた長孔と
    支持軸との接触を断つボス部を設け前記回転体および支
    持軸駆動プーリーは各々ベルトを各して駆動源に連結し
    、かつ回転体と駆動源を連結するベルトは伸縮自在な部
    材で構成した高周波加熱装置。
JP4085177A 1977-04-08 1977-04-08 高周波加熱装置 Expired JPS5933952B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4085177A JPS5933952B2 (ja) 1977-04-08 1977-04-08 高周波加熱装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP4085177A JPS5933952B2 (ja) 1977-04-08 1977-04-08 高周波加熱装置

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Publication Number Publication Date
JPS53125644A JPS53125644A (en) 1978-11-02
JPS5933952B2 true JPS5933952B2 (ja) 1984-08-18

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ID=12592066

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4085177A Expired JPS5933952B2 (ja) 1977-04-08 1977-04-08 高周波加熱装置

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JP (1) JPS5933952B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS642949U (ja) * 1987-06-25 1989-01-10
JPH0179739U (ja) * 1987-11-16 1989-05-29
JPH0355456U (ja) * 1989-10-02 1991-05-28

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS642949U (ja) * 1987-06-25 1989-01-10
JPH0179739U (ja) * 1987-11-16 1989-05-29
JPH0355456U (ja) * 1989-10-02 1991-05-28

Also Published As

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JPS53125644A (en) 1978-11-02

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